JPH0350329B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 この発明は転写性磁気シートに関し、さらに詳
しくは、転写後の鏡面加工時に油膜状の模様を表
出したりせず、かつ耐摩耗性に優れた磁気記録媒
体を形成することのできる転写性磁気シートに関
する。 〔従来の技術〕 一般に、転写性磁気シートはポリエステルフイ
ルムなどの基体上に離型層、磁性層を順次積層し
た構造を有し、被転写体に磁性層側を加熱圧着し
て基体を引き剥がし、磁性層と離型層を被転写体
に転写することにより、磁気カードなどの各種磁
気記録媒体をつくるのに用いられている。 このように熱転写により各種磁気記録媒体をつ
くるのに用いられる転写性磁気シートの離型層
は、離型性に優れるとともに、転写後は得られた
磁気記録媒体の表面に出て記録再生時に直接磁気
ヘツドと摺接するため耐摩耗性に優れるものが要
求される。 従来、このような離型層の構成材料としては一
般にポリメタクリル酸エステルなどの熱可塑性樹
脂が用いられているが、このポリメタクリル酸エ
ステルなどは硬くてもろい性質のため離型性に優
れる反面耐摩耗性に欠ける難点がある。 〔発明が解決しようとする課題〕 この発明者らはかかる現状に鑑み鋭意研究を重
ねた結果、既に、転写性磁気シートの離型層を構
成する材料として熱可塑性樹脂とテトラフルオロ
エチレン低重合物とを併用すると離型層の耐摩耗
性が一段と向上し、これを被転写体に熱転写すれ
ば耐摩耗性に優れた磁気記録媒体が得られること
を見出した。ところがこの種の転写性磁気シート
の熱転写によつて得られる磁気記録媒体は、転写
後の鏡面加工時にテトラフルオロエチレン低重合
物が離型層表面に移行し油膜状の模様が表面に浮
き出して商品価値を低下する難点があり、はなは
だしいときはテトラフルオロエチレン低重合物が
表面に滲出して鏡面板に付着したり手などを汚染
する場合があつた。 〔課題を解決するための手段〕 そこで、この発明者らはかかる問題点を解決す
るためさらに研究を重ねた結果、基体上に熱可塑
性樹脂からなる離型層を形成し、この離型層上
に、ポリメチルメタクリレートおよびその共重合
体、アセチルセルロース、アセチルブチルセルロ
ース、メチルセルロース、エチルセルロース、ベ
ンジルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシセルロース、ポリビニルブチラー
ル、ポリカーボネート、尿素樹脂、メラミン樹
脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、フラン
樹脂、フエノキシ樹脂、ポリウレタン系樹脂およ
び塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体から選ばれる結合剤と、分子量が10000以
下のテトラフルオロエチレン低重合物とを併用し
てなる保護層を設けた後、この上に磁性層を形成
すれば、保護層によつてこの転写性磁気シートを
熱転写して得られる磁気記録媒体の耐摩耗性を充
分に向上することができるとともに、熱転写後鏡
面加工を行つても保護層上に含まれるテトラフル
オロエチレン低重合物が離型層表面に移行して、
油膜状の模様を表出したり、表面から滲出して鏡
面板や手などを汚染することもなく、従つて、商
品価値が高くかつ耐摩耗性に優れた磁気記録媒体
を形成できることを見出し、この発明をなすに至
つた。 以下、図面を参照しながらこの発明について説
明する。 第１図はこの発明の転写性磁気シートの一例を
示したもので、ポリエステル、アセテート、ポリ
カーボネート、剥離紙などの基体１上に離型層２
が設けられ、続いて離型層２上に保護層３が設け
られ、さらにこの保護層３上に、γ−Fe₂ O₃な
どの磁性粉末を塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共重合体、ポリウレタン樹脂などのバ
インダーとともに塗着してなる磁性層４が形成さ
れている。 上記離型層２は、熱可塑性樹脂を溶剤に溶解さ
せて得られた塗料を、基体１上に乾燥厚が0.2〜
0.8μmとなるように塗布、乾燥することにより形
成される。ここに用いる熱可塑性樹脂としては比
較的硬質で皮膜性がよく、かつ離型性に優れるも
のが好適ななものとして使用され、具体例として
は、たとえば、ポリメチルメタクリレートおよび
その共重合体、ニトロセルロース、アセチルセル
ロース、アセチルブチルセルロース、メチルセル
ロース、エチルセルロース、ベンジルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセ
ルロースなどの繊維素系樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリカーボネートなどが挙げられる。 また上記保護層３は、結合剤を溶剤に溶解さ
せ、これに分子量が10000以下のテトラフルオロ
エチレン低重合物をトリクロロトリフルオロエタ
ン等に分散した懸濁液を混合分散して保護層塗料
を調整し、この保護層塗料を離型層２上に乾燥厚
が0.2〜1.4μmとなるように塗布、乾燥することに
より形成される。 ここに用いる結合剤としては、前記の離型層２
およびこの保護層３上にさらに形成される磁性層
４との接着性に優れたものが好適なものとして使
用され、前記離型層２で使用したと同じ熱可塑性
樹脂などが使用される。しかしながら前記離型層
２で使用した樹脂と異なるものを使用する場合は
相溶性のよいものを選定するのが好ましく、相溶
性の悪いものを使用すると転写時に離型層２と保
護層３の界面で剥離が生ずるおそれがある。具体
例としては、たとえば、ポリメチルメタクリレー
トおよびその共重合体、アセチルセルロース、ア
セチルブチルセルロース、メチルセルロース、エ
チルセルロース、ベンジルセルロース、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ポ
リビニルブチラール、ポリカーボネート、尿素樹
脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂、フラン樹脂、フエノキシ樹脂、ポリウレ
