JPH0399220A - エンコーダ - Google Patents
エンコーダInfo
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- JPH0399220A JPH0399220A JP23636689A JP23636689A JPH0399220A JP H0399220 A JPH0399220 A JP H0399220A JP 23636689 A JP23636689 A JP 23636689A JP 23636689 A JP23636689 A JP 23636689A JP H0399220 A JPH0399220 A JP H0399220A
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- light
- light beam
- luminous flux
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はエンコーダに関し、特に被測定物体の移動量や
移動方向等の移動状態を透光部と遮光部を周期的に設け
たスケールを利用して検出するようにした充電的なエン
コーダに関するものでる。
移動方向等の移動状態を透光部と遮光部を周期的に設け
たスケールを利用して検出するようにした充電的なエン
コーダに関するものでる。
(従来の技術)
従来より被測定物体の回転や移動等に関する変位状態を
検出する装置として光電的なロータリーエンコーダやリ
ニアエンコーダが多く利用されている。
検出する装置として光電的なロータリーエンコーダやリ
ニアエンコーダが多く利用されている。
第8図(A) , (B)は被測定物体の直線移動状態
を検出するようにした従来のリニアエンコーダの光学系
の平面と側面の要部概略図である。
を検出するようにした従来のリニアエンコーダの光学系
の平面と側面の要部概略図である。
同図においてLED等の光源51からの光束は投光レン
ズ52により略平行光束とされ主スケール53に投光さ
れる。主スケール53はガラス等の透明基材又は金属の
薄板にエッチング等の手法により幅の等しい透光部と遮
光部を周期的に設けたスリット列より構成されている。
ズ52により略平行光束とされ主スケール53に投光さ
れる。主スケール53はガラス等の透明基材又は金属の
薄板にエッチング等の手法により幅の等しい透光部と遮
光部を周期的に設けたスリット列より構成されている。
主スケール53を通過した光束は主スケール53と同じ
周期のパターンより成る副スケール54に入射し、副ス
ケール54を通過した光束は受光手段55で受光される
。
周期のパターンより成る副スケール54に入射し、副ス
ケール54を通過した光束は受光手段55で受光される
。
主スケール53は一点鎖線で囲まれた検出ヘッド部60
に対し、相対的に矢印八方向に移動可能となるように構
成されている。
に対し、相対的に矢印八方向に移動可能となるように構
成されている。
ここで副スケール54は例えば第9図に示すように4つ
のスケール54−1〜54−4を有し、これらの各スケ
ールは主スケール53と同周期のスリット列より成り、
投光レンズ52から投射される光束中に配置されている
。又各スケール54−1〜54−4の位置関係は例えば
スケール54−1を基準にとるとスケール54−2はス
リットピッチの1/2だけスケール54−1とずれてお
り、同様にスケール54−3はスリットピッチの1/4
、スケール54−4はスリットピッチの3/4だけずれ
た状態となっている。
のスケール54−1〜54−4を有し、これらの各スケ
ールは主スケール53と同周期のスリット列より成り、
投光レンズ52から投射される光束中に配置されている
。又各スケール54−1〜54−4の位置関係は例えば
スケール54−1を基準にとるとスケール54−2はス
リットピッチの1/2だけスケール54−1とずれてお
り、同様にスケール54−3はスリットピッチの1/4
、スケール54−4はスリットピッチの3/4だけずれ
た状態となっている。
受光手段55は第9図に示すように4つの光検出器55
−1〜55−4を有し、各スケール54−1〜54−4
の後方に各々対応して配置されている。ここでスケール
54−1〜54−4は主スケール53の移動の方向判別
及びDCオフセット成分を除くことを目的として配置さ
れている。
−1〜55−4を有し、各スケール54−1〜54−4
の後方に各々対応して配置されている。ここでスケール
54−1〜54−4は主スケール53の移動の方向判別
及びDCオフセット成分を除くことを目的として配置さ
れている。
