JPH0259561A - 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 - Google Patents
光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法Info
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- JPH0259561A JPH0259561A JP63211429A JP21142988A JPH0259561A JP H0259561 A JPH0259561 A JP H0259561A JP 63211429 A JP63211429 A JP 63211429A JP 21142988 A JP21142988 A JP 21142988A JP H0259561 A JPH0259561 A JP H0259561A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はチェナマイシンの合成中間体として有用な次の
一般式(1) 〔式中 R1はカルメキシル基の保護基を示し、R2は
水素原子、置換基を有してもよいアルキル、フェニル又
はアラルキル基を示す〕で表わされる光学活性ピラゾリ
ジノン誘導体及びその製造法に関するものでるる。
一般式(1) 〔式中 R1はカルメキシル基の保護基を示し、R2は
水素原子、置換基を有してもよいアルキル、フェニル又
はアラルキル基を示す〕で表わされる光学活性ピラゾリ
ジノン誘導体及びその製造法に関するものでるる。
チェナマイシンは下記式(1%’)
で表わされる抗生物質であり、その製造法としては、従
来、アセトンジカルボン酸を出発原料とする方法(D、
G、 Melillo、 1.5hinkai。
来、アセトンジカルボン酸を出発原料とする方法(D、
G、 Melillo、 1.5hinkai。
T、 Liu、 Ryan、 M、 Sletzing
er、 TetrahedronLett、、 21
、2783 (1980)及びL)、 G。
er、 TetrahedronLett、、 21
、2783 (1980)及びL)、 G。
Melillo、 T、 Liu、 K、 Ryan、
、 M、 Sletzinger。
、 M、 Sletzinger。
Tetrahedron Lett、、 22 、91
3 (1981) )が知られている。
3 (1981) )が知られている。
しかし、この方法によると、光学活性体を取得するに当
シ、量論の光学活性フェネチルアミンを必要とすると共
に、これによって誘導されるアミノアルコールの立体構
造は最終目的化合物と一致しない為、光延反転反応を必
要とし、これに使用される試薬も高価であるという欠点
を有し、よシ経済的な方法の開発が望まれていた。
シ、量論の光学活性フェネチルアミンを必要とすると共
に、これによって誘導されるアミノアルコールの立体構
造は最終目的化合物と一致しない為、光延反転反応を必
要とし、これに使用される試薬も高価であるという欠点
を有し、よシ経済的な方法の開発が望まれていた。
本発明者は上記実情に鑑み鋭意研究を行った結果、上記
一般式(I)で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導
体を中間体として用いれば、上記課題が解決されること
を見出し、本発明を完成した。
一般式(I)で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導
体を中間体として用いれば、上記課題が解決されること
を見出し、本発明を完成した。
すなわち1本発明は前記一般式(I)で表わされる光学
活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法を提供するも
のである。
活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法を提供するも
のである。
本発明方法によれば、ビラゾリゾノンf!4体(I)は
1例えば Co、R1 〔式中、 R1はカルボキシル基の保護基を示すJで表
わされる化合物(II)K、次の一般式(財)〔式中、
R2は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル、
フェニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラゾン又はヒドラゾン誘導体(財)を
反応せしめることによシ製造される。
1例えば Co、R1 〔式中、 R1はカルボキシル基の保護基を示すJで表
わされる化合物(II)K、次の一般式(財)〔式中、
R2は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル、
フェニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラゾン又はヒドラゾン誘導体(財)を
反応せしめることによシ製造される。
本発明方法は、化合物(II) t−、メタノール、エ
