JPH0372302A - コーティング用組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高い屈折率を有する透明被覆層を形成するた
めのコーティング用組成物に関する。
めのコーティング用組成物に関する。
さらに詳しくは、透明被覆層が紫外線を吸収することに
より、プラスチック基材等の紫外線による買置あるいは
劣化を防ぐことのできる透明被覆層を選択するコーティ
ング用組成物に関する。
より、プラスチック基材等の紫外線による買置あるいは
劣化を防ぐことのできる透明被覆層を選択するコーティ
ング用組成物に関する。
合成樹脂製レンズ、特にジエチレングリコールビス(ア
リルカーボネート)樹脂レンズは、ガラスレンズに比較
し、安全性、易加工性、ファツション性などにおいて優
れており、さらに近年、反射防止技術、ハードコート技
術、l\−ドコート+反射防11″技術の開発により、
急速に普及している。
リルカーボネート)樹脂レンズは、ガラスレンズに比較
し、安全性、易加工性、ファツション性などにおいて優
れており、さらに近年、反射防止技術、ハードコート技
術、l\−ドコート+反射防11″技術の開発により、
急速に普及している。
しかし、ジエチレングリコールビス(アリルカーボネー
ト)樹脂の屈折率は1.50とガラスレンズに比べ小さ
い為に、外周部がガラスレンズに比べ厚くなるという欠
点を有している。この為、眼鏡レンズのプラスチック化
は、高屈折率樹脂材料による薄型プラスチックレンズへ
の要望を高めている。その為の技術提案として、特開昭
59−133211号公報、特開昭60−199016
号公報などの1.60前後の屈折率を有する高屈折率樹
脂材料が提案されている。
ト)樹脂の屈折率は1.50とガラスレンズに比べ小さ
い為に、外周部がガラスレンズに比べ厚くなるという欠
点を有している。この為、眼鏡レンズのプラスチック化
は、高屈折率樹脂材料による薄型プラスチックレンズへ
の要望を高めている。その為の技術提案として、特開昭
59−133211号公報、特開昭60−199016
号公報などの1.60前後の屈折率を有する高屈折率樹
脂材料が提案されている。
一方、プラスチックメガネレンズの欠点である傷が付き
易いという問題を解決する為に、シリコン系のバートコ
−1・被膜をプラスチックレンズ表面にコーティングす
る方法が一般に行われている。
易いという問題を解決する為に、シリコン系のバートコ
−1・被膜をプラスチックレンズ表面にコーティングす
る方法が一般に行われている。
しかし、屈折率が1,60前後の高屈折率樹脂レンズに
同様の方法を適用した場合には、樹脂レンズとコーテイ
ング膜の屈折率差による干渉縞が発生する為、外観不良
の原因となる。この問題を解決する為の技術提案として
、特公昭61−54 ’331号公報、特公昭63−3
7142号公報のようにシリコン系コーティング組成物
に使われている二酸化ケイ素微粒子のコロイド状分散体
を、高イし 屈折率を有するAj7STi、Zr、So、sbの金属
酸化物微粒子のコロイド状分散体に置き換えるといった
高屈折率コーティング用組成物が提案されている。
同様の方法を適用した場合には、樹脂レンズとコーテイ
ング膜の屈折率差による干渉縞が発生する為、外観不良
の原因となる。この問題を解決する為の技術提案として
、特公昭61−54 ’331号公報、特公昭63−3
7142号公報のようにシリコン系コーティング組成物
に使われている二酸化ケイ素微粒子のコロイド状分散体
を、高イし 屈折率を有するAj7STi、Zr、So、sbの金属
酸化物微粒子のコロイド状分散体に置き換えるといった
高屈折率コーティング用組成物が提案されている。
尚、コーテイング膜の塗布に当って、樹脂レンズ基材の
前処理が行われており、一般的な方法として、アルカリ
処理、酸処理などの化学的処理方法、あるいは、紫外線
照射処理、プラズマ処理などの物理的処理方法、さらに
は界面活性物質の添加などの添加剤処理方法がある。
前処理が行われており、一般的な方法として、アルカリ
処理、酸処理などの化学的処理方法、あるいは、紫外線
照射処理、プラズマ処理などの物理的処理方法、さらに
は界面活性物質の添加などの添加剤処理方法がある。
しかし、前述の従来技術の内、特公昭61−54331
号公報、特公昭63−37142号公報のコーティング
用組成物は、以下のような課題を有していた。例えば、
AI、Z r s S n N S bの金属酸化物微
粒子のコロイド状分散体を1.60前後の高屈折率樹脂
のコーティング用組成物として用いた場合、シリコン系
のコーティング用組成物に比べ塗布、硬化時の干渉縞の
発生を抑えることができるものの、コーティング被膜と
しての屈折率に限界がある。これは、金属酸化物微粒子
+11゜体としては、ある程度の高い屈折率を持つもの
の、一般にコーティング材料として用いる際には、シリ
コン系のカップリング剤等を混合する為、被膜目体の屈
折率は1.57程度が限界であり、自ずと干渉縞の改善
にも限界があった。また、Tiの金属酸化物微粒子のコ
ロイド状分散体をコーティング用組成物として用いた場
合は、TiCh[;1身が前記金属酸化物に比べ高い屈
折率を有するン、bに、形成された被膜は、高屈折率層
を提供するのと同時に、被膜の屈折率の選択の幅も広く
なるという長所がある。しかし、TiO2は耐候性が極
めて悪い為に、TiO2シリコン系カップリング剤から
溝底される被膜の場合シリコン系カップリング剤の有機
成分の分前、あるいは樹1&基材表面での劣化を招き、
その耐久性に課題があった。
号公報、特公昭63−37142号公報のコーティング
用組成物は、以下のような課題を有していた。例えば、
AI、Z r s S n N S bの金属酸化物微
粒子のコロイド状分散体を1.60前後の高屈折率樹脂
のコーティング用組成物として用いた場合、シリコン系
のコーティング用組成物に比べ塗布、硬化時の干渉縞の
発生を抑えることができるものの、コーティング被膜と
しての屈折率に限界がある。これは、金属酸化物微粒子
