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JPH0362674B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0362674B2
JPH0362674B2 JP20695085A JP20695085A JPH0362674B2 JP H0362674 B2 JPH0362674 B2 JP H0362674B2 JP 20695085 A JP20695085 A JP 20695085A JP 20695085 A JP20695085 A JP 20695085A JP H0362674 B2 JPH0362674 B2 JP H0362674B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
chromium
silicon carbide
ceramics
metallized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP20695085A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6270284A (en
Inventor
Hisanobu Okamura
Masahiko Sakamoto
Rikuo Kamoshita
Hiroshi Akyama
Kyo Matsuzaka
Ryoichi Kajiwara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP20695085A priority Critical patent/JPS6270284A/en
Publication of JPS6270284A publication Critical patent/JPS6270284A/en
Publication of JPH0362674B2 publication Critical patent/JPH0362674B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Ceramic Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は金属との接合に適するメタライズド表
面を有する炭化珪素系セラミツクス体およびその
製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a silicon carbide ceramic body having a metallized surface suitable for bonding with metal, and a method for manufacturing the same.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

セラミツクスは金属と接合することにより、セ
ラミツクスにはない新たな機能が生み出され、セ
ラミツクスの応用範囲が更に拡大する。セラミツ
クスと金属とを接合する場合、拡散接合法等によ
つて直接接合することも可能であるが、一般的に
この方法は接合時に加圧を必要とするため、複雑
な形状の接合には適さない。これに代る方法とし
て、予めセラミツクス表面をメタライズ(金属
化)した後、これを銀ろうまたははんだ付等で金
属と接合する方法が一般的に行われている。例え
ば半導体パツケージ等の電子部品をセラミツクス
のケースで封止する場合に、セラミツクス・ケー
スをメタライズした後、これら同志を銀ろう付け
する等である。
By bonding ceramics with metals, new functions not found in ceramics are created, further expanding the range of applications for ceramics. When joining ceramics and metal, it is possible to directly join them using diffusion bonding, etc., but this method generally requires pressure during joining, so it is not suitable for joining complex shapes. do not have. As an alternative method, a method is generally used in which the surface of the ceramic is metallized in advance and then bonded to a metal using silver soldering or soldering. For example, when an electronic component such as a semiconductor package is sealed with a ceramic case, the ceramic case is metallized and then these parts are soldered with silver.

従来から行われている例えばアルミナ等の酸化
物系セラミツクスの金属化方法として、アルミナ
の表面にMnとMoとの混合粉末を塗布し、これ
をフオーミングガス中で1400℃以上に焼成する
Mo−Mn法があるが、これは炭化珪素系セラミ
ツクスには適用できない。
The conventional method for metallizing oxide ceramics such as alumina is to apply a mixed powder of Mn and Mo to the surface of alumina and sinter it in a forming gas at a temperature of 1400°C or higher.
Although there is a Mo-Mn method, it cannot be applied to silicon carbide ceramics.

炭化珪素や窒化珪素等の非酸化物系セラミツク
スの金属化方法として、例えば特開昭59−195590
号のようにFe、Ni、Cr、Mnのうち少なくとも
1種類以上の金属成分と、C、Si、B、黒鉛のう
ち少なくとも1種類以上の成分を混合した組成物
を、粉末あるいは箔の形で窒化物系セラミツクス
体の表面に載置し、非酸化性または弱酸化性雰囲
気下において前記組成物を溶融させることを特徴
とする窒化物系セラミツクスの金属化方法である
が、これは炭化珪素系セラミツクスには不適であ
る。
As a method for metallizing non-oxide ceramics such as silicon carbide and silicon nitride, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-195590
A composition containing at least one metal component among Fe, Ni, Cr, and Mn and at least one component among C, Si, B, and graphite is prepared in the form of powder or foil. This method of metallizing nitride ceramics is characterized by placing the composition on the surface of a nitride ceramic body and melting the composition in a non-oxidizing or weakly oxidizing atmosphere. Not suitable for ceramics.

