JPH07121919A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
- Publication number
- JPH07121919A JPH07121919A JP28421893A JP28421893A JPH07121919A JP H07121919 A JPH07121919 A JP H07121919A JP 28421893 A JP28421893 A JP 28421893A JP 28421893 A JP28421893 A JP 28421893A JP H07121919 A JPH07121919 A JP H07121919A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- protective layer
- resistant protective
- optical recording
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 92
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 73
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 37
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 abstract 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 description 3
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 101100206009 Helicobacter acinonychis (strain Sheeba) tatA gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 摺動接触する磁気ヘッドのヘッドクラッシュ
を防止し得る十分な耐久性を確保するとともに、記録磁
性層の腐蝕等を防止できる長期間の環境耐久性をも確保
できる光学的記録媒体を提供する。 【構成】 透明基板1の表面上に、記録部層2、耐蝕性
保護層3及び耐摺動保護層4が、この順に形成されてい
る。記録部層2は、誘電体層5、記録磁性層6、誘電体
層7及び反射層8からなる。耐摺動保護層4は樹脂シー
トを粘着剤または接着剤で耐蝕性保護層3に貼合せるこ
とにより形成されている。耐摺動保護層4は、厚さ3〜
14μmで且つその樹脂シートの厚さは2μm以上で粘
着剤層または接着剤層の厚さは1μm以上であり、鉛筆
硬度が2H以上であり、表面粗さが中心線平均山高さ
(Rpm)で0.5〜0.8μmであり、動摩擦係数が
0.2以下であり、表面抵抗が1×1011Ω/□以下で
ある。
を防止し得る十分な耐久性を確保するとともに、記録磁
性層の腐蝕等を防止できる長期間の環境耐久性をも確保
できる光学的記録媒体を提供する。 【構成】 透明基板1の表面上に、記録部層2、耐蝕性
保護層3及び耐摺動保護層4が、この順に形成されてい
る。記録部層2は、誘電体層5、記録磁性層6、誘電体
層7及び反射層8からなる。耐摺動保護層4は樹脂シー
トを粘着剤または接着剤で耐蝕性保護層3に貼合せるこ
とにより形成されている。耐摺動保護層4は、厚さ3〜
14μmで且つその樹脂シートの厚さは2μm以上で粘
着剤層または接着剤層の厚さは1μm以上であり、鉛筆
硬度が2H以上であり、表面粗さが中心線平均山高さ
(Rpm)で0.5〜0.8μmであり、動摩擦係数が
0.2以下であり、表面抵抗が1×1011Ω/□以下で
ある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ビームを用いて情報
の記録、再生、消去を行うことが可能な光学的記録媒体
に関し、特に光磁気記録媒体に関するものである。
の記録、再生、消去を行うことが可能な光学的記録媒体
に関し、特に光磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点又は温度補償点を越えて昇温させ、この部分
の保磁力を消滅させて外部印加の記録磁界の方向に磁化
の向きを反転させることを基本原理とするもので、光フ
ァイルシステムや、コンピュータの外部記憶装置等にお
いて実用化されつつある。そして、この光磁気記録方式
に用いられる光磁気記録媒体としては、ポリカーボネー
ト等からなる透明基板上に、膜面と垂直の方向に磁化容
易軸を有し且つ磁気光学効果の大きな記録磁性層(例え
ば希土類−遷移金属合金非晶質薄膜)や反射層、誘電体
層を積層することにより記録部層を形成し、透明基板側
からレーザ光を照射して信号の読み取りを行うようにし
たものが知られている。
キュリー点又は温度補償点を越えて昇温させ、この部分
の保磁力を消滅させて外部印加の記録磁界の方向に磁化
の向きを反転させることを基本原理とするもので、光フ
ァイルシステムや、コンピュータの外部記憶装置等にお
いて実用化されつつある。そして、この光磁気記録方式
に用いられる光磁気記録媒体としては、ポリカーボネー
ト等からなる透明基板上に、膜面と垂直の方向に磁化容
易軸を有し且つ磁気光学効果の大きな記録磁性層(例え
ば希土類−遷移金属合金非晶質薄膜)や反射層、誘電体
層を積層することにより記録部層を形成し、透明基板側
からレーザ光を照射して信号の読み取りを行うようにし
たものが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光磁気記録
方式には、大きく分けて光変調方式と磁界変調方式とが
あり、オーバーライトが可能であることから、磁界変調
方式への期待が高まっている。この磁界変調方式は、印
