JPH0337844A - 光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明は耐環境性に優れた、重ね書き用途にも、使用可
能な光磁気ディスクに関する。

［従来技術１ 近年、大容量メモリーの１つとして光ディスクの商品化
、開発が活発である。その中でも書換え可能な光記８１
媒体として光磁気ディスクの実用化研究か精力的に行わ
れている。

従来より書換え可能な光磁気記録方式として、記録用と
消去用のヘッドを別にするなど複数の光学ヘッドを用い
る方法等か検討されている力（、ｌｆｉ横か複雑になり
、本来の意味での重ね書きが可１１ヒな光磁気ディスク
の開発が望まれている６重Ｌｘ　ｔＦき方式として、光
磁気記録媒体では、磁界変調方式の採用が、性能、機構
か簡単などの点より好ましいと考えられる。この方式で
は情報の、記録、ｄ′ｉ去ともに記録膜を加熱し、外部
磁界の方向を変乙ることで行うため、一定のレーザ光を
連続的に！で（（Ｑ（Ｌながら磁界の変調を行えば、即
ち、外部磁石等の磁界発生手段による磁界の向きを、デ
ィスクに対して上向き、下向きに調整すれば、重ね書き
は可能になる。しかし、外部磁界の向きを記３１　ｆＭ
川用号（通常は１〜５　Ｍ　Ｈｚ　）で変えるためには
、磁石等の磁界発生手段をディスクに対して接近させる
必要かあり、また磁界発生手段として磁気ディスク用ヘ
ッドを用いる場合、記録媒体表面との間隙を５μｍ以下
にする必要があるとされている。

この場合、ディスクの回転開始時、停止時や媒体の変形
等により磁気ヘッドはディスクと接する可能性かあり、
ディスクのＦａ壊が大きな問題になる。

またこの場合の、別の大きな問題は保護膜の厚さの制約
である、前記の通り磁気ヘッドと記５Ｊ１膜との間の距
離はできるだけ短いことが望まれ、通常２０．ｕｍ以下
にする事が要求される。従って保護膜も１０μｍ以下の
厚さで充分な保護作用を持つことが要求される。

このように重ね書き可能な光磁気記録媒体の磁気ヘッド
等の磁界発生手段側保護膜としては、１）１０μｍ以下
の薄膜で充分な耐久性を与える保護膜としての性能、２
）前記のヘッドクラッシュに対する耐久性などが要求さ
れているか、現在までの所、満足な性能を持つ材料は見
いだされていない。

［発明の目的コ 本発明は、かかる現状に鑑みなされたもので、その目的
は磁界変調オーバーライドにし使用可能な１０μｍ以下
の膜Ｊ￥の保護膜で高温多湿の条件下に於いても充分な
耐久性を持つ光磁気ディスクの提供にある。■ｕち、該
保護層で光記録膜の劣化がＩＵｊ止され、かつディスク
の回転開始時や停止時などに起こるヘッドクラッシュに
対する耐久性に優れた光磁気ディスクを提供する事にあ
る。

［発明の楢成１作用効果］ 即ち本発明は、光磁気ディスクに於て、少なくとも磁界
発生手段に対面する開の表面を有機溶媒に可溶性のふっ
索条樹脂を主成分とするｖ１１脂組成物で被覆した事を
特徴とする光磁気ディスクである。なお、本発明におい
て、該樹脂組成物はその主成分のふっ素糸樹脂の水に対
する接触角が８０度以上であることが滑り性、耐水性等
の面から好ましい。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明における前記有機溶媒に可溶性の含ふっ素樹脂を
主成分とする樹脂組成物は、従来用いられてきた通常の
樹脂組成物に較べ、潰れた耐久性、滑性を示し、耐ヘツ
ドクラツシユ性を示す作用を持つ。

更に本発明の特徴は前記のように潤滑性を示す化合物か
樹脂自体であるため長時間の使用中に潤滑剤がａｍして
シミ出して来る恐れらなく常に安定便用が可能な点にあ
る。

本発明で用いる有機溶媒可溶性のふっ索条樹脂としては
、飼えば、ぶつ化ビニルとへキサフロロプロピレンの共
重合体またＣまこれらの単ｆＬ体を主成分とする共重合
体、ぶつ化ビニリデンとへキサフロ１コプロビレンの共
重合体またはこれらの単量体を主成分とする共重合体、
ぶつ化ビニリデンと酢酸ビニルなどの共重合体またはそ
の部分鹸化物、フロロアルキル（メタ）アクリレ−１〜
またはそれらの共重合体などを挙げることがＨ，ｌ来る
。

