JPH03258770A - ベンズアゾール誘導体、その製法及びその合成中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規ベンズアゾール誘導体、その製法及びそ
の合成中間体に関する。

〔従来の技術〕

一昼夜の排尿回数が健康人のそれよりも多い頻尿患者の
治療には、膀胱の反射性の排尿収縮を抑制し、排尿間隔
を延長することが有用である。

従来、反射性排尿収縮抑制作用を有する頻尿治療剤とし
ては、例えばフラボキセート［ＦＩａｖｏｘａｔｅ；化
学名：３−メチル−４−オキソ−２−フェニル−４Ｈ−
１−ベンゾピラン−８−カエチン酸２−ピペリジノエチ
ルエステル］　・塩酸塩が知られている〔基礎と臨床、
νｏ１．１Ｂ、Ｎα６．１２１〜１２７（１９８４）　
） 一方、２−フェニル−６−アミノ（低級アルキル）ベン
ゾオキサゾールが抗炎症作用を有すること（Ｊｏｕｒｎ
ａｌ　ｏｆ　ＭｅｃＨｃａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、　
１９７７、　Ｖｏｌ。

２０、　Ｎｏ、　６．７９７−８０１　）　、また２−
フェール−６−ピペリジノ　（１−ヒドロキシ低級アル
キル）ベンゾチアゾールが弱い抗マラリア作用を有する
こと（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｊｃａ］　Ｃｈｅ
ｍｊｓｔｒｙ、　１９６Ｂ、　Ｖｏｌ。

１１、　Ｎｏ、　２．２７０−２７３　）が知られてい
るが、かかる化合物の頻尿治療効果は知られていない。

〔発明が解決しようとする課題］ 本発明は、排尿間隔延長効果を奏し、優れた頻尿予防・
治療作用を有する新規ヘンズアヅール誘導体を提供する
ものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、一般式 （但し、Ｒ１は置換もしくは非置換アリール基、フェニ
ル−低級アルキル基又は含窒素、含酸素もしくは含硫５
〜６員複素環式基、Ｒ２及びＲ３は水素原子、低級アル
キル基、置換もしくは非置換フェニル−低級アルキル基
、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基であるか、又
は互いに末端で結合し隣接する窒素原子と共に置換もし
くは非置換含窒素５〜９員複素環式基を形成し、Ｒ４は
水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基又は低級アルカノイルアミ
ノ基、Ｒ５は水素原子又は低級アルキル基、Ｙは酸素原
子、硫黄原子又はイミノ基、ｎはＯ〜２を表す。） で示されるベンズアゾール誘導体又はその薬理的に許容
し得る塩に関する。

本発明の目的物（Ｉ）の具体例としては、Ｒ１が、例え
ば、フェニル基もしくはナフチル基の如きアリール基（
当該アリール基は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、フェニル−低級アルコキシ基、水酸基
、ジ低級アルキルアミノ基、ニトロ基、アミノ基、低級
アルカノイルアミノ基、トリハロメチル基及び低級アル
キレンジオキシ基から選ばれる１〜３個の置換基を有し
てもよい。）、フェニル−低級アルキル基であるか、又
はフリル基、チエニル基、ピリジル基、ペンツフリル基
、ベンゾチエニル基、キノリル基又イソキノリル基の如
き含窒素、含酸素もしくは含硫５〜６員複素環弐基であ
り、Ｒ２及びＲ３が、例えば、水素原子、低級アルキル
基、フェニル−低級アルキル基（当該フェニル−低級ア
ルキル基は、低級アルコキシ基を置換基として有しても
よい。）、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基であ
るか、又は互いに末端で結合し、隣接する窒素原子と共
にピロリジル基、ピペリジノ基、ホモピペリジノ基、ア
ザシクロオクチル基、アザビシクロノニル基、モルホリ
ノ基、ピペラジニル基又はイミダゾリル基の如き含窒素
５〜９員複素環式基（これら含窒素５〜９員複素環式基
は、低級アルキル基、水酸基及びフェニル基から選ばれ
る１〜３個の置換基を有してもよい。）を形成する化合
物があげられる。

このうち、治療上好ましい目的物（Ｉ）は、Ｒ１がハロ
ゲン原子、低級アルコキシ基及び低級アルキレンジオキ
シ基から選ばれる置換基を有してもよいフェニル基、低
級アルコキシ基を置換基として有してもよいナフチル基
であるか、又はフェニル−低級アルキル基であり、Ｒ２
及びＲ３が低級アルキル基であるか、又は互いに末端で
結合し、隣接する窒素原子と共にピペリジノ基、ホモピ
ペリジノ基もしくはモルホリノ基（これらピペリジノ基
、ホモピペリジノ基もしくはモルホリノ基は、低級アル
キル基を置換基として有してもよい。）を形成し、Ｒ４
が水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハ
ロゲン原子であり、Ｒ５が水素原子であり、Ｙが酸素原
子であり、ｎ＝０の化合物である。

また、治療上とりわけ好ましい目的物（１）はＲ１が低
級アルコキシ−フェニル基、Ｒ２及びＲ３が互いに末端
で結合し、隣接する窒素原子と共にピペリジノ基もしく
はモルホリノ基を形成し、Ｒ４が水素原子又は低級アル
コキシ基の化合物である。

本発明の目的物において、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、低級アルキレン基、低級アルカノイル基の具体
例は、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基及びア
ルキレン基並びに炭素数２〜５のアルカノイル基である
。

本発明によれば、目的物（１）は、一般式（但し、記号
は前記と同一意味を有する。）で示されるアルコール化
合物の水酸基を、反応性残基に変換するが、あるいは一
般式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物をハロゲン化剤で処理し、かくして得られる一般
式 （但し、ｘｌは反応性残基を表し、他の記号は前記と同
一意味を有する。） で示される化合物と一般式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
アミン化合物とを縮合反応させて製造することができる
。

また、目的物（１）のうち、一般式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物は、一般式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
カルボン酸化合物又はその反応性誘導体とアミン化合物
（Ｖ）とを縮合反応させ、得られる一般式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
アミド化合物を還元して製造することもできる。

上記反応において、反応性残基（ｘｌ）としては、例え
ば、ハロゲン原子、低級アルキルスルホニルオキシ基、
置換又は非置換フェニルスルホニル、Ｉ　（例えば、フ
ェニルスルホニル基、４−メチルベンゼンスルホニル基
）等を、またカルボン酸化合物（Ｖｆ）の反応性誘導体
としては、例えば、対応する酸ハライド、混合酸無水物
、活性エステル等を適宜用いることができる。

