JP2691574B2 - 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 - Google Patents
光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はチエナマイシンの合成中間体として有用な次
の一般式（Ｉ） 〔式中、R1はカルボキシル基の保護基を示し、R2は水素
原子、置換基を有してもよいアルキル、フエニル又はア
ラルキル基を示す〕 で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製
造法に関するものである。
の一般式（Ｉ） 〔式中、R1はカルボキシル基の保護基を示し、R2は水素
原子、置換基を有してもよいアルキル、フエニル又はア
ラルキル基を示す〕 で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製
造法に関するものである。
チエナマイシンは下記式（IV） で表わされる抗生物質であり、その製造法としては、従
来、アセトンジカルボン酸を出発原料とする方法（D.G.
Melillo,I.Shinkai,T.Liu.Ryan,M.Sletzinger,Tetrahed
ron Lett.,21,2783（1980）及びD.G.Melillo,T.Liu,K.R
yan.,M.Sletzinger,Tetrahedron Lett.,22,913（198
1））が知られている。
来、アセトンジカルボン酸を出発原料とする方法（D.G.
Melillo,I.Shinkai,T.Liu.Ryan,M.Sletzinger,Tetrahed
ron Lett.,21,2783（1980）及びD.G.Melillo,T.Liu,K.R
yan.,M.Sletzinger,Tetrahedron Lett.,22,913（198
1））が知られている。
しかし、この方法によると、光学活性体を取得するに
当り、量論の光学活性フエネチルアミンを必要とすると
共に、これによつて誘導されるアミノアルコールの立体
構造は最終目的化合物と一致しない為、光延反転反応を
必要とし、これに使用される試薬も高価であるという欠
点を有し、より経済的な方法の開発が望まれていた。
当り、量論の光学活性フエネチルアミンを必要とすると
共に、これによつて誘導されるアミノアルコールの立体
構造は最終目的化合物と一致しない為、光延反転反応を
必要とし、これに使用される試薬も高価であるという欠
点を有し、より経済的な方法の開発が望まれていた。
本発明者は上記実情に鑑み鋭意研究を行つた結果、上
記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘
導体を中間体として用いれば、上記課題が解決されるこ
とを見出し、本発明を完成した。
記一般式（Ｉ）で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘
導体を中間体として用いれば、上記課題が解決されるこ
とを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は前記一般式（Ｉ）で表わされる光
学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法を提供する
ものである。
学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法を提供する
ものである。
本発明方法によれば、ピラゾリジノン誘導体（Ｉ）
は、例えば 〔式中、R1はカルボキシル基の保護基を示す〕 で表わされる化合物（II）に次の一般式（III） 〔式中、R2は水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル、フエニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラジン又はヒドラジン誘導体（III）
を反応せしめることにより製造される。
は、例えば 〔式中、R1はカルボキシル基の保護基を示す〕 で表わされる化合物（II）に次の一般式（III） 〔式中、R2は水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル、フエニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラジン又はヒドラジン誘導体（III）
を反応せしめることにより製造される。
本発明方法は、化合物（II）を、メタノール、エタノ
ール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン又はジメチルホ
ルムアミド等の溶媒に溶解し、−45〜＋50℃の反応温度
で、ヒドラジン又はヒドラジン誘導体（III）を反応せ
しめることにより実施される。この反応は、窒素又はア
ルゴン等の雰囲気下で行うのが好ましい。
ール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン又はジメチルホ
ルムアミド等の溶媒に溶解し、−45〜＋50℃の反応温度
で、ヒドラジン又はヒドラジン誘導体（III）を反応せ
しめることにより実施される。この反応は、窒素又はア
ルゴン等の雰囲気下で行うのが好ましい。
化合物（III）としては、例えばヒドラジン、メチル
ヒドラジン、エチルヒドラジン、フエニルヒドラジン、
ｐ−メトキシフエニルヒドラジン、2,4−ジメトキシフ
エニルヒドラジン、ｐ−クロロフエニルヒドラジン、ｐ
−トリルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、ｐ−メトキ
シベンジルヒドラジン、ジフエニルメチルヒドラジン、
2,4−ジメトキシベンジルヒドラジン及び酢酸ヒドラジ
ン等が挙げられる。
ヒドラジン、エチルヒドラジン、フエニルヒドラジン、
ｐ−メトキシフエニルヒドラジン、2,4−ジメトキシフ
エニルヒドラジン、ｐ−クロロフエニルヒドラジン、ｐ
−トリルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、ｐ−メトキ
シベンジルヒドラジン、ジフエニルメチルヒドラジン、
2,4−ジメトキシベンジルヒドラジン及び酢酸ヒドラジ
ン等が挙げられる。
反応終了後、溶媒を減圧下にて留去して、冷所に放置
すると本発明化合物（Ｉ）が折出する。
すると本発明化合物（Ｉ）が折出する。
上記の如くして得られる本発明化合物（Ｉ）の代表的
な例としては、（１′S,2′Ｒ）−５−（２′−ヒドロ
キシ−１′−メトキシカルボニル）プロピル−ピラゾリ
ジン−３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−メチル−５−
（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニル）プロ
ピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−
エチル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカル
ボニル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,
2′Ｒ）−１−フエニル−５−（２′−ヒドロキシ−
１′−メトキシカルボニル）プロピル−ピラゾリジン−
３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−ｐ−メトキシフエニ
ル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−ブトキシカルボニ
ル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′
Ｒ）−１−２″,4″−ジメトキシベンジル−５−（２′
−ヒドロキシ−１′−エトキシカルボニル）プロピル−
ピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−ｐ−
トリル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−エトキシカル
ボニル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,
2′Ｒ）−１−ベンジル−５−（２′−ヒドロキシ−
１′−メトキシカルボニル）プロピルピラゾリジン−３
−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−ｐ−メトキシベンジル
−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニ
ル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′
Ｒ）−１−ジフエニルメチル−５−（２′−ヒドロキシ
−１′−メトキシカルボニル）プロピルピラゾリジン−
３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−２″,4″−ジメトキ
シベンジル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシ
カルボニル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′
S,2′Ｒ）−１−カルボヒドロキシメチル−５−（２′
−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニル）プロピルピ
ラゾリジン−３−オン等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。
な例としては、（１′S,2′Ｒ）−５−（２′−ヒドロ
キシ−１′−メトキシカルボニル）プロピル−ピラゾリ
ジン−３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−メチル−５−
（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニル）プロ
ピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−
エチル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカル
ボニル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,
2′Ｒ）−１−フエニル−５−（２′−ヒドロキシ−
１′−メトキシカルボニル）プロピル−ピラゾリジン−
３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−ｐ−メトキシフエニ
ル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−ブトキシカルボニ
ル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′
Ｒ）−１−２″,4″−ジメトキシベンジル−５−（２′
−ヒドロキシ−１′−エトキシカルボニル）プロピル−
ピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−ｐ−
トリル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−エトキシカル
ボニル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,
2′Ｒ）−１−ベンジル−５−（２′−ヒドロキシ−
１′−メトキシカルボニル）プロピルピラゾリジン−３
−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−ｐ−メトキシベンジル
−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニ
ル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′S,2′
Ｒ）−１−ジフエニルメチル−５−（２′−ヒドロキシ
−１′−メトキシカルボニル）プロピルピラゾリジン−
３−オン、（１′S,2′Ｒ）−１−２″,4″−ジメトキ
シベンジル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシ
カルボニル）プロピルピラゾリジン−３−オン、（１′
S,2′Ｒ）−１−カルボヒドロキシメチル−５−（２′
−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニル）プロピルピ
ラゾリジン−３−オン等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。
上記の本発明化合物（Ｉ）は、さらに水素化すること
により次の一般式（Ｖ） 〔式中、R1及びR2は前記と同じものを示す〕 で表わされる化合物（Ｖ）に導くことができる。
により次の一般式（Ｖ） 〔式中、R1及びR2は前記と同じものを示す〕 で表わされる化合物（Ｖ）に導くことができる。
具体的には、例えばR2がベンジル基の場合には本発明
化合物（Ｉ）をジメトキシエタン等の溶媒に溶かし、10
〜20％塩酸水の共存下、パラジウム−炭素を触媒として
水素化を行い、水素化分解及び加水分解を進行させ、触
媒を別後、液を濃縮乾固すれば、４（Ｒ）−５
（Ｓ）−６（Ｒ）−アミノ−５−カルボヒドロキシ−６
−メチル−δ−ラクトン（化合物（Ｖ），R1及びR2は水
素原子）が得られる。このようにして得られた化合物
（Ｖ）は、先に挙げた文献（D.G.Melillo,I.Shinkai,T.