これらのうち例えばぶつ化ビニルとへキサフロロプロピ
レンの共重合体ではふっ化ビニルの含量か６０〜９０モ
ル％、ぶつ化ビニリデンとへキサフロロプロピレンの共
重合体ではぶつ化ビニリデンの考通が５０〜９０モル％
のものが好ましい。

フロロアルキル（メタ）アクリレ−１〜またはそれらの
共重合体としては特に制約はない、単量体としては、Ｃ
Ｉｌ□＝ｃ＋＋ｃｏｚ　Ｃ１ｌ□　（ＣＦ２　ン、ｉＣ
＋’。

ＣＨ２＝ＣｌＩＣ０２ＣＦ　（ＣＦ３　）　２　、　　
ＣＨ２＝　ＣＨＣＯ２Ｃｌ＋２（Ｃ「２　　）　　ｚ　
　Ｃ）３　　、　　　ＣＨ２＝Ｃｌ１ＣＯ２Ｃｔｌ　　
（ＣＦ３　　　）　　２　　、ＣＨ２ＣｌＩＣ０□（Ｃ
）１２　）　２０Ｃｒ（ＣＦ３　）　２　、　Ｃ１ｌ□
＝Ｃｌ１Ｃ０２ｆｃＨ２）　５０Ｃｒ（ＣＦ３）　２　
、　Ｃ１１２＝Ｃｌ１ＣＨ３ＣＯｚ　ＣＨ２ＣＦ３　。

Ｃ１１２＝　ＣＣ）＋３　ＣＯ２Ｃ口　（ＣＦ３　　）
　　２　　、　　ＣＨ２＝ＣＣ１（３Ｃ０２Ｃ）（Ｃ「
３）ｚなどが好ましい、これらは単独で、または他の単
量体との共重合体として使用してもよい 本発明のふっ素樹脂はその滑り性、耐汚染性耐水性など
の点がら表面エネルギーの大きい材料が好ましいと云え
る。また表面エネルギーの大小は接触角の大小で比較す
ることができる。

このように本発明で使用するふっ索条樹脂は、その水に
対する接触角が８０”以上、さらに好ましく番より０°
以上あることが望ましい。

本発明において記録膜の劣化防止の而から、前記樹脂組
成物は記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾
向の大きい元素を含むことら可能である、かかる元素と
しては、特に限定されるものではないか、アルミニウム
、亜鈴、マグネシウムまたは希土類元素よりなる群から
選ばれたものか好ましい、さらに希土類元素としてはテ
ルビウムＮｂ）、ディスプロシウム（Ｄｙ）、ガドリニ
ウム（Ｇｄ）、ネオジウム（Ｎｄ）　、プラセオジュウ
ム（Ｐ「）などが特に好ましい０本発明で、例えば記録
層に鉄を使用する場合には、マグネシウム、アルミニウ
ム、亜鉛、ネオジウムなどが挙げられる。

これらの金属はもちろん単独、混合物または合金であっ
ても、何れも微粉末の状態で入手することが可能であれ
ば、樹脂原料と混合して安定な分散物をｊｌ製し本発明
の目的に使用することか可能である。

こｈらの樹脂と粉末とは、ボールミル、Ｖ型ブレンダー
、カレンダーなどの混合手段を用いて混合し、使用に供
することができる。

樹脂と粉末の混合比に付いては、特に制約はない、安定
な被覆を効率的に形成することが可能な範囲内で、塗工
性その他の条件を勘案し適当に定めることかできる０例
えば、これらの金属の添加量は使用する金属元素や樹脂
材料により変動するが、効果面から樹脂１００重量部に
対して５部以上添加することが好ましい、これ以上の添
加について制約はないか（＄　１　膜としての総合的な
性能を考慮して決まる。通常、樹脂重量の４倍以下か好
ましい。

本発明は、以上の樹脂組成物からなる保護層を少なくと
も磁界発生手段に面する■の表面に設けた光磁気ディス
クである。この保護層を形成するにはスピンコード法や
浸漬法など、光ディスクの有機ｃＡ護膜の形成において
通常行われる製膜法を使用することができる。

本発明の樹脂組成物をシート、フィルムとして予め酸形
しておき然融着などの方法で記録膜の表面に積層するこ
とも可能である。

塗膜厚さは前記のオーバーライド方式での実施の場合は
余り厚い塗膜は問題があり、逆に極端に膜厚の薄い場合
には効能に懸念が残るので、慎重に決定する必要がある
１通常１０μｍ以下が好ましい。

