JPH0314307A - 弾性表面波発振子 - Google Patents
弾性表面波発振子Info
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- JPH0314307A JPH0314307A JP1151044A JP15104489A JPH0314307A JP H0314307 A JPH0314307 A JP H0314307A JP 1151044 A JP1151044 A JP 1151044A JP 15104489 A JP15104489 A JP 15104489A JP H0314307 A JPH0314307 A JP H0314307A
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Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、水晶やLiTaO3 (タンタル酸リチウム
) 、LiNbO,(ニオブ酸リチウム)、Li284
O7(四ホウ酸リチウム)のような単結晶、サファイア
(AQ203)基板の上に酸化亜鉛の膜を形成したZn
O/ AQ 203等の圧電基板の表面に電極を設けた
弾性表面波発振子に関する。
) 、LiNbO,(ニオブ酸リチウム)、Li284
O7(四ホウ酸リチウム)のような単結晶、サファイア
(AQ203)基板の上に酸化亜鉛の膜を形成したZn
O/ AQ 203等の圧電基板の表面に電極を設けた
弾性表面波発振子に関する。
[背景技術コ
近年、弾性表面波(以下、SAWと称する場合がある.
)を用いた弾性表面波発振子が広く用いられるようにな
っている。
)を用いた弾性表面波発振子が広く用いられるようにな
っている。
これら弾性表面波発振子は、一般に、圧電性を有する基
板の表面上にインターディジタル電極(すだれ状t極〉
や金属ストリップのグレーティング電極等が形戒されて
いる。この電極金属としては、−iに、アルミニウムが
用いられているが、その理由は、フォトリソグラフィが
容易であることと、比重が小さくて電極負荷質量効果が
少なく、導電率が高いなどの特徴のためである.[発明
が解決しようとする課題] しかしながら、このようなSAW発振子に高電圧レベル
の信号を印加すると、弾性表面波によってアルミニウム
電極が強い応力を受け、マイグレーションを起こすこと
がわかった。これは応力によるマイグレーションである
ので、ストレスマイグレーションと言われている.これ
が発生すると、電気的短絡や挿入損失の増加、共振子の
Qの低下などが起こる.そして、このストレスマイグレ
ーションは高周波になる程発生し易いので、弾性表面波
発振子の高周波化にあたり、大きな問題となっていた.
特に、発振子の場合は、安定に発振させるためにゲイン
を上げて過大な電圧レベルの信号を印加する必要があり
、また共振子構造のものは定在波により強い応力がかか
るので、ストレスマイグレーションが発生し易く、従来
の弾性表面波発振子では、ストレスマイグレーションの
ため、やむを得ず低レベルで動作させざるを得す、C/
N比(搬送波対雑音比)やSSB位相雑音を良好にする
ことができなかった。
板の表面上にインターディジタル電極(すだれ状t極〉
や金属ストリップのグレーティング電極等が形戒されて
いる。この電極金属としては、−iに、アルミニウムが
用いられているが、その理由は、フォトリソグラフィが
容易であることと、比重が小さくて電極負荷質量効果が
少なく、導電率が高いなどの特徴のためである.[発明
が解決しようとする課題] しかしながら、このようなSAW発振子に高電圧レベル
の信号を印加すると、弾性表面波によってアルミニウム
電極が強い応力を受け、マイグレーションを起こすこと
がわかった。これは応力によるマイグレーションである
ので、ストレスマイグレーションと言われている.これ
が発生すると、電気的短絡や挿入損失の増加、共振子の
Qの低下などが起こる.そして、このストレスマイグレ
ーションは高周波になる程発生し易いので、弾性表面波
発振子の高周波化にあたり、大きな問題となっていた.