タン系樹脂および塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体などが挙げられる。 また、この保護層において結合剤とともに併用
されるテトラフルオロエチレン低重合物は、通常
0.3〜10μmの粒子径を有し、かつ分子量が10000
以下の低分子量のものが好ましく、具体例として
は、たとえば、デユポン社製バイダツクスAR、
バイダツクス5100、バイダツクス550、バイダツ
クス525等の平均粒子径が約5μmで分子量が約
3700のテトラフルオロエチレン低重合物や挙げら
れ、これらは通常トリクロロトリフルオロエタン
等に分散し懸濁液とした状態で使用される。この
種のテトラフルオロエチレン低重合物は低分子量
であるため柔軟性に富むとともに潤滑性に優れ、
保護層の耐摩耗性を向上する。テトラフルオロエ
チレレン低重合物の添加量は、結合剤との合計量
に対して１〜40重量％の範囲内にするのが好まし
く、少なすぎると潤滑効果が充分でなく、また逆
に多すぎると結合剤の皮膜性が悪くなる傾向があ
るので望ましくない。 前記離型層２および保護層３で使用する溶剤に
ついては特に限定されず、使用する熱可塑性樹脂
を溶解するのに適した溶剤および使用する結合剤
を溶解しかつ分子量が10000以下のテトラフルオ
ロエチレン低重合物の分散懸濁液を溶解混合する
のに適した溶剤が使用され、たとえば、メチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンな
どが用いられる。 なお、前記離型層塗料および保護層塗料中には
前記成分の他に顔料その他の添加剤が含まれても
よい。 上記のようにして得られた転写性磁気シート
を、第２図に示すように硬質ポリ塩化ビニルなど
の各種プラスチツクシート、紙、布などからなる
被転写体５にその磁性層４が被転写体５の表面６
に対接するように接触させ、加圧板７により基体
１側から加熱押圧した後基体１を剥離すると、第
３図に示すように批転写体５上に磁性層４、保護
層３および離型層２が転写された磁気カードなど
の磁気記録媒体が得られる。 〔実施例〕 次に、この発明の実施例について説明する。な
お、以下において、部とあるのは重量部を意味す
る。 実施例 １ アクリナール＃80（東栄化成社製；ポリメチル
メタクリレートの45重量％トルエン溶液）1000部
をトルエン1000部に溶解させて離型層塗料を調整
し、これを厚さ21μmのポリエステルフイルム上
に乾燥厚が約0.5μmとなるように塗布、乾燥し
た。 次いで、アクリナール＃80（東栄化成社製；ポ
リメチルメタクリレートの45重量％トルエン溶
液）1000部をトルエン1000部に溶解させ、この溶
液にバイダツクスAR（デユポン社製；テトラフ
ルオロエチレン低重合物の20重量％トリクロロト
リフルオロエタン懸濁液）を180部（含有割合８
重量％）加えて分散混合し、保護層塗料を調整し
た。この保護層塗料を前記離型層塗料を塗布、乾
燥して形成した離型層上に乾燥厚が約0.8μmとな
るように塗布、乾燥した。 この塗膜上に下記組成の磁性塗料を乾燥厚が約
10μmとなるように塗布、乾燥して転写性磁気シ
ートを得た。 Co含有γ−Fe₂ O₃ 750 部 ニトロセルロースＨ1/2（旭化成社製；ニトロ
セルロース） ……160 〃 パンデツクスＴ−5250（大日本インキ化学工業
社製；ウレタンエラストマー） 565 〃 コロネートＬ（日本ポリウレタン工業社製；三
官能性低分子量イソシアネート化合物） 33.3〃 ラウリン酸 10 〃 シクロヘキサノン 400 〃 トルエン 400 〃 次いで、得られた転写性磁気シートを所定巾に
裁断し、このテープ状転写磁気シートを0.7mm厚

〔発明の効果〕

この第４図のグラフよび上表から明らかなよう
に、比較例１で得られたもの（曲線Ｃ）では相対
出力の低下がわずかで耐摩耗性に優れるが表面に
模様が浮きでるため外観が劣り、比較例２で得ら
れたもの（曲線Ｄ）では表面模様がなく外観は良
好であるが相対出力が著しく低下し耐摩耗性が劣
るのに対し、実施例１および２で得られたもの
（曲線Ａ、Ｂ）は相対出力の低下もわずかで表面
模様もなく、このことからこの発明の転写性磁気
シートによれば外観が良好でしかも耐摩耗性に優
れた磁気記録媒体が得られることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明転写性磁気シートの一例を示す
断面図、第２図は第１図の転写性磁気シートを被
転写体に熱転写する際の断面図、第３図は熱転写
して基体を剥離した状態を示す断面図、第４図は
本発明転写性磁気シートを用いて製造された磁気
カードの走行回数と相対出力との関係図である。 １……基体、２……離型層、３……保護層、４
……磁性層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基体上に熱可塑性樹脂を含有する離型層を形
   成し、この離型層上に、ポリメチルメタクリレー
   トおよびその共重合体、アセチルセルロース、ア
   セチルブチルセルロース、メチルセルロース、エ
   チルセルロース、ベンジルセルロース、カルボキ
   シメチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ポ
   リビニルブチラール、ポリカーボネート、尿素樹
   脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコー
   ン樹脂、フラン樹脂、フエノキシ樹脂、ポリウレ
   タン系樹脂および塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
   ルアルコール共重合体から選ばれる結合剤および
   この結合剤中に分散された分子量が10000以下の
   テトラフルオロエチレン低重合物を含有する保護
   層を設け、さらにこの保護層上に磁性層を形成し
   てなる転写性磁気シート。 ２ 保護層の結合剤が、ポリメチルメタクリレー
   トまたはその共重合体である請求項１記載の転写
   性磁気シート。