JPH03105961A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、樹脂封止型半導体装置に関し、特に、配線パ
ターンが形成されたフィルム状の基板に半導体素子を搭
載し、半導体素子と配線パターンを電気的に接続して成
る表面実装型の樹脂封止型半導体装置に関する。
ターンが形成されたフィルム状の基板に半導体素子を搭
載し、半導体素子と配線パターンを電気的に接続して成
る表面実装型の樹脂封止型半導体装置に関する。
従来の樹脂封止型半導体装置においては、第5図に示す
ように、板厚が約0.15mmのリードフレームに形成
されるダイバッド14上に半導体素子1を搭載し、半導
体素子1の電極パッドとダイパッド14の周囲に配置さ
れる複数の内部りードl3とを金属細線2で接続し、半
導体素子lの周囲を樹脂封止部11で覆っていた。
ように、板厚が約0.15mmのリードフレームに形成
されるダイバッド14上に半導体素子1を搭載し、半導
体素子1の電極パッドとダイパッド14の周囲に配置さ
れる複数の内部りードl3とを金属細線2で接続し、半
導体素子lの周囲を樹脂封止部11で覆っていた。
上述した従来の樹脂封止型半導体装置は、板厚が約0.
15mmのリードフレームを用いているため、金属細線
の接続部である内部リードの先端ピッチを約0.2〜0
.22mmに加工するのが限界であった。そのため、電
極パッドピッチを縮小し、全体が小型化された半導体素
子を搭載できず、市場ニーズのパッケージの小型化,多
ピン化に対応できないという欠点があった。
15mmのリードフレームを用いているため、金属細線
の接続部である内部リードの先端ピッチを約0.2〜0
.22mmに加工するのが限界であった。そのため、電
極パッドピッチを縮小し、全体が小型化された半導体素
子を搭載できず、市場ニーズのパッケージの小型化,多
ピン化に対応できないという欠点があった。
本発明の樹脂封止型半導体装置は、半導体素子を搭載す
るフィルム状の基板を具備し、樹脂封止部が前記基板上
面にのみ形成されたことを特徴とする。また、樹脂封止
部の周囲には、上面が絶縁層で固着された外部リードが
、ストレートあるいは下側に傾いて導出されている。
るフィルム状の基板を具備し、樹脂封止部が前記基板上
面にのみ形成されたことを特徴とする。また、樹脂封止
部の周囲には、上面が絶縁層で固着された外部リードが
、ストレートあるいは下側に傾いて導出されている。
次に本発明を図面を用いて詳細に説明する。第1図,第
2図は、本発明の第1の実施例を示し、第1図は最終構
造を示す断面図、第2図は、樹脂封止前の状態を示す平
面図である。第1図,第2図において、フィルム状の基
板9は、内部リード8,外部リード5及びダイパッド7
を含む配線パターンと、絶縁層a4と絶縁層b6で構成
されている。ダイパッド7の周囲に配置される内部りー
ド8は、外部リード5へ延長され、外部リード5は樹脂
封止部3の各辺に垂直になるように同ピッチで導出され
ている。内部リード8の先端部を除く上面と外部リード
上面一体には絶縁層a4が、また内部リード8の側面お
よび下面には、樹脂封止部3とほぼ同外形の絶縁層b6
が固着形成されている。ダイパッド7の上面には半導体
素子1が固着され、半導体素子1の電極パッドと内部り
一ド8先端間は金属細線2で接続され、外部リード5を
除いた基板9の上面を樹脂封止部3で覆っている。内部
リード8及び外部リード5の配線パターンには約35μ
mの薄い銅箔が用いられているため、内部リード8の先
端ピッチは0,16〜0.18mmの微細エッチング加
工が可能である。また絶縁層a4と絶縁層b6には厚さ
が約25μmのポリイミド等の絶縁材料が用いられてい
る。樹脂封止部3の各辺から導出した外部りード5の上
面を絶縁層a4で固定しているため、外部リード5の外
力による変形はない。また、外部に露出する外部リード
5の下面および測面は、プリント板等への実装を容易に
するため、半田メッキ等が施されて、さらに外部リード
5は樹脂封止部3の上面に平行あるいは、実装をさらに
よくするため外部リード5の先端がやや下側に傾くよう
に導出されている。
2図は、本発明の第1の実施例を示し、第1図は最終構
造を示す断面図、第2図は、樹脂封止前の状態を示す平
面図である。第1図,第2図において、フィルム状の基
板9は、内部リード8,外部リード5及びダイパッド7
を含む配線パターンと、絶縁層a4と絶縁層b6で構成
されている。ダイパッド7の周囲に配置される内部りー
ド8は、外部リード5へ延長され、外部リード5は樹脂
封止部3の各辺に垂直になるように同ピッチで導出され
ている。内部リード8の先端部を除く上面と外部リード
上面一体には絶縁層a4が、また内部リード8の側面お
よび下面には、樹脂封止部3とほぼ同外形の絶縁層b6
が固着形成されている。ダイパッド7の上面には半導体
