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JPH0254774A - 無電解金合金めっき浴 - Google Patents

無電解金合金めっき浴

Info

Publication number
JPH0254774A
JPH0254774A JP20411588A JP20411588A JPH0254774A JP H0254774 A JPH0254774 A JP H0254774A JP 20411588 A JP20411588 A JP 20411588A JP 20411588 A JP20411588 A JP 20411588A JP H0254774 A JPH0254774 A JP H0254774A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gold
potassium
cobalt
sodium
plating bath
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20411588A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Ueki
植木 浩蔵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP20411588A priority Critical patent/JPH0254774A/ja
Publication of JPH0254774A publication Critical patent/JPH0254774A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、無電解金合金めっき浴に関する。
〔発明の概要〕
本発明は、還元剤を用いて化学的に金属を析出させる無
電解めっき浴において、めっき浴1lにつき、シアン化
金(1)カリウムとして金を1〜]Og1硫酸コバルト
、塩化コバルト、スルファミン酸コバルト、酢酸コバル
トのうちの1種としてコバルトを5〜20g、金の錯化
剤をシアン化カリウム、シアン化ナトリウムのうちの1
種として0.1〜10g1コバルトの錯化剤をクエン酸
、スルファミン酸、シュウ酸、酢酸のうちの1種として
50〜300g5pH調整剤を水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、
スルファミン酸カリウム、スルフアミン酸ナトリウム、
シュウ酸カリウム、シュウ酸ナトリウム、酢酸カリウム
、酢酸ナトリウムのうちの1種として50〜300g、
還元剤をホスフィン酸ナトリウムとして0.5〜30g
の割合で含み、pHを3〜5とすることにより、光沢の
ある、18〜22カラツトのめっき皮膜を得ることが可
能な、装飾用の無電解金合金めっき浴を提供するように
したものである。
〔従来の技術〕
従来、無電解金合金めっき浴としては、電子部品や回路
基板等に適用されている無電解金合金めっき浴があった
〔発明が解決しようとする課題〕
上記の無電解金合金めっき浴は、電子工業の発展に伴い
、電子部品や独立した回路基板等に適用するために開発
されたもので、はぼ純金に近い組成のめっき皮膜が得ら
れる。しかし、当該めっき浴は]8〜22カラツトの金
相の金合金めっき皮膜が得られず、しかも得られためっ
き皮膜の外観表面が無光沢であるという欠点を有してい
たため、装飾用として適用することができなかった。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題を解決するために、本発明においては、めっき
浴1lにつき、シアン化金(1)カリウムとして金を好
ましくは3〜10gであるが1〜10g、硫酸コバルト
、塩化コバルト、スルファミン酸コバルト、酢酸コバル
トのうちの1種としてコバルトを5〜20g、金の錯化
剤をシアン化カリウム、シアン化ナトリウムのうちの1
種として0.1〜10g1コバルトの錯化剤をクエン酸
、スルファミン酸、シュウ酸、酢酸のうちの1種として
50〜300g、pH調整剤を水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、
スルファミン酸カリウム、スルファミン酸ナトリウム、
シュウ酸カリウム、シュウ酸ナトリウム、酢酸カリウム
、酢酸すトリウムのうちの1種として50〜300g、
還元剤をホスフィン酸ナトリウムとして好ましくは約1
0gであるが0.5〜30gの割合で含み、pHか3〜
5とすることにより、光沢のある、18〜22カラツト
のめっき皮膜を得ることが可能な、装飾用の無電解金合
金めっき浴を提供するようにした。
〔作用〕
無電解めっきは、置換析出型と自己触媒型があり、析出
反応の点で、置換析出型のめっき浴は、披めっき体をめ
っき金属が一様に覆ってしまうと、それ以上置換反応が
進まず、厚付けが困難であるという欠点があるのに対し
て、自己触媒型のめっき浴は、めっき金属が存在する場
所でさらに同じ金属が析出し続けるという特徴を有して
いる。本発明の基本となるめっき浴は、酸性シアン化金
めっき浴であり、当該めっき浴にホスフィン酸ナトリウ
ムを添加することにより、自己触媒型無電解金合金めっ
き浴を得ることが可能となった。特に、本発明の特徴と
なる、ホスフィン酸ナトリウムの添加量については、0
.5g/jJ以下の添加量では析出反応を進行させるこ
とが困難であり、30g/lを越える添加量ではめっき
浴が不安定になるとの理由により、0.5〜30g/j
!の添加範囲が選択されるものである。金とコバルトの
添加量については、[1的とする金相を得るために選択