加磁界を高速で反転することにより記録磁性層に情報信
号を書き込むものであって、磁界の印加は通常は磁界発
生手段を有する磁気ヘッドにより行われる。現在、この
ような高速反転磁界を印加する磁気ヘッドは、諸々の制
約から非常に小さな磁場しか発生できず、このため磁気
ヘッドを記録磁性層にできるだけ近づける必要がある。
方式には、大きく分けて光変調方式と磁界変調方式とが
あり、オーバーライトが可能であることから、磁界変調
方式への期待が高まっている。この磁界変調方式は、印
加磁界を高速で反転することにより記録磁性層に情報信
号を書き込むものであって、磁界の印加は通常は磁界発
生手段を有する磁気ヘッドにより行われる。現在、この
ような高速反転磁界を印加する磁気ヘッドは、諸々の制
約から非常に小さな磁場しか発生できず、このため磁気
ヘッドを記録磁性層にできるだけ近づける必要がある。
【0004】光磁気記録媒体の記録部層上には、記録磁
性層の腐蝕を防止するための樹脂等からなる耐蝕性保護
層が通常設けられる。ところで、記録時には、この保護
層上を磁気ヘッドが浮上走行するのであるが、走行開始
時及び走行終了時には保護層と磁気ヘッドとが接触する
ので、該保護層が摩耗損傷して磁気ヘッドの浮上走行性
が低下し、ついにはヘッドクラッシュをひきおこすおそ
れがあった。また、上記従来の保護層では耐蝕性が十分
とはいえず、記録磁性層の腐蝕あるいは欠陥の増加によ
り長期間の環境耐久性を確保できないおそれもあった。
性層の腐蝕を防止するための樹脂等からなる耐蝕性保護
層が通常設けられる。ところで、記録時には、この保護
層上を磁気ヘッドが浮上走行するのであるが、走行開始
時及び走行終了時には保護層と磁気ヘッドとが接触する
ので、該保護層が摩耗損傷して磁気ヘッドの浮上走行性
が低下し、ついにはヘッドクラッシュをひきおこすおそ
れがあった。また、上記従来の保護層では耐蝕性が十分
とはいえず、記録磁性層の腐蝕あるいは欠陥の増加によ
り長期間の環境耐久性を確保できないおそれもあった。
【0005】そこで、本発明は、上述の従来技術に鑑み
て提案されたものであり、光学的記録媒体に対し摺動接
触する磁気ヘッドのヘッドクラッシュを防止し得る十分
な耐久性を確保できるとともに、記録磁性層の腐蝕等を
防止して長期間の環境耐久性をも確保できる光学的記録
媒体を提供することを目的とする。
て提案されたものであり、光学的記録媒体に対し摺動接
触する磁気ヘッドのヘッドクラッシュを防止し得る十分
な耐久性を確保できるとともに、記録磁性層の腐蝕等を
防止して長期間の環境耐久性をも確保できる光学的記録
媒体を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、以上の
如き目的を達成するものとして、透明基板の表面上に記
録磁性層を含む記録部層が形成されており、該記録部層
の前記透明基板側とは反対側の表面に耐蝕性保護層が形
成されており、該耐蝕性保護層の前記記録部層側とは反
対側の表面に樹脂シートが粘着剤または接着剤で貼合せ
られて耐摺動保護層が形成されていることを特徴とする
光学的記録媒体、が提供される。
如き目的を達成するものとして、透明基板の表面上に記
録磁性層を含む記録部層が形成されており、該記録部層
の前記透明基板側とは反対側の表面に耐蝕性保護層が形
成されており、該耐蝕性保護層の前記記録部層側とは反
対側の表面に樹脂シートが粘着剤または接着剤で貼合せ
られて耐摺動保護層が形成されていることを特徴とする
光学的記録媒体、が提供される。
【0007】本発明の一態様においては、前記耐摺動保
護層の厚さが3〜14μmであり、且つ該耐摺動保護層
の樹脂シートの厚さが2μm以上であり粘着剤層または
接着剤層の厚さが1μm以上である。
護層の厚さが3〜14μmであり、且つ該耐摺動保護層
の樹脂シートの厚さが2μm以上であり粘着剤層または
接着剤層の厚さが1μm以上である。
【0008】本発明の一態様においては、前記耐摺動保
護層の鉛筆硬度が2H以上である。これにより、磁気ヘ
ッドと保護層との摩耗による損傷を特に効果的に抑える
ことができる。
護層の鉛筆硬度が2H以上である。これにより、磁気ヘ
ッドと保護層との摩耗による損傷を特に効果的に抑える
ことができる。
【0009】本発明の一態様においては、前記耐摺動保
護層の表面粗さが中心線平均山高さ(Rpm)で0.5〜
0.8μmである。これにより、磁気ヘッドと保護層と
の貼り付きを特に効果的に抑えることができ、磁気ヘッ
ドの浮上走行性を特に効果的に向上させることができ
る。
護層の表面粗さが中心線平均山高さ(Rpm)で0.5〜
0.8μmである。これにより、磁気ヘッドと保護層と
の貼り付きを特に効果的に抑えることができ、磁気ヘッ
ドの浮上走行性を特に効果的に向上させることができ
る。
【0010】本発明の一態様においては、前記耐摺動保
護層の動摩擦係数が0.2以下である。これにより、磁
気ヘッドの浮上走行性を特に効果的に向上させることが
できる。
護層の動摩擦係数が0.2以下である。これにより、磁
気ヘッドの浮上走行性を特に効果的に向上させることが
できる。
【0011】本発明の一態様においては、前記耐摺動保
護層の表面抵抗が1×1011Ω/□以下である。
護層の表面抵抗が1×1011Ω/□以下である。
【0012】本発明の一態様においては、前記耐摺動保
護層の樹脂シートが硬化型樹脂に導電性粒子を含有させ
てなるものである。
護層の樹脂シートが硬化型樹脂に導電性粒子を含有させ
てなるものである。
【0013】本発明の一態様においては、前記耐蝕性保
護層の厚さが2〜5μmである。
護層の厚さが2〜5μmである。
【0014】本発明の一態様においては、前記耐蝕性保
護層が光硬化型樹脂よりなる。
護層が光硬化型樹脂よりなる。
【0015】また、本発明において、耐摺動保護層の樹