素子1が固着され、半導体素子1の電極パッドと内部り
一ド8先端間は金属細線2で接続され、外部リード5を
除いた基板9の上面を樹脂封止部3で覆っている。内部
リード8及び外部リード5の配線パターンには約35μ
mの薄い銅箔が用いられているため、内部リード8の先
端ピッチは0,16〜0.18mmの微細エッチング加
工が可能である。また絶縁層a4と絶縁層b6には厚さ
が約25μmのポリイミド等の絶縁材料が用いられてい
る。樹脂封止部3の各辺から導出した外部りード5の上
面を絶縁層a4で固定しているため、外部リード5の外
力による変形はない。また、外部に露出する外部リード
5の下面および測面は、プリント板等への実装を容易に
するため、半田メッキ等が施されて、さらに外部リード
5は樹脂封止部3の上面に平行あるいは、実装をさらに
よくするため外部リード5の先端がやや下側に傾くよう
に導出されている。
次に基板9の製造工程から半導体素子1の主な組立工程
の一実施例を第3図を用い工程順に説明する。第3図に
おいて、第3図(a)は銅箔10上に絶縁層a4をコー
ティングする工程である。
の一実施例を第3図を用い工程順に説明する。第3図に
おいて、第3図(a)は銅箔10上に絶縁層a4をコー
ティングする工程である。
第3図(b)は銅箔10にダイハツド7、内部リード8
、外部リード5をエッチング加工にて形戒する工程であ
る。第3図(C)は、第3図(b)の工程で形成された
パターンの下面および側面に絶縁層b6をコーティング
し、外部リード下面をメッキする工程である。第3図(
d)は、ダイパッド7の上面および内部リード8の先端
部を露出させるため、エキシマレーザー等を用い絶縁層
a4をトリミングし、内部リード8先端に金メッミある
いは銀メッキする工程である。第3図(e)は、ダイパ
ッド7の上面に半導体素子1を固着する工程である。第
3図(f)は、半導体素子1の電極パッドと内部リード
8の先端部間を金属細線2にて接続する工程である。第
3図(g)は半導体素子1を樹脂封止部3にて覆う工程
である。
、外部リード5をエッチング加工にて形戒する工程であ
る。第3図(C)は、第3図(b)の工程で形成された
パターンの下面および側面に絶縁層b6をコーティング
し、外部リード下面をメッキする工程である。第3図(
d)は、ダイパッド7の上面および内部リード8の先端
部を露出させるため、エキシマレーザー等を用い絶縁層
a4をトリミングし、内部リード8先端に金メッミある
いは銀メッキする工程である。第3図(e)は、ダイパ
ッド7の上面に半導体素子1を固着する工程である。第
3図(f)は、半導体素子1の電極パッドと内部リード
8の先端部間を金属細線2にて接続する工程である。第
3図(g)は半導体素子1を樹脂封止部3にて覆う工程
である。
第4図は本発明の第2の実施例であり、樹脂封止前の状
態を示す平面図である。内部リード8の先端部は、金属
細線2が接続できるスペースを確保するため太く形成さ
れ、かつ、千鳥状に配置されている。この実施例では、
内部リード8の先端ピッチが約0.12mmまで微細エ
ッチング加工が可能であるため、第1の実施例よりもさ
らに小さい半導体素子1が搭載できるという利点がある
。
態を示す平面図である。内部リード8の先端部は、金属
細線2が接続できるスペースを確保するため太く形成さ
れ、かつ、千鳥状に配置されている。この実施例では、
内部リード8の先端ピッチが約0.12mmまで微細エ
ッチング加工が可能であるため、第1の実施例よりもさ
らに小さい半導体素子1が搭載できるという利点がある
。
以上説明したように本発明は、内部リードの先端を微細
に加工した基板を有しているため、半導体素子をより小
さくでき、パッケージの小型化、多ビン化に十分対応で
きる。また樹脂封止後のリード加工工程が省略または簡
略化されるため、工数低減、低額の設備投資、納期短縮
、製品の低コスト化が可能である。さらに外部リード上
面を絶縁層で固定しているため、リード変形の問題がな
く、品質が向上する。本発明は上述したような効果があ
るため、今後さらに多様化するLSIパッケージに適用
でき大いに貢献できる。
に加工した基板を有しているため、半導体素子をより小
さくでき、パッケージの小型化、多ビン化に十分対応で
きる。また樹脂封止後のリード加工工程が省略または簡
略化されるため、工数低減、低額の設備投資、納期短縮
、製品の低コスト化が可能である。さらに外部リード上
面を絶縁層で固定しているため、リード変形の問題がな
く、品質が向上する。本発明は上述したような効果があ
るため、今後さらに多様化するLSIパッケージに適用
でき大いに貢献できる。
第1図は、本発明の第1の実施例の最終構造を示す断面
図、第2図は第1の実施例の樹脂封止前の状態を示す平
面図、第3図(a>〜(g>は、本発明の製造及び組立
工程を示す断面図、第4図は、本発明の第2の実施例を