また粉末の分散状態を安定化するため、塗料業界で適用
される技術や材料など、例えば分散安定剤の添加等の使
用も本発明の効果にｇ影響を及ぼさない範囲内で、可能
でありまた生産性の向上のため有用な手段である。

またヘッドクラッシュに対する接触状態を改良して耐久
性をもたせるためカーボンブラック　グラファイト、雲
母、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、酸化アルミニ
ウム、酸化珪素、硫化モリブテン、炭化珪素、窒化珪素
などの滑材を本発明の樹脂組成物の中に混合してもよい
、これらの内叶開性を有するもの、例えばグラファイト
、雲母硫化モリブデンなどは特定の方向または面に滑っ
て襞間性を有しているので、外力が加わったとき、剪開
面で適当にずれを生じ潤滑性の改首作用がある。

また本発明が適用できる光磁気ディスクの構成のうち基
板から記録膜またはその上の誘電体膜までの構成には餅
等制限はなく、公知の梢或、例えば基板上に誘電体膜、
記録膜１誘電体膜を積層した構成、更には誘電体膜と記
録膜との間に１１などの金属′４膜を設けた構成など全
ての媒体に適用ができる。またその個々の要素について
は、透明基板としてはガラス、ポリカーボネート樹脂、
アクリル樹脂などの透明基板か、誘電体膜としては７ｎ
Ｓ　、　ＳＩＯ２、ＡＩＮ　、　Ｓｉ３　Ｎ　４　、　
Ａｌ１０ｓなどより成る膜が、光磁気記録膜としては、
１ｂＦｅｃｏ。

ＴｂｒｅＧｄなどのＴｂＦｅ系の合金、あるいはＮｄｒ
ｅＣｏなとのＮｄＦｅ系合金、さらにはＮｄＤｙＦｅＣ
ｏ合金などの希土類元素と遷移金属元素の合金からなる
膜か代表制として挙げられる。なお、本発明は、劣化し
易い前述の希土類元素と遷移金属元素の合金を主成分と
する記録層に対して効果的である。

これらの誘電体膜、光磁気記録１漠、金属薄膜。

場合によっては下地膜などは、常法例えば薄膜スパッタ
リング法などの物理的成膜法（ＰＶＤ法）によって形成
される。

ところで、本発明の槓１脂組成物からなる保護層は、記
録膜の基板と反対醐の面に設ける場合、直接記録１摸上
に形成してもよいが、記録膜の空気中での酸化や劣化を
防止する面からは記録膜に「（接！ｅＩ層する１漠とし
ては誘電体ｌ模などの薄１摸を記録）漠を形成したのと
同じく真空中での物理開成１漠法により成膜し、その上
に設ける方がより望ましい。

［本発明の効果］ 本発明によれば、光磁気ディスクにおいて、少なくとも
磁界発生手段に対面する開の表面を、有機溶媒可溶性の
ふっ素糸樹脂を主成分とする組成物で被覆することによ
り、磁界発生手段の変調用磁気ヘソドを表面に接近して
配置することかできるので容易に重ね書きが可能な、高
度の耐環境性を右する光磁気ディスクを得ることかでき
る。

以下実施例により説明する。

図１は実施例、比較例の積層構成の説明図であり、透明
プラスチック基板１に設けた防湿などの保１穫をかねた
誘電体膜２及び光磁気記録膜３の七に無機誘電体保護膜
４を設けその上に樹脂組成物被覆５を設けた例である。

実施例１〜５．比Ｉ咬例１ １（！マグネトロンスパッタリング装置を用い、ｌｔ＋
ｒｅｃｏ合金ターゲッＩ”　、　Ｉｎｚ　０３ターゲツ
ト及び１ターゲツトを使用し、５．２５インチのディス
ク形状のポリカーボネーｌ〜よりなる透明プラスチック
基板１上にｆｒｉｚ　０３　（６５０Ａ　）からなる誘
電体膜２゜ＩｂｒｅＣｏ　（５００Å）からなる光磁気
記録膜３及び１１（５５０人）からなる反射膜を兼ねた
無機物保護膜４の順に成膜して光磁気ディスクを作成し
た。

