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JPH0259561A - 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 - Google Patents

光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法

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Publication number
JPH0259561A
JPH0259561A JP63211429A JP21142988A JPH0259561A JP H0259561 A JPH0259561 A JP H0259561A JP 63211429 A JP63211429 A JP 63211429A JP 21142988 A JP21142988 A JP 21142988A JP H0259561 A JPH0259561 A JP H0259561A
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JP
Japan
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compound
formula
optically active
group
hydroxy
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Application number
JP63211429A
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English (en)
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JP2691574B2 (ja
Inventor
Takao Saito
隆夫 斉藤
Hiroyasu Kumamoto
浩康 隈元
Toshiro Takemasa
俊郎 武政
Noboru Sayo
昇 佐用
Toshiyuki Takezawa
竹沢 敏之
Hidenori Kumobayashi
雲林 秀徳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takasago International Corp
Original Assignee
Takasago International Corp
Takasago Perfumery Industry Co
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Publication date
Application filed by Takasago International Corp, Takasago Perfumery Industry Co filed Critical Takasago International Corp
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Publication of JPH0259561A publication Critical patent/JPH0259561A/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はチェナマイシンの合成中間体として有用な次の
一般式(1) 〔式中 R1はカルメキシル基の保護基を示し、R2は
水素原子、置換基を有してもよいアルキル、フェニル又
はアラルキル基を示す〕で表わされる光学活性ピラゾリ
ジノン誘導体及びその製造法に関するものでるる。
〔従来の技術及びその課題〕
チェナマイシンは下記式(1%’) で表わされる抗生物質であり、その製造法としては、従
来、アセトンジカルボン酸を出発原料とする方法(D、
 G、 Melillo、 1.5hinkai。
T、 Liu、 Ryan、 M、 Sletzing
er、 TetrahedronLett、、 21 
、2783 (1980)及びL)、 G。
Melillo、 T、 Liu、 K、 Ryan、
、 M、 Sletzinger。
Tetrahedron Lett、、 22 、91
3 (1981) )が知られている。
しかし、この方法によると、光学活性体を取得するに当
シ、量論の光学活性フェネチルアミンを必要とすると共
に、これによって誘導されるアミノアルコールの立体構
造は最終目的化合物と一致しない為、光延反転反応を必
要とし、これに使用される試薬も高価であるという欠点
を有し、よシ経済的な方法の開発が望まれていた。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は上記実情に鑑み鋭意研究を行った結果、上記
一般式(I)で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導
体を中間体として用いれば、上記課題が解決されること
を見出し、本発明を完成した。