Liu.Ryan,M.Sletzinger,Tetrahedrron Lett.,21,2783
（1980））に記載されており、チエナマイシン製造の中
間体として重要な化合物である。
化合物（Ｉ）をジメトキシエタン等の溶媒に溶かし、10
〜20％塩酸水の共存下、パラジウム−炭素を触媒として
水素化を行い、水素化分解及び加水分解を進行させ、触
媒を別後、液を濃縮乾固すれば、４（Ｒ）−５
（Ｓ）−６（Ｒ）−アミノ−５−カルボヒドロキシ−６
−メチル−δ−ラクトン（化合物（Ｖ），R1及びR2は水
素原子）が得られる。このようにして得られた化合物
（Ｖ）は、先に挙げた文献（D.G.Melillo,I.Shinkai,T.
Liu.Ryan,M.Sletzinger,Tetrahedrron Lett.,21,2783
（1980））に記載されており、チエナマイシン製造の中
間体として重要な化合物である。
本発明化合物は、チエナマイシンの合成中間体として
有用であり、これを使用すれば工業的有利にチエナマイ
シンを製造することができる。
有用であり、これを使用すれば工業的有利にチエナマイ
シンを製造することができる。
次に実施例を挙げて説明する。
実施例１ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）2.0g（11.8mM）をアルゴンガス気流下に酢酸エ
チル（乾燥）20mlを加えて溶かし、40℃に加熱し、ベン
ジルヒドラジン1.44g（11.8mM）の酢酸エチル（乾燥）1
0ml溶液を滴下した。その後、45℃にて４時間撹拌し、
次いで溶媒を留去し、エーテル（乾燥）5ml、酢酸エチ
ル（乾燥）1mlを加え、５℃にて結晶化せしめ、これを
過することにより2.24g（収率65％）の（１′S,2′
Ｒ）−１−ベンジル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−
メトキシカルボニルプロピル）ピラゾリジン−３−オン
（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2はベンジル基）を得
た。尚、過までのすべての操作はアルゴン気流下で行
つた。1 H NMR（400MHz）δppmpyridine−d5： 1.30（3H,d,J＝6.22）,2.89（1H,dd,J＝2.56,7.30）,
2.94（1H,dd,J＝2.56,7.36）,3.0（1H,dd,J＝6.74,7.3
0）,3.72（3H,−OCH3）、3.84（1H,dq,J＝2.56,6.22）,
4.23（2H,−Ｎ−CH2 −ph）,4.25（1H,m）,7.2〜7.7（5
H,aromatic） 実施例２ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）1.23g（6.95mM）をアルゴンガス気流下にジメ
チルホルムアミド（乾燥）10mlを加えて溶かし、酢酸ヒ
ドラジン0.63g（6.95mM）を固体のまま加えて、室温に
て一夜撹拌した。次いでジメチルホルムアミドを40℃に
て減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
により（塩化メチレン−メタノール（95:5）で溶出）精
製し、690mg（収率38％）の（１′S,2′Ｒ）−１−カル
ボヒドロキシメチル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−
メトキシカルボニルプロピル）ピラゾリジン−３−オン
（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2はカルボヒドロキシ
メチル基）を得た。尚、過までのすべての操作はアル
ゴン気流下で行つた。1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.38（3H,d,J＝7.0）,2.90（1H,dd,J＝3.15,17.98）,
2.98（1H,dd,J＝8.02,9.62）,3.13（1H,dd,J＝5.38,17.
