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JPH0244550A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

光磁気ディスクの製造方法

Info

Publication number
JPH0244550A
JPH0244550A JP63195437A JP19543788A JPH0244550A JP H0244550 A JPH0244550 A JP H0244550A JP 63195437 A JP63195437 A JP 63195437A JP 19543788 A JP19543788 A JP 19543788A JP H0244550 A JPH0244550 A JP H0244550A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magneto
disk
optical disk
manufacturing
recording surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63195437A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaomi Naito
内藤 雅臣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP63195437A priority Critical patent/JPH0244550A/ja
Publication of JPH0244550A publication Critical patent/JPH0244550A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔1既  要〕 一対のディスク基板を互いに対向状態で貼り合わせて成
る光磁気ディスクの製造方法に関し、貼り合わされた各
ディスク基板の記録面間の間隔と、光磁気ディスクの総
厚さが各部分で均等化された光磁気ディスクの製造を可
能とする光磁気ディスクの製造方法の開発を目的とし°
、スタンパ−の記録面形成部以外の個所に、その深さが
当該記録面形成部の形成深さよりも大で。
且つそれぞれの形成深さが全て均等化された複数個の四
部を備えた転写型を用いて前記ディスク基板の製作を行
う。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、一対のディスク基板を互いに対向状態で貼り
合わせて成る光磁気ディスクの製造方法に関する。
(従来の技術〕 第4図(al、 (bl、 (C)、 (d)、および
(e)は従来の光磁気ディスクの製造工程を工程順序側
に示した要部側断面図である。
以下、第4図(a)〜(e)を用いて従来の光磁気ディ
スクの製造方法を説明する。
(1)  転写型の準備〔第4図(a)〕表面に記録面
形成部16が形成されたニッケル板製のスタンパ−15
と、アルミニウム板等で形成されたペース板14とを接
合して転写型20を製作する。
図中、8は転写型20の中心部に形成された中心孔であ
る。
(2)  記録面の形成〔第4図fb)、 fcl、 
(dl)前記転写型20をガラス板lと紫外線硬化樹脂
層2とで構成されたディスク基板5〔第4図(C)参照
〕上に第4図(b)に示す如く位置決めする。そしてこ
れを矢印A方向に移動させてディスク基板5の紫外線硬
化樹脂層2側を押圧する。その結果、ディスク基板5上
には第4図(d)に示すような記録面3が形成される。
(3)光磁気ディスクの形成〔第4図(C)〕上記の操
作によって記録面3がそれぞれに形成された一対のディ
スク基板5を、今度は記録面3を互いに対向させた状態
にする。そして、これらディスク基板5間に接着剤4を
供給する。
(4)  次はこれらディスク基板5を矢印A方向と矢
印B方向の両方向から押圧する。その結果、第4図(G
)に示すような形の光磁気ディスク10が形成される。
なお、上記第4図(al〜(el)に示した各工程は、
図示されない製造装置を用いて実施される。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記従来の方法で製作された光磁気ディ
スク10は、各ディスク基板5間の間隔tを規制するも
のが何も無いために接着剤4の厚さが決まらず、このた
め、光磁気ディスク10の全体厚さTも部分的にバラツ
ク(部分的に厚さTが変化する)といった問題点があっ
た。
本発明はこのような従来の光磁気ディスクにおける問題
点を解消するためになされた発明であって、ディスク基
板5間の間隔tが自動的に規制されるようなディスク構
成とした点にその特徴がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明による光磁気ディスクの製造方法は第1図の実施
例図に示すように、ディスク基板5の製造原形であるス
タンパ−15の記録面形成部16以外の個所に、その深
さHが該記録面形成部16の形成深さhよりも大で、且
つそれぞれの前記深さHが均等化された複数個の凹部6
を有してなる転写型20を用いて前記ディスク基板5の
製作を行うようにしたものである。
〔作 用〕
このようなスタンパ−15を用いてディスク基(反5の
製作を行うと、スタンパ−15の抑圧によって盛り上が
った紫外線硬化樹脂M2がスタンパ−15側の凹部6内
に侵入し°ζそこに第1図(C1に示すような凸部7を
生じる。そしてこの凸部7と相手側のディスク基板5上
に形成された凸部7とがディスク基板5を接合する際に
スペーサの役目を果たすことになる。従って本発明を適
用すれば、ディスク基板5間の間隔tの制御、従って光
磁不ディスク10の厚さTの制御が自動的、且つ的確に
行われることになる。
〔実 施 例〕
以下実施例図に基づいて本発明の詳細な説明する。
第1図(a)、 (b)、 (C1,および+d)は本
発明の一実施例を示す要部側断面図であるが、前記第4
図と同一部分には同一符号を付している。
第1図(a)〜(d)に示すように、本発明による光磁
気ディスクの製造方法は、それぞれ均等化された深さを