中間体（ＩＶ）は、原料化合物（ＩＩ）を水酸基活性化
試薬と反応させて製造することができる。水酸基活性化
試薬としては、例えば、ハロゲン化チオニル、濃塩酸、
三ハロゲン化リン、ハロゲン化水素酸、メタンスルホニ
ルハライド、４−メチルベンゼンスルホニルハライド等
慣用のものを使用することができる。反応は、適当な溶
媒（塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、低級アルカノール
、アセトン等）中、氷冷〜加熱下、例えば、０〜８０°
Ｃで好適に進行する。

また、原料化合物（Ｉ［［）のハロゲン化は、慣用のハ
ロゲン化剤、例えばＮ−ハロゲノスクシンイミド等を用
いて、実施することができる。反応は、適当な溶媒（四
塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン等）中、加熱下
、例えば、５０〜８０°Ｃで好適に進行する。

かくして得られる中間体（■）とアミン化合物（Ｖ）と
の縮合反応は、脱酸剤の存在下又は非存在下で実施する
ことができる。脱酸剤としては、慣用のものをいずれも
用いることができ、例えば、水酸化アルカリ金属、炭酸
アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金属等の無機塩基及び
トリ（低級アルキル）アミン、Ｎ、Ｎ−ジ（低級アルキ
ル）アニリン、Ｎ−（低級アルキル）モルホリン、ピリ
ジン等の有機塩基を好適に用いることができる。また、
ヨウ化アルカリ金属等の触媒を用いれば、反応を速やか
に進行させることができる。反応は無溶媒又は上記反応
で用いたのと同じ溶媒中、氷冷〜加熱下、例えばＯ〜１
００”Ｃで好適に進行する。

カルボン酸化合物（Ｖｌ）又はその反応性誘導体とアミ
ン化合物（Ｖ）との縮合反応は、ペプチド合成の常法に
従い、実施することができる。例えば、化合物（Ｖｌ）
の反応性誘導体を用いる場合、当該反応は、脱酸剤の存
在又は非存在下で実施することができる。脱酸剤として
は、中間体（ＴＶ）とアミン化合物（Ｖ）との反応で用
いたものをいずれも好適に用いることができる。一方、
遊離のカルボン酸化合物（Ｖ）を用いる場合、当該反応
は、縮合剤の存在又は非存在下で実施することができる
。縮合剤としては、慣用のものをいずれも好適に用いる
ことができ、例えば、Ｎ、　　Ｎ’　−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド、Ｎ−シクロへキシル−Ｎｏ−モルホ
リノカルボジイミドの如きカルボジイミド類、カルボニ
ルジイミダゾール等を好適に用いることができる。これ
ら反応は、いずれも適当な溶媒（テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、酢酸エチル、ア
セトニトリル等）中、氷冷〜加温下、例えば、０〜５０
°Ｃで好適に進行する。

アミド化合物（■）の還元反応は、還元剤で処理して実
施することができる。還元剤としては、慣用のもの、例
えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナト
リウム、ジボラン、アルカリ金属又はマグネシウムと低
級アルカノール等を適宜用いることができる。当該反応
は、いずれも適当な溶媒（テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテル等）中、冷却〜加温下、例えば
０〜５０°Ｃで好適に進行する。

上記各反応において、各原料化合物（ＩＩ）〜（■）は
、そのまま又はその塩のいずれの形でも使用するこがで
き、塩としては、例えば、有機酸付加塩、無機酸付加塩
をいずれも用いることができる。また、水酸基を有する
化合物（ＩＩ）〜（■）は、例えば、アルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩として、反応に供
することもできる。

なお、本発明の目的物（Ｉ）は、常法に従い、適宜、相
互変換することもできる。例えば、目的物（１）におい
て、Ｒ１がフェニル−低級アルコキシ基置換アリール基
である場合は、接触還元してヒドロキシ−アリール基と
することができ、また、Ｒ１の置換基及び／又はＲ４が
ニトロ基である場合は、還元してアミノ基とし、所望に
より、更に低級アルカノイルアミノ基とすることもでき
る。

本発明の目的物（１）は、遊離の形でもまたその薬理的
に許容し得る塩の形でも医薬用途に用いることができる
。薬理的に許容し得る塩としては、例えば、塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸付加塩及びフマル酸塩、
マレイン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ヘンゼンスルホン
酸塩等の有機酸付加塩があげられる。また、目的物（１
）が水酸基を有する場合には、例えば、ナトリウム塩、
カリウム塩の如きアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグ
ネシウム塩の如きアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩
等無機又は有機塩基との塩として用いることもできる。

本発明の目的物（１）及び（Ｉ−ａ）並びに原料化合物
（Ｉ［）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（■）には光学異性体
が存在する場合があるが、本発明は、いずれの異性体及
びその混合物も含むものである。

本発明の目的物（Ｉ）及びその薬理的に許容し得る塩は
、経口的にも非経口的にも投与することができ、例えば
、錠剤、カプセル剤、散剤、注射剤の如き医薬製剤とし
て、適宜使用するこよができる。

本発明の目的物（１）又はその薬理的に許容し得る塩の
投与量は、患者の年令・体重・状態あるいは疾患の程度
などにより異なるが、通常１日当たりの投与量は、経口
投与の場合には、０．０１〜１０■／ｋｇ、非経口投与
の場合には、０．００１〜１■／ｋｇであるのが好まし
い。

なお、原料化合物（ＩＩ）は、例えば、■一般式 （但し、Ｒ６は低級アルキル基、ｙｌは水酸基又はアミ
ノ基を表し、他の記号は前記と同一意味を有する。） で示される化合物と、一般式 ％式％） （但し、ｘ２はハロゲン原子を表し、Ｒ１は前記と同一
意味を有する。） で示される化合物とを反応させた後、分子内閉環反応に
付すか、 ■化合物（■）と、一般式 ％式％ （但し、Ｒ１は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物とを反応させた後、酸化するか、あるいは■一般
式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物をジアゾ化後、ハロゲン化アルカリ金属で処理し
、生成物と、一般式 ％式％） （但し、「は前記と同一意味を有する。）で示される化
合物とを反応させ、 ■上記■〜■の反応で得た一般式 ％式％） （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
エステル化合物を水素化リチウムアルミニウム等で還元
し、 ■必要とあれば、更に生成物をハロゲン化低級アルキル
マグネシウムと反応させて、製造することができる。か
くして得られた原料化合物（ＩＩ）は、必要とあれば、
例えば、「犬伏康夫編　有機化学（廣用書店）　Ｐ、　
２１８〜２２３　　Ｃ−Ｃ結合の生成」記載の方法に従
い、ｎの数を増加させることもできる。