98）,3.30（1H,m）,3.74（4H,−OCH3 ，CH3CHOH−）,4.6
0（1H,m） 実施例３ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）2.0g（11.8mM）をアルゴンガス気流下にメタノ
ール（乾燥）20mlを加えて溶かし、０℃に水冷し、無水
ヒドラジン0.43g（13.4mM）滴下した。その後、０℃に
て10時間反応せしめ、次いでメタノールを留去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにより（塩化メチレン
−メタノール（95:5）で溶出）精製し、760mg（収率32
％）の（１′S,2′Ｒ）−５−（２′−ヒドロキシ−
１′−メトキシカルボニルプロピル）ピラゾリジン−３
−オン（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2は水素原子）
を得た。1 H NMR（400MHz）δppm methanol−d4： 1.17（3H,d,J＝6.22）,2.28（1H,J＝4.57,6.67）,2.6
7（1H,m）,2.70（2H,m）,3.70（3H）,4.02（1H,m）,4.6
7（1H,m） 実施例４ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）1.0g（5.9mM）をアルゴンガス気流下に酢酸エ
チル（乾燥）10mlを加えて溶かし、メチルヒドラジン27
0mg（5.9mM）の酢酸エチル（乾燥）5ml溶液を室温にて
滴下した。その後、室温にて10時間反応せしめ、次いで
酢酸エチルを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより（塩化メチレン−メタノール（98:2）で溶
出）精製し、670mg（収率53％）の（１′S,2′Ｒ）−５
−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニルプロ
ピル）−１−メチルピラゾリジン−３−オン（化合物
（Ｉ），R1及びR2は水素原子）を得た。1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.28（3H,d＝6.28）,2.77（1H,dd,J＝9.21,7.35）,2.
90（1H,dd,J＝2.85,7.38）,2.92（1H,dd,J＝7.35,9.0
5）,3.80（3H）,3.85（H,dq,J＝2.85,6.28）,4.20（1H,
m） 実施例５ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）1.0g（5.9mM）をアルゴンガス気流下にジメチ
ルホルムアミド（乾燥）10mlを加えて溶かし、−10℃に
冷却し、フエニルヒドラジン640mg（5.9mM）のジメチル
ホルムアミド（乾燥）5ml溶液を滴下した。その後、０
℃にて24時間反応せしめ、次いで溶媒を留去し、エーテ
ル（乾燥）5mlを加え、５℃にて結晶化せしめ、これを
過することにより350mg（収率28％）の（１′S,2′
Ｒ）−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボ
ニルプロピル）−１−フエニルピラゾリジン−３−オン
（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2はフエニル基）を得
た。尚、過までのすべての操作はアルゴン気流下で行
つた。1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.32（3H,d,J＝6.40）,2.80（1H,dd,J＝8.95,7.20）,
2.92（1H,dd,J＝2.12,7.41）,2.95（1H,dd,J＝6.80,7.2
0）,3.70（3H,s）,3.85（H,dq,J＝2.56,6.40）,4.28（1
H,m）,7.2〜8.0（5H,aromatic） 参考例１ アルゴンガス下、ガラスオートクレーブに10％Pd−C
500mg、20mlのジメトキシエタンに溶解した実施例１で
得られた（１′S,2′Ｒ）−１−ベンジル−５−（２′
−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニルプロピル）ピ
ラゾリジン−３−オン1g（3.4mM）及び1N−塩酸20mlを
混合し、水素圧3kg/cm2、温度25℃で17時間水素化分解
する。得られた反応液を過して液を減圧下濃縮後乾
燥し、これに12N−塩酸10mlを加え４時間還流後濃縮乾
燥して、620mg（収率86.4％）の（4R,4S,5R）−４−ア
ミノ−５−カルボヒドロキシ−６−メチルテトラヒドロ
−ピラン−２−オン塩酸塩を得た。
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）2.0g（11.8mM）をアルゴンガス気流下に酢酸エ
