JPH03148245A - 非対称2,2―ビスアリールヘキサフルオロプロパンおよびその製造法 - Google Patents
非対称2,2―ビスアリールヘキサフルオロプロパンおよびその製造法Info
- Publication number
- JPH03148245A JPH03148245A JP30970489A JP30970489A JPH03148245A JP H03148245 A JPH03148245 A JP H03148245A JP 30970489 A JP30970489 A JP 30970489A JP 30970489 A JP30970489 A JP 30970489A JP H03148245 A JPH03148245 A JP H03148245A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- bisarylhexafluoropropane
- asymmetric
- carboxyl
- same
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyamides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテ
ルなどの樹脂の原料モノマーまたはその中間体として有
用な非対称2.2−ビスアリールヘキサフルオロプロパ
ンおよびそれらの製造法に関する。
ルなどの樹脂の原料モノマーまたはその中間体として有
用な非対称2.2−ビスアリールヘキサフルオロプロパ
ンおよびそれらの製造法に関する。
[従来の技術と解決しようとする課題]従来、非対称型
の2.2−ジアリールへキサフルオロプロパンおよびそ
の製造法としてはPCT出願公開明細書W O8210
2380号に示される置換基を有する非対称ジフェノー
ルがあり、(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2−プロ
ピル)フェノール類と置換フェノールを有機スルホン酸
の存在下に脱水縮合させて非対称ジフェノールを得てい
る。一方対称型の2.2−ジアリールへキサフルオロプ
ロパンの例としては、4−(2−ヒドロキシへキサフル
オロ−2−プロピル)トルエンとトルエンをHFの存在
下に反応させて2.2−ビス(4−トリル)へキサフル
オロプロパンを得る方法がIzv、Akad、Nauk
5SSR,Ser、Khim、1967(3)、61
4に示されている。
の2.2−ジアリールへキサフルオロプロパンおよびそ
の製造法としてはPCT出願公開明細書W O8210
2380号に示される置換基を有する非対称ジフェノー
ルがあり、(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2−プロ
ピル)フェノール類と置換フェノールを有機スルホン酸
の存在下に脱水縮合させて非対称ジフェノールを得てい
る。一方対称型の2.2−ジアリールへキサフルオロプ
ロパンの例としては、4−(2−ヒドロキシへキサフル
オロ−2−プロピル)トルエンとトルエンをHFの存在
下に反応させて2.2−ビス(4−トリル)へキサフル
オロプロパンを得る方法がIzv、Akad、Nauk
5SSR,Ser、Khim、1967(3)、61
4に示されている。
これら公知の方法においては(2−ヒドロキシヘキサフ
ルオロ−2−ピロピル)芳香族化合物と他の芳香族化合
物をHFあるいは有機スルホン酸の存在下に脱水縮合さ
せて2.2−ジアリールへキサフルオロプロパンを得る
ものであるが、非対称な化合物としては、反応性の高い
フェノールどうしの組合せで得られるジフェノール類が
知られているのみであった。
ルオロ−2−ピロピル)芳香族化合物と他の芳香族化合
物をHFあるいは有機スルホン酸の存在下に脱水縮合さ
せて2.2−ジアリールへキサフルオロプロパンを得る
ものであるが、非対称な化合物としては、反応性の高い
フェノールどうしの組合せで得られるジフェノール類が
知られているのみであった。
また、従来、トルエンあるいはキシレンとへキサフルオ
ロアセトンをHFの存在下に反応させ、2.2−ビス(
4−メチルフェニル)へキサフルオロプロパンあるいは
2.2−ビス(3,4−ジメチルフヱニル)へキサフル
オロプロパンを得、さらに側鎖を酸化して対応するジカ
ルボン酸あるいはテトラカルボン酸を得ることは公知で
あり[Zh、Vses、Khim、0bschestv
a im、D、1.Mendeleeva 11(
4)、469(1966)]、これらの多価カルボン酸
は、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の原料と
して有用な七ツマ−である。