タノール、酢酸エチル、テトラヒドロフ2ン又はジメチ
ルホルムアミド等の溶媒に溶解し、−45〜+50℃の
反応温度で、ヒドラゾン又はヒドラゾン誘導体に)を反
応せしめることにより実施される。この反応は、室累又
はアルゴン等の雰囲気下で行うのが好ましい。
タノール、酢酸エチル、テトラヒドロフ2ン又はジメチ
ルホルムアミド等の溶媒に溶解し、−45〜+50℃の
反応温度で、ヒドラゾン又はヒドラゾン誘導体に)を反
応せしめることにより実施される。この反応は、室累又
はアルゴン等の雰囲気下で行うのが好ましい。
化合物(ホ)としては1例えばヒドラゾン、メチルヒド
ラゾン、エチルヒドラゾン、フェニルヒドラゾン、p−
メトキシフェニルヒF、yシン、2.4−ジメトキシフ
ェニルヒドラゾン%P Iロロフェニルヒトラゾン、
P−)リルヒド2シン、ペンシルヒドラゾンs p−メ
トキシペンシルヒドラゾン、ゾフェニルメチルヒド2シ
ン、2.4−ジメトキシペンシルヒドラゾン及び酢酸ヒ
ドラゾン等が挙げられる。
ラゾン、エチルヒドラゾン、フェニルヒドラゾン、p−
メトキシフェニルヒF、yシン、2.4−ジメトキシフ
ェニルヒドラゾン%P Iロロフェニルヒトラゾン、
P−)リルヒド2シン、ペンシルヒドラゾンs p−メ
トキシペンシルヒドラゾン、ゾフェニルメチルヒド2シ
ン、2.4−ジメトキシペンシルヒドラゾン及び酢酸ヒ
ドラゾン等が挙げられる。
反応終了後、溶媒を減圧下にて留去して、冷所に放置す
ると本発明化合物(I)が析出する。
ると本発明化合物(I)が析出する。
上記の如くして得られる本発明化合物(I)の代表的な
例としては、 (1’8.2’R) −5−(2′−
ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)ゾロピルービ
ラゾリゾンー3−オン、(l′8゜2’R)−1−メチ
ル−5−(2’−ヒドロキシ−1’−メトキシカルボニ
ル)fロピルビラゾリゾン−3−オン、(1′8.2′
R)−1−エチル−5−(2’−ヒドロキシ−1′−メ
トキシカルボニル)プロビルビラゾリゾンー3−オン、
(1’S 、 2’R)−1−フェニル−5−(2’−
ヒトaキシ−1′−メトキシカルボニル)グロビルービ
ラゾリゾンー3−オン、(l’s。
例としては、 (1’8.2’R) −5−(2′−
ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)ゾロピルービ
ラゾリゾンー3−オン、(l′8゜2’R)−1−メチ
ル−5−(2’−ヒドロキシ−1’−メトキシカルボニ
ル)fロピルビラゾリゾン−3−オン、(1′8.2′
R)−1−エチル−5−(2’−ヒドロキシ−1′−メ
トキシカルボニル)プロビルビラゾリゾンー3−オン、
(1’S 、 2’R)−1−フェニル−5−(2’−
ヒトaキシ−1′−メトキシカルボニル)グロビルービ
ラゾリゾンー3−オン、(l’s。
2’R)−1−p−メトキシフェニル−5−゛(2′−
ヒドロキシ−1′−ブト午シヵルゴニル)ゾロビルビラ
ゾリゾンー3−オン、(t’s。
ヒドロキシ−1′−ブト午シヵルゴニル)ゾロビルビラ
ゾリゾンー3−オン、(t’s。
2’R)−1−2’、4’−ジメトキシペンシル−s
−(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)グ
ロピルービラゾリゾンー3−オン、(l’s 、 2’
R) −1−p−)リルー5− (2’−ヒF o #
シー1′−メトキシカルボニル)プロビルビラゾリゾン
ー3−オン、(l′s、2′R) −1−ベンゾルー5
− (2’−とド四キシ−1’−メトキシカルボニル)
fμビルピラゾリシン−3−オン、(1’S 、 2’
R) −1−p−メトキシベンゾルー5− (2’−ヒ
ドロキシ−1′−メトキシカルゴニル〕プロピルビラソ
リシン−3−オン、(rs、2′m)−1−ジフェニル
メチル−5−(2’−ヒドロキシ−1’−メトキシカル
ボニル)フロピルビ2シリシンー3−オン1.(1’8
、2’R) −1−2’、 4“−ジメトキシベンジ
ル−5−(2’−ヒl’o−+シー1′−メトキシカル
ゴニル)プロビルビラゾリゾンー3−オン、(l′8.
2′R)−1−力ルボヒドロキシメテル−5−(2’−
ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)プロビルビラ
ゾリゾンー3−オン等が挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
−(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)グ
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シー1′−メトキシカルボニル)プロビルビラゾリゾン
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ボニル)フロピルビ2シリシンー3−オン1.(1’8
、2’R) −1−2’、 4“−ジメトキシベンジ
ル−5−(2’−ヒl’o−+シー1′−メトキシカル
ゴニル)プロビルビラゾリゾンー3−オン、(l′8.