すなわち1本発明は前記一般式(I)で表わされる光学
活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法を提供するも
のである。
本発明方法によれば、ビラゾリゾノンf!4体(I)は
1例えば Co、R1 〔式中、 R1はカルボキシル基の保護基を示すJで表
わされる化合物(II)K、次の一般式(財)〔式中、
R2は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル、
フェニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラゾン又はヒドラゾン誘導体(財)を
反応せしめることによシ製造される。
本発明方法は、化合物(II) t−、メタノール、エ
タノール、酢酸エチル、テトラヒドロフ2ン又はジメチ
ルホルムアミド等の溶媒に溶解し、−45〜+50℃の
反応温度で、ヒドラゾン又はヒドラゾン誘導体に)を反
応せしめることにより実施される。この反応は、室累又
はアルゴン等の雰囲気下で行うのが好ましい。
化合物(ホ)としては1例えばヒドラゾン、メチルヒド
ラゾン、エチルヒドラゾン、フェニルヒドラゾン、p−
メトキシフェニルヒF、yシン、2.4−ジメトキシフ
ェニルヒドラゾン%P  Iロロフェニルヒトラゾン、
P−)リルヒド2シン、ペンシルヒドラゾンs p−メ
トキシペンシルヒドラゾン、ゾフェニルメチルヒド2シ
ン、2.4−ジメトキシペンシルヒドラゾン及び酢酸ヒ
ドラゾン等が挙げられる。
反応終了後、溶媒を減圧下にて留去して、冷所に放置す
ると本発明化合物(I)が析出する。
上記の如くして得られる本発明化合物(I)の代表的な
例としては、  (1’8.2’R) −5−(2′−
ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)ゾロピルービ
ラゾリゾンー3−オン、(l′8゜2’R)−1−メチ
ル−5−(2’−ヒドロキシ−1’−メトキシカルボニ
ル)fロピルビラゾリゾン−3−オン、(1′8.2′
R)−1−エチル−5−(2’−ヒドロキシ−1′−メ
トキシカルボニル)プロビルビラゾリゾンー3−オン、
(1’S 、 2’R)−1−フェニル−5−(2’−
ヒトaキシ−1′−メトキシカルボニル)グロビルービ
ラゾリゾンー3−オン、(l’s。
2’R)−1−p−メトキシフェニル−5−゛(2′−
ヒドロキシ−1′−ブト午シヵルゴニル)ゾロビルビラ
ゾリゾンー3−オン、(t’s。
2’R)−1−2’、4’−ジメトキシペンシル−s 
−(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)グ
ロピルービラゾリゾンー3−オン、(l’s 、 2’
R) −1−p−)リルー5− (2’−ヒF o #
シー1′−メトキシカルボニル)プロビルビラゾリゾン
ー3−オン、(l′s、2′R) −1−ベンゾルー5
− (2’−とド四キシ−1’−メトキシカルボニル)
fμビルピラゾリシン−3−オン、(1’S 、 2’
R) −1−p−メトキシベンゾルー5− (2’−ヒ
ドロキシ−1′−メトキシカルゴニル〕プロピルビラソ
リシン−3−オン、(rs、2′m)−1−ジフェニル
メチル−5−(2’−ヒドロキシ−1’−メトキシカル
ボニル)フロピルビ2シリシンー3−オン1.(1’8
 、2’R) −1−2’、 4“−ジメトキシベンジ
ル−5−(2’−ヒl’o−+シー1′−メトキシカル
ゴニル)プロビルビラゾリゾンー3−オン、(l′8.
2′R)−1−力ルボヒドロキシメテル−5−(2’−
ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)プロビルビラ
ゾリゾンー3−オン等が挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
上記の本発明化合物(I)は、さらに水素化することに
よシ次の一般式(ト) Co、R1 〔式中、 R1及びR2は前記と同じものを示す〕で表
わされる化合′411J(ロ)に導くことができる。
具体的には、例えばR2がペンシル基の場合には本発明
化合物(I)t−ジメトキシエタン等の溶媒に溶かし、
10〜20チ塩酸水の共存下、ノ9ラゾウムー炭素を触
媒として水素化を行い、水素化分解及び加水分解を進行
させ、触媒を戸別後、F液t−濃縮乾固すれば、4(ロ
)−5(S)−6に)−4−アミノ−5−カルボヒドロ
キシ−6−メチル−δ−ラクトン(化合物(ト)、 K
l及びRzは水素原子)が得られる。このようにして得
られた化合物(ロ)は、先に挙げた文献(D、 G、 
Melillo、 1.5hinkai、 T、 Li
u、Ryan。
M、 Sletzinger、 Tetrahedro
n Lett、、 21 e2783(1980))に
記載されておプ、チェナマイシン製造の中間体として重
要な化合物である。
〔発明の効果〕
本発明化合物は、チェナマイシンの合成中間体として有
用でメジ、°これを使用すれば工業的有利にチェナマイ
シン製造製造することができる。
〔実施例〕
次に実施例を挙げて説明する。
実施例1 6(6)−5−メトキシカルボニル−6−メテルー3.