また、特開昭59−203780号に示された非酸化物
系セラミツクス焼結体の金属化方法では、非酸化
物系セラミツクス焼結体表面をアルミニウムで被
覆した後アルミナ層を形成し、このアルミナ層を
金属化処理している。この方法はメタライズ工程
が2回必要で不経済である。また、特開昭55−
51775号ではMo、W等の高融点金属粉末を非酸
化物系セラミツクスに置載し、非酸化性雰囲気内
で加圧しつつ焼成してメタライズしている。この
方法は加圧が必要であるため複雑形状のものには
不適である。
Furthermore, in the method for metallizing a non-oxide ceramic sintered body disclosed in JP-A No. 59-203780, the surface of the non-oxide ceramic sintered body is coated with aluminum and then an alumina layer is formed. The layers are metallized. This method requires two metallization steps and is uneconomical. Also, JP-A-55-
In No. 51775, high melting point metal powder such as Mo or W is placed on non-oxide ceramics, and metallized by firing under pressure in a non-oxidizing atmosphere. Since this method requires pressurization, it is not suitable for products with complex shapes.

前記組成物を溶融させる方法は、組成物を溶融
させる高温で行うため、窒化珪素セラミツクスに
は適用可能であるが、炭化珪素系セラミツクスに
適用した場合、該セラミツクスとの結合反応が過
剰に進み、脆い化合物層が厚く生じて十分なメタ
ライズ強度が得られず、耐熱性も低い欠点があ
る。
The method for melting the composition is performed at a high temperature to melt the composition, so it is applicable to silicon nitride ceramics, but when applied to silicon carbide ceramics, the bonding reaction with the ceramics proceeds excessively, There are disadvantages in that the brittle compound layer is thick and sufficient metallization strength cannot be obtained, and heat resistance is also low.

一方、炭化珪素系セラミツクスのメタライズ方
法として、特開昭58−99184号ではW、Mo、Ti、
Mn等の粉末を塗布し、これを非酸化性雰囲気内
で焼成する方法があるが、これは焼成温度が1400
℃以上と高いため、接合時の熱応力が大きく信頼
性のある接合部が得られない。
On the other hand, as a metallization method for silicon carbide ceramics, W, Mo, Ti,
There is a method of applying powder such as Mn and firing it in a non-oxidizing atmosphere, but this method requires a firing temperature of 1400°C.
Since the temperature is high, above ℃, the thermal stress during bonding is large and a reliable bond cannot be obtained.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は高い接合強度を以て金属と接合
するに適する、且つ耐熱性に富むメタライズド面
を有する炭化珪素系セラミツクス体およびその製
造方法を提供するにある。
An object of the present invention is to provide a silicon carbide-based ceramic body having a metallized surface that is suitable for bonding to metal with high bonding strength and has high heat resistance, and a method for manufacturing the same.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明のメタライズド炭化珪素系セラミツクス
体は、炭化珪素系セラミツクス母相の表面に、ク
ロムシリサイドとクロム炭化物との混在層を介し
て銅又はニツケル層が形成されていることを特徴
とするものである。
The metallized silicon carbide ceramic body of the present invention is characterized in that a copper or nickel layer is formed on the surface of the silicon carbide ceramic matrix via a mixed layer of chromium silicide and chromium carbide. .

かかるメタライズド炭化珪素系セラミツクス体
は、炭化珪素系セラミツクスの表面にペースト状
の金属クロム粉末を塗布し、不活性雰囲気または
酸素分圧が10-2torr以下の雰囲気中で900℃以上
1300℃以下に加熱して、炭化珪素系セラミツクス
母相の表面にクロムシリサイドとクロム炭化物と
の混在層およびその上に未反応クロム層を形成さ
せ、該未反応クロム層を除去した後、上記混在層
上に銅又はニツケル層を形成することによつて製
造することができる。
Such metallized silicon carbide-based ceramic bodies are produced by coating the surface of silicon carbide-based ceramics with a paste-like metallic chromium powder, and heating the body to 900°C or higher in an inert atmosphere or an atmosphere with an oxygen partial pressure of 10 -2 torr or less.
Heating to 1300°C or less forms a mixed layer of chromium silicide and chromium carbide on the surface of the silicon carbide-based ceramic matrix and an unreacted chromium layer thereon, and after removing the unreacted chromium layer, It can be manufactured by forming a copper or nickel layer on top of the layer.