2′R)−1−力ルボヒドロキシメテル−5−(2’−
ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニル)プロビルビラ
ゾリゾンー3−オン等が挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
上記の本発明化合物(I)は、さらに水素化することに
よシ次の一般式(ト) Co、R1 〔式中、 R1及びR2は前記と同じものを示す〕で表
わされる化合′411J(ロ)に導くことができる。
よシ次の一般式(ト) Co、R1 〔式中、 R1及びR2は前記と同じものを示す〕で表
わされる化合′411J(ロ)に導くことができる。
具体的には、例えばR2がペンシル基の場合には本発明
化合物(I)t−ジメトキシエタン等の溶媒に溶かし、
10〜20チ塩酸水の共存下、ノ9ラゾウムー炭素を触
媒として水素化を行い、水素化分解及び加水分解を進行
させ、触媒を戸別後、F液t−濃縮乾固すれば、4(ロ
)−5(S)−6に)−4−アミノ−5−カルボヒドロ
キシ−6−メチル−δ−ラクトン(化合物(ト)、 K
l及びRzは水素原子)が得られる。このようにして得
られた化合物(ロ)は、先に挙げた文献(D、 G、
Melillo、 1.5hinkai、 T、 Li
u、Ryan。
化合物(I)t−ジメトキシエタン等の溶媒に溶かし、
10〜20チ塩酸水の共存下、ノ9ラゾウムー炭素を触
媒として水素化を行い、水素化分解及び加水分解を進行
させ、触媒を戸別後、F液t−濃縮乾固すれば、4(ロ
)−5(S)−6に)−4−アミノ−5−カルボヒドロ
キシ−6−メチル−δ−ラクトン(化合物(ト)、 K
l及びRzは水素原子)が得られる。このようにして得
られた化合物(ロ)は、先に挙げた文献(D、 G、
Melillo、 1.5hinkai、 T、 Li
u、Ryan。
M、 Sletzinger、 Tetrahedro
n Lett、、 21 e2783(1980))に
記載されておプ、チェナマイシン製造の中間体として重
要な化合物である。
n Lett、、 21 e2783(1980))に
記載されておプ、チェナマイシン製造の中間体として重
要な化合物である。
本発明化合物は、チェナマイシンの合成中間体として有
用でメジ、°これを使用すれば工業的有利にチェナマイ
シン製造製造することができる。
用でメジ、°これを使用すれば工業的有利にチェナマイ
シン製造製造することができる。
次に実施例を挙げて説明する。
実施例1
6(6)−5−メトキシカルボニル−6−メテルー3.
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合*(II)、R”
はメチル基) 2.、 o r (l 18mM)をア
ルゴンガス気流下に酢酸エチル(乾燥)20−を加えて
溶かし、40℃に加熱し、ペンシルヒドラゾ7 L44
t (I 18mM)の酢酸エチル(乾燥)10m7
!溶液を滴下した。その後%45℃にて4時間攪拌し、
次いで溶媒t−留去し、エーテル(乾燥)syyis酢
酸エチル(乾燥)l−を加え、5℃にて結晶化せしめ、
これt−戸遇することにより124t(収率6596)
の(1’8.2’R) −1−ベンゾルー 5−(2’
−ヒドロキシ−1′−メトキシカルゴニルデロビル)ピ
ラゾリシン−3−オン(化合物(1) 、 R1はメチ
ル基 flZはペンシル基)を得た。尚、濾過までのす
べての操作はアルゴン気流下で行った。
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合*(II)、R”
はメチル基) 2.、 o r (l 18mM)をア
ルゴンガス気流下に酢酸エチル(乾燥)20−を加えて
溶かし、40℃に加熱し、ペンシルヒドラゾ7 L44
t (I 18mM)の酢酸エチル(乾燥)10m7
!溶液を滴下した。その後%45℃にて4時間攪拌し、
次いで溶媒t−留去し、エーテル(乾燥)syyis酢
酸エチル(乾燥)l−を加え、5℃にて結晶化せしめ、
これt−戸遇することにより124t(収率6596)
の(1’8.2’R) −1−ベンゾルー 5−(2’
−ヒドロキシ−1′−メトキシカルゴニルデロビル)ピ
ラゾリシン−3−オン(化合物(1) 、 R1はメチ
ル基 flZはペンシル基)を得た。尚、濾過までのす
べての操作はアルゴン気流下で行った。
” HNMR(406MH2)δppmpyridin
e−d5 :1.30 (3H,d 、J=6.22)
、 189 (1)1. dd 、J=156.7.