ロアセトンをHFの存在下に反応させ、2.2−ビス(
4−メチルフェニル)へキサフルオロプロパンあるいは
2.2−ビス(3,4−ジメチルフヱニル)へキサフル
オロプロパンを得、さらに側鎖を酸化して対応するジカ
ルボン酸あるいはテトラカルボン酸を得ることは公知で
あり[Zh、Vses、Khim、0bschestv
a im、D、1.Mendeleeva 11(
4)、469(1966)]、これらの多価カルボン酸
は、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の原料と
して有用な七ツマ−である。
他方、トリカルボン酸はポリアミドイミドのモノマーな
どとして有用であるにもかかわらず、トリメリット酸以
外のトリカルボン酸、特にヘキサフルオロプロパン等の
連結基により連結される芳香族二環性トリカルボン酸は
、従来公知でなかった。
どとして有用であるにもかかわらず、トリメリット酸以
外のトリカルボン酸、特にヘキサフルオロプロパン等の
連結基により連結される芳香族二環性トリカルボン酸は
、従来公知でなかった。
[問題点を解決するための具体的手段]本発明者らは、
ジフェノール以外の有用な非対称2,2−ビスアリール
ヘキサフルオロプロパンの台底について鋭意検討の結果
、2−アリールヘキサフルオロ−2−プロパツールと芳
香族化合物をHFの存在下に縮合させることにより目的
とする非対称2,2−ビスアリールヘキサフルオロプロ
パンを得ることができ、本発明に到達した。
ジフェノール以外の有用な非対称2,2−ビスアリール
ヘキサフルオロプロパンの台底について鋭意検討の結果
、2−アリールヘキサフルオロ−2−プロパツールと芳
香族化合物をHFの存在下に縮合させることにより目的
とする非対称2,2−ビスアリールヘキサフルオロプロ
パンを得ることができ、本発明に到達した。
すなわち本発明は、−紋穴
(XI、X2、Xa、X5は水素、低級アルキル基、ハ
ロゲン、カルボキシル基、水酸基を表わし、x3は低級
アルキル基、フッ素、カルボキシル基、水酸基を表わす
。Y1〜Y、は水素、低級アルキル基、ハロゲン、低級
ハロアルキル基、カルボキシル基、水酸基、アミド基を
表わし、Y1〜Y、の少なくとも1つはX1〜X5と同
一ではなく、Y1〜Y、の少なくとも1つが水酸基の場
合、X1〜X、は水酸基ではない。
ロゲン、カルボキシル基、水酸基を表わし、x3は低級
アルキル基、フッ素、カルボキシル基、水酸基を表わす
。Y1〜Y、は水素、低級アルキル基、ハロゲン、低級
ハロアルキル基、カルボキシル基、水酸基、アミド基を
表わし、Y1〜Y、の少なくとも1つはX1〜X5と同
一ではなく、Y1〜Y、の少なくとも1つが水酸基の場
合、X1〜X、は水酸基ではない。
で示される非対称2.2−ビスアリールヘキサフルオロ
プロパンおよびその誘導体とその製造法である。
プロパンおよびその誘導体とその製造法である。
−a弐[+1で示される化合物のうちX1〜X5、Yl
〜YSがカルボキシル基でない場合には本化合物は一般
式 %式% (X t〜X5は前記と同じ、ただし、カルボキシル基
ではない、)で示される2−アリールヘキサフルオロ−
2−プロパツールと一般式(Y1〜Y5は前記と同し、
ただし、カルボキシル基ではない、)で示される芳香族
化合物をHFの存在下に脱水縮合することにより得られ
る。
〜YSがカルボキシル基でない場合には本化合物は一般
式 %式% (X t〜X5は前記と同じ、ただし、カルボキシル基
ではない、)で示される2−アリールヘキサフルオロ−
2−プロパツールと一般式(Y1〜Y5は前記と同し、
ただし、カルボキシル基ではない、)で示される芳香族
化合物をHFの存在下に脱水縮合することにより得られ
る。
また、−紋穴[1コにおいてxI−x6、Y1〜Y8の
うち少なくとも1つがカルボキシル基である化合物のば
あいには、そのカルボキシル基の位置の置換基がメチル
基である化合物を過マンガン酸カリウム−硫酸、硝酸に
より酸化するか、またはコバルト塩−マンガン塩のうち
少なくともtatiの化合物の存在下分子状酸素により
酸化することにより得ることができる。
うち少なくとも1つがカルボキシル基である化合物のば
あいには、そのカルボキシル基の位置の置換基がメチル
基である化合物を過マンガン酸カリウム−硫酸、硝酸に
より酸化するか、またはコバルト塩−マンガン塩のうち
少なくともtatiの化合物の存在下分子状酸素により
酸化することにより得ることができる。
本発明はこのようにして得られるカルボキシル基含有の
化合物のうち隣り合う位置にカルボキシル基を有する化
合物を脱水閉環して得られる一般式 (X:〜Xシ、Y:〜Y;はそれぞれ前記X1〜xs、
yt−sと同じ、ただし少なくとも1カ所の隣り合う2