特に、発振子の場合は、安定に発振させるためにゲイン
を上げて過大な電圧レベルの信号を印加する必要があり
、また共振子構造のものは定在波により強い応力がかか
るので、ストレスマイグレーションが発生し易く、従来
の弾性表面波発振子では、ストレスマイグレーションの
ため、やむを得ず低レベルで動作させざるを得す、C/
N比(搬送波対雑音比)やSSB位相雑音を良好にする
ことができなかった。
これに対する従来の対策としては、エレクトロマイグレ
ーションの場合と同様に、電極材料のアルミニウムに微
量のCu, Ti, Ni, Mg, Pdなどを添加
することにより、耐ストレスマイグレーション特性の改
善を図っているが、その特性改善はまだ不十分であった
. そこで、本発明の発明者らは、このストレスマイグレー
ションの原因をさらに追及した.その研究結果によれば
、電子ビーム蒸着やスパッタ等により形戒されている従
来のアルミニウム電極は,結晶学的には一定方向に配向
しておらず、アモルファス的な多結晶膜であり、そのた
め粒界拡散によるストレスマイグレーションに対して弱
い性質を示すと考えられた。
ーションの場合と同様に、電極材料のアルミニウムに微
量のCu, Ti, Ni, Mg, Pdなどを添加
することにより、耐ストレスマイグレーション特性の改
善を図っているが、その特性改善はまだ不十分であった
. そこで、本発明の発明者らは、このストレスマイグレー
ションの原因をさらに追及した.その研究結果によれば
、電子ビーム蒸着やスパッタ等により形戒されている従
来のアルミニウム電極は,結晶学的には一定方向に配向
しておらず、アモルファス的な多結晶膜であり、そのた
め粒界拡散によるストレスマイグレーションに対して弱
い性質を示すと考えられた。
しかして、本発明は上記従来例の欠点と発明者らの到達
した知見に基づいてなされたものであり、その目的とす
るところは耐ストレスマイグレーション特性に優れたア
ルミニウム電極を備えた弾性表面波発振子を提供するこ
とにある.[課題を解決するための手段] このため、本発明の弾性表面波発振子は、圧電基板を用
いた弾性表面波発振子において、結晶方位的に一定方向
に配向したアルミニウム膜によってマイグレーション防
止機能をもつ電極を形成したことを特徴としている。
した知見に基づいてなされたものであり、その目的とす
るところは耐ストレスマイグレーション特性に優れたア
ルミニウム電極を備えた弾性表面波発振子を提供するこ
とにある.[課題を解決するための手段] このため、本発明の弾性表面波発振子は、圧電基板を用
いた弾性表面波発振子において、結晶方位的に一定方向
に配向したアルミニウム膜によってマイグレーション防
止機能をもつ電極を形成したことを特徴としている。
圧電基板の基板材料としては、水晶、LiTaO3、L
iNbO3、Li2B4(h、 ZnO等を用いること
ができる. また、アルミニウム膜には、Cu, Ti, Ni,
Mg+Pd等の耐マイグレーション特性に優れた添加物
を微量添加するのが効果的であり、その添加量としては
0.lwt%〜10wt%の範囲で用いるのが適当であ
る。
iNbO3、Li2B4(h、 ZnO等を用いること
ができる. また、アルミニウム膜には、Cu, Ti, Ni,
Mg+Pd等の耐マイグレーション特性に優れた添加物
を微量添加するのが効果的であり、その添加量としては
0.lwt%〜10wt%の範囲で用いるのが適当であ
る。
[作用]
上述のように、従来のアルミニウム電極は、結晶方位的
に一定方向に配向していないアモルファス的な多結晶膜
であり、このためストレスマイグレーションに対して弱
かった。
に一定方向に配向していないアモルファス的な多結晶膜
であり、このためストレスマイグレーションに対して弱
かった。
これに対し、本発明の弾性表面波発振子にあっては、一
定方位に結晶軸配向したアルミニウム膜の電極を用いて
いる。このような結晶学的に一定方位に配向したアルミ
ニウム電極は、単結晶1漠に近い性質を示すと考えられ
、粒界拡散によるストレスマイグレーションに対して非
常に強くなる。
定方位に結晶軸配向したアルミニウム膜の電極を用いて
いる。このような結晶学的に一定方位に配向したアルミ
ニウム電極は、単結晶1漠に近い性質を示すと考えられ
、粒界拡散によるストレスマイグレーションに対して非
常に強くなる。
したがって、本発明の弾性表面波発振子によれば、スト
レスマイグレーションの発生を抑制でき、ストレスマイ
グレーションによる電気的短絡や挿入損失を低減でき、
共振子のQを良好に維持することができる。特に、従来
、ストレスマイグレーションは高周波になるほど顕著で
あったので、本発明によれば弾性表面波発振子の高周波
特性を良好にすることができる。
レスマイグレーションの発生を抑制でき、ストレスマイ
グレーションによる電気的短絡や挿入損失を低減でき、
共振子のQを良好に維持することができる。特に、従来
、ストレスマイグレーションは高周波になるほど顕著で
あったので、本発明によれば弾性表面波発振子の高周波
特性を良好にすることができる。
さらに、高レベルの信号を印加した場合にもストレスマ
イグレーションの発生を抑制できるので、本発明の弾性
表面波発振子によれば、C/N比やSSBを良好にする
ことができる。またゲインを大きくしてオーバドライブ
状態で用いることができるので、安定に発振させること
が可能になる。
イグレーションの発生を抑制できるので、本発明の弾性
表面波発振子によれば、C/N比やSSBを良好にする
ことができる。またゲインを大きくしてオーバドライブ
状態で用いることができるので、安定に発振させること
が可能になる。
[実施例コ
以下、本発明の実施例を添付図に基づいて詳述する.