脂シートとして、厚さ均一性の良好なもの(厚さムラが
±0.5μm以内)を用いることにより、磁気ヘッドの
浮上走行特性を安定化させることができる。
脂シートとして、厚さ均一性の良好なもの(厚さムラが
±0.5μm以内)を用いることにより、磁気ヘッドの
浮上走行特性を安定化させることができる。
【0016】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の具体的実
施例を説明する。
施例を説明する。
【0017】図1は、本発明の光学的記録媒体の一実施
例を示す断面図である。本実施例は光磁気ディスクとし
て具体化されたものである。図1に示すように、ディス
ク状透明基板1の一主面(図では上側の表面)上に記録
部層2が形成されており、該記録部層2上に耐蝕性保護
層3が形成されており、更に該耐蝕性保護層3上に耐摺
動保護層4が積層されている。
例を示す断面図である。本実施例は光磁気ディスクとし
て具体化されたものである。図1に示すように、ディス
ク状透明基板1の一主面(図では上側の表面)上に記録
部層2が形成されており、該記録部層2上に耐蝕性保護
層3が形成されており、更に該耐蝕性保護層3上に耐摺
動保護層4が積層されている。
【0018】上記基板1は、厚さ数mm程度(例えば
1.2mm)の円板状の透明基板であって、その材質と
しては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオ
レフィン樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料の
他、ガラス等も使用可能である。なお、基板1の表面の
うち、前記記録部層2を設ける側の表面には、通常、再
生時に使用するレーザ光波長のおよそ4分の1の深さを
持った案内溝やプリフォーマット等が設けられる。
1.2mm)の円板状の透明基板であって、その材質と
しては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオ
レフィン樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料の
他、ガラス等も使用可能である。なお、基板1の表面の
うち、前記記録部層2を設ける側の表面には、通常、再
生時に使用するレーザ光波長のおよそ4分の1の深さを
持った案内溝やプリフォーマット等が設けられる。
【0019】上記記録部層2は、記録磁性層6、誘電体
層5,7、及び反射層8が積層された多層構造を有して
なり、通常は基板1上に第1の誘電体層5が形成され、
この第1の誘電体層5上に記録磁性層6、第2の誘電体
層7及び反射層8がこの順に積層される。
層5,7、及び反射層8が積層された多層構造を有して
なり、通常は基板1上に第1の誘電体層5が形成され、
この第1の誘電体層5上に記録磁性層6、第2の誘電体
層7及び反射層8がこの順に積層される。
【0020】これらのうち、第1の誘電体層5及び第2
の誘電体層7としては、酸化物や窒化物等が使用可能で
あるが、これら誘電体層5,7中の酸素が記録磁性層6
に悪影響を及ぼすおそれがあることから、窒化物の方が
より好ましく、酸素及び水分を透過させず且つ使用レー
ザ光を十分に透過し得る物質として、窒化珪素あるいは
窒化アルミニウム等が好適である。
の誘電体層7としては、酸化物や窒化物等が使用可能で
あるが、これら誘電体層5,7中の酸素が記録磁性層6
に悪影響を及ぼすおそれがあることから、窒化物の方が
より好ましく、酸素及び水分を透過させず且つ使用レー
ザ光を十分に透過し得る物質として、窒化珪素あるいは
窒化アルミニウム等が好適である。
【0021】また、上記記録磁性層6は、膜面に垂直な
方向に磁化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であっ
て、磁気光学効果に優れることはもちろん、室温にて大
きな保磁力を持ち、且つ200℃付近にキュリー点を持
つことが望ましい。このような条件に叶った記録材料と
しては、希土類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げら
れ、なかでもTbFeCo系非晶質薄膜が好適である。
この記録磁性層6には、耐蝕性を向上させる目的で、C
r等を添加してもよい。
方向に磁化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であっ
て、磁気光学効果に優れることはもちろん、室温にて大
きな保磁力を持ち、且つ200℃付近にキュリー点を持
つことが望ましい。このような条件に叶った記録材料と
しては、希土類−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げら
れ、なかでもTbFeCo系非晶質薄膜が好適である。
この記録磁性層6には、耐蝕性を向上させる目的で、C
r等を添加してもよい。
【0022】上記反射層8は熱的に良導体であることが
望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考慮する
と、アルミニウムが適している。
望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考慮する
と、アルミニウムが適している。
【0023】以上の各層は、蒸着やスパッタ等により形
成される。各層の膜厚は任意に設定することができる
が、通常は数百〜数千Å程度に設定される。これらの膜
厚は、各層単独での光学的性質のみならず、組合せによ
る効果をも考慮して決めることが好ましい。これは、例
えば、記録磁性層6の膜厚がレーザ光の波長に比べて小
さい場合に、レーザ光が記録磁性層6を透過して、各層
の境界で反射した光と多重干渉し、膜厚の組合せにより