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合*(II)、R”
はメチル基) 2.、 o r (l 18mM)をア
ルゴンガス気流下に酢酸エチル(乾燥)20−を加えて
溶かし、40℃に加熱し、ペンシルヒドラゾ7 L44
 t (I 18mM)の酢酸エチル(乾燥)10m7
!溶液を滴下した。その後%45℃にて4時間攪拌し、
次いで溶媒t−留去し、エーテル(乾燥)syyis酢
酸エチル(乾燥)l−を加え、5℃にて結晶化せしめ、
これt−戸遇することにより124t(収率6596)
の(1’8.2’R) −1−ベンゾルー 5−(2’
−ヒドロキシ−1′−メトキシカルゴニルデロビル)ピ
ラゾリシン−3−オン(化合物(1) 、 R1はメチ
ル基 flZはペンシル基)を得た。尚、濾過までのす
べての操作はアルゴン気流下で行った。
” HNMR(406MH2)δppmpyridin
e−d5 :1.30 (3H,d 、J=6.22)
 、 189 (1)1. dd 、J=156.7.
30) 、L94 (11(、dd 、 J=L56 
、7.36) 。
R0(4H,dd 、 J=6.74 、7.30) 
、3.72 (3H。
−0CRs ) 、 184 (IH,dq 、 J−
=L56 、6゜22)。
4.23 (2H,−N−CM!−ph) 、 425
 (lH,m) 。
7.2〜7.7 (5H,arornatic )実施
例2 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(If) 、 
R1はメチル基) 123 t (6,95mM)をア
ルゴンガス気流下にジメチルホルムアミド(乾燥)10
−を加えて溶かし、酢酸ヒドラゾン0.63 t (6
,95mM) t−bfd(l)t t 770えて、
室温にて2伎攪拌した。次いでジメチルホルムアミドt
−40℃にて減圧上留去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーによシ(塩化メチレン−メタノール(95:
5)で溶出)精製し、690mg(収率38チ)の(1
’S、z’R)−1−カルボヒドロキシメチル−5−(
2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニルゾロビル
)ヒラソリジン−3−オン(化合物(1) 、 R1は
メチル基1.R2はカルボヒドロキシメチル基)を得た
。尚、濾過までのすべての操作はアルゴン気流下で行っ
た。
IHNMR(400MH1)δppm pyridin
e−dB :R38(3H,d、J=7.0) 、R9
0(l)I、dd、J=115.17.98) 、R9
8(IH,dd、J =&02゜9.62) 、3L1
3 (If(、dd 、J=5.38 、17.98)
 。
3.30(lH,m)、 3.74(4H,−OCH,
、CH,CHOH−)。
460(IH,m) 実施例3 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−2−オン(化合物(u) 、 R
1はメチル基) :Z Ot (l 18mM)tyア
ルゴンガス気流下メタノール(乾床ン20−を加えて溶
かし、0℃に氷冷し、無水ヒドラゾン0.439 (1
3,4mM)滴下した。
その後、0℃にて10時間反応せしめ1次いでメタノー
ルを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り(塩化メチレン−メタノール(95:5)で溶出)n
製し、760mg(収率32%)の(I’s 、 2’
R) −5−(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカル
ボニルゾロビル)ピラゾリシン−3−オン(化合物(I
) 、 R1はメチル基、R2は水素原子)を得た。
lHNMR(400MHz)δppm methano
l−d4 :Li2(3f(、d、J=6.22) 4
28(li(、J=457゜6.67) 、R67(I
n、m) 、 R70(2H,m) 、3.70(3H
) 、4.02 (IH,m) 、 4.67 (IH
,m)実施例4 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(tQ 、 R
1はメチル基) L Ot (5,9mM) tアルゴ
ンガス気流下に酢酸エチル(乾燥]lO−を加えて溶か
し、メチルヒドラゾン270mg (5,9mM)の酢
酸エチル(乾燥)5−溶液を室温にて滴下した。その後
、室温にて10時間反応せしめ1次いで酢酸エチルを留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより(塩
化メチレン−メタノール(98:2)で溶出)精製し、
670mg(収率53チ)の(L’s、2’R)−5−
(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニルゾロビ
ル) −1−メチルピラゾリシン−3−オン(化合?!
I(I)。
R1及びR2はメチル基)を得た。
”HNP/B (400MHz) a ppm pyr
idine −d、 :1.28 (3)1.d=6.