+11゜体としては、ある程度の高い屈折率を持つもの
の、一般にコーティング材料として用いる際には、シリ
コン系のカップリング剤等を混合する為、被膜目体の屈
折率は1.57程度が限界であり、自ずと干渉縞の改善
にも限界があった。また、Tiの金属酸化物微粒子のコ
ロイド状分散体をコーティング用組成物として用いた場
合は、TiCh[;1身が前記金属酸化物に比べ高い屈
折率を有するン、bに、形成された被膜は、高屈折率層
を提供するのと同時に、被膜の屈折率の選択の幅も広く
なるという長所がある。しかし、TiO2は耐候性が極
めて悪い為に、TiO2シリコン系カップリング剤から
溝底される被膜の場合シリコン系カップリング剤の有機
成分の分前、あるいは樹1&基材表面での劣化を招き、
その耐久性に課題があった。
また、透明被覆層の形成に先立って行われる前処理方法
の中で、基材と被膜の間での良好な密着性を確保すると
いう点で、プラズマ処理は、是+4の濡れ特性、接着性
の改良効果が優れている。しかし、プラズマ処理を施し
た場合、初期の密着性は充分確保できるものの、耐候試
験において紫外線による被膜と基材界面での劣化が発生
し、急激な密着性低下を招くという課題があった。
の中で、基材と被膜の間での良好な密着性を確保すると
いう点で、プラズマ処理は、是+4の濡れ特性、接着性
の改良効果が優れている。しかし、プラズマ処理を施し
た場合、初期の密着性は充分確保できるものの、耐候試
験において紫外線による被膜と基材界面での劣化が発生
し、急激な密着性低下を招くという課題があった。
そこで本発明は、これら課題を解決するもので、その目
的とするところは、高い屈折率と高い表面硬度、耐久性
を有し、かつ被膜形成峙の前処理としてプラズマ処理を
施した場合に、耐候試験における密着性低下およびプラ
スチック基材の費変を防ぐことのできる紫外線吸収効果
を合わせ持つ高屈折率樹脂レンズのコーティング用組成
物を提供することにある。
的とするところは、高い屈折率と高い表面硬度、耐久性
を有し、かつ被膜形成峙の前処理としてプラズマ処理を
施した場合に、耐候試験における密着性低下およびプラ
スチック基材の費変を防ぐことのできる紫外線吸収効果
を合わせ持つ高屈折率樹脂レンズのコーティング用組成
物を提供することにある。
〔課題を71?決するための手段〕
本発明のコーティング用組成物は、下記(1)または(
2)の組成物により提供されることを特徴とする。
2)の組成物により提供されることを特徴とする。
(1)下記A、BおよびCを主成分としてなるコーティ
ング用組成物。
ング用組成物。
A、三酸化タングステン微粒子のコロイド状分散体。
B、ANSTiSZrSSs、Sb、Ta5Ce。
La、In5Siから選ばれる1種以上の金属酸化物微
粒子のコロイド状分散体。
粒子のコロイド状分散体。
C1一般式が
2 a
R’ S i (OR’ )3−mで表される有機
ケイ素化合物またはその加水分解物。(ここではR1は
、炭素数1から6の炭素水素基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、またはエポキシ基を
有する有機基、R2は、炭素数1から4の炭化水素基、
R3は、炭素数1から5の炭化水素基1、アルコキシア
ルキル基または水素、aは、0または1を表す)。
ケイ素化合物またはその加水分解物。(ここではR1は
、炭素数1から6の炭素水素基、ビニル基、メタクリロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、またはエポキシ基を
有する有機基、R2は、炭素数1から4の炭化水素基、
R3は、炭素数1から5の炭化水素基1、アルコキシア
ルキル基または水素、aは、0または1を表す)。
(2)AI?STi、Zr、5nSSbSTaSCe、
La、In、Stから選ばれる1種以上の金属酸化物と
三酸化タングステンから構成される微粒子のコロイド状
分散体および前記Cに記載の有機ケイ素化合物またはそ
の加水分解物を主成分としてなるコーティング用組成物
。
La、In、Stから選ばれる1種以上の金属酸化物と
三酸化タングステンから構成される微粒子のコロイド状
分散体および前記Cに記載の有機ケイ素化合物またはそ
の加水分解物を主成分としてなるコーティング用組成物
。
本発明の請求項(1)におけるA成分の三酸化タングス
テン微粒子のコロイド状分散体、さらにはB成分のAl
、Tis Zr、5nSSb、Ta5Ce、La、In
5Siの酸化物微粒子のコロイド状分散体とは、金属酸
化物微粒子の平均粒径が約1〜300mμ、好ましくは
約1〜200mμのものである。これは、粒子径のあま
り小さいものは作成が困難であり、コストが高くて実用
的でなく、また、あまり大きなものは一般に透明感が低
下する為、上記範囲内のものが好ましい。また、これら
A成分、B成分の分散媒としては、水、炭化水素、エス
テル類、ケトン類、アルコール類、有機カルボン酸類な
どをあげることができる。また、これらの分散媒は2N
以上の混合物として用いることも可能である。尚、B成
分については、2種以上の金属酸化物微粒子のコロイド
状分散体の併用を行うことができ、その混合種および混
合比は目的とする被膜特性による適宜決定されるもので
ある。
テン微粒子のコロイド状分散体、さらにはB成分のAl
、Tis Zr、5nSSb、Ta5Ce、La、In
5Siの酸化物微粒子のコロイド状分散体とは、金属酸
化物微粒子の平均粒径が約1〜300mμ、好ましくは
約1〜200mμのものである。これは、粒子径のあま
り小さいものは作成が困難であり、コストが高くて実用
的でなく、また、あまり大きなものは一般に透明感が低
下する為、上記範囲内のものが好ましい。また、これら
A成分、B成分の分散媒としては、水、炭化水素、エス
テル類、ケトン類、アルコール類、有機カルボン酸類な
どをあげることができる。また、これらの分散媒は2N
以上の混合物として用いることも可能である。尚、B成
分については、2種以上の金属酸化物微粒子のコロイド
状分散体の併用を行うことができ、その混合種および混