原料化合物（ＩＩＩ）は、例えば、一般式（） 実験前夜絶食した、下腹神経切断及び偽手術処Ｗ（４〜
７日前）ラットに、検体（１０ｍｇ／ｋｇ）を経口投与
した。投与１５分後に生理食塩水（４ｄ／１００ｇ）を
経口投与し、５時間にわたって、排尿間隔を測定した。

測定時間中の最大排尿間隔を、下腹神経非切断群と比較
した。

（結果） 下記第１表記載の化合物は、最大排尿間隔を３０％以上
延長した。

第　　１　　表 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物と化合物（ＩＸ）とを反応させたのち、分子内閉
環反応に付して製造することができる。

また、カルボン酸（ＶＩ）は、例えば、エステル化合物
（Ｘ）を加水分解して製造することができる。

〔作用） 実験例　１ ラットの 実験例　２ による （方法） ウレタン麻酔した雌性ラットの外尿道口から膀胱カテー
テルを挿入し、カテーテルの他端に圧トランスデユーサ
−を接続した。膀胱に適当な量の生理食塩水を負荷して
、誘発される律動性膀胱収縮を記録した。生理食塩水又
は５％グルコース水溶液に溶解した検体（０，３〜１ｍ
ｇ／ｋｇ）を静脈内投与し、投与後の律動性膀胱収縮を
記録した。

（結果） 下記第２表記載の化合物は、投与後１５分間の収縮回数
を、投与前１５分間の収縮回数に対して７０％以下に減
少した。

第２表 〔実施例〕 実施例　１ （１）２−（４−クロロフェニル）−７−ベンゾオキサ
ゾールメタノール１１．０４ｇの塩化メチレン２００ｍ
１懸濁液に、水冷下、チオニルクロリド１０．１ｇを滴
下する。室温で１時間攪拌し、溶媒を留去する。残渣に
酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
、食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去する。残渣を酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶して、７−クロロメチル
−２−（４−クロロフェニル）ベンゾオキサゾール１１
４６ｇを得る。

霧、ｐ、　１１６〜１１８°Ｃ （２）上記（１）の生成物１０．４ｇのクロロホルム２
０〇−溶液に、水冷下、ピペリジン１５．９ｇを加え、
室温で一晩攪拌する。溶媒を留去し、酢酸エチルを加え
て、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、
乾燥後、濃縮する。残渣に塩酸−メタノールを加えて塩
酸塩とし、メタノールジエチルエーテルから再結晶して
、２−（４クロロフエニル）−７−ピペリジノメチルベ
ンソオキサゾール・塩酸塩１０．８５ｇを得る。

ｏ＋、ｐ、　２６８〜２７１°Ｃ 実施例　２〜２７ （１）対応原料化合物を実施例１−（１）と同様に処理
して、下記第３表記載の化合物を得る。（表中、Ｍｅは
メチル基を表す。以下同様。） 第３表 （２）上記（１）の生成物を実施例１−（２）と同様に
処理して、下記第４表及び第５表記載の化合物を得る。

（表中、Ｅｔはエチル基、ｎ−Ｂｕは直鎖ブチル基、ｔ
−Ｂｕは第三級ブチル基を表す、以下同様、）第４表 実施例　２８〜４９ 対応原料化合物を実施例１−（２）と間挿に処理して、
下記第６表及び第７表記載の化合物を得る。

第６表 第７表 （但し、Ｙは実施例４９では硫黄原子を表し、の場合は
、酸素原子を表す、） 他 実施例　５０ ２−（４−メトキシフェニル）−７−ペンゾオキサゾー
ルメタノール９．３０ｇの塩化メチレンＩ２０ＩＲ１懸
濁液にチオニルクロリド８．ＯＪｄを加え、室温で１時
間撹拌する。溶媒を留去し、残渣に塩化メチレン１６０
ｍを加える。水冷下、ホモピペリジン１８ｄを滴下し、
室温で１時間撹拌する。溶媒を留去し、残渣に酢酸エチ
ルを及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エ
チル層を分取する。酢酸エチル層を食塩水で洗浄、乾燥
する。酢酸エチルを留去し、残渣に塩酸−メタノールを
加えて塩酸塩とし、イソプロピルアルコールから再結晶
して、７−ホモピペリジノメチルー２−（４−メトキシ
フェニル）ベンゾオキサゾール・塩酸塩１１．８０ｇを
得る。

ｍ、ｐ、　２３０〜２３１．５°Ｃ 実施例　５１ （１）７−メチル−２−（４−クロロフェニル）ベンゾ
オキサゾール０．７３ｇ、Ｎ−ブロモスクシンイミド０
．５６ｇ、過酸化ベンゾイル０．０３ｇ及び四塩化炭素
１０ａｆｆｉの混合物を２４時間還流する。不溶物をろ
去し、溶媒を留去した後、残漬を酢酸エチルに溶解して
、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄、乾燥す
る。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー〔溶媒：ヘキサンー酢酸エチル（５：１））で
精製後、イソプロピルエーテル中、結晶化させて、７−
プロモメチルー２−（４−クロロフェニル）ベンゾオキ
サゾール０．６０ｇを得る。

■、ｐ、　１２７〜１２８°Ｃ （２）上記（１）の生成物０．１６ｇのクロロホルム１
０ｄ溶液に、水冷下、ピペリジン０．２０ｇを加え、室
温で１．５時間撹拌する。溶媒を留去して、酢酸エチル
及び炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチル層を
洗浄、乾燥する。溶媒を留去し、残渣を塩酸−メタノー
ルで塩酸塩とした後、メタノール−ジエチルエーテルか
ら再結晶して、２−　（４−クロロフェニル）−７−ピ
ペリジノメチルベンゾオキサゾール・塩酸塩０．１３ｇ
を得る。