記録磁性層6の実効的な光学及び磁気光学特性が大きく
変動することがあるためである。
成される。各層の膜厚は任意に設定することができる
が、通常は数百〜数千Å程度に設定される。これらの膜
厚は、各層単独での光学的性質のみならず、組合せによ
る効果をも考慮して決めることが好ましい。これは、例
えば、記録磁性層6の膜厚がレーザ光の波長に比べて小
さい場合に、レーザ光が記録磁性層6を透過して、各層
の境界で反射した光と多重干渉し、膜厚の組合せにより
記録磁性層6の実効的な光学及び磁気光学特性が大きく
変動することがあるためである。
【0024】上記耐蝕性保護層3は、記録部層2上にあ
って表面を平坦化するとともに、湿気等から記録部層2
を保護することを目的として設けられたものである。こ
の耐蝕性保護層3の構成材料としては、通常アクリル系
紫外線硬化樹脂等が使用され、このアクリル系紫外線硬
化樹脂を用いて耐蝕性保護層3を形成する際、その形成
方法としては例えばスピンコートによる方法等が好適で
ある。耐蝕性保護層3の膜厚は、好ましくは2〜5μm
の範囲である。
って表面を平坦化するとともに、湿気等から記録部層2
を保護することを目的として設けられたものである。こ
の耐蝕性保護層3の構成材料としては、通常アクリル系
紫外線硬化樹脂等が使用され、このアクリル系紫外線硬
化樹脂を用いて耐蝕性保護層3を形成する際、その形成
方法としては例えばスピンコートによる方法等が好適で
ある。耐蝕性保護層3の膜厚は、好ましくは2〜5μm
の範囲である。
【0025】耐蝕性保護層3として用いられる紫外線硬
化型樹脂としては、例えば記録磁性層への酸素や水分の
透過を有効に防止しうるアクリレート系樹脂組成物を重
合させたものが好適に用いられる。例えば、紫外線硬化
型のアクリレート系樹脂組成物は、通常(A)プレポリ
マー成分、(B)反応希釈剤成分、及び(C)光重合開
始剤成分の混合組成物よりなり、(A)成分としては、
例えばポリオールポリアクリレート、ポリエステルアク
リレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト等が挙げられる。(B)成分としては多価アルコール
のアクリル酸エステルが用いられる。(C)成分として
は、公知のどのような光重合開始剤でも使用できるが、
配合後の貯蔵安定性のよいものが好ましい。例えば、ベ
ンゾインアルキルエーテル系、アセトフェノン系、プロ
ピオフェノン系、アントラキノン系、チオキサントン系
等のものが挙げられる。これらは一種または二種以上を
任意の割合で混合して用いることができる。
化型樹脂としては、例えば記録磁性層への酸素や水分の
透過を有効に防止しうるアクリレート系樹脂組成物を重
合させたものが好適に用いられる。例えば、紫外線硬化
型のアクリレート系樹脂組成物は、通常(A)プレポリ
マー成分、(B)反応希釈剤成分、及び(C)光重合開
始剤成分の混合組成物よりなり、(A)成分としては、
例えばポリオールポリアクリレート、ポリエステルアク
リレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト等が挙げられる。(B)成分としては多価アルコール
のアクリル酸エステルが用いられる。(C)成分として
は、公知のどのような光重合開始剤でも使用できるが、
配合後の貯蔵安定性のよいものが好ましい。例えば、ベ
ンゾインアルキルエーテル系、アセトフェノン系、プロ
ピオフェノン系、アントラキノン系、チオキサントン系
等のものが挙げられる。これらは一種または二種以上を
任意の割合で混合して用いることができる。
【0026】耐摺動保護層4は、光硬化樹脂や熱硬化樹
脂等の架橋型樹脂を硬化させたシート状体等を適当な粘
着剤や接着剤等を用いて上記耐蝕性保護層3に貼り付け
たものからなる。樹脂シートとしては、また、ハードコ
ート処理されたポリエチレンテレフタレート等の高分子
材料からなるシート状体等を用いることもできる。
脂等の架橋型樹脂を硬化させたシート状体等を適当な粘
着剤や接着剤等を用いて上記耐蝕性保護層3に貼り付け
たものからなる。樹脂シートとしては、また、ハードコ
ート処理されたポリエチレンテレフタレート等の高分子
材料からなるシート状体等を用いることもできる。
【0027】耐摺動保護層4は、その鉛筆硬度が2H以
上であるのが好ましく、また、表面粗さが中心線平均山
高さ(Rpm)で0.5〜0.8μmであるのが好まし
い。このような表面硬度及び表面粗さとすることによ
り、磁気ヘッドによる保護層4の摩耗及び該保護層4に
対する磁気ヘッドの貼り付き現象が特に効果的に防止で
き、より良好なヘッド走行性を確保することができる。
また、より良好なヘッド走行性を確保するために、耐摺
動保護層4の表面の動摩擦係数(μ)を0.2以下とす
ることが好ましい。μが上記範囲より大きいと、磁気ヘ
ッドとの摺動による耐摺動保護層4表面の摩耗等が増加
する傾向にある。
上であるのが好ましく、また、表面粗さが中心線平均山
高さ(Rpm)で0.5〜0.8μmであるのが好まし
い。このような表面硬度及び表面粗さとすることによ
り、磁気ヘッドによる保護層4の摩耗及び該保護層4に
対する磁気ヘッドの貼り付き現象が特に効果的に防止で
き、より良好なヘッド走行性を確保することができる。
また、より良好なヘッド走行性を確保するために、耐摺
動保護層4の表面の動摩擦係数(μ)を0.2以下とす
ることが好ましい。μが上記範囲より大きいと、磁気ヘ
ッドとの摺動による耐摺動保護層4表面の摩耗等が増加
する傾向にある。
【0028】また、耐摺動保護層4は、表面抵抗が1×
1011Ω/□以下であることが好ましい。上記の範囲よ
り大きいと、磁気ヘッドと保護膜4との摺動に基づく帯
電により磁気ヘッドの貼り付きが生じやすくなる傾向に
ある。そこで、上記樹脂シート中に導電性フィラーを分