第1図に示すものは、2ボート弾性表面波発振子3であ
り、圧電基板lの表面に2つのインターディジタルt極
2aを設け、この電極2aの両側にグレーティング電極
2b(反射器〉を設けてあり、インターディジタル電極
2aからはリード端子4が引き出されている。この2ポ
ートSAW発振子3を一実施例とし、製造順序に従って
次に説明する. 圧電基板1としては、鏡面研磨された33.5”回転Y
カット水晶基板を用い、この圧電基板1の表面に、電子
ビーム蒸着でその蒸着速度及び基板温度を適当に制御し
てアルミニウム膜を約1000人の膜厚に形成した. 例えば、蒸着速度及び基板温度は、従来10人/秒、+
160℃で蒸着していたのを、発明者らの実験した範囲
では、4O人/秒、+80℃と高速、低温で蒸着するこ
とにより(311)配向膜が得られた.このアルミニウ
ム膜の(311)面がエビタキシャル成長していること
をRHEED (反射高速電子線回折〉法により確認し
た(第5図(a)にこのRHEED写真を示す.第5図
(b)は第5図(a)の写真の説明図であり、イが電子
ビーム、口の領域内に見えるものが反射光である.).
従来の蒸着条件のもとでは、アルミニウム膜のエビタキ
シャル戒長は見られず、ランダム配向くアモルファス〉
になっている(第6図(a)にこのRHEED写真を示
す.第6図(b)は第6図(&〉の写真の説明図で、八
が電子ビーム、二の領域内に見えるものが反射光である
.)。
り、圧電基板lの表面に2つのインターディジタルt極
2aを設け、この電極2aの両側にグレーティング電極
2b(反射器〉を設けてあり、インターディジタル電極
2aからはリード端子4が引き出されている。この2ポ
ートSAW発振子3を一実施例とし、製造順序に従って
次に説明する. 圧電基板1としては、鏡面研磨された33.5”回転Y
カット水晶基板を用い、この圧電基板1の表面に、電子
ビーム蒸着でその蒸着速度及び基板温度を適当に制御し
てアルミニウム膜を約1000人の膜厚に形成した. 例えば、蒸着速度及び基板温度は、従来10人/秒、+
160℃で蒸着していたのを、発明者らの実験した範囲
では、4O人/秒、+80℃と高速、低温で蒸着するこ
とにより(311)配向膜が得られた.このアルミニウ
ム膜の(311)面がエビタキシャル成長していること
をRHEED (反射高速電子線回折〉法により確認し
た(第5図(a)にこのRHEED写真を示す.第5図
(b)は第5図(a)の写真の説明図であり、イが電子
ビーム、口の領域内に見えるものが反射光である.).
従来の蒸着条件のもとでは、アルミニウム膜のエビタキ
シャル戒長は見られず、ランダム配向くアモルファス〉
になっている(第6図(a)にこのRHEED写真を示
す.第6図(b)は第6図(&〉の写真の説明図で、八
が電子ビーム、二の領域内に見えるものが反射光である
.)。
このアノレミニウム膜をフォトリソグラフィによって加
工し、圧電基板1の表面に2つのインターディジタル電
極2aとグレーティング電極2bを形成し、上記のよう
な2ボートSAW発振子3を作製した. このようにして実際に作製されたSAW発振子3におい
ては、弾性表面波の波長は約4.7 t.un ( 1
1l極指幅約1.17−) 、開口長は約100波長、
インターディジタル1!極は各々50対、金属ストリッ
プによるグレーティング電極は各々300本である.こ
の2ボートSAW発振子の50Ω系伝送特性は、第2図
のようになった.第2図に示されているように、ピーク
周波数は約674MHzであり、挿入損失は約6dBで
あった.これは、従来のアモルファスアルミニウム電極
の場合とほとんど同様の特性である. ここで、耐電力特性(耐ストレスマイグレーション特性
〉を評価するため、第3図のようなシステムを用いた.