ｍ、ｐ、２６７〜２７０°Ｃ 実施例　５２ （１）２−フェニルベンゾオキサゾール−７−カルボン
酸１．３６ｇのテトラヒドロフラン２０ａｄ？容液にオ
キザリルクロリド１．５ｍ及びジメチルホルムアミド２
滴を加え、室温で１時間撹拌した後、溶媒を留去する。

残渣にテトラヒドロフラン３０１１ｄｌを加え、水冷撹
拌下、ピペリジン５ｄを滴下する。室温で１時間撹拌後
、反応液に水を加えて酢酸エチル抽出し、酢酸エチル層
を洗浄、乾燥する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶して、１−（２−フェニルベンツオ
キサゾール−７−カルボニル）ピペリジン１．４７ｇを
得る。

閣、ｐ、　１２７〜１２８℃ （２）上記（１）の生成物０．２０ｇ及び水素化ホウ素
ナトリウム０．２５ｇのテトラヒドロフラン５戚懸濁液
に、水冷下、三フッ化ホウ素エーテル錯塩１．２１ｇを
加え、室温で１時間撹拌する。反応液にメタノール１０
ｄを加え、シュウ酸０．６ｇを加えて２時間還流する。

炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチル抽出し
、酢酸エチル層を洗浄、乾燥する。溶媒を留去し、残渣
に塩酸−メタノールを加えて塩酸塩とした後、メタノー
ル−ジエチルエーテルから再結晶して、２−フェニル−
７−ピペリジノメチルベンゾオキサゾール・塩酸塩０．
１３ｇを得る。

ｍ、ｐ、　２２２〜２２５℃ 実施例　５３〜６７ 対応原料化合物を実施例５０〜５２のいずれがと同様に
処理して、下記第８表記載の化合物を得る。（但し、Ｒ
４は、実施例６７において５−メチル基を表し、他の場
合には水素原子を表す、）第８表 実施例　６８ （ＩＮ−（２−フェニル−７−ヘンゾオキサリル）エタ
ノール２．０ｇの塩化メチレン１０ｍＲＷｊ？ｆｌに、
水冷下、ホスフォラストリプロミド０．　７１ｄを加え
る。反応液を室温で一晩攪拌し、氷及び飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加えた後、酢酸エチル抽出する。抽出
液を水及び食塩水で洗浄し、乾燥した後、溶媒を留去し
て、７−（１−ブロモエチル）−２−フェニルベンゾオ
キサゾール２゜４ｇを粗結晶として得る。

鵬、ｐ、　　８３　〜　Ｂ７．５　°Ｃ（２）ピペリジ
ン８Ｉ１１に、水冷下、上記（１）の生成物１．２０ｇ
を加え、室温で１時間攪拌する。過剰のとベリジンを留
去し、残渣を酢酸エチルに溶かして、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液及び食塩水で洗浄、乾燥する。溶媒を留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶媒：
クロロホルム−メタノール（２０：１））で精製し、塩
酸塩とした後、アセトンから再結晶して、２−フェニル
−７−（１−ピペリジノエチル）ベンゾオキサゾール・
塩酸塩１．０６ｇを得る。

■、ｐ、　２３９〜２４１．５°Ｃ（分解）実施例　６
９ （１）７−クロロメチル−２−フェニルベンゾオキサゾ
ール３．Ｏｇ、シアン化ナトリウム０．７６ｇ及びジメ
チルスルホキシド２０ｄの混合物を室温で４時間撹拌す
る。反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出
液を食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶して、（２−フェニル−７−ペン
ゾオキサヅリル）アセトニトリル２．４７ｇを得る。

鴎、ｐ、　１０９〜１１３°Ｃ （２）上記（］）の生成物２゜３０ｇのクロロホルム−
メタノール（１０ｄ−１０ｄ）溶液に、塩化水素ガスを
１５分間通じ、更に室温で２時間撹拌する。溶媒を留去
した後、メタノール１０ｄ及び水１−を加えて、室温で
１時間撹拌する。クロロホルムを加え、水、炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び食塩水で洗浄後、乾燥する。溶媒を
留去した後、イソプロピルエーテル−ヘキサンから再結
晶して、２−フェニル−７−ベンゾオキサゾール酢酸メ
チルエステル２．０９ｇを得る。

ｍ、ｐ、　７４〜７７°Ｃ （３）水素化リチウムアルミニウム０．３４ｇのテトラ
ヒドロフラン１０ｄ懸濁液に、水冷下、上記（２）の生
成物２．０ｇのテトラヒビ０フ５フ１溶液を滴下し、同
温度で１時間撹拌する。反応液に、水１Ｉ１１及び１５
％水酸化ナトリウム水溶液１ｉを加え、不溶物をろ去す
る。溶媒を留去し、残渣に酢酸エチルを加え、混合物を
水及び食塩水で洗浄、乾燥する。溶媒を留去した後、残
渣を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、２−フェニ
ル−７−ベンゾオキサゾールエタノール１．　　３０ｇ
を得る。

閣．ｐ．　１２６〜１３０″Ｃ （４）上記（３）の生成物１．２０８ののピリジン１０
ｄ溶液に、４−メチルベンゼンスルホニルクロリド１。

０６ｇを加え、室温で一晩攪拌する。反応液を氷水中に
注いだ後、酢酸エチル抽出する。抽出液を１０％塩酸、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄、
乾燥後、溶媒を留去して、４−メチルベンゼンスルホン
酸２−　（２−フェニル−７−ベンゾオキサゾリル）エ
チルエステル１．７２ｇをカラメル状粗生成物として得
る。

Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ）　：　３９３（Ｍ”）（５）上記（
４）の生成物０．８５ｇ及びピペリジン８−の混合物を
一晩攪拌する．過剰のピペリジンを留去し、残渣を酢酸
エチルに溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食
塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー〔溶媒：クロロホルム−メ
タノール（２０：１））で精製した後、塩酸塩とし、エ
タノールから再結晶して、２−フェニル−７−（２−ピ
ペリジノエチル）ベンゾオキサゾール・塩酸塩０．５７
ｇを得る。

ｍ．ｐ．　２５５〜２５８℃（分解） 実施例　７０ 対応原料化合物を実施例６９と同様に処理して７−（２
−（ジエチルアミノ）エチルツー２−フェニルベンゾオ
キサゾール・塩酸塩を得る。