合比は目的とする被膜特性による適宜決定されるもので
ある。
また、本発明の請求項(2)におけるAl、Ti%Zr
1Sn、Sb、Ta、Ce、Las In。
1Sn、Sb、Ta、Ce、Las In。
Stから遣ばれる1種以上の金属酸化物と三酸化タング
ステンから構成される微粒子のコロイド状分散体とは、
一つの微粒子が三酸化タングステンと前記金属酸化物と
の混合粒子であり、微粒子の平均粒径および分散媒埠は
、前記請求項(1)のA成分、B成分と同様の条件を満
足するものである。
ステンから構成される微粒子のコロイド状分散体とは、
一つの微粒子が三酸化タングステンと前記金属酸化物と
の混合粒子であり、微粒子の平均粒径および分散媒埠は
、前記請求項(1)のA成分、B成分と同様の条件を満
足するものである。
本発明において、三酸化タングステン微粒子のコロイド
状分散体あるいは外の金属酸化物と二酸化タングステン
から構成される微粒子のコロイド状分散体を用いる主な
目的は、二酸化タングステンが紫外線吸収効果を持つた
め、その効果を活用して透明被膜層に紫外線吸収能を付
与し、プラスチック基材と被膜の界面および基材内部の
光劣化を防止するためである。これにより、プラスチッ
ク基材にプラズマ処理等の放電処理を施しコーティング
組成物を塗布、硬化した際にも、コート膜の紫外線吸収
能により基材と透明被膜層の界面が光劣化から保護され
、耐候試験後も良好な密着性が確保できる。さらに、三
酸化タングステン自体は比較的高い屈折率を有する為、
透明被膜層の商用折率化という点でも効果がある。ただ
し、三酸化タングステン単独では、得られる被膜の硬さ
が劣る為、前記記載の高面折率金属酸化物のコロイド状
分散体あるいは三酸化タングステンとこれら金属酸化物
の複合粒子のコロイド状分散体を用いる必要がある。
状分散体あるいは外の金属酸化物と二酸化タングステン
から構成される微粒子のコロイド状分散体を用いる主な
目的は、二酸化タングステンが紫外線吸収効果を持つた
め、その効果を活用して透明被膜層に紫外線吸収能を付
与し、プラスチック基材と被膜の界面および基材内部の
光劣化を防止するためである。これにより、プラスチッ
ク基材にプラズマ処理等の放電処理を施しコーティング
組成物を塗布、硬化した際にも、コート膜の紫外線吸収
能により基材と透明被膜層の界面が光劣化から保護され
、耐候試験後も良好な密着性が確保できる。さらに、三
酸化タングステン自体は比較的高い屈折率を有する為、
透明被膜層の商用折率化という点でも効果がある。ただ
し、三酸化タングステン単独では、得られる被膜の硬さ
が劣る為、前記記載の高面折率金属酸化物のコロイド状
分散体あるいは三酸化タングステンとこれら金属酸化物
の複合粒子のコロイド状分散体を用いる必要がある。
尚、コーティング用組成物の固形分中に占める金属酸化
物微粒子の割合は、10重量%から90重量%が適当で
あり、10重量%以下では硬さ、紫外線吸収能、屈折率
が不充分であり、また90重量%以上では、基材と被膜
の密着力が低下する2)、好ましくない。また、固形分
中の全金属酸化物中に占める三酸化タングステンの割合
は20重量%から90重量%が適当であり、20重量%
以下では、被膜の紫外線吸収能が不充分であり、90%
以上になると被膜の硬さがi」Iられなくなるl′h、
好ましくない。
物微粒子の割合は、10重量%から90重量%が適当で
あり、10重量%以下では硬さ、紫外線吸収能、屈折率
が不充分であり、また90重量%以上では、基材と被膜
の密着力が低下する2)、好ましくない。また、固形分
中の全金属酸化物中に占める三酸化タングステンの割合
は20重量%から90重量%が適当であり、20重量%
以下では、被膜の紫外線吸収能が不充分であり、90%
以上になると被膜の硬さがi」Iられなくなるl′h、
好ましくない。
2 a
本発明のC成分である一般式がR’−3i(OR’ )
Q−*で表されるH機ケイ素化合物またはその加水分
解物としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−グリシドキシブロビルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシブロビルメチルジ
エトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γメタクリキシプロピ
ルトリメトキシシラン、Nβ(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル
)γ−アミノプロピルメチルジメトシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン等がある。これらはfli独で
用いても、2種以上を混合して用いてもよい。また、こ
れらはアルコール等の有機溶剤中、酸の存在下で加水分
解して使用する方が好ましく、単独で加水分解後に金属
酸化物のコロイド状分散体と混合しても、あるいは金属
酸化物のコロイド状分散体と混合後に加水分解をしても
いずれでも良い。これら、有機ケイ素化金物またはその
加水分解物のコーティング組成物の固形分中に占める割
合は、10重量%から90重量%が適当であり、1−0
重量%以Fでは、基材と被膜の密着力が低下する為、好
ましくない。
Q−*で表されるH機ケイ素化合物またはその加水分
解物としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−グリシドキシブロビルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシブロビルメチルジ
エトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γメタクリキシプロピ
ルトリメトキシシラン、Nβ(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル
)γ−アミノプロピルメチルジメトシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン等がある。これらはfli独で
用いても、2種以上を混合して用いてもよい。また、こ
れらはアルコール等の有機溶剤中、酸の存在下で加水分
解して使用する方が好ましく、単独で加水分解後に金属
酸化物のコロイド状分散体と混合しても、あるいは金属
酸化物のコロイド状分散体と混合後に加水分解をしても
いずれでも良い。これら、有機ケイ素化金物またはその
加水分解物のコーティング組成物の固形分中に占める割
合は、10重量%から90重量%が適当であり、1−0
重量%以Fでは、基材と被膜の密着力が低下する為、好
ましくない。
また、90重量%以上では被膜の屈折率が低くなり、干
渉縞の発生が起こる為、好ましくない。
渉縞の発生が起こる為、好ましくない。
また、これらの有機ケイ素化金物は触媒が存在しなくて
も硬化が可能であるが、さらに硬化を促進するために各
種の硬化触媒を用いることが可能である。例えば、n−
ブチルアミン、トリエチルアミン、グアニジン、ビグア
ニドなどのアミン類、グリシンなどのアミノ酸類、アル
ミニウムアセチルアセトホー1−、クロムアセチルアセ
トネート、チタニルアセチルアセトネート、コバルトア
セチルアセトネートなどの金属アセチルアセトネート、
酢酸ナトリウム、ナフテン酸亜鉛、ナフチン酸コバルト
、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズなどのh゛機酸金属
塩、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネ
シウムなどの過塩素酸類あるいはその塩、塩酸、リン酸
、硝酸、パラトルエンスルホン酸などの酸、または5n
C12、AN Cll3、FeCg3、Ti(17*、
ZnCl3、SbCg、などのルイス酸である金属塩化
物などが使用できる。
も硬化が可能であるが、さらに硬化を促進するために各
種の硬化触媒を用いることが可能である。例えば、n−
ブチルアミン、トリエチルアミン、グアニジン、ビグア
ニドなどのアミン類、グリシンなどのアミノ酸類、アル
ミニウムアセチルアセトホー1−、クロムアセチルアセ
トネート、チタニルアセチルアセトネート、コバルトア
セチルアセトネートなどの金属アセチルアセトネート、
酢酸ナトリウム、ナフテン酸亜鉛、ナフチン酸コバルト
、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズなどのh゛機酸金属
塩、過塩素酸、過塩素酸アンモニウム、過塩素酸マグネ
シウムなどの過塩素酸類あるいはその塩、塩酸、リン酸
、硝酸、パラトルエンスルホン酸などの酸、または5n
C12、AN Cll3、FeCg3、Ti(17*、
ZnCl3、SbCg、などのルイス酸である金属塩化
物などが使用できる。
また、本発明のコーティング用組成物は、形成される被
膜の染色性の向上、あるいは各種耐久性の改良を目的に
、多官能性エポキシ化合物、多価アルコール、多価カル
ボン酸、または多価カルボン酸無水物より選ばれる1一
種以上を使用することができる。多官能性エポキシ化合
物としては、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プ
ロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、カテコ
ール、レゾルシノール、アルキレングリコールなどの二
官能性アルコールのジグリシジルエーテル、またはグリ
セリン、トリメチロールプロパンなどの三官能性アルコ
ールのジまたはトリグリシジンルエーテルなどがあげら
れる。多価アルコールとしては、(ポリ)エチレングリ
コール、(ポリ)プロピレングリコール、ネオペンチル
グリコール、カテコール、レゾルシノール、アルキレン
グリコールなどの二官能性アルコール、または、グリセ
リン、トリメチロールプロパンなどの三官能性アルコー
ル、または、ポリビニルアルコールなどがあげられる。
膜の染色性の向上、あるいは各種耐久性の改良を目的に
、多官能性エポキシ化合物、多価アルコール、多価カル
ボン酸、または多価カルボン酸無水物より選ばれる1一
種以上を使用することができる。多官能性エポキシ化合
物としては、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プ
ロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、カテコ
ール、レゾルシノール、アルキレングリコールなどの二
官能性アルコールのジグリシジルエーテル、またはグリ
セリン、トリメチロールプロパンなどの三官能性アルコ
ールのジまたはトリグリシジンルエーテルなどがあげら
れる。多価アルコールとしては、(ポリ)エチレングリ
コール、(ポリ)プロピレングリコール、ネオペンチル
グリコール、カテコール、レゾルシノール、アルキレン
グリコールなどの二官能性アルコール、または、グリセ
リン、トリメチロールプロパンなどの三官能性アルコー
ル、または、ポリビニルアルコールなどがあげられる。
多価カルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、マレイン酸、オルソフタル酸、テ
レフタル酸、フマル酸、イタコン酸、オキザロ酢酸など
があげられる。多価カルボン酸無水物としては、無水コ
ハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、1.2−ジ
メチルマレイン酸無水物、無水フタル酸、ヘキサヒドロ
フタル酸無水物、無水ナフタル酸などがあげられる。
ン酸、アゼライン酸、マレイン酸、オルソフタル酸、テ
レフタル酸、フマル酸、イタコン酸、オキザロ酢酸など
があげられる。多価カルボン酸無水物としては、無水コ
ハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、1.2−ジ
メチルマレイン酸無水物、無水フタル酸、ヘキサヒドロ