つのカルボキシル基が脱水閉環したものである。)で示
される非対称2,2−ビスアリールヘキサフルオロプロ
パンも提供するものであり、隣り合うカルボキシル基を
有する一般式[1]の化合物を加熱または脱水剤により
脱水閉環することにより得られる。
化合物のうち隣り合う位置にカルボキシル基を有する化
合物を脱水閉環して得られる一般式 (X:〜Xシ、Y:〜Y;はそれぞれ前記X1〜xs、
yt−sと同じ、ただし少なくとも1カ所の隣り合う2
つのカルボキシル基が脱水閉環したものである。)で示
される非対称2,2−ビスアリールヘキサフルオロプロ
パンも提供するものであり、隣り合うカルボキシル基を
有する一般式[1]の化合物を加熱または脱水剤により
脱水閉環することにより得られる。
本発明において一般式[■1で示される2−アリールへ
キサフルオロ−2−プロパツールとしては具体的にはア
リール基として4−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル、4−ヒドロキシ−3,
5−ジクロル、3.4−ジメチルフェニル、4−メチル
フェニル、4−フルオロフェニル、3.4−ジフルオロ
フェニル等を例示することができ、これらと反応させる
芳香族化合物[1]としてはフェノール、クレゾール、
ハロゲノフェノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、
フルオロベンゼン、クロルベンゼン、ペンゾトリフルオ
リド、アセトアニリド、ベンゾイルアニリド等を例示す
ることができる。
キサフルオロ−2−プロパツールとしては具体的にはア
リール基として4−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル、4−ヒドロキシ−3,
5−ジクロル、3.4−ジメチルフェニル、4−メチル
フェニル、4−フルオロフェニル、3.4−ジフルオロ
フェニル等を例示することができ、これらと反応させる
芳香族化合物[1]としてはフェノール、クレゾール、
ハロゲノフェノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、
フルオロベンゼン、クロルベンゼン、ペンゾトリフルオ
リド、アセトアニリド、ベンゾイルアニリド等を例示す
ることができる。
縮合反応の条件として、2−了り−ルへキサフルオロ−
2−プロパツール[1のベンゼン環上に水酸基が置換さ
れる場合、HFの使用量としては5〜20倍モル、芳香
族化合物[[11]の鼠は1−1.5倍モル、反応温度
としては70〜150°Cの範囲が好ましい、ベンゼン
環上にアルキル基が置換されている場合、HFの使用量
としては10〜100倍モル、芳香族[+111の量は
1〜2倍モル、反応温度としては50〜150°Cが好
ましい。
2−プロパツール[1のベンゼン環上に水酸基が置換さ
れる場合、HFの使用量としては5〜20倍モル、芳香
族化合物[[11]の鼠は1−1.5倍モル、反応温度
としては70〜150°Cの範囲が好ましい、ベンゼン
環上にアルキル基が置換されている場合、HFの使用量
としては10〜100倍モル、芳香族[+111の量は
1〜2倍モル、反応温度としては50〜150°Cが好
ましい。
また、ベンゼン環上にフッ素原子が置換されている場合
には、HFの使用量としては30〜100倍モル、芳香
族化合物の量としては1〜10倍モル、反応温度として
は100〜200°Cの範囲が好ましい。
には、HFの使用量としては30〜100倍モル、芳香
族化合物の量としては1〜10倍モル、反応温度として
は100〜200°Cの範囲が好ましい。
本発明の化合物のうちトリカルボン酸について以下、具
体的に説明する。
体的に説明する。
本明者らは、(2−ヒドロキシヘキサフルオロ2−プロ
ピル)芳香族化合物と他の芳香族化合物をHFの存在下
に縮合させるとき、ある種の組合せにおいては、非対称
2.2−ビスアリールヘキサフルオロプロパンが容易に
合成できることを見い出したものである。
ピル)芳香族化合物と他の芳香族化合物をHFの存在下
に縮合させるとき、ある種の組合せにおいては、非対称
2.2−ビスアリールヘキサフルオロプロパンが容易に
合成できることを見い出したものである。
°具体的には、その合成中間体ともなる2=(4メチル
フエニル)−2−(3,4−ジメチルフェニル〉へキサ
フルオロプロパン■ および2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3,4
−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロプロパン■ さらにこれを脱水閉環した2−(4−カルボキシフェニ