ｍ．ｐ．　　２０５．５〜　２０６．５°Ｃ　　　（Ｚ
タノールージエチルエーツル）実施例　７１ （１）６３％水素化ナトリウム０．３８ｇのテトラヒド
ロフラン１−懸濁液にマロン酸ジｔｅｒｔ．ブチルエス
テル２．１３ｇのテトラヒドロフラン５ｄ溶液を、室温
で滴下し、３０分間撹拌する。該溶液に、７−クロロメ
チル−２−フェニルベンゾオキサゾール２．Ｏｇのテト
ラヒドロフラン２０−溶液を４５分間で滴下し、室温で
一晩撹拌する。

酢酸エチルを加えて、混合物を水及び食塩水で洗浄後、
乾燥する．溶媒を留去した後、残渣にトルエン３０ｍ及
びｐ−１−ルエンスルホン酸・１水和物１．４５ｇを加
えて１時間還流する。トルエンを留去した後、クロロホ
ルムを加えて、混合物を水及び食塩水で洗浄後、乾燥す
る。クロロホルムを留去した後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー〔溶媒：クロロホルム−メタノー
ル（２０：１）］で精製し、酢酸エチル−ヘキサンかう
再結晶して、３−（２−フェニル−７−ベンゾオキサゾ
リル）プロピオン酸１．０９’ｇを得る。

ｍ．ｐ．　１６４〜１６７、５°Ｃ （２）上記（１）の生成物１．０ｇのテトラヒドロフラ
ン１０ｍ溶液に、カルボニルジイミダゾール０。

９１ｇを少量ずつ加え、室温で１時間攪拌する。

更に、ピペリジン１．９１ｇのテトラヒドロフラン３ｄ
溶液を加え、室温で１時間攪拌する。溶媒を留去し、酢
酸エチルを加えた後、水及び食塩水で洗浄し、乾燥後、
溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー〔溶媒：クロロホルムー酢酸エチル（２０：１）
）で精製して、Ｎ−　（３−（２−フェニル−７−ベン
ゾオキサゾリル）プロピオニル］ピペリジン１．２１ｇ
をカラメルとして得る。

（３）水素化リチウムアルミニウム０．３９ｇのテトラ
ヒドロフラン５ｄ懸濁液に、水冷下、上記（２）の生成
物１．１５ｇのテトラヒドロフラン１５ｄ溶液を滴下す
る。同温度で１．５時間攪拌後、水及び１５％水酸化ナ
トリウム水溶液を加え、不溶物をろ去する。溶媒を留去
した後、残渣を酢酸エチルに溶解し、水及び食塩水で洗
浄、乾燥する。

溶媒を留去し、得られた油状物を塩酸塩としたのち、エ
タノール−ジエチルエーテルから再結晶して、２−フェ
ニル−７−（３−ピペリジノプロピル）ベンゾオキサゾ
ール・塩酸塩１．１４ｇを得る。

鵬、ｐ、　２３７〜２４０°Ｃ（分解）実施例　７２ ２−　（４−ベンジルオキシフェニル）−７−ピペリジ
ノメチルベンゾオキサゾール３．２０ｇ、１０％パラジ
ウム−炭素０．６ｇ及びテトラヒドロフラン−エタノー
ル（１：２）混液９０−の混合物を常圧の水素下で、攪
拌する。触媒をろ去し、溶媒を留去後、塩酸塩とする。

エタノールから再結晶して、２−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−７−ピペリジノメチルベンゾオキサゾール・塩
酸塩２．４４ｇを得る。

ｍ、ｐ、　２８４〜２８６℃ 実施例　７３ ２−　（４−ニトロフェニル）−７−ピペリジノメチル
ベンゾオキサゾール２．７０ｇ、１０％パラジウム−炭
素０．５ｇ、テトラヒドロフラン６〇−及びメタノール
６０ｍ１！の混合物を、常圧の水素下で、３０分間攪拌
する。触媒をろ去した後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶して、２−（４−アミノフェ
ニル）−７ピペリジノメチルベンゾオキサゾール２．３
ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１４４．５〜１４７°Ｃ 実施例　７４ ２−（４−アミノフェニル）−７−ピペリジノメチルベ
ンゾオキサゾール１．２５ｇ、無水酢酸１０ｄ及びクロ
ロホルム１０ｄの混合物を、室温で３時間攪拌する。溶
媒及び無水酢酸を留去した後、残渣に酢酸エチル及び飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。酢酸エチル層を
食塩水で洗浄した後、乾燥する。溶媒を留去した後、得
られた固型物を塩酸塩とし、メタノールから再結晶して
、２−（４−アセチルアミノフェニル）−７−ピペリジ
ノメチルベンゾオキサゾール・塩酸塩１゜１２ｇを得る
。

ｍ、ｐ、　２８３〜２Ｂ４　、５°Ｃ（分解）実施例　
７５ ５−ニトロ−２−フェニル−７−ピペリジノメチルベン
ゾオキサゾール２．４７ｇ、塩化第一スズ・２水和物８
．２６ｇ及び−１−タンール１５０ｄの混合物を２時間
還流する。反応液に水を加え、１０％水酸化ナトリウム
水溶液でアルカリ性とした後、酢酸エチル抽出する。抽
出液を食塩水で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去する。残渣
を酢酸エチル−へキサンから再結晶して、５−アミノ−
２−フェニル−７−ピペリジノメチルベンゾオキサゾー
ル１．９３ｇを得る。

瓢、ｐ、　１３３．５〜１３４．５℃ 実施例　７６ ５−アミノ−２−フェニル−７−ピペリジノメチルベン
ゾオキサゾール０．７２ｇに無水酢酸５ｄを加え、室温
で１０分間攪拌する。反応液にヘキサン−イソプロピル
エーテルを加えて、析出具をろ取した後、酢酸エチルに
溶解する。塩酸−ジエチルエーテルを加えて塩酸塩とし
、エタノール−ジエチルエーテルから再結晶して、５−
アセチルアミノ−２−フェニル−７−ピペリジノメチル
ベンゾオキサゾール・塩酸塩Ｑ−４８ｇを得る。

ｍ、　ｐ、　　２８１〜２Ｂ２．５　　°Ｃ〔原料化合
物の調製〕 参考例　１ （１）３−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸メチルエス
テル８．６０ｇ及びジメチルアニリンのテトラヒドロフ
ラン溶液に、氷冷下、ｐ−クロロ安息香酸クロリドのテ
トラヒドロフラン溶液を滴下し、同温度で攪拌する。反
応液を酢酸エチル抽出し、抽出液を洗浄、乾燥する。溶
媒を留去した後、酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して
、３−（４−クロロベンゾイルアミノ）−２−ヒドロキ
シ安息香酸メチルエステル１４．１５ｇを得る。