散配合する等して表面抵抗を低下させるのが好ましい。
導電性フィラーとしては、例えば導電性チタンウィスカ
ー等が好適である。
1011Ω/□以下であることが好ましい。上記の範囲よ
り大きいと、磁気ヘッドと保護膜4との摺動に基づく帯
電により磁気ヘッドの貼り付きが生じやすくなる傾向に
ある。そこで、上記樹脂シート中に導電性フィラーを分
散配合する等して表面抵抗を低下させるのが好ましい。
導電性フィラーとしては、例えば導電性チタンウィスカ
ー等が好適である。
【0029】また、磁気ヘッドと耐摺動保護層4との潤
滑性を向上させるために、該保護層の樹脂シート中に潤
滑剤を分散・配合することが望ましい。この潤滑剤とし
ては、従来より公知の材料が何れも使用可能であり、特
に限定されない。
滑性を向上させるために、該保護層の樹脂シート中に潤
滑剤を分散・配合することが望ましい。この潤滑剤とし
ては、従来より公知の材料が何れも使用可能であり、特
に限定されない。
【0030】なお、本実施例の光磁気ディスクにおい
て、上記耐摺動保護層4の樹脂シートは必ずしも単層で
ある必要はなく、多層化することも可能である。いずれ
の場合も、粘着剤層または接着剤層を含めた膜厚の総和
を3〜14μm程度、より好ましくは5〜10μm程度
とすることが望ましい。
て、上記耐摺動保護層4の樹脂シートは必ずしも単層で
ある必要はなく、多層化することも可能である。いずれ
の場合も、粘着剤層または接着剤層を含めた膜厚の総和
を3〜14μm程度、より好ましくは5〜10μm程度
とすることが望ましい。
【0031】図2は、本発明の光学的記録媒体に対する
記録の様子を示す図である。図2に示すように、光磁気
ディスク10をはさんで、光ピックアップの対物レンズ
11と磁気ヘッド12とが対向配置されている。対物レ
ンズ11によりレーザ光が集束せしめられて記録部層2
に光スポットを形成する。磁気ヘッド12は光磁気ディ
スク10の耐摺動保護層4と摺動接触し、浮上走行す
る。尚、図2において、光磁気ディスク10は図1に示
されているのと上下が逆である。
記録の様子を示す図である。図2に示すように、光磁気
ディスク10をはさんで、光ピックアップの対物レンズ
11と磁気ヘッド12とが対向配置されている。対物レ
ンズ11によりレーザ光が集束せしめられて記録部層2
に光スポットを形成する。磁気ヘッド12は光磁気ディ
スク10の耐摺動保護層4と摺動接触し、浮上走行す
る。尚、図2において、光磁気ディスク10は図1に示
されているのと上下が逆である。
【0032】上記光磁気ディスクについて、主として上
記耐摺動保護層4を設けたことによる効果を確認するた
めに行った実験結果を以下に示す。
記耐摺動保護層4を設けたことによる効果を確認するた
めに行った実験結果を以下に示す。
【0033】尚、以下の実験で用いた各種材料は次の通
りである: {耐摺動保護層の樹脂シート} ・HAC6001[リンテック(株)製] 2液硬化型ウレタン系樹脂に導電性チタンウィスカーと
固体潤滑剤とを分散配合し硬化させたもの; ・HAC4001[リンテック(株)製] セルロース樹脂に導電性チタンウィスカーと固体潤滑剤
とを分散配合し硬化させたものと、ポリエステル樹脂及
びアクリル樹脂の混合物とを積層したもの; ・HAC1106[リンテック(株)製] セルロース樹脂に導電性チタンウィスカーと固体潤滑剤
とを分散配合し硬化させたもの; ・HAC1001[リンテック(株)製] セルロース樹脂; {耐摺動保護層の粘着剤} ・HAC粘着剤[リンテック(株)製] {耐蝕性保護層} ・SD−17[大日本インキ化学(株)製] ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹脂 ・SD−301[大日本インキ化学(株)製] ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂 ・SD−101[大日本インキ化学(株)製] エポキシアクリレート系紫外線硬化樹脂 ・SPC112[日本化薬(株)製] ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹脂。
りである: {耐摺動保護層の樹脂シート} ・HAC6001[リンテック(株)製] 2液硬化型ウレタン系樹脂に導電性チタンウィスカーと
固体潤滑剤とを分散配合し硬化させたもの; ・HAC4001[リンテック(株)製] セルロース樹脂に導電性チタンウィスカーと固体潤滑剤
とを分散配合し硬化させたものと、ポリエステル樹脂及
びアクリル樹脂の混合物とを積層したもの; ・HAC1106[リンテック(株)製] セルロース樹脂に導電性チタンウィスカーと固体潤滑剤
とを分散配合し硬化させたもの; ・HAC1001[リンテック(株)製] セルロース樹脂; {耐摺動保護層の粘着剤} ・HAC粘着剤[リンテック(株)製] {耐蝕性保護層} ・SD−17[大日本インキ化学(株)製] ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹脂 ・SD−301[大日本インキ化学(株)製] ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂 ・SD−101[大日本インキ化学(株)製] エポキシアクリレート系紫外線硬化樹脂 ・SPC112[日本化薬(株)製] ポリエステルアクリレート系紫外線硬化樹脂。
【0034】耐摺動保護層の厚さに関する実験:HA
C6001の材料を、表面がマット化したPETフィル
ム(X43[東レ(株)製])上に種々の厚さに塗布
し、加熱硬化(80℃、1時間)した後、PETフィル
ムを剥離することにより、種々の厚さの樹脂シートを得
た。該樹脂シート上に粘着剤を塗布し乾燥させ粘着剤層
を形成した。このシートを耐蝕性保護層3上に貼り合わ