本発明による上記メタライズド炭化珪素系セラ
ミツクス体は、前記の表面に形成されたメタライ
ズド面すなわち銅又はニツケル層に、他の接合し
たい金属部材を金属ろう付けすることによつて、
該金属部材と強固に接合することができる。
The metallized silicon carbide-based ceramic body according to the present invention can be produced by metal brazing another metal member to be joined to the metallized surface, that is, the copper or nickel layer formed on the surface.
It can be firmly joined to the metal member.

以下、本発明を解説する。 The present invention will be explained below.

本発明者らは、炭化珪素系セラミツクス表面に
各種金属の粉末を塗付し、これを非酸化性雰囲気
内で1000℃に加熱した場合の該セラミツクスと金
属との反応状態を調べた結果、次のような新しい
現象を発見した。
The present inventors applied various metal powders to the surface of silicon carbide ceramics and investigated the state of reaction between the ceramics and metals when the powder was heated to 1000°C in a non-oxidizing atmosphere. discovered a new phenomenon.

すなわち、Ti、Zr、Nb、V等の第a族及び
第a族の金属を塗付した場合、1000℃の加熱温
度では反応が進まず、結合反応を生じさせるため
には1000℃を越えて該金属の融点近くまで加熱温
度を高める必要がある。しかし、加熱温度を融点
近くまで高めるとメタライズド界面に該金属の炭
化物及びシリサイド等の脆い化合物層が厚く形成
し、十分なメタライズ強度が得られないことが判
明した。
In other words, when applying Group A and Group A metals such as Ti, Zr, Nb, and V, the reaction does not proceed at a heating temperature of 1000°C, and the temperature must exceed 1000°C to cause a bonding reaction. It is necessary to raise the heating temperature to near the melting point of the metal. However, it has been found that when the heating temperature is raised to near the melting point, a thick layer of brittle compounds such as carbides and silicides of the metal is formed at the metallized interface, making it impossible to obtain sufficient metallization strength.

Fe、Ni、Mn、Co等の第a族及び第a族
金属を塗付した場合は、1000℃の加熱温度で該セ
ラミツクスとの結合反応が過剰に進み、接合界面
には該金属の脆いシリサイドまたは炭化物層及び
遊離炭素が厚く形成されて十分なメタライズ強度
が得られないことが判明した。
When Group A and Group A metals such as Fe, Ni, Mn, and Co are coated, the bonding reaction with the ceramics proceeds excessively at a heating temperature of 1000°C, and the brittle silicide of the metals forms at the bonding interface. Alternatively, it has been found that the carbide layer and free carbon are formed so thick that sufficient metallization strength cannot be obtained.

一方、Cr,Mo、W等の第a族金属の中で特
にCr粉末を塗付した場合には、該セラミツクス
の母相上にCrシリサイドとCr炭化物との混在層
が薄く形成されることが判明した。このCrシリ
サイド、Cr炭化物の混在層は、該セラミツクス
と強固に結合されており、その厚さは塗付した
Cr粉末の厚さに影響されず、加熱温度が900〜
1300℃の場合1〜5μmと極めて薄いため、熱応力
も小さくなり、メタライズ強度が向上する原因に
なつている。一方、前記混在層と共に該混在層の
外側に更にCr2O3等のクロム酸化物を一部含む未
反応Cr層が比較的厚く形成されるが、この未反
応クロム層はセラミツクスとの結合力が弱く、そ
の厚さは塗付したクロム粉末の厚さにほぼ比例し
て厚くなる。このような未反応クロム層は、前記
銅又はニツケル層の形成前に除去することによつ
て、金属部材の接合強度に悪影響を及ぼさないよ
うにすることができる。この未反応クロム層の除
去には、研摩、ブラシによる除去、ホーニング等
の方法を用いればよい。
On the other hand, when applying Cr powder among Group A metals such as Cr, Mo, and W, a thin mixed layer of Cr silicide and Cr carbide may be formed on the matrix of the ceramic. found. This mixed layer of Cr silicide and Cr carbide is strongly bonded to the ceramic, and its thickness is
Unaffected by the thickness of Cr powder, heating temperature is 900~
At 1300°C, it is extremely thin at 1 to 5 μm, which reduces thermal stress and improves metallization strength. On the other hand, a relatively thick unreacted Cr layer containing a portion of chromium oxides such as Cr 2 O 3 is formed on the outside of the mixed layer together with the mixed layer, but this unreacted chromium layer has a strong bond with the ceramics. is weak, and its thickness increases approximately in proportion to the thickness of the applied chromium powder. By removing such an unreacted chromium layer before forming the copper or nickel layer, it is possible to prevent it from adversely affecting the bonding strength of the metal members. To remove this unreacted chromium layer, methods such as polishing, removal with a brush, honing, etc. may be used.