ル)−2−(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフ
ルオロプロパン無水物■ である。
フエニル)−2−(3,4−ジメチルフェニル〉へキサ
フルオロプロパン■ および2−(4−カルボキシフェニル)−2−(3,4
−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロプロパン■ さらにこれを脱水閉環した2−(4−カルボキシフェニ
ル)−2−(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフ
ルオロプロパン無水物■ である。
化合物■の製造は4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ
−2−プロピル)−1,2−キシレンとトルエンをHF
の存在下に反応させるかあるいは4−(2ヒドロキシへ
キサフルオロ−2−プロピル)トルエンとキシレンをH
Fの存在下に反応させることにより得られるが、4−(
2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2−プロピル)−1,
2−キシレンとトルエンあるいは4−(2−ヒドロキシ
へキサフルオロ−2−プロビル)トルエンとキシレンの
仕込みモル比は、原料の安価なトルエンまたはキシレン
を0.5〜20モル%程度過剰に設定するのが好ましく
、20モル%より高い場合は未反応のトルエンが多く残
存するため好ましくなく、一方0.5モル%より低い場
合は、高価な4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2
−プロピル)トルエンが未反応で残存するため好ましく
ない。
−2−プロピル)−1,2−キシレンとトルエンをHF
の存在下に反応させるかあるいは4−(2ヒドロキシへ
キサフルオロ−2−プロピル)トルエンとキシレンをH
Fの存在下に反応させることにより得られるが、4−(
2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2−プロピル)−1,
2−キシレンとトルエンあるいは4−(2−ヒドロキシ
へキサフルオロ−2−プロビル)トルエンとキシレンの
仕込みモル比は、原料の安価なトルエンまたはキシレン
を0.5〜20モル%程度過剰に設定するのが好ましく
、20モル%より高い場合は未反応のトルエンが多く残
存するため好ましくなく、一方0.5モル%より低い場
合は、高価な4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2
−プロピル)トルエンが未反応で残存するため好ましく
ない。
HFの使用量は4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−
2−プロピル)−1,2−キシレンまたは4−(2−ヒ
ドロキシへキサフルオロ−2−プロピル)トルエンに対
して10〜100倍モル量、好ましくは30〜70倍モ
ル量であり、一方反応温度は50〜200°C1好まし
くは80〜120°Cの範囲である。HFの使用量が1
0倍モル量よりも少ない場合は反応が迅速に進行せず、
一方100倍モル量よりも多い場合は反応の促進効果は
殆ど変わらず、多量のHFを使用するため経済的に不利
である。また反応温度が50°Cより低い場合はやはり
反応が迅速に進行せず、一方温度が200°Cより高い
場合は反応時の圧力が高くなるため装置等が高価になり
、さらに生成物が分解しやすくなるため好ましくない。
2−プロピル)−1,2−キシレンまたは4−(2−ヒ
ドロキシへキサフルオロ−2−プロピル)トルエンに対
して10〜100倍モル量、好ましくは30〜70倍モ
ル量であり、一方反応温度は50〜200°C1好まし
くは80〜120°Cの範囲である。HFの使用量が1
0倍モル量よりも少ない場合は反応が迅速に進行せず、
一方100倍モル量よりも多い場合は反応の促進効果は
殆ど変わらず、多量のHFを使用するため経済的に不利
である。また反応温度が50°Cより低い場合はやはり
反応が迅速に進行せず、一方温度が200°Cより高い
場合は反応時の圧力が高くなるため装置等が高価になり
、さらに生成物が分解しやすくなるため好ましくない。
得られる化合物■は、常温で液体であるため、反応終了
後二層分離により分離した後、蒸留することにより、容
易に精製品を得ることができる。
後二層分離により分離した後、蒸留することにより、容
易に精製品を得ることができる。
化合物■は、過マンガン酸カリウム−硫酸、硝酸により
酸化するか、コバルト塩−マンガン塩のうち、少なくと
も1種類の化合物の存在下分子状酸素により酸化するこ
とにより、速やかに化合物■のトリカルボン酸に誘導す