次いで上記のようにして得られた光磁気ディスクにそれ
ぞれ表の各塗液を塗布、８０′Ｃ，３０分の条件で加熱
乾燥して、表の実施例及び比較例のサンプルを得た。

なお、表中の塗ＭＡ〜Ｈの組成は以下の通りである０組
成の数値の単位は重量部である。又６接触角は水に対す
る接触角である。

塗液Ａ： Ｆ−１，６共重合体Ａ（接触角９２”）　　　５ジアセ
トンアルコール　　　　　　　　１０セルソルブアセテ
ート　　　　　　　　５塗液Ｂ　： 倹府Ａ ＡＩ粒粉末ＡＩ粉末粒径く７μｍ） 塗液Ｃ： １−會ｄ＝　Ａ αＡ１２０３（粒径＜０．５μｍ） 塗液Ｄ＝ 塗／ｒｉ、Ｂ ａ　−Ａｌ１０３　（粒径＜０．５μｍ）塗ゼ筏Ｅ二 Ｆ−２，６共重合体Ｂ（接触角９３゜ ジアセＩ〜ンアルコール セルソルブアセテ−１〜 塗ン？ｊＦニ トリフロロエチルメタクリレート 重合体く接触角８７°） ジアセ１〜ンアルコール セルソルブアセテート 塗液Ｇ： ヘキサフロロイソプロピルアクリレ−ｌ−重合体（接触
角９７゛） ジアセ１−ンアルコール セルソルブアセテ−１・ 塗液Ｈ： ０ ト リフロロエチルアクリレートス チレン ジ アセトンアルコール セルソルブアセテート 塗液Ｉ： フ ダイヤナールｌｌＮ５０３　　（商品名）（接触角６４
°）１０ キシレン　　　　　　　　　　　　　　１０コロネート
−Ｌ　（商品名）３．１ ジブチル錫シラウリレート　　　　０．１ｘｌＯ’なお
、以上の塗液に用いた重合体等の詳細は以下の通りであ
る。なお、ηは固有粘度である６Ｆ−１．６共重合体Ａ ぶつ化ビニル（８０モル％）とヘキサフロロプロピレン
との共重合体　　　　　　　η−０．４ド−２．６共重
合体口 ふっ化ビニリチン（７０モル％）とへキサフロロプロピ
レンとの共重合体　　　　　η・０．５トリフロロ工チ
ルメタクリレート重合体トリフロロエチルメタクリレー
トの重合物。

η・０．３ へキサフロロイソプロピルアクリレ−１−重合体へキサ
フロロイソプロピルアクリレート重合物、　　　　　　
　　　　　　　　η“０・４トリフ１クロエチルアクリ
レート、スチレン共重合体 １−リフロロエチルアクリレーｈ（６０モル％）とスチ
レンの共重合物、　　　　　　η・０．３タイヤナール
　ＬＲ１５０３： 三菱レーヨン■　固形分５０％、００価３２■Ｋ　Ｏ＋
−１／　ｆ コロネート一り 日本ポリウレタン■　固形分７５％、 ＮＣＯ含足１３．４％ そして得られた各サンプルについて、１＃（クラッシュ
性の評価として動摩擦係数を測定した。その結果を表に
示す。

また、耐久性については各サンプルについて下記の２条
件の加連劣化デストを行い、その前後の目視による外観
変化で評価した。

条件１；ＩＮのＮａＣｌ水溶液に２４時間浸漬し、その
前後の外観を観察 条件２：３ｗｔ％のＮａＣｌ水溶液に８０℃で２４時間
サンプルの一部を浸：ｉ！ｆＬ、その前後の主として浸
漬部と非浸漬部の境界面（気・液界面）の外観の変化を
観察 なお、表中の３・１！価結果の記月は以下の評価基檗に
よるものである。

◎：外部異常なし ○：ピンボール若干（く５（固）増加 Δ：外観（反射など）の変化Ｍ１０％以下またはピンホ
ールの増加２０個以下 ×ニビンボール（〉２０個）増加、または外観（反射な
ど）の変化量１０％以上 表の結果より、本発明は滑り性に優れかつ耐久性にも優
れていることが確認された。

表 実施例と比較例

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例、比較例の積層ｔｉ４戊の説明図であ
る。 １：透明プラスチック基板、２：講電体膜、３：光磁気
記録膜、４：黒機保護膜、 ５、拉１脂組成物保護膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）磁界発生手段で磁界を印加し、記録、消去を行う光
   磁気ディスクに於て、該光磁気ディスクの磁気発生手段
   に対面する側の最上層を有機溶媒に可溶性のふっ素系樹
   脂を主成分とする樹脂組成物で被覆した事を特徴とする
   光磁気ディスク。 ２）請求項第１項記載の光磁気ディスクに於て、該ふっ
   素系樹脂の水に対する接触角が８０度以上であることを
   特徴とする光磁気ディスク。