フタル酸無水物、無水ナフタル酸などがあげられる。
また、本発明のコーティング用組成物は、アルコール酸
、ケトン類、セロソルブ類、カルボン酸類などの溶媒を
単独または混合して加えることによって、固形分濃度の
調節を行うことができる。
、ケトン類、セロソルブ類、カルボン酸類などの溶媒を
単独または混合して加えることによって、固形分濃度の
調節を行うことができる。
また、必要に応して、少量の界面活性剤、帯電防止剤、
紫外線吸収材を添加し、コート液の塗布性、コート膜の
性能を改良することもできる。
紫外線吸収材を添加し、コート液の塗布性、コート膜の
性能を改良することもできる。
尚、本発明におけるコーティング用組成物の塗布にあた
っては、基材と被膜の密着性を向上させる目的で、基材
表面をあらかじめアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処
理、ブライマー処理またはプラズマ処理等を行うことが
効果的である。
っては、基材と被膜の密着性を向上させる目的で、基材
表面をあらかじめアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処
理、ブライマー処理またはプラズマ処理等を行うことが
効果的である。
また、塗布、硬化方法としては、ディッピング法、スピ
ンナー法、スプレー法あるいはフロー法によりコーテイ
ング液を均一に塗布した後、40〜200℃の温度で数
峙間加熱乾燥することにより被膜を形成することができ
る。被膜の膜厚は、1〜30μmが適当で、1μm未満
の場合は得られた被膜の耐擦傷性が充分でなく、30μ
mを越える場合は被膜にクラックを生じ易い。尚、形成
される被膜上に、無機物からなる単層、多層の反射防止
膜を設けることにより、反射の低減、透過中の向上を図
ることも可能である。
ンナー法、スプレー法あるいはフロー法によりコーテイ
ング液を均一に塗布した後、40〜200℃の温度で数
峙間加熱乾燥することにより被膜を形成することができ
る。被膜の膜厚は、1〜30μmが適当で、1μm未満
の場合は得られた被膜の耐擦傷性が充分でなく、30μ
mを越える場合は被膜にクラックを生じ易い。尚、形成
される被膜上に、無機物からなる単層、多層の反射防止
膜を設けることにより、反射の低減、透過中の向上を図
ることも可能である。
本発明の対象となる塗布基材としては、透明な材料であ
れば、ガラス、プラスチック共に良好な耐久性が得られ
るが、本発明の目的から、屈折串が1.50から1.8
0前後の透明材料に対し、干渉縞防止効果の点で、特に
有効である。
れば、ガラス、プラスチック共に良好な耐久性が得られ
るが、本発明の目的から、屈折串が1.50から1.8
0前後の透明材料に対し、干渉縞防止効果の点で、特に
有効である。
以下、実施例により、本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1
撹拌装置を備えたフラスコ中に、水分散三酸化タングス
テンゾル(日冷化学工業(株)製、WO3濃度20重量
%)150g、および5b2o。
テンゾル(日冷化学工業(株)製、WO3濃度20重量
%)150g、および5b2o。
メタノールゾル(日冷化学工業(株)製、商品名“サン
コロイドAMT−130” 、5b20s濃度30重量
%)toog、エタノール177.2g1 γ−グリシ
ドキシブロピルトリメトキシシラン57.1gを撹拌し
つつ順に加え、その後0゜05規定塩酸水15.7gを
30分間かけて滴下した。続いてシリコン系界面活性剤
(日本ユニカー(株)製、商品名“Y−7002”)を
0.25g添加した後、0℃で24時間放置し熟成を行
いコーテイング液を得た。
コロイドAMT−130” 、5b20s濃度30重量
%)toog、エタノール177.2g1 γ−グリシ
ドキシブロピルトリメトキシシラン57.1gを撹拌し
つつ順に加え、その後0゜05規定塩酸水15.7gを
30分間かけて滴下した。続いてシリコン系界面活性剤
(日本ユニカー(株)製、商品名“Y−7002”)を
0.25g添加した後、0℃で24時間放置し熟成を行
いコーテイング液を得た。
次に高屈折率樹脂レンズ生地((株)IrfINセイコ
ー製、商品名“セイコーハイロード°、屈折串1.60
、直径75m箇、−3,0OD)を5重量%濃度のNa
OH水溶液に5分間浸漬し、洗浄、乾燥した後、前記コ
ーティング波を用い、引上げ速度15cm/分の条件で
デイピング法により塗布した。塗布後、80℃で1時間
、100℃で2時間加熱・硬化を行った。尚、得られた
被膜の膜厚は2.3μmであった。
ー製、商品名“セイコーハイロード°、屈折串1.60
、直径75m箇、−3,0OD)を5重量%濃度のNa
OH水溶液に5分間浸漬し、洗浄、乾燥した後、前記コ
ーティング波を用い、引上げ速度15cm/分の条件で
デイピング法により塗布した。塗布後、80℃で1時間
、100℃で2時間加熱・硬化を行った。尚、得られた
被膜の膜厚は2.3μmであった。
以上の方法により得られた合成樹脂レンズについて次の
性能評価試験を行い、結果を第1表に示した。
性能評価試験を行い、結果を第1表に示した。
(1)外観:干渉縞の発生の有無について、背景を黒く
した状態で螢光灯の光をレンズ表面で反射させ、光の干
渉による虹模様の発生を肉眼で観察した。判定は次のよ
うにして行った。
した状態で螢光灯の光をレンズ表面で反射させ、光の干
渉による虹模様の発生を肉眼で観察した。判定は次のよ
うにして行った。
○:虹模様が認められない。
Δ:かすかに虹模様が認められる。
×:はっきりと虹模様が認められる。
(2)耐擦傷性: #0000スチールウールにより荷
重1kg/cjで10往復させた後の被膜の状態をみた
。
重1kg/cjで10往復させた後の被膜の状態をみた
。
A:はとんど傷がつかない。
B:少し傷がつく。
C:多く傷がつく。
(3)密着性:80℃の温水中に2時間浸漬した後、レ
ンズ表面にナイフで縦横にそれぞれ1關間隔で11本の
平行線状の傷をっけ、100個のマス目をつくり、セロ