せて、以下に示す特性評価を行った。
C6001の材料を、表面がマット化したPETフィル
ム(X43[東レ(株)製])上に種々の厚さに塗布
し、加熱硬化(80℃、1時間)した後、PETフィル
ムを剥離することにより、種々の厚さの樹脂シートを得
た。該樹脂シート上に粘着剤を塗布し乾燥させ粘着剤層
を形成した。このシートを耐蝕性保護層3上に貼り合わ
せて、以下に示す特性評価を行った。
【0035】・低湿環境下に於けるヘッドクラッシュテ
スト:30℃、30%RHの低湿度環境下で、光磁気デ
ィスクを3000rpmで回転させた時に、磁気ヘッド
スライダと耐摺動保護層4との間隔が1.6μmとなる
ように調整した光磁気記録再生装置[キヤノン(株)
製]を用いて、ディスクを3000rpmで3秒間回転
させ次に3秒間停止という一連の動作を繰り返すCSS
(contact start stop)テストを1
0万回行った後に、ヘッドクラッシュの発生の有無、保
護層表面のキズの深さを観察測定した。また、記録磁性
層へ印加される磁界の大きさを測定した。その結果を表
1に示す;
スト:30℃、30%RHの低湿度環境下で、光磁気デ
ィスクを3000rpmで回転させた時に、磁気ヘッド
スライダと耐摺動保護層4との間隔が1.6μmとなる
ように調整した光磁気記録再生装置[キヤノン(株)
製]を用いて、ディスクを3000rpmで3秒間回転
させ次に3秒間停止という一連の動作を繰り返すCSS
(contact start stop)テストを1
0万回行った後に、ヘッドクラッシュの発生の有無、保
護層表面のキズの深さを観察測定した。また、記録磁性
層へ印加される磁界の大きさを測定した。その結果を表
1に示す;
【0036】
【表1】 以上のように、シートの厚さが2μmより薄いと、ヘッ
ドクラッシュが発生した。これは、シートの厚さが2μ
mより薄いと表面硬度が小さく、シート表面に磁気ヘッ
ドスライダによりキズが入りやすくなるためである。ま
た、粘着剤層が1μmより薄いと、シートの剥離が発生
し好ましくないことがわかった。
ドクラッシュが発生した。これは、シートの厚さが2μ
mより薄いと表面硬度が小さく、シート表面に磁気ヘッ
ドスライダによりキズが入りやすくなるためである。ま
た、粘着剤層が1μmより薄いと、シートの剥離が発生
し好ましくないことがわかった。
【0037】次に、記録磁性層への印加磁界は、200
(Oe)以上あることが好ましいが、実験例7,8の様
にシートの厚さと粘着剤層の厚さとの合計が15μmを
超えると、印加磁界がこれより小さくなり好ましくはな
い。磁気ヘッドの発生磁界は、高速磁界反転が必要なこ
と、消費電力をあまり大きくするのは好ましくないこと
などの制約があり、あまり大きくすることはできない。
したがって、磁気ヘッドをできるだけ記録磁性層に近づ
ける必要がある。以上により、耐摺動保護層の厚さは3
〜14μm、樹脂シートの厚さは2μm以上、粘着剤層
の厚さは1μm以上が好ましい。
(Oe)以上あることが好ましいが、実験例7,8の様
にシートの厚さと粘着剤層の厚さとの合計が15μmを
超えると、印加磁界がこれより小さくなり好ましくはな
い。磁気ヘッドの発生磁界は、高速磁界反転が必要なこ
と、消費電力をあまり大きくするのは好ましくないこと
などの制約があり、あまり大きくすることはできない。
したがって、磁気ヘッドをできるだけ記録磁性層に近づ
ける必要がある。以上により、耐摺動保護層の厚さは3
〜14μm、樹脂シートの厚さは2μm以上、粘着剤層
の厚さは1μm以上が好ましい。
【0038】耐摺動保護層の表面硬度に関する実験:
以下の表2記載の材料を用いて各種表面硬度の耐摺動保
護層または耐蝕性保護層を形成し、これら保護層につい
て、前記の低湿環境下に於けるヘッドクラッシュテスト
を行い、評価した。その結果を表2に示す。なお鉛筆硬
度は、光磁気ディスクの表面に、ある硬さを有する鉛筆
の芯を接触させて、一定の圧力(15g/cm2 )を加
え、ディスク表面に傷が付いた時の最も軟らかい鉛筆の
硬さをもって指示した;
以下の表2記載の材料を用いて各種表面硬度の耐摺動保
護層または耐蝕性保護層を形成し、これら保護層につい
て、前記の低湿環境下に於けるヘッドクラッシュテスト
を行い、評価した。その結果を表2に示す。なお鉛筆硬
度は、光磁気ディスクの表面に、ある硬さを有する鉛筆
の芯を接触させて、一定の圧力(15g/cm2 )を加
え、ディスク表面に傷が付いた時の最も軟らかい鉛筆の
硬さをもって指示した;
【0039】
【表2】 以上のように、鉛筆硬度2H以上では、ヘッドクラッシ
ュの発生の無いことがわかった。
ュの発生の無いことがわかった。
【0040】耐摺動保護層の表面粗さに関する実験:
上記実験での樹脂シート作成工程で使用したPETフ
ィルムとして表面粗さを種々変えたものを用いて、表面
粗さを変えた樹脂シートを同様にして作成し、これらを
用いて前記の低湿環境下に於けるヘッドクラッシュテス
トを行い、評価した。その結果を表3に示す。尚、表面
粗さとして中心線平均山高さ(Rpm)を用い、表面粗さ
計タリステップ[ホブソンテーラー(株)製]で測定し
た;
上記実験での樹脂シート作成工程で使用したPETフ
ィルムとして表面粗さを種々変えたものを用いて、表面
粗さを変えた樹脂シートを同様にして作成し、これらを
用いて前記の低湿環境下に於けるヘッドクラッシュテス
トを行い、評価した。その結果を表3に示す。尚、表面
粗さとして中心線平均山高さ(Rpm)を用い、表面粗さ
計タリステップ[ホブソンテーラー(株)製]で測定し
た;
【0041】
【表3】 以上のように、Rpmが0.5μmより小さいと、磁気ヘ
ッドの吸着が発生し、ヘッドクラッシュが発生し、Rpm
が0.8μmより大きいと、磁気ヘッドが浮上せず、ヘ
ッドクラッシュが発生した。即ち、Rpmは0.5〜0.