チル（乾燥）20mlを加えて溶かし、40℃に加熱し、ベン
ジルヒドラジン1.44g（11.8mM）の酢酸エチル（乾燥）1
0ml溶液を滴下した。その後、45℃にて４時間撹拌し、
次いで溶媒を留去し、エーテル（乾燥）5ml、酢酸エチ
ル（乾燥）1mlを加え、５℃にて結晶化せしめ、これを
過することにより2.24g（収率65％）の（１′S,2′
Ｒ）−１−ベンジル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−
メトキシカルボニルプロピル）ピラゾリジン−３−オン
（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2はベンジル基）を得
た。尚、過までのすべての操作はアルゴン気流下で行
つた。1 H NMR（400MHz）δppmpyridine−d5： 1.30（3H,d,J＝6.22）,2.89（1H,dd,J＝2.56,7.30）,
2.94（1H,dd,J＝2.56,7.36）,3.0（1H,dd,J＝6.74,7.3
0）,3.72（3H,−OCH3）、3.84（1H,dq,J＝2.56,6.22）,
4.23（2H,−Ｎ−CH2 −ph）,4.25（1H,m）,7.2〜7.7（5
H,aromatic） 実施例２ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）1.23g（6.95mM）をアルゴンガス気流下にジメ
チルホルムアミド（乾燥）10mlを加えて溶かし、酢酸ヒ
ドラジン0.63g（6.95mM）を固体のまま加えて、室温に
て一夜撹拌した。次いでジメチルホルムアミドを40℃に
て減圧下留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフイー
により（塩化メチレン−メタノール（95:5）で溶出）精
製し、690mg（収率38％）の（１′S,2′Ｒ）−１−カル
ボヒドロキシメチル−５−（２′−ヒドロキシ−１′−
メトキシカルボニルプロピル）ピラゾリジン−３−オン
（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2はカルボヒドロキシ
メチル基）を得た。尚、過までのすべての操作はアル
ゴン気流下で行つた。1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.38（3H,d,J＝7.0）,2.90（1H,dd,J＝3.15,17.98）,
2.98（1H,dd,J＝8.02,9.62）,3.13（1H,dd,J＝5.38,17.
98）,3.30（1H,m）,3.74（4H,−OCH3 ，CH3CHOH−）,4.6
0（1H,m） 実施例３ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）2.0g（11.8mM）をアルゴンガス気流下にメタノ
ール（乾燥）20mlを加えて溶かし、０℃に水冷し、無水
ヒドラジン0.43g（13.4mM）滴下した。その後、０℃に
て10時間反応せしめ、次いでメタノールを留去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにより（塩化メチレン
−メタノール（95:5）で溶出）精製し、760mg（収率32
％）の（１′S,2′Ｒ）−５−（２′−ヒドロキシ−
１′−メトキシカルボニルプロピル）ピラゾリジン−３
−オン（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2は水素原子）
を得た。1 H NMR（400MHz）δppm methanol−d4： 1.17（3H,d,J＝6.22）,2.28（1H,J＝4.57,6.67）,2.6
7（1H,m）,2.70（2H,m）,3.70（3H）,4.02（1H,m）,4.6
7（1H,m） 実施例４ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）1.0g（5.9mM）をアルゴンガス気流下に酢酸エ
チル（乾燥）10mlを加えて溶かし、メチルヒドラジン27
0mg（5.9mM）の酢酸エチル（乾燥）5ml溶液を室温にて
滴下した。その後、室温にて10時間反応せしめ、次いで
酢酸エチルを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにより（塩化メチレン−メタノール（98:2）で溶
出）精製し、670mg（収率53％）の（１′S,2′Ｒ）−５
−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニルプロ
ピル）−１−メチルピラゾリジン−３−オン（化合物
（Ｉ），R1及びR2は水素原子）を得た。1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.28（3H,d＝6.28）,2.77（1H,dd,J＝9.21,7.35）,2.