腫、ｐ、　１３９〜１４１°Ｃ （２）上記（１）の生成物１３．５ｇ及びチオニルクロ
リドの混合物にジメチルホルムアミドを数滴加え、還流
する。チオニルクロリドを留去した後、酢酸エチル抽出
し、抽出液を洗浄、乾燥する。溶媒を留去した後、テト
ラヒドロフラン−ヘキサンから再結晶して、２−（４−
クロロフェニル）ヘンジオキサジ−ルーフ−カルボン酸
メチルエステル１０．１３ｇを得る。

ｍ、ｐ、１４１〜１４４　　°Ｃ （３）水素化リチウムアルミニウムのテトラヒドロフラ
ン溶液に、水冷下、上記（２）の生成物１７．０ｇのテ
トラヒドロフラン溶液を滴下し、同温度で攪拌する。反
応液に水、１５％水酸化ナトリウム水溶液及び水を順次
加え、不溶物をろ去した後、溶媒を留去し、洗浄後、テ
トラヒドロフラン−ヘキサンから再結晶して、２−（４
−クロロフェニル）−７−ベンゾオキサゾールメタノー
ル１３゜２２ｇを得る。

顧、ｐ、　１３５〜１３８°Ｃ 参考例　２ （１）３−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸メチルエス
テルと２−ナフトイルクロリドとを参考例１（１）と同
様に処理して、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトイル
アミノ）安息香酸メチルエステルを得る。

ｍ、ｐ、　　１２４〜１２５　　°Ｃ（酢酸エチル−ヘ
キサン）（２）上記（１）の生成物６．５３ｇ及びポリ
リン酸トリメチルシリルエステル（ＰＰＳＥ）溶液〔五
酸化リン、ヘキサメチルジシロキサン及び１，２−ジク
ロロベンゼンの混合物を、アルゴン下で還流して調製〕
の混合物を、アルゴン下、１５０°Ｃで攪拌する。冷却
後、反応液を酢酸エチル抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後
、溶媒を留去し、メタノールから再結晶して、２−（２
−ナフチル）ベンゾオキサゾール−７−カルボン酸メチ
ルエステル５４６ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１０５〜１０８°Ｃ （３）上記（２）の生成物を参考例１−（３）と同様に
処理して、２−（２−ナフチル）−７−ベンゾオキサゾ
ールメタノールを得る。

鵬、ｐ、　　１６８〜１６９　°Ｃ（酢酸エチル）参考
例　３ （１）３−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸メチルエス
テルとｐ−ジメチルアミノ安息香酸クロリドとを参考例
１−（］）と同様に処理して、３−（４−ジメチルアミ
ノベンゾイルアミノ）−２−ヒドロキシ安息香酸メチル
エステルを得る。

ｍ、ｐ、　　１６２〜１６５　　°Ｃ（テトラヒＦ［ラ
ン−へ＃９ン）（２）上記（１）の生成物５．１１ｇ、
ピリジニウムリトルエンスルホネート及びキシレンの混
合物を還流し、冷却後、酢酸エチル及びテトラヒドロフ
ランを加え、混合液を洗浄、乾燥する。溶媒を留去した
後、テトラヒドロフラン−ヘキサンから再結晶して、２
−（４−ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール
−７−カルボン酸メチルエステル２．９４ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１４２〜１４４°Ｃ （３）上記（２）の生成物を参考例１−（３）と同様に
処理して、２−（４−ジメチルアミノフェニル）−７ペ
ンゾオキサゾールメタノールを得る。

ｍ、ｐ、　　２０３〜２０４．５　　℃　（テトラヒト
Ｕフランーヘキサン）参考例　４ （１）３−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸メチルエス
テル５．３０ｇ、４−メトキシ−１−ナフトアルデヒド
及びトルエンの混合物を還流する。溶媒を留去した後、
得られた結晶を洗浄して、２−ヒドロキシ−３−（４−
メトクキ−１−ナフチルメチレンアミノ）安息香酸メチ
ルエステル８．７７ｇを得る。

■、ｐ、　１６６〜１７０℃ （２）上記（１）の生成物８．７７ｇ、二酸化マンガン
及び塩化メチレンの混合物を、室温で攪拌した後、不溶
物をろ去し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラム
で精製後、酢酸エチルから再結晶して、２−（４−メト
キシ−１−ナフチル）ベンゾオキサゾール−７−カルボ
ン酸メチルエステル４７６ｇを得る。

鋤、ｐ、　１７０〜１７１．５°Ｃ （３）上記（２）の生成物を参考例１−（３）と同様に
処理して、２−（４−メトキシ−１−ナフチル）−７−
ベンゾオキサゾールメタノールを得る。

閣、ｐ、　　１５０〜１５１．５　　°Ｃ（酢酸エチル
−ヘキサン）参考例　５ （１）２−アミノベンゾチアゾール−７−カルボン酸エ
チルエステル２２．２３ｇの８５％リン酸溶液に、−１
０°Ｃで、亜硝酸ナトリウム水溶液を滴下し、攪拌する
。反応液に硫酸銅・５水和物及び臭化ナトリウム水溶液
を０°Ｃ以下で滴下した後、室温で攪拌する。氷水中に
注ぎ、クロロホルム抽出した後、溶媒を留去し、得られ
る結晶を洗浄して、２−ブロモベンゾチアゾール−７−
カルポン酸エチルエステル１９．１ｇを得る。

閣、Ｌ　　８４　〜８７°Ｃ （２）上記（１）の生成物７．１５ｇ、トリ（ｎ−ブチ
ル）（４−メトキシフェニル）ズズ、ジクロロジ（トリ
フェニルホスフィノ）パラジウム、塩化亜鉛及びジオキ
サンの混合物を、アルゴン下で還流する。冷却後、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液及びフッ化カリウム水溶液を
加え、室温で攪拌した後、不溶物をろ去し、テトラヒド
ロフラン−酢酸エチル（１：　１）で抽出する。溶媒を
留去した後、シリカゲルカラムで精製し、酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶して、２−（４−メトキシフェニル
）ベンゾチアゾール−７−カルボン酸エチルエステル５
．９０ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１２６〜１２７℃ （３）上記（２）の生成物を参考例１−（３）と同様に
処理して、２−（４−メトキシフェニル）−７−ベンゾ
チアゾールメタノールを得る。