第10図は第8図に示したリニアエンコーダにおいて主
スケール53と検出ヘッド部60が相対的に所定量移動
したときの光検出器55−1〜55−4から得られる出
力信号の説明図である。
スケール53と検出ヘッド部60が相対的に所定量移動
したときの光検出器55−1〜55−4から得られる出
力信号の説明図である。
同図に示す出力信号波形はいずれもスリットピッチを単
位として周期的に変化している。同図(A)〜(D)は
順に光検出器55−1〜55−4からの出力波形である
。
位として周期的に変化している。同図(A)〜(D)は
順に光検出器55−1〜55−4からの出力波形である
。
今、第10図(A)の出力波形を基準にとれば副スケー
ルの位置関係より同図(B) . (C) . (D)
の出力波形は各々180度、90度、270度だけ位相
がずれている。
ルの位置関係より同図(B) . (C) . (D)
の出力波形は各々180度、90度、270度だけ位相
がずれている。
従来のリニアエンコーダはこれら4つの出力信号を用い
て、例えば第10図(A)と同図(B)の差動出力及び
同図(C)と同図(D)の差動出力よりDCオフセット
変動分を除き、各2つの差動出力の位相関係から周知の
方法により主スケール53の移動量及び移動方向を検出
している。
て、例えば第10図(A)と同図(B)の差動出力及び
同図(C)と同図(D)の差動出力よりDCオフセット
変動分を除き、各2つの差動出力の位相関係から周知の
方法により主スケール53の移動量及び移動方向を検出
している。
(発明が解決しようとする問題点)
第8図に示す従来のリニアエンコーダにおいて被測定物
の移動状態の検出分解能を向上させる一方法としてスケ
ールの透過部と遮光部の周期的なパターンピッチを小さ
くする方法がある。
の移動状態の検出分解能を向上させる一方法としてスケ
ールの透過部と遮光部の周期的なパターンピッチを小さ
くする方法がある。
しかしながらスケールのパターンピッチを小さくするこ
とは製造上難しく、コストアップの要因になってくる。
とは製造上難しく、コストアップの要因になってくる。
又スケールの透光部と遮光部とが回折格子として作用し
てきて、該スケールで回折された光束が信号光に混入し
、ノイズ成分となり検出精度を低下させるどう問題点が
生じてくる。
てきて、該スケールで回折された光束が信号光に混入し
、ノイズ成分となり検出精度を低下させるどう問題点が
生じてくる。
例えば光源としてLEDからの光束の波長を0.9μm
、スケールのパターンピッチを10μmとしたとき1次
回折光の回折角θはsinθ=0.9/10 よりθ与5,2度となる。
、スケールのパターンピッチを10μmとしたとき1次
回折光の回折角θはsinθ=0.9/10 よりθ与5,2度となる。
この回折角で拡がる回折光は副スケールからもれ込んで
出力信号のバイアス成分となり出力信号のコントラスト
を低下させ、検出精度を低下させる原因となってくる。
出力信号のバイアス成分となり出力信号のコントラスト
を低下させ、検出精度を低下させる原因となってくる。
このように従来のリニアエンコーダにおいてはパターン
ピッチをあまり小さくすることができず高分解能化を図
るのが大変難しかった。
ピッチをあまり小さくすることができず高分解能化を図
るのが大変難しかった。
本発明は従来と同じパターンピッチのスケールを用いた
ときにパターンピッチの半分の周期に基づく出力信号を
得ることができ、これにより被測定物の移動状態の検出
精度の高分解能化を図ったエンコーダの提供を目的とす
る。
ときにパターンピッチの半分の周期に基づく出力信号を
得ることができ、これにより被測定物の移動状態の検出
精度の高分解能化を図ったエンコーダの提供を目的とす
る。
尚、本発明においてエンコーダとはロータリーエンコー
ダとリニアエンコーダの双方を含むものである。
ダとリニアエンコーダの双方を含むものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明のエンコーダは、平行光束を所定の光路に沿って
光学式スケールに照射する照射手段と、該照射手段によ
り照射されて前記光学式スケールで正反射した反射光束
或いは前記光学式スケールを透過して前記光路を直進し
た透過光束を反射し、該反射光束或いは該透過光束を前
記平行光束に対して前記光学式スケールが相対的に変位
する方向に関して反転せしめて生成した平行光束を再度
前記光学式スケールに向ける反射手段と、該反射手段か
らの平行光束で照明された前記光学式スケールからの光
を充電変換する手段とを有し、該光電変換手段からの信
号に基づいて前記変位を測定することを特徴としている