90（1H,dd,J＝2.85,7.38）,2.92（1H,dd,J＝7.35,9.0
5）,3.80（3H）,3.85（H,dq,J＝2.85,6.28）,4.20（1H,
m） 実施例５ ６（Ｒ）−５−メトキシカルボニル−６−メチル−3,
6−ジヒドロピラン−２−オン（化合物（II），R1はメ
チル基）1.0g（5.9mM）をアルゴンガス気流下にジメチ
ルホルムアミド（乾燥）10mlを加えて溶かし、−10℃に
冷却し、フエニルヒドラジン640mg（5.9mM）のジメチル
ホルムアミド（乾燥）5ml溶液を滴下した。その後、０
℃にて24時間反応せしめ、次いで溶媒を留去し、エーテ
ル（乾燥）5mlを加え、５℃にて結晶化せしめ、これを
過することにより350mg（収率28％）の（１′S,2′
Ｒ）−５−（２′−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボ
ニルプロピル）−１−フエニルピラゾリジン−３−オン
（化合物（Ｉ），R1はメチル基、R2はフエニル基）を得
た。尚、過までのすべての操作はアルゴン気流下で行
つた。1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.32（3H,d,J＝6.40）,2.80（1H,dd,J＝8.95,7.20）,
2.92（1H,dd,J＝2.12,7.41）,2.95（1H,dd,J＝6.80,7.2
0）,3.70（3H,s）,3.85（H,dq,J＝2.56,6.40）,4.28（1
H,m）,7.2〜8.0（5H,aromatic） 参考例１ アルゴンガス下、ガラスオートクレーブに10％Pd−C
500mg、20mlのジメトキシエタンに溶解した実施例１で
得られた（１′S,2′Ｒ）−１−ベンジル−５−（２′
−ヒドロキシ−１′−メトキシカルボニルプロピル）ピ
ラゾリジン−３−オン1g（3.4mM）及び1N−塩酸20mlを
混合し、水素圧3kg/cm2、温度25℃で17時間水素化分解
する。得られた反応液を過して液を減圧下濃縮後乾
燥し、これに12N−塩酸10mlを加え４時間還流後濃縮乾
燥して、620mg（収率86.4％）の（4R,4S,5R）−４−ア
ミノ−５−カルボヒドロキシ−６−メチルテトラヒドロ
−ピラン−２−オン塩酸塩を得た。
得られた化合物は、そのままの状態でもチエナマイシ
ンの合成原料として使用可能であるが、さらに精製する
こともできる。精製には、トヨパールTSK-HW40Sを用い2
10nmの吸光度を測定しながら溶離液として蒸留水を用い
てゲル過を行い、更に、精製物を蒸留水中24時間撹拌
した後、減圧下濃縮乾燥する。
ンの合成原料として使用可能であるが、さらに精製する
こともできる。精製には、トヨパールTSK-HW40Sを用い2
10nmの吸光度を測定しながら溶離液として蒸留水を用い
てゲル過を行い、更に、精製物を蒸留水中24時間撹拌
した後、減圧下濃縮乾燥する。
得られた精製物のデータは次の通りである。
▲〔ａ〕25℃ D▼＋4.09（ｃ＝1.05,H2O）61％1 H NMR（400MHz）δppm pyridine−d5： 1.87（3H,d,J＝6.40）,3.55（1H,t,J＝9.0）,3.57（1
H,dd,J＝4.8,17.1）,3.88（1H,dd,J＝9.0,17.1）,4.96
（1H,dq,J＝9.0,6.4）,5.07（1H,dt,J＝4.8,9.0）
H,dd,J＝4.8,17.1）,3.88（1H,dd,J＝9.0,17.1）,4.96
（1H,dq,J＝9.0,6.4）,5.07（1H,dt,J＝4.8,9.0）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹沢 敏之 埼玉県浦和市内谷３―19―８―203 (72)発明者 雲林 秀徳 神奈川県茅ケ崎市中海岸１―４―９
Claims (2)
- 【請求項１】次の一般式（Ｉ） 〔式中、R1はカルボキシル基の保護基を示し、R2は水素
原子、置換基を有してよいアルキル、フエニル又はアラ
ルキル基を示す〕 で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体。 - 【請求項２】次の一般式（II） 〔式中、R1はカルボキシル基の保護基を示す〕 で表わされる化合物（II）に次の一般式（III） 〔式中、R2は水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル、フエニル又はアラルキル基を示す〕 で表わされるヒドラジン又はヒドラジン誘導体（III）
を反応せしめることを特徴とする次の一般式（Ｉ） 〔式中、R1及びR2は前記と同じものを示す〕 で表わされる光学活性ピラゾリジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211429A JP2691574B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211429A JP2691574B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0259561A JPH0259561A (ja) | 1990-02-28 |
| JP2691574B2 true JP2691574B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=16605805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63211429A Expired - Lifetime JP2691574B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 光学活性ピラゾリジノン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691574B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06228165A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP63211429A patent/JP2691574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0259561A (ja) | 1990-02-28 |
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