30) 、L94 (11(、dd 、 J=L56
、7.36) 。
e−d5 :1.30 (3H,d 、J=6.22)
、 189 (1)1. dd 、J=156.7.
30) 、L94 (11(、dd 、 J=L56
、7.36) 。
R0(4H,dd 、 J=6.74 、7.30)
、3.72 (3H。
、3.72 (3H。
−0CRs ) 、 184 (IH,dq 、 J−
=L56 、6゜22)。
=L56 、6゜22)。
4.23 (2H,−N−CM!−ph) 、 425
(lH,m) 。
(lH,m) 。
7.2〜7.7 (5H,arornatic )実施
例2 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(If) 、
R1はメチル基) 123 t (6,95mM)をア
ルゴンガス気流下にジメチルホルムアミド(乾燥)10
−を加えて溶かし、酢酸ヒドラゾン0.63 t (6
,95mM) t−bfd(l)t t 770えて、
室温にて2伎攪拌した。次いでジメチルホルムアミドt
−40℃にて減圧上留去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーによシ(塩化メチレン−メタノール(95:
5)で溶出)精製し、690mg(収率38チ)の(1
’S、z’R)−1−カルボヒドロキシメチル−5−(
2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニルゾロビル
)ヒラソリジン−3−オン(化合物(1) 、 R1は
メチル基1.R2はカルボヒドロキシメチル基)を得た
。尚、濾過までのすべての操作はアルゴン気流下で行っ
た。
例2 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(If) 、
R1はメチル基) 123 t (6,95mM)をア
ルゴンガス気流下にジメチルホルムアミド(乾燥)10
−を加えて溶かし、酢酸ヒドラゾン0.63 t (6
,95mM) t−bfd(l)t t 770えて、
室温にて2伎攪拌した。次いでジメチルホルムアミドt
−40℃にて減圧上留去し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーによシ(塩化メチレン−メタノール(95:
5)で溶出)精製し、690mg(収率38チ)の(1
’S、z’R)−1−カルボヒドロキシメチル−5−(
2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニルゾロビル
)ヒラソリジン−3−オン(化合物(1) 、 R1は
メチル基1.R2はカルボヒドロキシメチル基)を得た
。尚、濾過までのすべての操作はアルゴン気流下で行っ
た。
IHNMR(400MH1)δppm pyridin
e−dB :R38(3H,d、J=7.0) 、R9
0(l)I、dd、J=115.17.98) 、R9
8(IH,dd、J =&02゜9.62) 、3L1
3 (If(、dd 、J=5.38 、17.98)
。
e−dB :R38(3H,d、J=7.0) 、R9
0(l)I、dd、J=115.17.98) 、R9
8(IH,dd、J =&02゜9.62) 、3L1
3 (If(、dd 、J=5.38 、17.98)
。
3.30(lH,m)、 3.74(4H,−OCH,
、CH,CHOH−)。
、CH,CHOH−)。
460(IH,m)
実施例3
6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−2−オン(化合物(u) 、 R
1はメチル基) :Z Ot (l 18mM)tyア
ルゴンガス気流下メタノール(乾床ン20−を加えて溶
かし、0℃に氷冷し、無水ヒドラゾン0.439 (1
3,4mM)滴下した。
6−ジヒドロピラン−2−オン(化合物(u) 、 R
1はメチル基) :Z Ot (l 18mM)tyア
ルゴンガス気流下メタノール(乾床ン20−を加えて溶
かし、0℃に氷冷し、無水ヒドラゾン0.439 (1
3,4mM)滴下した。
その後、0℃にて10時間反応せしめ1次いでメタノー
ルを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り(塩化メチレン−メタノール(95:5)で溶出)n
製し、760mg(収率32%)の(I’s 、 2’
R) −5−(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカル
ボニルゾロビル)ピラゾリシン−3−オン(化合物(I
) 、 R1はメチル基、R2は水素原子)を得た。
ルを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り(塩化メチレン−メタノール(95:5)で溶出)n
製し、760mg(収率32%)の(I’s 、 2’
R) −5−(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカル
ボニルゾロビル)ピラゾリシン−3−オン(化合物(I
) 、 R1はメチル基、R2は水素原子)を得た。
lHNMR(400MHz)δppm methano
l−d4 :Li2(3f(、d、J=6.22) 4
28(li(、J=457゜6.67) 、R67(I
n、m) 、 R70(2H,m) 、3.70(3H
) 、4.02 (IH,m) 、 4.67 (IH
,m)実施例4 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(tQ 、 R
1はメチル基) L Ot (5,9mM) tアルゴ
ンガス気流下に酢酸エチル(乾燥]lO−を加えて溶か
し、メチルヒドラゾン270mg (5,9mM)の酢
酸エチル(乾燥)5−溶液を室温にて滴下した。その後
、室温にて10時間反応せしめ1次いで酢酸エチルを留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより(塩
化メチレン−メタノール(98:2)で溶出)精製し、
670mg(収率53チ)の(L’s、2’R)−5−
(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニルゾロビ
ル) −1−メチルピラゾリシン−3−オン(化合?!