ることができる。
酸化するか、コバルト塩−マンガン塩のうち、少なくと
も1種類の化合物の存在下分子状酸素により酸化するこ
とにより、速やかに化合物■のトリカルボン酸に誘導す
ることができる。
過マンガン酸カリウム−硫酸または硝酸を用いた場合は
直接酸化が行われるため、酸素ガスは必要なく、例えば
硝酸の場合は濃度10〜10〇−七%のものを化合物■
に対して20倍モル以上添加すればよい、過マンガン酸
カリウム−硫酸を使用した場合の生成した酸化マンガン
の後処理のことを考えると硝酸の方が好ましい。
直接酸化が行われるため、酸素ガスは必要なく、例えば
硝酸の場合は濃度10〜10〇−七%のものを化合物■
に対して20倍モル以上添加すればよい、過マンガン酸
カリウム−硫酸を使用した場合の生成した酸化マンガン
の後処理のことを考えると硝酸の方が好ましい。
コバルト塩、マンガン塩を使用する場合、無機の塩でも
有機の塩でもよいが、なかでも酢酸塩または臭化物が好
ましい。この際、反応を迅速に進行させるためには、1
00〜130°Cが適当である。また反応時、助触媒と
してNaBr、 NH4Br等を同時に添加するのが好
ましい。
有機の塩でもよいが、なかでも酢酸塩または臭化物が好
ましい。この際、反応を迅速に進行させるためには、1
00〜130°Cが適当である。また反応時、助触媒と
してNaBr、 NH4Br等を同時に添加するのが好
ましい。
このようにして得られた化合物を、更に脱水閉環させる
ことにより、化合物■になるわけであるが、この場合加
熱または脱水剤を使用することにより、上記反応が進行
する。
ことにより、化合物■になるわけであるが、この場合加
熱または脱水剤を使用することにより、上記反応が進行
する。
加熱により脱水閉環を行う場合は、130 ’C以上、
好ましくは150℃以上であり、発生した水を取り除く
ためにはキシレン等を共存させて共沸により糸外に排出
することが好ましい。一方、脱水剤を使用する場合は、
酸無水物特に無水酢酸、有機カルボン酸クロライド等を
用いるのが好ましく、これらを用いることにより、単な
る加熱よりも低温で脱水閉環することができる。
好ましくは150℃以上であり、発生した水を取り除く
ためにはキシレン等を共存させて共沸により糸外に排出
することが好ましい。一方、脱水剤を使用する場合は、
酸無水物特に無水酢酸、有機カルボン酸クロライド等を
用いるのが好ましく、これらを用いることにより、単な
る加熱よりも低温で脱水閉環することができる。
得られた化合物は、カルボキシル基と無水カルボキシル
基を有する化合物であり、例えばシア稟ンと反応させる
ことにより、ポリアミドイミドとなり、耐熱性の樹脂と
して使用することができる。
基を有する化合物であり、例えばシア稟ンと反応させる
ことにより、ポリアミドイミドとなり、耐熱性の樹脂と
して使用することができる。
[実施例]
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はかかる実施例に限定されるものではない。
明はかかる実施例に限定されるものではない。
実施例1
11のオートクレーブにトルエン48.3g(0,53
mol)と4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2−
プロピ7し)−1,2−キ’、t し7136g(0,
5mol)およびHF500g (251dol)を仕
込み、100″cで4時間反応させた。
mol)と4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−2−
プロピ7し)−1,2−キ’、t し7136g(0,
5mol)およびHF500g (251dol)を仕
込み、100″cで4時間反応させた。
冷却後、内容物を水に投入し、分離した油状物を塩化メ
チレンで抽出洗浄後、乾燥した0次に溶媒を減圧下に留
去し、粗2−〈4−メチルフェニル)−2−(3,4−
ジメチルフェニル)へキサフルオロプロパン■を170
.9g’ (GC純度: 98.5Z、収率98.8χ
)得た。上記粗精製品は、さらに蒸留することにより、
沸点108〜110 ’C/1mmHg(7)留分ヲ1
54.3g得た。
チレンで抽出洗浄後、乾燥した0次に溶媒を減圧下に留
去し、粗2−〈4−メチルフェニル)−2−(3,4−
ジメチルフェニル)へキサフルオロプロパン■を170
.9g’ (GC純度: 98.5Z、収率98.8χ
)得た。上記粗精製品は、さらに蒸留することにより、
沸点108〜110 ’C/1mmHg(7)留分ヲ1
54.3g得た。
’Hnmr(CDC13)δ:2.18PpH(S、6
H,CH3X2)2.29ppm (S、3H,C)
1.3 > 6.9−7.4ppm(7H,Ar)”