これは、発振器5の出力にパワーアンプ6を接続して発
振器5の出力信号を電力増幅し、パワーアンブ6の出力
をSAW発振子3に印加させるようにしてある.一方、
SAW発振子3の出力p (t)はバワーメータ7に入
力されてレベル測定される.また、パワーメータ7の出
力はコンピュータ8を介して発振器5ヘフィードバック
されており、発振器5の周波数をコントロールして印加
信号の周波数が常に伝送特性のピーク周波数となるよう
にしている.また、SAW発振子3は、恒温槽9に納め
られており、周囲温度を85℃と高くして加速劣化させ
られた.しかして、パワーアンプ6の出力をIW(50
Ω系)とし、初期の出力レベルp(L)=poを測定し
ておき、ある時間t経過後の出力P (t)が、P(t
〉≦P o 1.0(dB> となった時をそのSAW発振子3の寿命tdとした。こ
れは、一般にP (f.)のカーブは、第4図のように
なるので、1dBの低下で寿命tdの推定を行えば適当
と考えたためである, 評価した各試料A,B,C,Dは、下記に示す4種の電
極金属を用いて、同一カット角水晶基板上に同一形状の
電極を形或したものである。
工し、圧電基板1の表面に2つのインターディジタル電
極2aとグレーティング電極2bを形成し、上記のよう
な2ボートSAW発振子3を作製した. このようにして実際に作製されたSAW発振子3におい
ては、弾性表面波の波長は約4.7 t.un ( 1
1l極指幅約1.17−) 、開口長は約100波長、
インターディジタル1!極は各々50対、金属ストリッ
プによるグレーティング電極は各々300本である.こ
の2ボートSAW発振子の50Ω系伝送特性は、第2図
のようになった.第2図に示されているように、ピーク
周波数は約674MHzであり、挿入損失は約6dBで
あった.これは、従来のアモルファスアルミニウム電極
の場合とほとんど同様の特性である. ここで、耐電力特性(耐ストレスマイグレーション特性
〉を評価するため、第3図のようなシステムを用いた.
これは、発振器5の出力にパワーアンプ6を接続して発
振器5の出力信号を電力増幅し、パワーアンブ6の出力
をSAW発振子3に印加させるようにしてある.一方、
SAW発振子3の出力p (t)はバワーメータ7に入
力されてレベル測定される.また、パワーメータ7の出
力はコンピュータ8を介して発振器5ヘフィードバック
されており、発振器5の周波数をコントロールして印加
信号の周波数が常に伝送特性のピーク周波数となるよう
にしている.また、SAW発振子3は、恒温槽9に納め
られており、周囲温度を85℃と高くして加速劣化させ
られた.しかして、パワーアンプ6の出力をIW(50
Ω系)とし、初期の出力レベルp(L)=poを測定し
ておき、ある時間t経過後の出力P (t)が、P(t
〉≦P o 1.0(dB> となった時をそのSAW発振子3の寿命tdとした。こ
れは、一般にP (f.)のカーブは、第4図のように
なるので、1dBの低下で寿命tdの推定を行えば適当
と考えたためである, 評価した各試料A,B,C,Dは、下記に示す4種の電
極金属を用いて、同一カット角水晶基板上に同一形状の
電極を形或したものである。
A:ランダム配向の純AQ電極
B二(ランダム配向のA(2+2+rt%Cu)電極C
:エビタキシャル純AQ電極 D:(エビタキシャルAQ+1wt.%Cu)電極A,
Bは通常のSAW発振子であり、Bは耐ストレスマイグ
レーション対策として電極金属にCuを添加されている
。C,Dは本発明に係るSAW発振子であり、Dも1t
@金属にCuを添加されている. 実験の結果、各試料の寿命1.1は、それぞれA:5分
以下 B:約150分 C:’900分以上 D:8,000分以上 (2.5Wの場合)となった. 試料A,Bを比較すると、Cuの添加により30倍以上
の長寿命化が達成されているが、アルミニウム膜をエビ
タキシャル化することで、さらにその6倍以上の効果が
出ている.すなわち、純アルミニウムの電極を用いた試
料A,C同士の比較では、実に180倍以上の長寿命と
なっている。
:エビタキシャル純AQ電極 D:(エビタキシャルAQ+1wt.%Cu)電極A,
Bは通常のSAW発振子であり、Bは耐ストレスマイグ