ファンテープを接着、剥離後に被膜が♂りがれずに残っ
たマス口の数をみた。
ンズ表面にナイフで縦横にそれぞれ1關間隔で11本の
平行線状の傷をっけ、100個のマス目をつくり、セロ
ファンテープを接着、剥離後に被膜が♂りがれずに残っ
たマス口の数をみた。
(4)耐候性:キセノンログライフフェードメーター(
スガ試験機(株)製)を用い、150時間暴露した後、
以下の評価を行った。
スガ試験機(株)製)を用い、150時間暴露した後、
以下の評価を行った。
■外観:し・ンズの着色を肉眼で観察した。
■密着性:試験後のレンズについて、前記(3)と同様
のクロスカット・テープ試験を暴露面について行った。
のクロスカット・テープ試験を暴露面について行った。
実施例2
前記実施例1て用いたと同じ高屈折率レンズ中地を、表
面処理用プラズマ装置(真空器械工業(株)製)を用い
、エアー流量100m1/分、出力50w、真空度(1
,2torrで30秒間処即金行った後、実施例1のコ
ーティングi(lを用いて同様の方法て被膜を設けた。
面処理用プラズマ装置(真空器械工業(株)製)を用い
、エアー流量100m1/分、出力50w、真空度(1
,2torrで30秒間処即金行った後、実施例1のコ
ーティングi(lを用いて同様の方法て被膜を設けた。
得られた被膜の膜厚は2,5μmであった。
以上の方法で得られた合成樹脂レンズを実施例1と同様
の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
実施例3
撹社装置を備えたフラスコ中に、実施例1で用いたと同
じ水分散三酸化タングステンゾル、15「)glおよび
5b20.メタノールゾル66.7g5イソプロピルア
ルコ一ル分散コロイダルシリカ(触媒化或王業(株)製
、商品名“05CAL1432”、固形分濃度30重量
%)66.7g1γ−グリシドキシプロビルメチルジェ
トキシ・シラン42.9.を撹袢しつつ順に加え、(1
,05規定塩酸水7.5fを30分間かけて滴下した。
じ水分散三酸化タングステンゾル、15「)glおよび
5b20.メタノールゾル66.7g5イソプロピルア
ルコ一ル分散コロイダルシリカ(触媒化或王業(株)製
、商品名“05CAL1432”、固形分濃度30重量
%)66.7g1γ−グリシドキシプロビルメチルジェ
トキシ・シラン42.9.を撹袢しつつ順に加え、(1
,05規定塩酸水7.5fを30分間かけて滴下した。
続いて実施例1で用いたと同じシリコン系界面活性剤0
.25gを添加した後、0℃で24時間放置し熟成を行
いコーテイング液を得た。
.25gを添加した後、0℃で24時間放置し熟成を行
いコーテイング液を得た。
次に実施例1て用いたと同じ高屈折率レンズ生地に実施
例1と同様のアルカリ処理を行った後、本実施例のコー
テイング液に引上げ速度15cm/分の条件でディッピ
ング法で塗布し、実施例1と同様に加熱・硬化した。得
られた被膜の膜厚は2゜4μmであった。
例1と同様のアルカリ処理を行った後、本実施例のコー
テイング液に引上げ速度15cm/分の条件でディッピ
ング法で塗布し、実施例1と同様に加熱・硬化した。得
られた被膜の膜厚は2゜4μmであった。
以上の方法により得られた合成樹脂レンズを実施例1と
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
実施例4
前記実施例1て用いたと同じ高屈折率レンズ生地を実施
例2と同様の方法でプラズマ処理した後、実施例3て調
製したコーテイング液を用いて塗布・硬化した。塗布、
硬化の条件は実施例3と同様に行った。(+−%られた
被膜の膜厚は2,6μmであった。
例2と同様の方法でプラズマ処理した後、実施例3て調
製したコーテイング液を用いて塗布・硬化した。塗布、
硬化の条件は実施例3と同様に行った。(+−%られた
被膜の膜厚は2,6μmであった。
以上の方法により(りられた合成樹脂レンズを実施例1
と同様の方法て評価し、その結果を第1表に示した。
と同様の方法て評価し、その結果を第1表に示した。
実施例5
撹t[”装置を備えたフランス中に、水を分散媒とする
二酸化タングステン、五酸化アンチモン及び二酸化ケイ
素が重量比で4対3 &=J 3からなる金属酸化物微
粒子のコロイド秋分媒体([1産化学り業(株)製、固
形分濃度20!T!量%)250g、γグリシドキシブ
ロビルトリメトキシシラン71゜43に1メチルセロソ
ルブ158.96gを撹袢しつつ順に加え、その後、0
.05規定塩酸水19.61srを30分間かけて滴下
した。続いて実施例1で用いたと同じシリコン系界面活
性剤0゜25gを添加した後、0℃で24時間M装し熟
成を行いコーテイング液を得た。
二酸化タングステン、五酸化アンチモン及び二酸化ケイ
素が重量比で4対3 &=J 3からなる金属酸化物微
粒子のコロイド秋分媒体([1産化学り業(株)製、固
形分濃度20!T!量%)250g、γグリシドキシブ
ロビルトリメトキシシラン71゜43に1メチルセロソ
ルブ158.96gを撹袢しつつ順に加え、その後、0
.05規定塩酸水19.61srを30分間かけて滴下
した。続いて実施例1で用いたと同じシリコン系界面活
性剤0゜25gを添加した後、0℃で24時間M装し熟
成を行いコーテイング液を得た。
次に高屈折半樹脂レンズ/E:地((株)版部セイコー
製、商品名“セイコーブラックス■”、屈折r+、%1
.56、直径75mm、−3,0OD)を実施例1と同
様の方法でアルカリ処理した後、本実施例で得られたコ
ーテイング液を用い、引上げ速度17(7)7分の条件
でディッピング法により塗布した。塗布後、80℃で1
時間、110℃で3肪間加熱・硬化を行った。尚、得ら
れた被膜の膜厚は、2.7μmであった。
製、商品名“セイコーブラックス■”、屈折r+、%1
.56、直径75mm、−3,0OD)を実施例1と同
様の方法でアルカリ処理した後、本実施例で得られたコ
ーテイング液を用い、引上げ速度17(7)7分の条件
でディッピング法により塗布した。塗布後、80℃で1
時間、110℃で3肪間加熱・硬化を行った。尚、得ら