該セラミツクス表面に結果として形成された前
記混在層のままでは他の金属部材と接合するため
のろう付性またははんだ付性が十分でないため、
該混在層表面にCuまたはNi層を設けた後、該他
の金属部材と接合することが望ましい。該Cuま
たはNi層を形成するには、電気めつき、化学め
つき、蒸着、スパツタリング等の方法が可能であ
る。更に前記混合層とCuまたはNi層との結合状
態を高めるため500℃〜900℃の温度で再び拡散処
理を行うのが望ましい。
Since the mixed layer formed as a result on the ceramic surface does not have sufficient brazing or solderability for joining with other metal members,
After providing a Cu or Ni layer on the surface of the mixed layer, it is desirable to bond it to the other metal member. To form the Cu or Ni layer, methods such as electroplating, chemical plating, vapor deposition, and sputtering can be used. Further, in order to improve the bonding state between the mixed layer and the Cu or Ni layer, it is desirable to perform the diffusion treatment again at a temperature of 500°C to 900°C.

前記方法により炭化珪素系セラミツクス表面に
メタライズ膜を銅又はニツケルで形成後、ろう材
により他の金属部材と接合することにより、20
Kg/mm2以上の曲げ強度が得られ、耐熱性も600℃
以上である。
After forming a metallized film of copper or nickel on the surface of silicon carbide ceramics by the above method, it is bonded to other metal members using a brazing material.
A bending strength of Kg/mm 2 or more can be obtained, and the heat resistance is also 600℃.
That's all.

炭化珪素系セラミツクスの表面に塗付するクロ
ム粉末の粒径は500μm以下であり、好ましくは
100μm以下とする。これより大きい粒径では、結
果として、前記混在層で覆われないセラミツクス
面の部分が生じ易い。またクロム粉末の塗付厚は
10μm以上が好ましく、少なすぎると結果的に前
記混在層で覆われないセラミツクス表面部ができ
易く、好ましくない。クロム粉末は適宜のペース
ト剤と共にペースト状にして塗付するのがよい。
クロム粉末を塗付したセラミツクスを900℃〜
1300℃に加熱する時間は10分以上1時間以内が望
ましい。
The particle size of the chromium powder applied to the surface of silicon carbide ceramics is 500 μm or less, preferably
Should be 100μm or less. If the particle size is larger than this, a portion of the ceramic surface is likely to be not covered with the mixed layer. Also, the coating thickness of chromium powder is
The thickness is preferably 10 μm or more, and if it is too small, the ceramic surface portion is likely to be not covered with the mixed layer, which is not preferred. It is preferable to apply the chromium powder in the form of a paste together with an appropriate paste agent.
Ceramics coated with chromium powder at 900℃~
The heating time to 1300°C is preferably 10 minutes or more and 1 hour or less.