Fnmr (CDCl2 、CFCl3 )
δ:65.7ppm (S、CF3×2) 実施例2 キシレンおよび4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−
2−プロピル)トルエンを用いた他は実施例1と同様に
反応を行い、実施例1と同様に2−(4−メチルフェニ
ル) −2−(3,4−ジメチルフェニル)へキサフル
オロプロパン■を収率98.5Zで得た。
H,CH3X2)2.29ppm (S、3H,C)
1.3 > 6.9−7.4ppm(7H,Ar)”
Fnmr (CDCl2 、CFCl3 )
δ:65.7ppm (S、CF3×2) 実施例2 キシレンおよび4−(2−ヒドロキシヘキサフルオロ−
2−プロピル)トルエンを用いた他は実施例1と同様に
反応を行い、実施例1と同様に2−(4−メチルフェニ
ル) −2−(3,4−ジメチルフェニル)へキサフル
オロプロパン■を収率98.5Zで得た。
実施例3
100mj!の硝子製加圧反応容器に実施例1で得られ
た化合物■3.2g、30Z希硝酸50m lを加え、
180℃で3時間反応させた。
た化合物■3.2g、30Z希硝酸50m lを加え、
180℃で3時間反応させた。
生成した結晶を濾別水洗後、乾燥し、2−(4カルボキ
シフエニル) −2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフルオロプロパン■4.11g (純度: 9
3.OL収率94.7! >を得た。
シフエニル) −2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフルオロプロパン■4.11g (純度: 9
3.OL収率94.7! >を得た。
この化合物の’Hnmr(DMSO−da )を第2図
に、IRを第3図に示す。
に、IRを第3図に示す。
融点: 146.0〜14g、0°C
” Fnsr (DMSO−d@ 、 CFCl3 )
δ: 62.8ppm(S。
δ: 62.8ppm(S。
CF3 X2) IR(−COOH,1720
cm(>実施例4 冷却塔を備えたlOm 1の硝子製ナスフラスコに実施
例3で得た化合物■0.50g (1,1瓢o1)、無
水酢酸2gを加え、還流下で2時間反応させた。
cm(>実施例4 冷却塔を備えたlOm 1の硝子製ナスフラスコに実施
例3で得た化合物■0.50g (1,1瓢o1)、無
水酢酸2gを加え、還流下で2時間反応させた。
無水酢酸を加熱、減圧除去し、淡黄色の固体0゜45g
■(GC純度: 99.0! 、収率: 96.I!
>を得た。この化合物の’Hnmr(DMSO−d6
)を第1図に、IRを第4図に示す。
■(GC純度: 99.0! 、収率: 96.I!
>を得た。この化合物の’Hnmr(DMSO−d6
)を第1図に、IRを第4図に示す。
融点: 136.0〜137.0″C
”Fnmr (DMSO−da 、 CFCl3
) 6 :62.7Pl)Ill(S、CF
IX 2) IR[−COOH1720ca→、(−
CO)20 1800C麿→、 1870cm→] 実施例5 100mAのオートクレーブに4−(2−ヒドロキシヘ
キサフルオロ−2−プロピル)フルオロベンゼン13.
1g (0,05go+) 、7 エ/ −ル4.7
g (0,05mol)およびHF 50g (2,5
mol)を仕込み、180°Cで3時間反応させ、実施
例1と同様に後処理し、溶媒を減圧下に留去し、メタノ
ール中で活性炭処理して白色の針状結晶として2−(4
−フルオロフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェニル
)へキサフルオロプロパン11.7g (収率69.2
%)を得た。融点113.5−1145°C、” F
n+ar(CDC13)δ−−64,4PPO1(8,
6F> 、 −112,4ppm(brs、 IF)実
施例6 フェノールをベンゼン15.6g (0,2mol)に
代えるほかは実施例5と同様にして180°Cで1時間
反応させ、同様に処理したのち痕留して沸点11〜11
5°C/ 12mmHgの留分として2−(7エニ)L
t)−2(4−フルオロフェニル)へキサフルオロプロ
パン6.84g (収率41.2%)を得た。1りF
nmr(CDCICFC13)δ= −64,5Pf4
(S、6F) 、 −112,1ppm(brs、 I
H) 、’Hnmr(CDC13,TMS)δ−6,9
7ppm (d 、 d 。
) 6 :62.7Pl)Ill(S、CF
IX 2) IR[−COOH1720ca→、(−
CO)20 1800C麿→、 1870cm→] 実施例5 100mAのオートクレーブに4−(2−ヒドロキシヘ
キサフルオロ−2−プロピル)フルオロベンゼン13.