。
光学式スケールに照射する照射手段と、該照射手段によ
り照射されて前記光学式スケールで正反射した反射光束
或いは前記光学式スケールを透過して前記光路を直進し
た透過光束を反射し、該反射光束或いは該透過光束を前
記平行光束に対して前記光学式スケールが相対的に変位
する方向に関して反転せしめて生成した平行光束を再度
前記光学式スケールに向ける反射手段と、該反射手段か
らの平行光束で照明された前記光学式スケールからの光
を充電変換する手段とを有し、該光電変換手段からの信
号に基づいて前記変位を測定することを特徴としている
。
(実施例)
第1図は本発明の第1実施例の光学系の要部概略図であ
る。
る。
同図において1は光源であり、例えばLED等から成っ
ている。2はコリメーターレンズであり光源1からの光
束を略平行光束としてスケール3に入射させている。光
源1とコリメーターレンズ2で投光手段101を構成し
ている。スケール3は同一幅の透光部と遮光部を周期的
に配置したスリット列より成っている。4は光反射手段
であり斜面4a,4bを反射面(金属膜等の蒸着又は全
反射を利用した反射面)とした直角プリズムより成り、
スケール3を通過した光束を反射させスケール3に再入
射させている。5は集光レンズでありスケール3からの
光束を集光し、光検出器6に入射させている。
ている。2はコリメーターレンズであり光源1からの光
束を略平行光束としてスケール3に入射させている。光
源1とコリメーターレンズ2で投光手段101を構成し
ている。スケール3は同一幅の透光部と遮光部を周期的
に配置したスリット列より成っている。4は光反射手段
であり斜面4a,4bを反射面(金属膜等の蒸着又は全
反射を利用した反射面)とした直角プリズムより成り、
スケール3を通過した光束を反射させスケール3に再入
射させている。5は集光レンズでありスケール3からの
光束を集光し、光検出器6に入射させている。
集光レンズ5と光検出器6は受光手段102を構成して
いる。103は検出ヘッドでありスケール3を除く前述
の各要素を筐体内に収納して構成されている。スケール
3は検出ヘッド103に対して相対的に図中の矢印八方
向に移動可能となっている。
いる。103は検出ヘッドでありスケール3を除く前述
の各要素を筐体内に収納して構成されている。スケール
3は検出ヘッド103に対して相対的に図中の矢印八方
向に移動可能となっている。
本実施例では光源1からの光束をコリメーターレンズ2
で略平行光束とし、スケール3に入射させている。そし
てスケール3の透光部を透゛過し、光反射千段4の2つ
の反射面4a,4bで反射させ入射方向と逆方向から射
出させスケール3に再入射させている。そしてスケール
3を通過した光束を集光レンズ5で光検出器6の受光面
に集光させている。
で略平行光束とし、スケール3に入射させている。そし
てスケール3の透光部を透゛過し、光反射千段4の2つ
の反射面4a,4bで反射させ入射方向と逆方向から射
出させスケール3に再入射させている。そしてスケール
3を通過した光束を集光レンズ5で光検出器6の受光面
に集光させている。
尚、このとき集光レンズ5を用いずスケール3からの光
束を直接光検出器6の受光面に入射させても良い。
束を直接光検出器6の受光面に入射させても良い。
第2図(^) . (B)は本実施例において光検出器
6に至る光束とスケール3との位置関係を示す説明のう
ち、スケール3と光反射手段4のみを拡大して示した説
明図である。
6に至る光束とスケール3との位置関係を示す説明のう
ち、スケール3と光反射手段4のみを拡大して示した説
明図である。
第2図(A)においてスケール3に入射し、その透光部
を通過した光束1aは光反射手段4の2つの反射面4a
,4bで反射されて光反射手段4の反射面4a,4bの
稜線をはさんで対称な位置から出射する。このとき同図
に示すようにスケール3の遮光部が前記稜線に対し1/
2ピッチずれた位置にあると、これら反射面4a,4b
で反射された光束はすべて遮光部で遮られて光検出器6
側へは射出しない。
を通過した光束1aは光反射手段4の2つの反射面4a
,4bで反射されて光反射手段4の反射面4a,4bの
稜線をはさんで対称な位置から出射する。このとき同図
に示すようにスケール3の遮光部が前記稜線に対し1/
2ピッチずれた位置にあると、これら反射面4a,4b
で反射された光束はすべて遮光部で遮られて光検出器6
側へは射出しない。
方、第2図(B)のスケール3の透光部と遮光部が第2
図(A)の位置から更に1/4ピッチずれた位置、即ち
前記稜線に対して対称な位置にあると、同図から明らか