28) 、 2.77 (l)l、 dd 、 J=9
.21 。
7.35) 、 R90(IH,dd 、J=2.85
 、7.38) 、 R92([、dd、J=7゜35
.9.05) 、R80(3H) 、185(H,dq
、J=Z85.6.28 ) 、 4.20 (lH,
m)実施例5 6(6)−5−メトキシカルゴニル−6一メチルー3.
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(10、R”は
メチル基)Lot(5,9mM)をアルゴンガス気流下
にジメチルホルムアミド(乾燥)10−を加えて溶かし
、−10℃に冷却シ、フェニルヒドラゾン640mg(
&9−)のジメチルホルムアミド(乾燥)5m+n液を
滴下した。その後、0℃にて24時間反応せしめ、次い
で溶媒を留去し、エーテル(乾燥)5111t’に加え
、5℃にて結晶化せしめ。
これt−F遇することにより3somg(収率28チ)
の(I’s 、 2’R) −5−(2’−ヒドロキシ
−11−メトキシカルボニルゾロビル)−1−フェニル
ピラゾリシン−3−オy(化合物(I) 、 R1はメ
チル基 R1はフェニル基)を得た。尚、濾過までのす
べての操作はアルゴン気流下で行った。
” H拠侃(4g 0yIHz、δppm pyrid
ine−dg :L32 (af(、d 、J=6.4
0) 、 Z8o Ltd、 dd 、 J =&95
,7.20) 492(IH,da、J=2.12.7
.41) 。
Z95 (IH,dd 、 J=a80 、7.20)
 、 3.70 (31−1゜1) 、&85 (IH
,dq 、J=SL56 、a40) 、428(IH
,m) I 7.2〜&0 (5)i、 aromat
ic )参考例1 アルゴンガス下、ガラスオートクレーブに101Pd−
C500mg、20−のジメトキシエタンに溶解した実
施例1で得られた(1’S。
2’R) −1−ベンゾルー5−(2’−ヒドロキシ−
1′−メトキシカルボニルゾロビル)ピラゾリシン−3
−オン1 y (14mM)及びIN−塩酸20−を混
合し、水素圧3 KP/ crR”%温度25℃で17
時間水素化分解する。得られた反応液を戸遇してP液を
減圧下濃縮後乾燥し、これに12N−塩酸10−を加え
4時間還元後濃縮乾燥して、620mg(収率86.4
チ)の(4R,48,5R)−4−アミノ−5−カルボ
ヒドロキシ−6−メチルチトラヒドロービラン−2−オ
ン項酸塩を得た。
得られた化合物は、そのままの状態でもチェナマイシン
の合成原料として使用可能であるが、さらに精製するこ
ともできる。精製には、トヨノq−ルTSK−HW40
Sを用い210面の吸光度を測定しなから溶離液として
蒸留水を用いてグルー過を行い、更に、精製物を蒸留水
中24時間攪拌した後、減圧下濃縮乾燥する。
得られた精製物のデータは次の通りである。
〔α)”n ℃+409 (c =1−05 、R20
) 61チ’ HNMEl、、 (400MHz )δ
ppm pyridine −dg :1.87(3i
(、d、J=6.40> 、3.55(IH,t、J=
9.0) 。
3.57(l)1.dd、J=48.17.1)、 3
.88(IH,dd。
J=9.0.17.1)、496(IH,dq、J=9
.0,6.4)。
5.07(11(、dt、J=4.8,9.0)以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1はカルボキシル基の保護基を示し、R^
    2は水素原子、置換基を有してよいアルキル、フェニル
    又はアラルキル基を示す〕 で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体。 2、次の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R^1はカルボキシル基の保護基を示す〕で表
    わされる化合物(II)に次の一般式(III)▲数式、化
    学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^2は水素原子、置換基を有していてもよい
    アルキル、フエニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラジン又はヒドラジン誘導体(III)
    を反応せしめることを特徴とする次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1及びR^2は前記と同じものを示す〕で
    表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体の製造法。
JP63211429A 1988-08-25 1988-08-25 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 Expired - Lifetime JP2691574B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06228165A (ja) * 1993-01-29 1994-08-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 有機けい素化合物及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06228165A (ja) * 1993-01-29 1994-08-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 有機けい素化合物及びその製造方法

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