ｍ、ｐ、　　１３７〜１３９　　℃　　（酢西変エチル
ーヘキサン）参考例　６ （１）３−アミノ−２−ヒドロキシ安息香酸メチルエス
テルと安息香酸クロリドとを参考例１−（１）と同様に
処理して、３−ベンゾイルアミノ−２−ヒドロキシ安息
香酸メチルエステルを得る。

ａ＋、ｐ、　　１００〜１０３　°Ｃ（酢酸エチ１トヘ
材ン）（２）上記（１）の生成物７．８４ｇの酢酸溶液
に、水冷下、６９％硝酸を滴下し、室温で攪拌する。反
応液を氷水中に注ぎ、析出品をろ取して洗浄後、テトラ
ヒドロフラン−メタノールから再結晶して、３−ベンゾ
イルアミノ−２−ヒドロキシ−５ニトロ安息香酸メチル
エステル７．９３ｇを得る。

１１、ｐ、　１９８．５〜２００．５°Ｃ（３）上記（
２）の生成物７．９３ｇ及びＰＰ５Ｅ溶液の混合物を１
５０°Ｃで攪拌する。冷却後、析出晶をろ取し、洗浄し
て、５−ニトロ−２−フェニルベンゾオキサゾール−７
−カルボン酸メチルエステルを得る。

ｍ、ｐ、１９３〜１９４　°Ｃ （４）上記（３）の生成物を参考例１−（３）と同様に
処理して、５−ニトロ−２−フェニル−７−ベンゾオキ
サゾールメタノールを得る。

ｍ、ｐ、　　１７２〜１７５　°Ｃ（テトラヒドロフラ
ン−ヘキサン）参考例　７〜３５ （１）対応原料化合物を参考例１〜６と同様に処理して
、下記第８表及び第９表記載の化合物を得る。

第８表 （但し、Ｙは、参考例２９ではイミノ基を表し、他の場
合は酸素原子を表す。） 第９表 参考例　３６ （１）２−アミノ−６−メチルフェノール・塩酸塩２．
０８ｇ及びジメチルアニリン５．２７ｇのテトラヒドロ
フラン５０ｄ懸濁液を氷冷し、４−クロロベンゾイルク
ロリド２．５０ｇのテトラヒドロフラン１０ｄ溶液を滴
下する。１時間攪拌後、水を加えて、酢酸エチル抽出し
、酢酸エチル層を洗浄、乾燥する。溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、２−（４−ク
ロロベンゾイルアミノ）−６−メチルフェノール２゜８
３ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１８３〜１８５°Ｃ （２）上記（１）の生成物１．３１ｇ、ｐ−トルエンス
ルホン酸・１水和物０．１ｇ及びキシレン１５１１ｆ！
の混合物を２時間還流する。酢酸エチルを加え、炭酸水
素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄、乾燥する。溶媒
を留去し、残渣をイソプロピルエーテル−ヘキサンから
再結晶して、７−メチル−２−（４−クロロフェニル）
ベンゾオキサゾール１０５ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１３３−１３５°Ｃ 参考例　３７ （１）３−ベンゾイルアミノ−２−ヒドロキシ安息香酸
メチルエステルを参考例１−（２）と同様に処理して、
２−フェニルベンゾオキサゾール−７−カルボン酸メチ
ルエステルを得る。

ｍ、ｐ、　７８〜８１°Ｃ （２）上記（１）の生成物２．４８ｇのジオキサン２〇
−溶液を５０°Ｃに加温し、ＩＮ水酸化ナトリウム４０
−を加えて５分間攪拌する。冷却後、１０％塩酸及び水
を加えて、析出物をろ取、乾燥し、テトラヒドロフラン
−ヘキサンから再結晶して、２−フェニルベンゾオキサ
ゾール−７−カルポン酸２．１３ｇを得る。

■、１）、　２１９〜２２３°Ｃ 参考例　３８ （１）９６％硫酸及び６９％硝酸の混合物に、水冷下、
２−フェニル−７−ペンゾオキサゾールメタノール４．
５０ｇを加え、０〜５°Ｃで攪拌する。

反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチル抽出した後、溶媒を
留去する。残渣に、メタノール、テトラヒドロフラン及
び１０％水酸化ナトリウム水溶液を加え、攪拌した後、
トルエン抽出する。溶媒を留去した後、酢酸エチル−ヘ
キサンから再結晶して、６−ニトロ−２−フェニルベン
ゾオキサゾール−７−カルボアルデヒド３．４５ｇを得
る。

請、ｐ、　１７３〜１７４°Ｃ （２）上記（１）の生成物１．３９ｇのテトラヒドロフ
ラン溶液に、−２０°Ｃで、水素化リチウムアルミニウ
ムを少量ずつ加える。反応液を酢酸エチル抽出し、抽出
液を洗浄、乾燥する。溶媒を留去した後、得られた結晶
を洗浄して、６−ニトロ−２−フェニル−７−ベンゾオ
キサゾールメタノール１０５ｇを得る。

ｍ、ｐ、　１５４〜１５８℃ 参考例　３９ （１）２−フェニル−７−ペンゾオキサゾールメタノー
ル４．０ｇ、二酸化マンガン及び塩化メチレンの混合物
を、室温で攪拌後、還流する。不溶物をろ去した後、溶
媒を留去し、得られた結晶をイソプロピルエーテルから
再結晶して、２−フェニルベンゾオキサゾール−７−カ
ルボアルデヒド２９７ｇを得る。

ｍ、ｐ、　　１０６〜１０８　°Ｃ （２）上記（１）の生成物２．３０ｇのテトラヒドロフ
ラン溶液に、−５０°Ｃでメチルマグネシウムプロミド
のテトラヒドロフラン溶液を加え、同温度で、次いで一
２０°Ｃ付近で撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え、酢酸エチル抽出する。

抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムで精製した後、イソプロピルエーテル−ヘキ
サンから再結晶して、１−（２−フェニル−７−ベンゾ
オキサゾリル）エタノール２３０ｇを得る。