第1図に、クロム粉末を塗付した炭化珪素系セ
ラミツクスを加熱した温度と、結果として得られ
た前記混在層にNiめつき層を施して再拡散処理
をしてなるメタライズド面に銅の棒を銀ろう付け
で接合したときの接合部強度との実験グラフを示
す。黒丸はセラミツクス自体の破断、白丸は接合
部の破断を示す。これより、加熱温度900℃〜
1300℃のとき、高強度の金属接合を行うことがで
きることが判る。
Figure 1 shows the temperature at which silicon carbide-based ceramics coated with chromium powder was heated, and the resultant mixed layer is coated with a Ni plating layer and rediffusion treatment is performed. This is an experimental graph showing the strength of the joint when they are joined by silver brazing. Black circles indicate fractures in the ceramic itself, and white circles indicate fractures at joints. From this, the heating temperature is 900℃~
It can be seen that high-strength metal bonding can be achieved at 1300°C.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

実施例 1 約2wt%のBeOを焼結助剤とする厚さ1mm、
縦・横各20mmのホツトプレス製炭化珪素系セラミ
ツクス板の一面にジメチルエチルセルローズによ
りペースト状にしたCr粉末を約1mmの厚さで全
面に塗付し、これをAr雰囲気内で1100℃、30分
間焼成後自然冷却した。その結果、該セラミツク
スの母板の表面には約3μm厚のCrシリサイドお
よびCr炭化物の混在層、更にその表面に未反応
クロム層が形成された。次に該未反応クムロ層を
ブラシにより除去し、該セラミツクス表面の該混
在層にNi膜を電気めつきによつて約5μm形成し
た。
Example 1 1 mm thick with about 2 wt% BeO as a sintering aid,
Apply Cr powder made into a paste with dimethyl ethyl cellulose to a thickness of approximately 1 mm on one side of a hot-pressed silicon carbide ceramic plate measuring 20 mm in length and width, and heat it in an Ar atmosphere at 1100℃ for 30 minutes. After firing, it was naturally cooled. As a result, a mixed layer of Cr silicide and Cr carbide with a thickness of about 3 μm was formed on the surface of the ceramic mother plate, and furthermore, an unreacted chromium layer was formed on the surface. Next, the unreacted Kumuro layer was removed with a brush, and a Ni film of about 5 μm thick was formed on the mixed layer on the ceramic surface by electroplating.

上記方法により形成されたメタライズ膜に厚さ
500μm、幅5mmのCr板をAgろう付で接合後、引
張試験を行つたところ、20Kg/mm2の引張強度が得
られた。
The thickness of the metallized film formed by the above method
A tensile test was performed after Cr plates of 500 μm and width of 5 mm were joined by Ag brazing, and a tensile strength of 20 Kg/mm 2 was obtained.

また、このメタライズ部の耐熱性試験を行つた
結果、700℃まで接合強度の低下は認められなか
つた。
Furthermore, as a result of a heat resistance test of this metallized portion, no decrease in bonding strength was observed up to 700°C.

実施例 2 約5wt%のAlNを焼結助剤とする厚さ2mm、
縦・横各20mmのホツトプレス製炭化珪素セラミツ
クス板の一面に前記と同様のペースト状にした
Cr粉末を約0.5mmの厚さで全面に塗付し、これを
10-4torrの真空中で1050℃、30分間焼成後、自然
冷却した。その結果、該セラミツクス表面に厚さ
約5μmのCrシリサイドおよびCr炭化物混在層が
形成され、更にその上に未反応クムロ層が形成さ
れた。次に最外層に形成された該未反応クムロ層
を接着テープにより除去し、該セラミツクス表面
の該混在層にNiを約5μm電気めつきした。
Example 2 2 mm thick with approximately 5 wt% AlN as a sintering aid,
The same paste as above was applied to one side of a hot-pressed silicon carbide ceramic plate measuring 20 mm in length and width.
Apply Cr powder to the entire surface with a thickness of about 0.5 mm, and
After baking at 1050°C for 30 minutes in a vacuum of 10 -4 torr, it was naturally cooled. As a result, a mixed layer of Cr silicide and Cr carbide with a thickness of approximately 5 μm was formed on the surface of the ceramic, and an unreacted KUMURO layer was further formed thereon. Next, the unreacted Kumulo layer formed as the outermost layer was removed using an adhesive tape, and Ni was electroplated to a thickness of approximately 5 μm on the mixed layer on the surface of the ceramic.