1g (0,05go+) 、7 エ/ −ル4.7
g (0,05mol)およびHF 50g (2,5
mol)を仕込み、180°Cで3時間反応させ、実施
例1と同様に後処理し、溶媒を減圧下に留去し、メタノ
ール中で活性炭処理して白色の針状結晶として2−(4
−フルオロフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェニル
)へキサフルオロプロパン11.7g (収率69.2
%)を得た。融点113.5−1145°C、” F
n+ar(CDC13)δ−−64,4PPO1(8,
6F> 、 −112,4ppm(brs、 IF)実
施例6 フェノールをベンゼン15.6g (0,2mol)に
代えるほかは実施例5と同様にして180°Cで1時間
反応させ、同様に処理したのち痕留して沸点11〜11
5°C/ 12mmHgの留分として2−(7エニ)L
t)−2(4−フルオロフェニル)へキサフルオロプロ
パン6.84g (収率41.2%)を得た。1りF
nmr(CDCICFC13)δ= −64,5Pf4
(S、6F) 、 −112,1ppm(brs、 I
H) 、’Hnmr(CDC13,TMS)δ−6,9
7ppm (d 、 d 。
J=16.511z、2H)、 7.22ppm(s、
5)1)、7.50ppm(d、d、J16.5)1z
、J=5.4Hz、2tl>[発明の効果J 本発明の化合物は、耐熱性を有するポリアミドイミド、
ポリイミド、ポリエーテル等の原料として有用な非対象
な新規化合物であり、本発明の製造法は、上記化合物を
比較的容易な方法で収率よく得ることができる工業的に
有利な方法である。
5)1)、7.50ppm(d、d、J16.5)1z
、J=5.4Hz、2tl>[発明の効果J 本発明の化合物は、耐熱性を有するポリアミドイミド、
ポリイミド、ポリエーテル等の原料として有用な非対象
な新規化合物であり、本発明の製造法は、上記化合物を
比較的容易な方法で収率よく得ることができる工業的に
有利な方法である。
第1図は、実施例4で得られた化合物■の■rvrであ
り、第4図は、化合物■のIRである。 一方、第2図は、実施例3で得られた化合物■の’Hn
mrであり、第3図は、化合物■のrRである。 「ρれ F−’P771 第3図 (IR) 始4図 (IR) 波数 ’、cU’)
り、第4図は、化合物■のIRである。 一方、第2図は、実施例3で得られた化合物■の’Hn
mrであり、第3図は、化合物■のrRである。 「ρれ F−’P771 第3図 (IR) 始4図 (IR) 波数 ’、cU’)
Claims (5)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] (X_1、X_2、X_4、X_5は水素、低級アルキ
ル基、ハロゲン、カルボキシル基、水酸基を表わし、X
_3は低級アルキル基、フッ素、カルボキシル基、水酸
基を表わす、Y_1〜Y_5は水素、低級アルキル基、
ハロゲン、低級ハロアルキル基、カルボキシル基、水酸
基、アミド基を表わし、Y_1〜Y_5の少なくとも1
つはX_1〜X_5と同一ではなく、Y_1〜Y_5の
少なくとも1つが水酸基の場合、X_1〜X_5は水酸
基ではない。)で示される非対称2,2−ビスアリール
ヘキサフルオロプロパン。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[II] (X_1〜X_5は前記と同じ。ただし、カルボキシル
基ではない。)で示される2−アリールヘキサフルオロ
−2−プロパノールと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[III] (Y_1〜Y_5は前記と同じ。ただし、カルボキシル
基ではない。)で示される芳香族化合物をHFの存在下
に脱水縮合することを特徴とする請求項(1)記載の非
対称2,2−ビスアリールヘキサフルオロプロパン[
I ](X_1〜X_5、Y_1〜Y_5は前記と同じ。 ただし、カルボキシル基ではない。)の製造法。 - (3)請求項(1)記載の非対称2,2−ビスアリール
ヘキサフルオロプロパン[ I ](X_1〜X_5、Y
_1〜Y_5は前記と同じ。ただし、カルボキシル基で
はなく、少なくとも1つがメチル基である。)を過マン
ガン酸カリウム−硫酸、硝酸により酸化するか、または
コバルト塩−マンガン塩のうち少なくとも1種類の化合
物の存在下分子状酸素により酸化することを特徴とする
請求項(1)記載の非対称2,2−ビスアリールヘキサ
フルオロプロパン[ I ](X_1〜X_5、Y_1〜
Y_5は前記と同じ。ただし、少なくとも1つがカルボ
キシル基である。)の製造法。 - (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] (X’_1〜X’_5、Y’_1〜Y’_5はそれぞれ
前記X_1〜X_5、Y_1〜Y_5と同じ。ただし少
なくとも1ヵ所の隣り合う2つのカルボキシル基が脱水
閉環したものである。)で示される非対称2,2−ビス
アリールヘキサフルオロプロパン。 - (5)請求項(1)記載の非対称2,2−ビスアリール
ヘキサフルオロプロパン[ I ](X_1〜X_5、Y
_1〜Y_5は前記と同じ。ただし、少なくとも隣り合
う2つのカルボキシル基を有する。)を加熱または脱水
剤により脱水閉環することを特徴とする請求項(4)記
載の非対称2,2−ビスアリールヘキサフルオロプロパ