されるものである。すなわち、コバルトの添加量を5g
/gから20g/(lまで順次増加することにより、金
柑を22カラツトから18カラツトまで変化させること
が可能である。さらに、各金属の錯化剤およびpH調整
剤の添加量範囲は、金およびコバルトか安定な錯体を形
成し、光沢のある外観表面を得るために選択されるもの
である。
〔実施例〕
(実施例1) 下記の組成のめっき浴を用い、黄銅数にめっきを施し、
22カラツトの光沢のある金合金めっき皮膜を得た。
シアン化金(I)カリウム    9  g/41)ス
ルファミン酸コバルト     7  g/gシアン化
カジカリウム       3  g/!1スルファミ
ン酸       150  g/(1スルフアミン酸
カリウム   130  g/IIホスフィン酸ナトリ
ウム    10  g’/りpH3,8 (実施例2) 下記の組成のめっき浴を用い、黄銅板にめっきを施し、
20カラツトの光沢のある金合金めっき皮膜を得た。
シアン化金(I)カリウム    9  gel硫酸コ
バルト         15  g/flシアン化ナ
トジナトリウム     1  g/Dクエン酸   
        180  g/Dクエン酸ナトリウム
      150  g/IIホスフィン酸ナトリウ
ム    13  g/j!pH4,3 (実施例3) 下記の組成のめっき浴を用い、黄銅板にめっきを施し、
18カラツトの光沢のある金合金めっき皮膜を得た。
シアン化金(I)カリウム    4  g/(1塩化
コバルト         20  g/lシアン化カ
リウム         1  g/IIスルファミン
酸       170  g/Dスルファミン酸ナト
リウム  160  g/ilホスフィン酸ナトリウム
    1.3  g/NpH3,3 〔発明の効果〕 本発明のめっき浴を用いることにより、光沢のある、1
8〜22カラツトの金を目の金合金めっき皮膜を得るこ
とが可能となり、しかも、電機めっきに比べ、電機設備
が不要となりコストダウンが可能となった。さらに、め
っき皮膜の均一電管性が向上し、めっき皮膜の品質を向
上させることができた。
以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 還元剤を用いて化学的に金属を析出させる無電解めっき
    浴において、めっき浴1lにつき、シアン化金( I )
    カリウムとして金を1〜10g、硫酸コバルト、塩化コ
    バルト、スルファミン酸コバルト、酢酸コバルトのうち
    の1種としてコバルトを5〜20g、金の錯化剤をシア
    ン化カリウム、シアン化ナトリウムのうちの1種として
    0.1〜10g、コバルトの錯化剤をクエン酸、スルフ
    ァミン酸、シュウ酸、酢酸のうちの1種として50〜3
    00g、pH調整剤を水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
    ム、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、スルファ
    ミン酸カリウム、スルファミン酸ナトリウム、シュウ酸
    カリウム、シュウ酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸ナ
    トリウムのうちの1種として50〜300g、還元剤を
    ホスフィン酸ナトリウムとして0.5〜30gの割合で
    含み、pHが3〜5であることを特徴とする無電解金合
    金めっき浴。
JP20411588A 1988-08-17 1988-08-17 無電解金合金めっき浴 Pending JPH0254774A (ja)

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JP20411588A JPH0254774A (ja) 1988-08-17 1988-08-17 無電解金合金めっき浴

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JP20411588A JPH0254774A (ja) 1988-08-17 1988-08-17 無電解金合金めっき浴

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JPH0254774A true JPH0254774A (ja) 1990-02-23

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JP (1) JPH0254774A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002077322A1 (en) * 2001-03-22 2002-10-03 Midwest Research Institute Electroless deposition of cu-in-ga-se film
JP2010513720A (ja) * 2006-12-22 2010-04-30 ラム リサーチ コーポレーション コバルト合金の無電解堆積

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002077322A1 (en) * 2001-03-22 2002-10-03 Midwest Research Institute Electroless deposition of cu-in-ga-se film
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