上記方法により形成されたメタライズ膜に厚さ
1mm、幅5mmのステンレス鋼板をPd−Agろう材
によつて900℃で接合した後、引張試験を行つた
ことろ、約30Kg/mm2の接合強度が得られ、700℃
まで接合強度の低下は認められなかつた。
A stainless steel plate with a thickness of 1 mm and a width of 5 mm was bonded to the metallized film formed by the above method at 900℃ using a Pd-Ag brazing filler metal, and a tensile test was conducted, and the bond strength was approximately 30 Kg/mm 2 . is obtained at 700℃
No decrease in bonding strength was observed up to this point.

実施例 3 約40wt%のZrB2を含む厚さ1mm、3mm×50mm
の導電性SiCセラミツクスの片表面の一部に約
30μmのCr粉末をペースト状にして約500μmの厚
さに塗付し、これをAr雰囲気内で1050℃、30分
間焼成後自然冷却した。その後、表面の未反応ク
ムロ層を除去し、Niめつきを約3μm行つた。そ
のNiめつきの表面に直径1mmのNi線を銀ろう付
し、点火用のヒータにして使用した。
Example 3 1 mm thick, 3 mm x 50 mm containing approximately 40 wt% ZrB 2
Approx.
30μm Cr powder was made into a paste and applied to a thickness of about 500μm, which was fired in an Ar atmosphere at 1050°C for 30 minutes and then naturally cooled. Thereafter, the unreacted Kumuro layer on the surface was removed, and Ni plating was performed to a thickness of approximately 3 μm. A Ni wire with a diameter of 1 mm was silver soldered to the Ni-plated surface and used as a heater for ignition.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、炭化物系セラミツクスと強固
に結合されたメタライズド表面を有する炭化物系
セラミツクス体が得られ、この炭化物系セラミツ
クス体は該メタライズド面にろう付け等で他の金
属材を高い接合強度を以て接合することができ、
耐熱姓も大きい。
According to the present invention, a carbide ceramic body having a metallized surface that is firmly bonded to a carbide ceramic body is obtained, and this carbide ceramic body can be bonded to another metal material by brazing or the like to the metallized surface with high bonding strength. can be joined,
Heat-resistant surnames are also great.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、クロム粉末を塗付した炭化珪素系セ
ラミツクス板を加熱した温度と、その結果得られ
たメタライズド面に銅の棒を銀ろう付けしたとき
の接合強度との関係を示す実験グラフである。
Figure 1 is an experimental graph showing the relationship between the temperature at which a silicon carbide ceramic plate coated with chromium powder was heated and the bonding strength when a copper rod was silver-brazed to the resulting metallized surface. be.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 炭化珪素系セラミツクス母相の表面に、クロ
ムシリサイドとクロム炭化物との混在層が形成さ
れており、更に該混在層の表面に銅またはニツケ
ル層が結合されていることを特徴とするメタライ
ズド炭化珪素系セラミツクス体。 2 炭化珪素系セラミツクスの表面にペースト状
の金属クロム粉末を塗付し、不活性雰囲気または
酸素分圧が10-2torr以下の雰囲気中で900℃以上
1300℃以下に加熱して、炭化珪素系セラミツクス
母相の表面にクロムシリサイドとクロム炭化物と
の混在層およびその上に未反応クロム層を形成さ
せ、該未反応クロム層を除去した後、上記混在層
上に銅又はニツケル層を形成することを特徴とす
るメタライズド炭化珪素系セラミツクス体の製造
方法。
[Claims] 1. A mixed layer of chromium silicide and chromium carbide is formed on the surface of a silicon carbide ceramic matrix, and a copper or nickel layer is further bonded to the surface of the mixed layer. Features a metallized silicon carbide ceramic body. 2 Apply paste-like metallic chromium powder to the surface of silicon carbide ceramics and heat at 900°C or higher in an inert atmosphere or an atmosphere with an oxygen partial pressure of 10 -2 torr or lower.
Heating to 1300°C or less forms a mixed layer of chromium silicide and chromium carbide on the surface of the silicon carbide-based ceramic matrix and an unreacted chromium layer thereon, and after removing the unreacted chromium layer, 1. A method for producing a metallized silicon carbide ceramic body, comprising forming a copper or nickel layer on the layer.
JP20695085A 1985-09-19 1985-09-19 Metallized silicon carbide ceramic body and its manufacturing method Granted JPS6270284A (en)

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