なようにスケール3を通過した光束は反射面4a,4b
で反射された後、再びスケール3の透光部を通って光検
出器6へ入射する。
図(A)の位置から更に1/4ピッチずれた位置、即ち
前記稜線に対して対称な位置にあると、同図から明らか
なようにスケール3を通過した光束は反射面4a,4b
で反射された後、再びスケール3の透光部を通って光検
出器6へ入射する。
以上の説明から分るようにスケール3が1/4ピッチ相
対的に移動する毎に光検出器に最大又は最小の光量が入
射する。
対的に移動する毎に光検出器に最大又は最小の光量が入
射する。
第3図はこのときのスケール3の相対的な移動に対して
光検出器6から得られる出カ信号波形を表わす説明図で
ある。
光検出器6から得られる出カ信号波形を表わす説明図で
ある。
前述したように、この波形は1/4ビッチ毎の明暗、即
ち1/2ビッチを周期とすると繰返し波形となる。尚、
点光源から出た完全な平行光束を照射すれば該波形は三
角形状となるが、LEDの如く有限の発光サイズの光源
を用いた場合にはコリメーターレンズから画角を有する
光束が出射するので同図のように多少歪んで正弦波に似
た周期波形となっている。
ち1/2ビッチを周期とすると繰返し波形となる。尚、
点光源から出た完全な平行光束を照射すれば該波形は三
角形状となるが、LEDの如く有限の発光サイズの光源
を用いた場合にはコリメーターレンズから画角を有する
光束が出射するので同図のように多少歪んで正弦波に似
た周期波形となっている。
この出力信号波形からスケール3の相対的移動量を計測
するには通常の公知の処理方法、即ち波形を整形し、パ
ルス波形とした後、パルスカウンターで計数する方法を
用いることができる。
するには通常の公知の処理方法、即ち波形を整形し、パ
ルス波形とした後、パルスカウンターで計数する方法を
用いることができる。
スケール3の移動方向を判別する場合には第8図の従来
例で説明したような副スケールを集光レンズ5の直前に
配置して構成すれば前述と同様にして求められる。
例で説明したような副スケールを集光レンズ5の直前に
配置して構成すれば前述と同様にして求められる。
この他、次のような方法によりスケール3の移動方向の
判別を検出するようにしても良い。
判別を検出するようにしても良い。
第4図(A) . (B)はこのときの一例を示す光反
射手段4近傍の説明図である。同図(A)は平面図、同
図(B)は側面図である。図中、7は平行平面ガラスで
あり、光反射手段4の射出面側に配置されている。
射手段4近傍の説明図である。同図(A)は平面図、同
図(B)は側面図である。図中、7は平行平面ガラスで
あり、光反射手段4の射出面側に配置されている。
該平行平板ガラス7は例えば光束の下側半分だけが通過
できるように配されている。また平行平板ガラス7は第
4図(A)の面内で傾いており、その傾き角は平行平板
ガラス7を透過した光束(図中の破線)が透過しない光
束(実線)に対しスケール3のピッチの1/8だけ平行
シフトするように設定されている。
できるように配されている。また平行平板ガラス7は第
4図(A)の面内で傾いており、その傾き角は平行平板
ガラス7を透過した光束(図中の破線)が透過しない光
束(実線)に対しスケール3のピッチの1/8だけ平行
シフトするように設定されている。
そして平行平板ガラス7を透過した光束と透過しないで
直進した光束を各々別の光検出器で受光すれば、このと
きの光検出器からの2つの出力信号波形は位相が互いに
90°ずれているので、この2つの出力信号波形を用い
れば従来の手法と同様の方法によりスケール3の移動方
向の判別が可能となる。
直進した光束を各々別の光検出器で受光すれば、このと
きの光検出器からの2つの出力信号波形は位相が互いに
90°ずれているので、この2つの出力信号波形を用い
れば従来の手法と同様の方法によりスケール3の移動方
向の判別が可能となる。
第5図はスケール3の移動方向の判別を行う他の例を示
す説明図である。図中4−1.4−2は第1図で説明し
たと同様の光反射手段である。
す説明図である。図中4−1.4−2は第1図で説明し
たと同様の光反射手段である。
本実施例では同図のように双方を互いにわずか横にずれ
た状態で重ねて接着して構成している。
た状態で重ねて接着して構成している。
このときのずれ量は前述と同様に反射光束が互いに1/
8ピッチずれるように設定してある。光反射手段4−1
.4−2を第1図の光反射手段4の配置と同様の位置に
置き、2つの光反射千段4一1.4−2に同時に光束を
入射させ、反遮光を夫々別の光検出器で受光すれば前と
同様の方法でスケール3の移動方向の判別が可能となる
。