ン[IV]の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904022997 DE4022997A1 (de) | 1989-07-19 | 1990-07-19 | Asymmetrische 2,2-bisarylhexafluorpropane und verfahren zu ihrer herstellung |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-187091 | 1989-07-19 | ||
JP18709189 | 1989-07-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03148245A true JPH03148245A (ja) | 1991-06-25 |
JPH062722B2 JPH062722B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=16199949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30970489A Expired - Lifetime JPH062722B2 (ja) | 1989-07-19 | 1989-11-29 | 非対称2,2―ビスアリールヘキサフルオロプロパンおよびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH062722B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200482494Y1 (ko) * | 2016-01-15 | 2017-02-01 | 주식회사 이티엔커머스 | 청소 도구 |
-
1989
- 1989-11-29 JP JP30970489A patent/JPH062722B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200482494Y1 (ko) * | 2016-01-15 | 2017-02-01 | 주식회사 이티엔커머스 | 청소 도구 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH062722B2 (ja) | 1994-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3053462B2 (ja) | 9,9−ビス(パーフルオロアルキル)キサンテン、9−アリール−9−パーフルオロアルキルキサンテン、それより誘導されるモノマーおよびポリマー | |
JP2744971B2 (ja) | 一部フッ素化されたカルボン酸及びその誘導体並びにその製造方法 | |
JP3572096B2 (ja) | 2,3,4,5−テトラフルオロベンゾトリフルオライドの製造方法 | |
JPH03148245A (ja) | 非対称2,2―ビスアリールヘキサフルオロプロパンおよびその製造法 | |
JPS58180479A (ja) | 芳香族ビス(エ−テル酸無水物)の製造方法 | |
EP0711744B1 (en) | Method for making acyl substituted resorcinols | |
JPS63258442A (ja) | テトラフルオロフタル酸の製造方法 | |
JP3220508B2 (ja) | 2,3,4,5−テトラフルオロ安息香酸の製造方法 | |
JPS58157727A (ja) | 核塩素化芳香族化合物の製造方法 | |
JP2602783B2 (ja) | 4−ヒドロキシクマリン誘導体の製造方法 | |
JPH02209849A (ja) | 弗素を含有する単量体、その製法及び用途 | |
JPH08507074A (ja) | ビス(2−ベンゾオキサゾリル)スチルベンの製造方法 | |
JPS61109751A (ja) | 多塩基カルボン酸の酸塩化物の製法及び中間体 | |
JPH02311472A (ja) | ジオキシジフタル酸無水物 | |
CA1312340C (en) | Process for the preparation of 2,2- bisphenylhexafluoropropane | |
JPH05194484A (ja) | ベンゾ〔b〕チオフェン−2−カルボン酸の製造法 | |
JPH08119939A (ja) | 高純度エーテル型ビスマレイミドの製造方法 | |
JPS58124790A (ja) | アントラセンテトラカルボン酸二無水物誘導体 | |
JP3543585B2 (ja) | 2,2’,5,5’,6,6’−ヘキサフルオロビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸前駆体の製造方法 | |
JPS6314753A (ja) | カルボン酸クロライドの製造法 | |
JPH06316545A (ja) | 塩素化4,5− ジフルオル安息香酸、 −安息香酸誘導体及び− ベンズアルデヒドの製法 | |
JPS63270640A (ja) | 3,4,5−トリフルオロ安息香酸誘導体およびその製造方法 | |
DE4022997A1 (de) | Asymmetrische 2,2-bisarylhexafluorpropane und verfahren zu ihrer herstellung | |
JPS5849330A (ja) | 芳香族アルデヒドの製造法 | |
JPH04230228A (ja) | 部分フッ素化ビフェニル類、それらの製法およびそれらの使用 |