8μmの範囲が好ましいことがわかった。
ッドの吸着が発生し、ヘッドクラッシュが発生し、Rpm
が0.8μmより大きいと、磁気ヘッドが浮上せず、ヘ
ッドクラッシュが発生した。即ち、Rpmは0.5〜0.
8μmの範囲が好ましいことがわかった。
【0042】なお、樹脂シートHAC6001,HAC
4001のRpmは、それぞれ0.75及び0.74であ
った。
4001のRpmは、それぞれ0.75及び0.74であ
った。
【0043】耐摺動保護層の動摩擦係数μに関する実
験:上記実験と同一の保護層材料を用い、これら保護
層について、動摩擦係数μの測定及び低湿環境下に於け
るヘッドクラッシュテストを行った。その結果を表4に
示す。なお、動摩擦係数μは、CSSテスター[松坂貿
易(株)製]を用いて、磁気ヘッド浮上時のものを測定
した;
験:上記実験と同一の保護層材料を用い、これら保護
層について、動摩擦係数μの測定及び低湿環境下に於け
るヘッドクラッシュテストを行った。その結果を表4に
示す。なお、動摩擦係数μは、CSSテスター[松坂貿
易(株)製]を用いて、磁気ヘッド浮上時のものを測定
した;
【0044】
【表4】 以上から、動摩擦係数が0.2より小さいと、ヘッドク
ラッシュの発生が無いことがわかった。
ラッシュの発生が無いことがわかった。
【0045】耐摺動保護層の表面抵抗に関する実験:
以下の表5記載の保護層材料を用いて各種表面抵抗の耐
摺動保護層または耐蝕性保護層を形成し、これら保護層
について、前記の低湿環境下に於けるヘッドクラッシュ
テストを行い、評価した。その結果を表5に示す;
以下の表5記載の保護層材料を用いて各種表面抵抗の耐
摺動保護層または耐蝕性保護層を形成し、これら保護層
について、前記の低湿環境下に於けるヘッドクラッシュ
テストを行い、評価した。その結果を表5に示す;
【0046】
【表5】 以上から、表面抵抗が1×1011(Ω/□)以下であれ
ば、保護層と磁気ヘッドとの間の静電吸着が発生せずヘ
ッドクラッシュが発生しないことがわかった。
ば、保護層と磁気ヘッドとの間の静電吸着が発生せずヘ
ッドクラッシュが発生しないことがわかった。
【0047】耐蝕性保護層の厚さに関する実験:光磁
気ディスクの記録部層上に、スピンコートによりSD−
17を種々の厚さに塗布して、耐蝕性保護層を形成し
た。これらをH/H耐久テスト(80℃、90%RH、
2000時間)に投入し、投入前後のB.E.R.(バ
イトエラーレート)の測定を行い評価した。その結果を
表6に示す;
気ディスクの記録部層上に、スピンコートによりSD−
17を種々の厚さに塗布して、耐蝕性保護層を形成し
た。これらをH/H耐久テスト(80℃、90%RH、
2000時間)に投入し、投入前後のB.E.R.(バ
イトエラーレート)の測定を行い評価した。その結果を
表6に示す;
【0048】
【表6】 以上から、耐蝕性保護層の厚さが2μmより薄いと保護
性能が不十分で記録部層に腐蝕が発生しB.E.R.が
増大すること、厚さが5μmより厚いとディスクの機械
特性が悪化する(反り発生)こと、さらに8μmとなる
とクラックが発生するという問題があることがわかっ
た。即ち、耐蝕性保護層の厚さは2〜5μmが好ましい
ことがわかった。
性能が不十分で記録部層に腐蝕が発生しB.E.R.が
増大すること、厚さが5μmより厚いとディスクの機械
特性が悪化する(反り発生)こと、さらに8μmとなる
とクラックが発生するという問題があることがわかっ
た。即ち、耐蝕性保護層の厚さは2〜5μmが好ましい
ことがわかった。
【0049】保存安定性に関する実験:表7に示す様
に、耐蝕性保護層上に耐摺動保護層が形成された光磁気
ディスク(実験例1〜7)と、耐蝕性保護膜を設けずに
記録部層上に直接耐摺動保護層を設けた光磁気ディスク
(実験例8、9)とを、それぞれ作製した。そして、こ
れら光磁気ディスクを温度80℃、相対湿度85%の条
件下で2000時間保存した後、保存後の光磁気ディス
クの記録部層の腐蝕発生の有無を調べた。その結果を表
7に示す;
に、耐蝕性保護層上に耐摺動保護層が形成された光磁気
ディスク(実験例1〜7)と、耐蝕性保護膜を設けずに
記録部層上に直接耐摺動保護層を設けた光磁気ディスク
(実験例8、9)とを、それぞれ作製した。そして、こ
れら光磁気ディスクを温度80℃、相対湿度85%の条
件下で2000時間保存した後、保存後の光磁気ディス
クの記録部層の腐蝕発生の有無を調べた。その結果を表
7に示す;
【0050】
【表7】 実験例No.1〜7では何ら変化がみられなかったが、
実験例8,9では腐蝕が発生してた。保存安定性の向上
を図る上では、耐蝕性保護層を設け且つ該耐蝕性保護層
の上に耐摺動保護層を設けた構成とするのが有利である
ことがわかった。
実験例8,9では腐蝕が発生してた。保存安定性の向上
を図る上では、耐蝕性保護層を設け且つ該耐蝕性保護層
の上に耐摺動保護層を設けた構成とするのが有利である
ことがわかった。
【0051】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光学的記録媒体によれば、磁気ヘッドのヘッドクラッ
シュの発生を防止することができ耐久性に優れると同時
に、記録層の腐蝕の発生もなく環境耐久性にも優れた光
学的記録媒体を提供することができる。
の光学的記録媒体によれば、磁気ヘッドのヘッドクラッ
シュの発生を防止することができ耐久性に優れると同時
に、記録層の腐蝕の発生もなく環境耐久性にも優れた光
学的記録媒体を提供することができる。
【図1】本発明の光学的記録媒体の一実施例を示す断面
図である。
図である。
【図2】本発明の光学的記録媒体に対する記録の様子を
示す図である。
示す図である。
1 ディスク状透明基板 2 記録部層 3 耐蝕性保護層 4 耐摺動保護層 5 誘電体層 6 記録磁性層 7 誘電体層 8 反射層 10 光磁気ディスク 11 対物レンズ 12 磁気ヘッド
Claims (9)
- 【請求項1】 透明基板の表面上に記録磁性層を含む記
録部層が形成されており、該記録部層の前記透明基板側
とは反対側の表面に耐蝕性保護層が形成されており、該
耐蝕性保護層の前記記録部層側とは反対側の表面に樹脂
シートが粘着剤または接着剤で貼合せられて耐摺動保護