有し、且つその深さHが記録面形成部16の形成深さh
よりも大きい複数個の凹部6を備えた転写型20を用い
てディスク基板5の製作を行う構成になっている。
以下、本発明の特徴である転写型の構造とその動作につ
いて述べる。
本発明による転写型20は、第1図(alに示すように
、記録面形成部16と重複しない個所に、その深さI(
が記録面形成部16の深さhよりも大きい複数個の凹部
6(この実施例の場合は、凹部6が、スタンパ−15の
外周側と内周側にそれぞれ溝状に設けられている。)を
備えている。従ってディスク基板5〔第1図(bl参照
〕に対して転写型20を矢印六方向から押しつけると、
ディスク基板5側の紫外線硬化樹脂層2が盛り上がって
該凹部6内に侵入し、そこにスパッタ膜2による凸部7
が形成される結果となる〔第1図(C1参照〕。この凸
部7は一対のディスク基板5間の間隔tを決める決め手
となるものであるから、この凸部7の高さ、即ち前記凹
部6の深さ■]を調整することにより、ディスク基板5
間の間隔むとディスク基板5の厚さTを自在に制御する
ことができる。第1図(dlはこのようにして製作され
た光磁気ディスク10を示す要部側断面図である。
第2図(a)と(b)は本発明の第1の応用例を示す要
部側断面図と正面図である。
この応用例は転写型20側に形成された凹部6が成る間
隔を隔てて配置(図中、2点鎖線で示す部分を含む)さ
れている、従ってこの転写型20を用いて製作されたデ
ィスク基板5は各凸部7間に隙間が有るため、接着剤4
が内部に閉じ込められて二次的な障害を起こすようなこ
とが無い。
第3図+a)と(blは本発明の第2の応用例を示す要
部側断面図と正面図である。
この第2の応用例は転写型20側の凹部6がスタンパ−
15の外周部と内周部にそれぞれ成る間隔を隔てて形成
〔図中、2点鎖線で示す部分を含む)されている点が第
1の応用例と異なるが、その効果についてはほぼ同等で
あった。
〔発明の効果〕
本発明によるディスク製造方法は、ディスク基板間の間
隔を調整する機能をディスク基板の原形である転写型に
持たせであるので、この転写型を用いて製作されたディ
スク基板は、これを接合する際に自動的にその間隔を制
御し得ることから、信頼性の高い光磁気ディスクを容易
に製作し得ろといった優れた工業的効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、 (bl、 (C1,および+d)は本
発明の一実施例を示す要部側断面図、 第2図(alと(blは本発明の第1の応用例を示す要
部側断面図と正面図、 第3図(alと(blは本発明の第2の応用例を示す要
部側断面図と正面図、 第4図(al、 (bl、 (cl、 (di、および
(elは、従来の光磁気ディスクの製造工程を示す要部
側断面図である。 5はディスク基(反、 6は凹部、 7は凸部、 8は中心孔、 10は光磁気ディスク、 14はベース板、 15はスタンパ− 16は記録面形成部、 20は転写型、 I(はスタンパ−側の凹部の深さ、 hは記録面形成部の深さ、 Tは光磁気ディスクの厚さ、 tは一対のディスク基板間の間隔、 をそれぞれ示す。 図中、1はガラス板、 2は紫外線硬化樹脂層、 3は記録面、 4は接着剤、 第 図 半発明禮2械甲ダ・」をネ掃 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 記録面形成部(16)を有してなるスタンパー(15)
    をディスク基板(5)の紫外線硬化樹脂層(2)に押し
    つけて当該ディスク基板(5)上に記録面(3)を形成
    した後、成膜を行い、該記録面(3)を互いに対向させ
    た状態でこれらを接着材(4)で貼り合わせて光磁気デ
    ィスク(10)を製作する光磁気ディスクの製造方法に
    おいて、 前記スタンパー(15)の記録面形成部(16)以外の
    個所に、その深さ(H)が該記録面形成部(16)の形
    成深さ(h)よりも大で、且つ前記深さ(H)がそれぞ
    れ均等化されてなる複数個の凹部(6)を備えた転写型
    (20)を用いてディスク基板(5)の製作を行うよう
    にしたことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
JP63195437A 1988-08-04 1988-08-04 光磁気ディスクの製造方法 Pending JPH0244550A (ja)

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JP63195437A JPH0244550A (ja) 1988-08-04 1988-08-04 光磁気ディスクの製造方法

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JP63195437A Pending JPH0244550A (ja) 1988-08-04 1988-08-04 光磁気ディスクの製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8631151B2 (en) 2006-05-18 2014-01-14 Intel Corporation Techniques for guaranteeing bandwidth with aggregate traffic

Cited By (3)

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US9264311B2 (en) 2003-12-30 2016-02-16 Intel Corporation Techniques for guaranteeing bandwidth with aggregate traffic
US10721131B2 (en) 2003-12-30 2020-07-21 Intel Corporation Techniques for guaranteeing bandwidth with aggregate traffic
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