8ピッチずれるように設定してある。光反射手段4−1
.4−2を第1図の光反射手段4の配置と同様の位置に
置き、2つの光反射千段4一1.4−2に同時に光束を
入射させ、反遮光を夫々別の光検出器で受光すれば前と
同様の方法でスケール3の移動方向の判別が可能となる
。
第6,第7図は本発明の第2,第3実施例の光学系の要
部概略図である。図中、第1図で示した要素と同一要素
には同符番を付している。
部概略図である。図中、第1図で示した要素と同一要素
には同符番を付している。
第6図の第2実施例では光源1からの光束をコリメータ
ーレンズ2で略平行光束とし、スケール3を通過させた
後、集光レンズ8の片側の面に入射させている。そして
集光レンズ8で集光し、該集光レンズ8の焦点面に配置
したミラー9で入射光束を光軸に関して対称な位置から
入射方向と逆方向に反射させた後、集光レンズ8で略平
行光束としてスケール3に再入射させている。次いでス
ケール3からの光束を集光レンズ5により光検出器6面
上に入射させている。これにより第1図の第1実施例と
同様の効果を得ている。
ーレンズ2で略平行光束とし、スケール3を通過させた
後、集光レンズ8の片側の面に入射させている。そして
集光レンズ8で集光し、該集光レンズ8の焦点面に配置
したミラー9で入射光束を光軸に関して対称な位置から
入射方向と逆方向に反射させた後、集光レンズ8で略平
行光束としてスケール3に再入射させている。次いでス
ケール3からの光束を集光レンズ5により光検出器6面
上に入射させている。これにより第1図の第1実施例と
同様の効果を得ている。
第7図の第3実施例では光源1からの光束をハーフミラ
ー10を通過させてコリメーターレンズ2で略平行光束
としスケール3を通過させた後、集光レンズ8で集光し
、該集光レンズ8の焦点面に配置したミラー9で反射さ
せた後、元の光路を逆光させスケール3に再入射させて
いる。そしてスケール3からの光束をコリメーターレン
ズ2を介し、ハーフミラー10で反射させた後、光検出
器6に入射させている。
ー10を通過させてコリメーターレンズ2で略平行光束
としスケール3を通過させた後、集光レンズ8で集光し
、該集光レンズ8の焦点面に配置したミラー9で反射さ
せた後、元の光路を逆光させスケール3に再入射させて
いる。そしてスケール3からの光束をコリメーターレン
ズ2を介し、ハーフミラー10で反射させた後、光検出
器6に入射させている。
このように構成することにより第1図の第1実施例と同
様の効果を得ている。本実施例では第6図の第2実施例
に比べて部材数を減らし、装置全体の軽量小型化を図っ
ている。
様の効果を得ている。本実施例では第6図の第2実施例
に比べて部材数を減らし、装置全体の軽量小型化を図っ
ている。
尚、以上の各実施例では本発明をリニアエンコーダに適
用した場合を示したが本発明はロータリーエンコーダに
も同様に適用することができる。
用した場合を示したが本発明はロータリーエンコーダに
も同様に適用することができる。
(発明の効果)
本発明によれば前述の如く各要素を構成することにより
、従来と同じパターンピッチのスケールを用いても従来
のエンコーダに比べて2倍の分解能が得られ高精度な検
出が可能なエンコーダを達成することができる。換言す
れば同じ分解能を得るのに従来のものに比べて2倍の粗
いパターンピッチのスケールを用いることができ、これ
によりスケールの製造が容易となり、又スケールの回折
による悪影響を防止した高精度の検出が可能となり、更
に1つのスケールだけで基本的な検出が可能となる等の
特長を有したエンコーダを達成することができる。
、従来と同じパターンピッチのスケールを用いても従来
のエンコーダに比べて2倍の分解能が得られ高精度な検
出が可能なエンコーダを達成することができる。換言す
れば同じ分解能を得るのに従来のものに比べて2倍の粗
いパターンピッチのスケールを用いることができ、これ
によりスケールの製造が容易となり、又スケールの回折
による悪影響を防止した高精度の検出が可能となり、更
に1つのスケールだけで基本的な検出が可能となる等の
特長を有したエンコーダを達成することができる。
第1図は本発明の第1実施例の光学系の要部概略図、第
2図,第3図は第1図のエンコーダにおける検出原理の
説明図、第4.第5図は本発明において被測定物の移動
方向の判別を検出する際の一例の説明図、第6,第7図
は本発明の第2.第3実施例の要部概略図、第8〜第1
0図は従来のリニアエンコーダとその検出原理の説明図
である。 図中、101は投光手段、102は受光手段、103は
検出ヘット、lは先源、2はコリメーターレンズ、3は