レーション対策として電極金属にCuを添加されている
。C,Dは本発明に係るSAW発振子であり、Dも1t
@金属にCuを添加されている. 実験の結果、各試料の寿命1.1は、それぞれA:5分
以下 B:約150分 C:’900分以上 D:8,000分以上 (2.5Wの場合)となった. 試料A,Bを比較すると、Cuの添加により30倍以上
の長寿命化が達成されているが、アルミニウム膜をエビ
タキシャル化することで、さらにその6倍以上の効果が
出ている.すなわち、純アルミニウムの電極を用いた試
料A,C同士の比較では、実に180倍以上の長寿命と
なっている。
次に、耐マイグレーション特性の改善に効果のあるCu
をlwt.%添加したAQエビタキシャル膜で電極を形
戒された試料Dの場合には、パワーアンプから2.5W
の出力を印加して寿命測定を行ったところ、8,000
分以上の寿命が得られた。ここで、2.5Wの出力を印
加したのは、IWでは寿命が長過ぎ、実験を行う上で不
適当であったためである.よって、Cuを添加した場合
には、純AQエビタキシャル膜よりも更に大電力におい
て長寿命となっている.一般に、電力による加速係数は
3〜4乗であると言われているので、2.5Wの場合の
加速係数はIWの場合の15〜39(ξ2.53〜2.
54)倍となり、2.5WV)出力に対する 8,00
0分以上の寿命はIWに換算すると120,000〜3
12,000分以上の寿命に相当する。
をlwt.%添加したAQエビタキシャル膜で電極を形
戒された試料Dの場合には、パワーアンプから2.5W
の出力を印加して寿命測定を行ったところ、8,000
分以上の寿命が得られた。ここで、2.5Wの出力を印
加したのは、IWでは寿命が長過ぎ、実験を行う上で不
適当であったためである.よって、Cuを添加した場合
には、純AQエビタキシャル膜よりも更に大電力におい
て長寿命となっている.一般に、電力による加速係数は
3〜4乗であると言われているので、2.5Wの場合の
加速係数はIWの場合の15〜39(ξ2.53〜2.
54)倍となり、2.5WV)出力に対する 8,00
0分以上の寿命はIWに換算すると120,000〜3
12,000分以上の寿命に相当する。
このように、AQエピタキシャル膜にCuを添加した場
合には、純AQエビタキシャル膜の場合と比較して13
0〜34O倍の長寿命を達成しているが、Tj, Ni
, Mg, Pd等のマイグレーション対策用と言われ
ているCu以外の添加物を用いた場合も同様に長寿命化
の効果がある。上記各添加物の添加量は、少な過ぎると
効果がないので、通常0.1vt%以上必要であり、ま
た多過ぎるとアルミニウム膜の抵抗率が増大するので、
通常10wt%以下が望ましい.したがって、Cu,
Ti, Ni, Mg, Pd等の添加物の添加量とし
ては、0.1wt%〜lowt%の範囲が好適である。
合には、純AQエビタキシャル膜の場合と比較して13
0〜34O倍の長寿命を達成しているが、Tj, Ni
, Mg, Pd等のマイグレーション対策用と言われ
ているCu以外の添加物を用いた場合も同様に長寿命化
の効果がある。上記各添加物の添加量は、少な過ぎると
効果がないので、通常0.1vt%以上必要であり、ま
た多過ぎるとアルミニウム膜の抵抗率が増大するので、
通常10wt%以下が望ましい.したがって、Cu,
Ti, Ni, Mg, Pd等の添加物の添加量とし
ては、0.1wt%〜lowt%の範囲が好適である。
また、アルミニウム配向膜の下地として、その配向を妨
げない程度の極く薄いTiJliやCr膜などを設けて
もよい. なお、AQエピタキシャル膜は、25゜がら39゜回転
Yカットの範囲の水晶基板で(311)配向となったが
、それ以外のカット角でも配向する可能性はある。一般
に、エビタキシャル或長ずるためには、基板とAQ薄膜
との結晶格子の整合が必要であるところ、回転Yカット
水晶基板とAQI膜との場合には、約30”回転Yカッ
ト水晶基板とAQエビタキシャル膜の(311)面とが
結晶格子的に整合しているので、25゜がら39゜回転
Yカット水晶基板ではAQ薄膜の(311)面がエビタ
キシャル或長したものである。しがしながら、AQエビ
