JPH02502350A - ガス清浄サイクロン - Google Patents
ガス清浄サイクロンInfo
- Publication number
- JPH02502350A JPH02502350A JP63504120A JP50412088A JPH02502350A JP H02502350 A JPH02502350 A JP H02502350A JP 63504120 A JP63504120 A JP 63504120A JP 50412088 A JP50412088 A JP 50412088A JP H02502350 A JPH02502350 A JP H02502350A
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- JP
- Japan
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- rotor
- gas
- contaminated gas
- injection nozzle
- contaminated
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D45/00—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces
- B01D45/12—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D45/00—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces
- B01D45/12—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces
- B01D45/14—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces generated by rotating vanes, discs, drums or brushes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ガス清浄サイクロン
この発明は、少なくとも1個の汚染ガス注入ノズルと、1個のガス放出口と、1
個の汚染物質放出口と、汚染物質を収集する漏斗とを有するガス清浄サイクロン
に関する。
汚染ガスから塵のような粒子を分離する装置には幾つかの種類がある。中でも最
も広く知られているのはガスをフィルターに通すシステムであり、真空掃除機に
類似している。この種の装置の欠点は高価で、火に弱いことである。別の種類の
装置としては、水を用いてガスを洗浄するいわゆるスクラバーというガス洗浄シ
ステムが知られている。この種のシステムのある例では、水が潅注された幾つか
のボールが設けられていて、ガスはボール床を上昇し、ボール床の通過後に水が
ガスから分離される。この種の装置も高価であり、しかもかなりのスペースが必
要であるという欠点がある。更に、場合によっては水を浄化する必要がある。
・ 更に別のガス清浄システムとして、汚染ガス流が固定シリンダ内を接線方向
にガイドされ、塵粒子が壁に押付けられてシリンダの底部に集められ、塵の除去
されたガスが中央から取り出されるサイクロンも知られている。この種の装置は
効率がかなり悪い。
この発明に基づくガス清浄サイクロンは、衝突面を回転させることによって、ガ
スの清浄効率を飛躍的に高めている。
この効果は請求の範囲の特徴部に記載されている要件によって達成される。
この発明によるガス清浄サイクロンは、非常に簡単な構造で外部から動力の供給
を一切受けずに95%以上もの浄化効率を達成している。浄化されるガスの流れ
が内部ロータに衝突して不純物がガスから分離されるが、このガスの流れが内部
ロータを回転させるために用いられている。
以下図面を参照してこの発明のサイクロンを説明する。この発明のサイクロンの
利点は、以下の説明により明らかになる。第1図はこの発明のサイクロンを一部
断面にして示す側面図であり、第2図は第1図の線11−11に沿って第1図の
サイクロンを一部断面にして示す平面図である。
第1図はこの発明に基づくガス清浄サイクロンである。ガス清浄サイクロンはハ
ウジングを有している。ハウジングは下部に漏斗9を有しており、漏斗9の最下
端部には分離された不純物を放出するための放出口10が設けられている。ハウ
ジングの上端部はカバーで閉じられている。このカバーにはハウジングと共軸に
突設された放出口6、及びガスの注入口が設けられている。ガスの注入口はハウ
ジングの内部にガス注入ノズル5を有している。ガス注入ノズル5はハウジング
の上部側の内部に設けられているロータlの内面に向かってガスを実質的に水平
に噴射する。ガス注入ノズル5はガスの噴射方向とハウジングの上部側の内部に
設けられているロータlの内面にガスが衝突する点の正接面とが鋭角Aをなすよ
うに設けられている。ロータ1は円錐台形状をしており、半径方向に配置された
ウェブ4により軸部12に回転可能に取付けられている。軸部12は上下のベア
リング7及び8により中実軸に載置されている。ウェブ4は半径方向の大部分が
ディスク2で覆われている。ウェブ4の半径方向の大部分を覆うディスク2とロ
ータlとの間には環状の空間が形成されていて、この空間が環状の通路3を構成
している。
サイクロンはガス注入ノズル5を1個又は2個有している。
汚染ガスは送風機(図示せず)を備えた導管11に供給される。
汚染ガスは、第2図に示すようにロータlの内面とある角度をなすようにガス注
入ノズル5から実質的に水平に外方に向かって噴射される。噴射方向と衝突点の
正接面とのなす角度Aは、汚染ガスの種類などのような状況に従って調節するこ
とができる。この角度をほぼ45°にすると良い結果が得らロータ1は汚染ガス
注入ノズル5から噴射される汚染ガス噴射流により回転する。裾の広がっている
ロータ1の内面に衝突した不純物は、遠心力の作用を受けながら落下してガスの
流れから分離され、環状の通路3を通って漏斗9に収集される。
この発明に基づくガス清浄サイクロンであれば、角度A。
円錐台形状のロータ1の頂点の角度、及びガスの流量に対するロータ1、環状の
通路3、ディスク2の寸法を適切に調節することによって95%以上のガス清浄
化を達成することができる。
国際調査報告
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 少なくとも1個の汚染ガス注入ノズル(5)と、清浄化されたガスの放出口(6 )と、不純物の放出口(10)と、ロータを囲み下部に不純物収集部を有するハ ウジングとを備えたガス清浄サイクロンにおいて、 底部側の広がった円錐台形状のロータ(1)が汚染ガス注入ノズル(5)を囲ん で漏斗(9)と共軸に回転可能に配置され、ディスク(2)がロータ(1)と一 緒に回転可能に汚染ガス注入ノズル(5)の下方に配置され、ディスク(2)の 径はロータ(1)の下端の内径よりも小さいので、ディスク(2)とロータ(1 )との間に環状の通路(3)を構成する環状の空間が形成され、回転するロータ (1)から不純物が落下してこの環状の通路(3)を通って漏斗(9)に収集さ れ、汚染ガス注入ノズル(5)は汚染ガスとロータ(1)の内面とが衝突する点 の正接面に対して鋭角(A)をなすように実質的に水平方向に汚染ガスを噴射し 、ロータ(1)の内面に対して汚染ガスの流れが傾斜しているためにロータ(1 )と汚染ガスの流れとの間に摩擦力が生じてロータ(1)が回転することを特徴 とするガス清浄化サイクロン。
Applications Claiming Priority (2)
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Publications (1)
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