層が形成されていることを特徴とする光学的記録媒体。 - 【請求項2】 前記耐摺動保護層の厚さが3〜14μm
であり、且つ該耐摺動保護層の樹脂シートの厚さが2μ
m以上であり粘着剤層または接着剤層の厚さが1μm以
上であることを特徴とする、請求項1に記載の光学的記
録媒体。 - 【請求項3】 前記耐摺動保護層の鉛筆硬度が2H以上
であることを特徴とする、請求項1に記載の光学的記録
媒体。 - 【請求項4】 前記耐摺動保護層の表面粗さが中心線平
均山高さ(Rpm)で0.5〜0.8μmであることを特
徴とする、請求項1に記載の光学的記録媒体。 - 【請求項5】 前記耐摺動保護層の動摩擦係数が0.2
以下であることを特徴とする、請求項1に記載の光学的
記録媒体。 - 【請求項6】 前記耐摺動保護層の表面抵抗が1×10
11Ω/□以下であることを特徴とする、請求項1に記載
の光学的記録媒体。 - 【請求項7】 前記耐摺動保護層の樹脂シートが硬化型
樹脂に導電性粒子を含有させてなるものであることを特
徴とする、請求項1に記載の光学的記録媒体。 - 【請求項8】 前記耐蝕性保護層の厚さが2〜5μmで
あることを特徴とする、請求項1に記載の光学的記録媒
体。 - 【請求項9】 前記耐蝕性保護層が光硬化型樹脂よりな
ることを特徴とする、請求項1に記載の光学的記録媒
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28421893A JPH07121919A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28421893A JPH07121919A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 光学的記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07121919A true JPH07121919A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17675702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28421893A Pending JPH07121919A (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07121919A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100457373B1 (ko) * | 2000-10-27 | 2004-11-16 | 파이오니아 가부시키가이샤 | 광 기록 매체 |
-
1993
- 1993-10-20 JP JP28421893A patent/JPH07121919A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100457373B1 (ko) * | 2000-10-27 | 2004-11-16 | 파이오니아 가부시키가이샤 | 광 기록 매체 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5490131A (en) | Optical disk | |
JP3086501B2 (ja) | 光ディスク | |
JPH07121919A (ja) | 光学的記録媒体 | |
US6381200B1 (en) | Flash layer overcoat for first surface magneto-optical media | |
JPH0240149A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2581983B2 (ja) | 光学的記録媒体 | |
JPH0464936A (ja) | 光学的記録媒体 | |
JPH06150414A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP3518887B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
JPH06162568A (ja) | 光記録媒体 | |
JP3421875B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP2918719B2 (ja) | 光学的記録媒体 | |
JP3491340B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH0512736A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP3382010B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH02239447A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
WO2001027919A1 (fr) | Support d'enregistrement magnéto-optique et enregistreur magnéto-optique | |
JPH0528559A (ja) | 光磁気デイスク | |
JP2000293904A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JP3298663B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
JPH05210877A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH04163737A (ja) | 光テープ | |
JPH05163564A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
JPH08102104A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH09212930A (ja) | 光磁気ディスク |