I(I)。
l−d4 :Li2(3f(、d、J=6.22) 4
28(li(、J=457゜6.67) 、R67(I
n、m) 、 R70(2H,m) 、3.70(3H
) 、4.02 (IH,m) 、 4.67 (IH
,m)実施例4 6(へ)−5−メトキシカルボニル−6−メチル−3,
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(tQ 、 R
1はメチル基) L Ot (5,9mM) tアルゴ
ンガス気流下に酢酸エチル(乾燥]lO−を加えて溶か
し、メチルヒドラゾン270mg (5,9mM)の酢
酸エチル(乾燥)5−溶液を室温にて滴下した。その後
、室温にて10時間反応せしめ1次いで酢酸エチルを留
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより(塩
化メチレン−メタノール(98:2)で溶出)精製し、
670mg(収率53チ)の(L’s、2’R)−5−
(2’−ヒドロキシ−1′−メトキシカルボニルゾロビ
ル) −1−メチルピラゾリシン−3−オン(化合?!
I(I)。
R1及びR2はメチル基)を得た。
”HNP/B (400MHz) a ppm pyr
idine −d、 :1.28 (3)1.d=6.
28) 、 2.77 (l)l、 dd 、 J=9
.21 。
idine −d、 :1.28 (3)1.d=6.
28) 、 2.77 (l)l、 dd 、 J=9
.21 。
7.35) 、 R90(IH,dd 、J=2.85
、7.38) 、 R92([、dd、J=7゜35
.9.05) 、R80(3H) 、185(H,dq
、J=Z85.6.28 ) 、 4.20 (lH,
m)実施例5 6(6)−5−メトキシカルゴニル−6一メチルー3.
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(10、R”は
メチル基)Lot(5,9mM)をアルゴンガス気流下
にジメチルホルムアミド(乾燥)10−を加えて溶かし
、−10℃に冷却シ、フェニルヒドラゾン640mg(
&9−)のジメチルホルムアミド(乾燥)5m+n液を
滴下した。その後、0℃にて24時間反応せしめ、次い
で溶媒を留去し、エーテル(乾燥)5111t’に加え
、5℃にて結晶化せしめ。
、7.38) 、 R92([、dd、J=7゜35
.9.05) 、R80(3H) 、185(H,dq
、J=Z85.6.28 ) 、 4.20 (lH,
m)実施例5 6(6)−5−メトキシカルゴニル−6一メチルー3.
6−ジヒドロビラン−2−オン(化合物(10、R”は
メチル基)Lot(5,9mM)をアルゴンガス気流下
にジメチルホルムアミド(乾燥)10−を加えて溶かし
、−10℃に冷却シ、フェニルヒドラゾン640mg(
&9−)のジメチルホルムアミド(乾燥)5m+n液を
滴下した。その後、0℃にて24時間反応せしめ、次い
で溶媒を留去し、エーテル(乾燥)5111t’に加え
、5℃にて結晶化せしめ。
これt−F遇することにより3somg(収率28チ)
の(I’s 、 2’R) −5−(2’−ヒドロキシ
−11−メトキシカルボニルゾロビル)−1−フェニル
ピラゾリシン−3−オy(化合物(I) 、 R1はメ
チル基 R1はフェニル基)を得た。尚、濾過までのす
べての操作はアルゴン気流下で行った。
の(I’s 、 2’R) −5−(2’−ヒドロキシ
−11−メトキシカルボニルゾロビル)−1−フェニル
ピラゾリシン−3−オy(化合物(I) 、 R1はメ
チル基 R1はフェニル基)を得た。尚、濾過までのす
べての操作はアルゴン気流下で行った。
” H拠侃(4g 0yIHz、δppm pyrid
ine−dg :L32 (af(、d 、J=6.4
0) 、 Z8o Ltd、 dd 、 J =&95
,7.20) 492(IH,da、J=2.12.7
.41) 。
ine−dg :L32 (af(、d 、J=6.4
0) 、 Z8o Ltd、 dd 、 J =&95
,7.20) 492(IH,da、J=2.12.7
.41) 。
Z95 (IH,dd 、 J=a80 、7.20)
、 3.70 (31−1゜1) 、&85 (IH
,dq 、J=SL56 、a40) 、428(IH
,m) I 7.2〜&0 (5)i、 aromat
ic )参考例1 アルゴンガス下、ガラスオートクレーブに101Pd−
C500mg、20−のジメトキシエタンに溶解した実
施例1で得られた(1’S。
、 3.70 (31−1゜1) 、&85 (IH
,dq 、J=SL56 、a40) 、428(IH
,m) I 7.2〜&0 (5)i、 aromat
ic )参考例1 アルゴンガス下、ガラスオートクレーブに101Pd−
C500mg、20−のジメトキシエタンに溶解した実
施例1で得られた(1’S。
2’R) −1−ベンゾルー5−(2’−ヒドロキシ−
1′−メトキシカルボニルゾロビル)ピラゾリシン−3
−オン1 y (14mM)及びIN−塩酸20−を混
合し、水素圧3 KP/ crR”%温度25℃で17
時間水素化分解する。得られた反応液を戸遇してP液を