スケール、4.4−1.4−2は光反射手段、5.8は
集光レンズ、6は光検出器、7は平行平面ガラス、9は
ミラー 10はハーフミラーである。
2図,第3図は第1図のエンコーダにおける検出原理の
説明図、第4.第5図は本発明において被測定物の移動
方向の判別を検出する際の一例の説明図、第6,第7図
は本発明の第2.第3実施例の要部概略図、第8〜第1
0図は従来のリニアエンコーダとその検出原理の説明図
である。 図中、101は投光手段、102は受光手段、103は
検出ヘット、lは先源、2はコリメーターレンズ、3は
スケール、4.4−1.4−2は光反射手段、5.8は
集光レンズ、6は光検出器、7は平行平面ガラス、9は
ミラー 10はハーフミラーである。
Claims (4)
- (1)平行光束を所定の光路に沿って光学式スケールに
照射する照射手段と、該照射手段により照射されて前記
光学式スケールで正反射した反射光束或いは前記光学式
スケールを透過して前記光路を直進した透過光束を反射
し、該反射光束或いは該透過光束を前記平行光束に対し
て前記光学式スケールが相対的に変位する方向に関して
反転せしめて生成した平行光束を再度前記光学式スケー
ルに向ける反射手段と、該反射手段からの平行光束で照
明された前記光学式スケールからの光を光電変換する手
段とを有し、該光電変換手段からの信号に基づいて前記
変位を測定するエンコーダ。 - (2)前記スケールは透光部と遮光部を前記方向に沿っ
て交互に配列して成り、前記反射手段は前記透過光束を
反射せしめることを特徴とする請求項1記載のエンコー
ダ。 - (3)前記スケールは反射部と非反射部を前記方向に沿
って配列して成り、前記反射手段は前記反射光束を反射
せしめることを特徴とする請求項1記載のエンコーダ。 - (4)前記照射手段は、前記スケールに対して前記平行
光束を垂直入射せしめ、前記反射手段は前記スケールに
対して前記平行光束を垂直に入射せしめることを特徴と
する請求項1記載のエンコーダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23636689A JPH0399220A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | エンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23636689A JPH0399220A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | エンコーダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0399220A true JPH0399220A (ja) | 1991-04-24 |
Family
ID=16999733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23636689A Pending JPH0399220A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | エンコーダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0399220A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06160114A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-07 | Ono Sokki Co Ltd | エンコーダ |
JP2010071990A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 位置測定装置 |
-
1989
- 1989-09-11 JP JP23636689A patent/JPH0399220A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06160114A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-07 | Ono Sokki Co Ltd | エンコーダ |
JP2010071990A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Dr Johannes Heidenhain Gmbh | 位置測定装置 |
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