タキシャル膜の(311)面は必ずしも水晶基板の表面
に平行である必要はなく、水晶基板のカット面が上記角
度からずれていた場合には、AQエビタキシャル膜は(
311)面が水晶基板のカット面に追従して傾くように
配向するので、他の回転カット角の場合にもそれに対応
したAQ薄膜の配向方向が定まり、特に回転Yカットに
限定される必然性もない。例えば、2回回転カット水晶
基板の場合でも、AQ薄膜の(311)面が格子整合条
件をほぼ満たす方向でエビタキシャル成長することがで
きる. 上記の説明では、水晶基板を用いた場合について説明し
たが、圧電基板としてLiTaO3基板やLiNb03
基板、Li284O,基板、サファイ7 ( AQ20
s)基板の上にZnO′rIi!を形成したもの等を用
いた場合でも、AQの成膜条件(例えば、イオンビーム
スパッタやイオンブレーティング等)を適当に選択する
ことにより、アルミニウム配向膜を形或することが可能
である.これらの場合には、AQエビタキシャ゛ル膜は
(311)面とは限らないが、いずれにしてもAQ薄膜
と基板材料との結晶格子整合条件を満たすようにAQエ
ビタキシャル膜の結晶方位が定まる. なお、上記実施例では、2ボートSAW発振子で説明し
たが、他にいわゆる1ボートSAW発振千等にも適用で
きるのは当然である。また、反射器のないものでも差し
支えない。
げない程度の極く薄いTiJliやCr膜などを設けて
もよい. なお、AQエピタキシャル膜は、25゜がら39゜回転
Yカットの範囲の水晶基板で(311)配向となったが
、それ以外のカット角でも配向する可能性はある。一般
に、エビタキシャル或長ずるためには、基板とAQ薄膜
との結晶格子の整合が必要であるところ、回転Yカット
水晶基板とAQI膜との場合には、約30”回転Yカッ
ト水晶基板とAQエビタキシャル膜の(311)面とが
結晶格子的に整合しているので、25゜がら39゜回転
Yカット水晶基板ではAQ薄膜の(311)面がエビタ
キシャル或長したものである。しがしながら、AQエビ
タキシャル膜の(311)面は必ずしも水晶基板の表面
に平行である必要はなく、水晶基板のカット面が上記角
度からずれていた場合には、AQエビタキシャル膜は(
311)面が水晶基板のカット面に追従して傾くように
配向するので、他の回転カット角の場合にもそれに対応
したAQ薄膜の配向方向が定まり、特に回転Yカットに
限定される必然性もない。例えば、2回回転カット水晶
基板の場合でも、AQ薄膜の(311)面が格子整合条
件をほぼ満たす方向でエビタキシャル成長することがで
きる. 上記の説明では、水晶基板を用いた場合について説明し
たが、圧電基板としてLiTaO3基板やLiNb03
基板、Li284O,基板、サファイ7 ( AQ20
s)基板の上にZnO′rIi!を形成したもの等を用
いた場合でも、AQの成膜条件(例えば、イオンビーム
スパッタやイオンブレーティング等)を適当に選択する
ことにより、アルミニウム配向膜を形或することが可能
である.これらの場合には、AQエビタキシャ゛ル膜は
(311)面とは限らないが、いずれにしてもAQ薄膜
と基板材料との結晶格子整合条件を満たすようにAQエ
ビタキシャル膜の結晶方位が定まる. なお、上記実施例では、2ボートSAW発振子で説明し
たが、他にいわゆる1ボートSAW発振千等にも適用で
きるのは当然である。また、反射器のないものでも差し
支えない。
[発明の効果]
上述のように、本発明によれば、アルミニウム電極の耐
ストレスマイグレーション特性を向上させることができ
る.特に、高レベルの信号を印加した場合にも、ストレ
スマイグレーションが発生するのを抑制することができ
る. こうして耐ストレスマイグレーション特性が向上するこ
とにより、電気的短絡や挿入損失の劣化を低減でき、ま
た共振子のQを良好に維持できる.さらに、高周波特性
も良好にできる.また、高レベルの信号を印加した場合
にもストレスマイグレーションの発生を抑制できるので
、本発明によれば、C/N比やSSBを良好にすること
ができる.またゲインを大きくしてオーバドライブ状態
で用いることができるので、安定に発振させることが可
能になる.