れた被膜の膜厚は、2.7μmであった。
以上の方法で得られた合成樹脂レンズ実施例1と同様の
方法で評価し、その結果を第1表に示した。
方法で評価し、その結果を第1表に示した。
実施例6
前記実施例5で用いたと同じ高屈折率レンズ生地を実施
例2と同様の方法でプラズマ処理した後、実施例5で調
製したコーチ2fング液を用いて塗布・硬化した。塗布
・硬化の条件は実施例5と同様に行った。得られた被膜
の膜厚は2.8μmであった。
例2と同様の方法でプラズマ処理した後、実施例5で調
製したコーチ2fング液を用いて塗布・硬化した。塗布
・硬化の条件は実施例5と同様に行った。得られた被膜
の膜厚は2.8μmであった。
以上の方法により得られた合成樹脂レンズを実施例1と
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
実施例7
実施例1で得られたレンズを真空中、200wの出力の
Arガスプラズマ中に30秒間暴露させた後、真空蒸着
法によりレンズ側から大気側へ向かって、5i02、Z
rO2,5i02、ZrO2,5i02の5層の薄膜を
形成した。形成された反射防止膜の光学的膜厚は、順に
5tO2が約λ。/4、次のZrO2と5i02の合計
膜厚が約λo / 4、次のZrO2が約λ。/4、そ
して最上層の5i02が約λo/4である。尚、設計波
長λ0は、510nmである。
Arガスプラズマ中に30秒間暴露させた後、真空蒸着
法によりレンズ側から大気側へ向かって、5i02、Z
rO2,5i02、ZrO2,5i02の5層の薄膜を
形成した。形成された反射防止膜の光学的膜厚は、順に
5tO2が約λ。/4、次のZrO2と5i02の合計
膜厚が約λo / 4、次のZrO2が約λ。/4、そ
して最上層の5i02が約λo/4である。尚、設計波
長λ0は、510nmである。
以上の方法により得られた合成樹脂レンズを実施例1と
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
第 1
表
比較例1
撹拌装置を備えたフラスコ中に、実施例3で用いたと同
じイソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ75g
1およびイソプロピルアルコール185g、γ−グリシ
ドキシブロビルトリメトキシシラン32gを撹拌しつつ
順に加え、0.05規定塩酸8.8gを30分間かけて
滴下した。
じイソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ75g
1およびイソプロピルアルコール185g、γ−グリシ
ドキシブロビルトリメトキシシラン32gを撹拌しつつ
順に加え、0.05規定塩酸8.8gを30分間かけて
滴下した。
続いて、実施例1で用いたと同じシリコン系界面活性剤
0.15gを添加した後、0℃で24時間放置し熟成を
行い、コーテイング液を得た。
0.15gを添加した後、0℃で24時間放置し熟成を
行い、コーテイング液を得た。
このコーテイング液を用い、実施例1で用いたと同じ高
屈折率レンズ生地を実施例2と同様の方法でプラズマ処
理した後、引上げ速度15cm/分の条件でディッピン
グ法により塗布し、その後、実施例1と同様の方法で加
熱・硬化した。得られた被膜の膜厚は、2.5ttmで
あった。
屈折率レンズ生地を実施例2と同様の方法でプラズマ処
理した後、引上げ速度15cm/分の条件でディッピン
グ法により塗布し、その後、実施例1と同様の方法で加
熱・硬化した。得られた被膜の膜厚は、2.5ttmで
あった。
以上の方法により得られた合成樹脂レンズを実施例1と
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
比較例2
前記比較例1におけるイソプロピルアルコール分散コロ
イダルシリカを実施例1で用いた5b205メタノール
ゾルに変える他は、比較例1と同様にしてコーテイング
液を得た。
イダルシリカを実施例1で用いた5b205メタノール
ゾルに変える他は、比較例1と同様にしてコーテイング
液を得た。
このコーテイング液を用い、実施例1で用いたと同じ高
屈折率レンズ生地を実施例2と同様の方法でプラズマ処
理した後、比較例1と同様の方法て被膜を設けた。被膜
の膜厚は、2.5μmであった。
屈折率レンズ生地を実施例2と同様の方法でプラズマ処
理した後、比較例1と同様の方法て被膜を設けた。被膜
の膜厚は、2.5μmであった。
以上の方法により得られた合成樹脂レンズを実施例1と
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
同様の方法で評価し、その結果を第1表に示した。
以上述べたように、本発明のコーティング用組成物を用
いる事により、高い屈折率と高い表面硬度・耐久性を有
する高屈折率樹脂レンズ用被膜を得ることができる。
いる事により、高い屈折率と高い表面硬度・耐久性を有
する高屈折率樹脂レンズ用被膜を得ることができる。
さらに、実施例からも明らかなごとく、本発明のコーテ
ィング用組成物によって得られる被膜は、紫外線吸収効
果を合わせ持つ為に、被膜形成時の前処理としてプラズ
マ処理を行った場合に、耐候試験後密着性の低下がなく
、かつプラスチック基材の黄変をも防ぐことができる。
ィング用組成物によって得られる被膜は、紫外線吸収効
果を合わせ持つ為に、被膜形成時の前処理としてプラズ
マ処理を行った場合に、耐候試験後密着性の低下がなく
、かつプラスチック基材の黄変をも防ぐことができる。
尚、本発明のコーティング用組成物は、高屈折率樹脂レ
ンズばかりではなく、その他の高屈折率樹脂材料、高屈
折率ガラス等の応用も可能である。
ンズばかりではなく、その他の高屈折率樹脂材料、高屈
折率ガラス等の応用も可能である。
Claims (2)
- (1)下記A、BおよびCを主成分としてなることを特
徴とするコーティング用組成物。A、三酸化タングステ
ン微粒子のコロイド状分散体。 B、Al、Ti、Zr、Sn、Sb、Ta、Ce、La
、In、Siから選ばれる1種以上の金属酸化物微粒子