減圧下濃縮後乾燥し、これに12N−塩酸10−を加え
4時間還元後濃縮乾燥して、620mg(収率86.4
チ)の(4R,48,5R)−4−アミノ−5−カルボ
ヒドロキシ−6−メチルチトラヒドロービラン−2−オ
ン項酸塩を得た。
1′−メトキシカルボニルゾロビル)ピラゾリシン−3
−オン1 y (14mM)及びIN−塩酸20−を混
合し、水素圧3 KP/ crR”%温度25℃で17
時間水素化分解する。得られた反応液を戸遇してP液を
減圧下濃縮後乾燥し、これに12N−塩酸10−を加え
4時間還元後濃縮乾燥して、620mg(収率86.4
チ)の(4R,48,5R)−4−アミノ−5−カルボ
ヒドロキシ−6−メチルチトラヒドロービラン−2−オ
ン項酸塩を得た。
得られた化合物は、そのままの状態でもチェナマイシン
の合成原料として使用可能であるが、さらに精製するこ
ともできる。精製には、トヨノq−ルTSK−HW40
Sを用い210面の吸光度を測定しなから溶離液として
蒸留水を用いてグルー過を行い、更に、精製物を蒸留水
中24時間攪拌した後、減圧下濃縮乾燥する。
の合成原料として使用可能であるが、さらに精製するこ
ともできる。精製には、トヨノq−ルTSK−HW40
Sを用い210面の吸光度を測定しなから溶離液として
蒸留水を用いてグルー過を行い、更に、精製物を蒸留水
中24時間攪拌した後、減圧下濃縮乾燥する。
得られた精製物のデータは次の通りである。
〔α)”n ℃+409 (c =1−05 、R20
) 61チ’ HNMEl、、 (400MHz )δ
ppm pyridine −dg :1.87(3i
(、d、J=6.40> 、3.55(IH,t、J=
9.0) 。
) 61チ’ HNMEl、、 (400MHz )δ
ppm pyridine −dg :1.87(3i
(、d、J=6.40> 、3.55(IH,t、J=
9.0) 。
3.57(l)1.dd、J=48.17.1)、 3
.88(IH,dd。
.88(IH,dd。
J=9.0.17.1)、496(IH,dq、J=9
.0,6.4)。
.0,6.4)。
5.07(11(、dt、J=4.8,9.0)以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1はカルボキシル基の保護基を示し、R^
2は水素原子、置換基を有してよいアルキル、フェニル
又はアラルキル基を示す〕 で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体。 2、次の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R^1はカルボキシル基の保護基を示す〕で表
わされる化合物(II)に次の一般式(III)▲数式、化
学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^2は水素原子、置換基を有していてもよい
アルキル、フエニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラジン又はヒドラジン誘導体(III)
を反応せしめることを特徴とする次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1及びR^2は前記と同じものを示す〕で
表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63211429A JP2691574B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63211429A JP2691574B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0259561A true JPH0259561A (ja) | 1990-02-28 |
JP2691574B2 JP2691574B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=16605805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63211429A Expired - Lifetime JP2691574B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2691574B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06228165A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP63211429A patent/JP2691574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06228165A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2691574B2 (ja) | 1997-12-17 |
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