示す平面図、第5図は従来の樹脂封止型半導体装置を示
す断面図である。 1・・・半導体素子、2・・・金属細線、3・・・樹脂
封止部、4・・・絶縁層a、5・・・い外部リード、6
・・・絶縁層b、7・・・ダイパッド、8・・・内部リ
ード、9・・・基板、10・・・銅箔、11・・・樹脂
封止部、12・・・外部リード、13・・・内部リード
、14・・・ダイパツド。
図、第2図は第1の実施例の樹脂封止前の状態を示す平
面図、第3図(a>〜(g>は、本発明の製造及び組立
工程を示す断面図、第4図は、本発明の第2の実施例を
示す平面図、第5図は従来の樹脂封止型半導体装置を示
す断面図である。 1・・・半導体素子、2・・・金属細線、3・・・樹脂
封止部、4・・・絶縁層a、5・・・い外部リード、6
・・・絶縁層b、7・・・ダイパッド、8・・・内部リ
ード、9・・・基板、10・・・銅箔、11・・・樹脂
封止部、12・・・外部リード、13・・・内部リード
、14・・・ダイパツド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体素子を搭載するフィルム状の基板を具備し、
樹脂封止部が前記基板上面にのみ形成されたことを特徴
とする樹脂封止型半導体装置。 2、前記樹脂封止部の周囲には、上面が絶縁層で固着さ
れた外部リードが、ストレートあるいは下側に傾いて導
出されたことを特徴とする請求項1記載の樹脂封止型半
導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1244186A JPH03105961A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 樹脂封止型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1244186A JPH03105961A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03105961A true JPH03105961A (ja) | 1991-05-02 |
Family
ID=17115051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1244186A Pending JPH03105961A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03105961A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5760466A (en) * | 1995-04-20 | 1998-06-02 | Kyocera Corporation | Semiconductor device having improved heat resistance |
US5780933A (en) * | 1995-05-12 | 1998-07-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate for semiconductor device and semiconductor device using the same |
US5818105A (en) * | 1994-07-22 | 1998-10-06 | Nec Corporation | Semiconductor device with plastic material covering a semiconductor chip mounted on a substrate of the device |
US6022763A (en) * | 1996-05-10 | 2000-02-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate for semiconductor device, semiconductor device using the same, and method for manufacture thereof |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61134045A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-21 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1244186A patent/JPH03105961A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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