のコロイド状分散体。 C、一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物。(
ここではR^1は、炭素数1から6の炭化水素基、ビニ
ル基、メタクリロキシ基、メルカプト基、アミノ基、ま
たはエポキシ基を有する有機基、R^2は、炭素数1か
ら4の炭化水素基、R^3は、炭素数1から5の炭化水
素基、アルコキシアルキル基または水素、aは、0また
は1を表す)。 - (2)Al、Ti、Zr、Sn、Sb、Ta、Ce、L
a、In、Siから選ばれる1種以上の金属酸化物と三
酸化タングステンから構成される微粒子のコロイド状分
散体および請求項1に記載の前記Cの一般式で表される
有機ケイ素化合物またはその加水分解物を主成分として
なることを特徴とするコーティング用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1208871A JP2805877B2 (ja) | 1989-08-11 | 1989-08-11 | コーティング用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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US5415690A (en) * | 1992-06-12 | 1995-05-16 | Nikon Corporation | Coating composition |
JPH10130576A (ja) * | 1996-10-24 | 1998-05-19 | Nof Corp | 塗料組成物 |
US6010778A (en) * | 1992-06-04 | 2000-01-04 | Nikon Corporation | Coating composition utilizing modified sol having tin oxide-tungsten oxide complex colloid particles and lens coated therewith |
KR100267444B1 (ko) * | 1991-06-13 | 2000-11-01 | 마쯔무라 미노루 | 플라스틱 렌즈 |
KR100295375B1 (ko) * | 1995-03-03 | 2001-09-17 | 나루세 스스무 | 피막-형성도포액과합성수지렌즈 |
JP2002309170A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Nippon Yushi Basf Coatings Kk | 塗料組成物、塗装仕上げ方法及び塗装物品 |
JP2010204641A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-09-16 | Hoya Corp | 染色プラスチックレンズの製造方法 |
JP2010204640A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-09-16 | Hoya Corp | 染色プラスチックレンズの製造方法 |
JP2017503906A (ja) * | 2013-11-22 | 2017-02-02 | フーイャォ グラス インダストリー グループ カンパニー リミテッド | 紫外線吸収コーティング形成用塗布液及び紫外線吸収ガラス[関連出願の参照] 本出願は、発明の名称を「紫外線吸収コーティング形成用塗布液及び紫外線吸収ガラス」とする、2013年11月22日に出願された中国特許出願201310597206.2号の優先権を主張し、そのすべての内容が本明細書に参照として組み込まれる。 |
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1989
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100267444B1 (ko) * | 1991-06-13 | 2000-11-01 | 마쯔무라 미노루 | 플라스틱 렌즈 |
US6010778A (en) * | 1992-06-04 | 2000-01-04 | Nikon Corporation | Coating composition utilizing modified sol having tin oxide-tungsten oxide complex colloid particles and lens coated therewith |
US5415690A (en) * | 1992-06-12 | 1995-05-16 | Nikon Corporation | Coating composition |
KR100295375B1 (ko) * | 1995-03-03 | 2001-09-17 | 나루세 스스무 | 피막-형성도포액과합성수지렌즈 |
JPH10130576A (ja) * | 1996-10-24 | 1998-05-19 | Nof Corp | 塗料組成物 |
JP2002309170A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Nippon Yushi Basf Coatings Kk | 塗料組成物、塗装仕上げ方法及び塗装物品 |
JP2010204641A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-09-16 | Hoya Corp | 染色プラスチックレンズの製造方法 |
JP2010204640A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-09-16 | Hoya Corp | 染色プラスチックレンズの製造方法 |
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