ストレスマイグレーション特性を向上させることができ
る.特に、高レベルの信号を印加した場合にも、ストレ
スマイグレーションが発生するのを抑制することができ
る. こうして耐ストレスマイグレーション特性が向上するこ
とにより、電気的短絡や挿入損失の劣化を低減でき、ま
た共振子のQを良好に維持できる.さらに、高周波特性
も良好にできる.また、高レベルの信号を印加した場合
にもストレスマイグレーションの発生を抑制できるので
、本発明によれば、C/N比やSSBを良好にすること
ができる.またゲインを大きくしてオーバドライブ状態
で用いることができるので、安定に発振させることが可
能になる.
第1図は2ポート弾性表面波発振子の概略平面図、第2
図は同上の50Ω系伝送特性、第3図は耐ストレスマイ
グレーション評価システムの概略図、第4図は耐ストレ
スマイグレーション特性による寿命判定を示すカーブ、
第5図(a)(b)は本発明の回転Yカット水晶基板の
上のAQエビタキシャル膜のX線写真及びその説明図、
第6図(a)(b)は通常のアルミニウム電極のX線写
真及びその説明図である. ■・・・圧電基板 2a・・・インターディジタル電極 2b・・・グレーティング電極 g稈づ −35−
図は同上の50Ω系伝送特性、第3図は耐ストレスマイ
グレーション評価システムの概略図、第4図は耐ストレ
スマイグレーション特性による寿命判定を示すカーブ、
第5図(a)(b)は本発明の回転Yカット水晶基板の
上のAQエビタキシャル膜のX線写真及びその説明図、
第6図(a)(b)は通常のアルミニウム電極のX線写
真及びその説明図である. ■・・・圧電基板 2a・・・インターディジタル電極 2b・・・グレーティング電極 g稈づ −35−
Claims (4)
- (1) 圧電基板を用いた弾性表面波発振子において、
結晶方位的に一定方向に配向したアルミニウム膜によっ
てマイグレーション防止機能をもつ電極を形成したこと
を特徴とする弾性表面波発振子。 - (2) 前記圧電基板が、水晶、LiTaO_3、Li
NbO_3、Li_2B_4O_7、ZnO等の基板材
料からなることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面
波発振子。 - (3) 前記アルミニウム膜にCu、Ti、Ni、Mg
、Pd等の耐マイグレーション特性に優れた添加物を微
量添加したことを特徴とする請求項1又は2に記載の弾
性表面波発振子。 - (4) 前記添加物の添加量が0.1wt%〜10wt
%であることを特徴とする請求項3に記載の弾性表面波
発振子。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1151044A JPH0314307A (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | 弾性表面波発振子 |
US07/508,837 US5162690A (en) | 1989-04-14 | 1990-04-12 | Surface acoustic wave device |
KR1019900005108A KR930007796B1 (ko) | 1989-04-14 | 1990-04-13 | 탄성 표면파 장치 |
EP90304117A EP0392879B1 (en) | 1989-04-14 | 1990-04-17 | Surface acoustic wave device |
DE69028003T DE69028003T2 (de) | 1989-04-14 | 1990-04-17 | Akustische Oberflächenwellenanordnung |
CA002014675A CA2014675C (en) | 1989-04-14 | 1990-04-17 | Surface acoustic wave device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1151044A JPH0314307A (ja) | 1989-06-13 | 1989-06-13 | 弾性表面波発振子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0314307A true JPH0314307A (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=15510073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1151044A Pending JPH0314307A (ja) | 1989-04-14 | 1989-06-13 | 弾性表面波発振子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0314307A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5549014A (en) * | 1978-10-04 | 1980-04-08 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Electrode for vibrating element |
JPS6298812A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Hitachi Ltd | 弾性表面波装置 |
-
1989
- 1989-06-13 JP JP1151044A patent/JPH0314307A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5549014A (en) * | 1978-10-04 | 1980-04-08 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Electrode for vibrating element |
JPS6298812A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Hitachi Ltd | 弾性表面波装置 |
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