ｍ、ｐ、　９７．５〜９９．５°Ｃ 〔発明の効果〕 かくして得られた本発明の目的物（１）又はその薬理的
に許容し得る塩は、上述の如く、反射性の排尿収縮を抑
制し、優れた排尿間隔延長効果を奏するため、膀胱並び
に尿管等の尿路系収縮機能に関する疾患、例えば、頻尿
、夜尿症、神経因性膀胱等の治療・予防に使用すること
ができる。特に、本発明の目的物（１）又はその薬理的
に許容し得る塩は、膀胱の収縮力を低下させることなく
、上記の如き効果を奏するという特長を有する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は置換もしくは非置換アリール基、フェ
   ニル−低級アルキル基又は含窒素、含酸素もしくは含硫
   ５〜６員複素環式基、Ｒ＾２及びＲ＾３は水素原子、低
   級アルキル基、置換もしくは非置換フェニル−低級アル
   キル基、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基である
   か、又は互いに末端で結合し隣接する窒素原子と共に置
   換もしくは非置換含窒素５〜９員複素環式基を形成し、
   Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
   、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基又は低級アルカノ
   イルアミノ基、Ｒ＾５は水素原子又は低級アルキル基、
   Ｙは酸素原子、硫黄原子又はイミノ基、ｎは０〜２を表
   す。） で示されるベンズアゾール誘導体又はその薬理的に許容
   し得る塩。 ２、Ｒ＾１がフェニル基、ナフチル基、フェニル低級ア
   ルキル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ベンゾ
   フリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基又はイソキノ
   リル基（当該フェニル基及びナフチル基は、ハロゲン原
   子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル−低
   級アルコキシ基、水酸基、ジ低級アルキルアミノ基、ニ
   トロ基、アミノ基、低級アルカノイルアミノ基、トリハ
   ロメチル基及び低級アルキレンジオキシ基から選ばれる
   １〜３個の置換基を有してもよい。）であり、Ｒ＾２及
   びＲ＾３が水素原子、低級アルキル基、フェニル−低級
   アルキル基、低級アルコキシ基置換フェニル−低級アル
   キル基、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基である
   か、又は互いに末端で結合し、隣接する窒素原子と共に
   ピロリジル基、ピペリジノ基、ホモピペリジノ基、アザ
   シクロオクチル基、アザビシクロノニル基、モルホリノ
   基、ピペラジニル基及びイミダゾリル基から選ばれる含
   窒素５〜９員複素環式基（当該含窒素５〜９員複素環式
   基は、低級アルキル基、水酸基及びフェニル基から選ば
   れる１〜３個の置換基を有してもよい。）を形成する請
   求項１記載の化合物。 ３、Ｒ＾１がハロゲン原子、低級アルコキシ基もしくは
   低級アルキレンジオキシ基から選ばれる置換基を有して
   もよいフェニル基であるか、又は低級アルコキシ基を置
   換基として有してもよいナフチル基であり、Ｒ＾２及び
   Ｒ＾３が低級アルキル基であるか、又は互いに末端で結
   合し、隣接する窒素原子と共にピペリジノ基、ホモピペ
   リジノ基もしくはモルホリノ基（これらピペリジノ基、
   ホモピペリジノ基もしくはモルホリノ基は、低級アルキ
   ル基を置換基として有してもよい。）を形成し、Ｒ＾４
   が水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハ
   ロゲン原子であり、Ｒ＾５が水素原子であり、Ｙが酸素
   原子であり、ｎ＝０である請求項２記載の化合物。 ４、Ｒ＾１が低級アルコキシ−フェニル基であり、Ｒ＾
   ２及びＲ＾３が互いに末端で結合し、隣接する窒素原子
   と共にピペリジノ基もしくはモルホリノ基を形成し、Ｒ
   ＾４が水素原子又は低級アルコキシ基である請求項３記
   載の化合物。 ５、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は置換もしくは非置換アリール基、フェ
   ニル−低級アルキル基又は含窒素、含酸素もしくは含硫
   ５〜６員複素環式基、Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル
   基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
   ノ基又は低級アルカノイルアミノ基、Ｒ＾５は水素原子
   又は低級アルキル基、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はイミ
   ノ基、ｎは０〜２、Ｘ＾１は反応性残基を表す。） で示される化合物又はその塩と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２及びＲ＾３は水素原子、低級アルキル基
   、置換もしくは非置換フェニル−低級アルキル基、ジ低
   級アルキルアミノ−低級アルキル基であるか、又は互い
   に末端で結合し、隣接する窒素原子と共に置換もしくは
   非置換含窒素５〜９員複素環式基を形成する。） で示されるアミン化合物又はその塩とを縮合反応させ、
   所望により、生成物をその薬理的に許容し得る塩とする
   ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
   ベンズアゾール誘導体又はその薬理的に許容し得る塩の
   製法。 ６、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は置換もしくは非置換アリール基、フェ
   ニル−低級アルキル基又は含窒素、含酸素もしくは含硫
   ５〜６員複素環式基、Ｒ＾２及びＲ＾３は水素原子、低
   級アルキル基、置換もしくは非置換フェニル−低級アル
   キル基、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基である
   か、又は互いに末端で結合し隣接する窒素原子と共に置
   換もしくは非置換含窒素５〜９員複素環式基を形成し、
   Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
   、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基又は低級アルカノ
   イルアミノ基、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はイミノ基、
   ｎは０〜２を表す。） で示されるアミド化合物又はその塩を還元し、所望によ
   り、生成物をその薬理的に許容し得る塩とすることを特
   徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
   ベンズアゾール誘導体又はその薬理的に許容し得る塩の
   製法。 ７、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は置換もしくは非置換アリール基、フェ
   ニル−低級アルキル基又は含窒素、含酸素もしくは含硫
   ５〜６員複素環式基、Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル
   基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
   ノ基又は低級アルカノイルアミノ基、Ｒ＾５は水素原子
   又は低級アルキル基、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はイミ
   ノ基、ｎは０〜２、Ｘ＾１は反応性残基を表す。） で示される化合物又はその塩。 ８、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は置換もしくは非置換アリール基、フェ
   ニル−低級アルキル基又は含窒素、含酸素もしくは含硫
   ５〜６員複素環式基、Ｒ＾２及びＲ＾３は水素原子、低
   級アルキル基、置換もしくは非置換フェニル−低級アル
   キル基、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基である
   か、又は互いに末端で結合し隣接する窒素原子と共に置
   換もしくは非置換含窒素５〜９員複素環式基を形成し、
   Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
   、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基又は低級アルカノ
   イルアミノ基、Ｙは酸素原子、硫黄原子又はイミノ基、
   ｎは０〜２を表す。） で示されるアミド化合物又はその塩。