JPH0242399A - 軟ｘ線用多層膜反射鏡 - Google Patents
軟ｘ線用多層膜反射鏡Info
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- JPH0242399A JPH0242399A JP19215888A JP19215888A JPH0242399A JP H0242399 A JPH0242399 A JP H0242399A JP 19215888 A JP19215888 A JP 19215888A JP 19215888 A JP19215888 A JP 19215888A JP H0242399 A JPH0242399 A JP H0242399A
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明はＸ線の中で特に軟Ｘ線領域における光学素子
用多層膜反射鏡に関するものである。
用多層膜反射鏡に関するものである。
（従来の技術）
従来、軟Ｘ線領域では多層膜反射鏡として第６図に示す
ように基板１の上に低屈折率層としてニッケル２、高屈
折率層としてベリリウム３を用いる組合せのものが広く
知られていた。
ように基板１の上に低屈折率層としてニッケル２、高屈
折率層としてベリリウム３を用いる組合せのものが広く
知られていた。
（発明が解決しようとする課題）
説明するまでもなく、ベリリウムの蒸気、塵埃等は有毒
であり、薄膜化のだめの真空蒸着等を行う際には排気処
理を含めその環境作シの配慮および経費が問題となって
いた。
であり、薄膜化のだめの真空蒸着等を行う際には排気処
理を含めその環境作シの配慮および経費が問題となって
いた。
この発明は上述のような特別な作業環境を設ける要のな
い材料を用い、かつ従来品に比して性能的に遜色のない
もしくはそれ以上の反射率を有する多層膜反射鏡を提供
することを目的としてなされたものである。
い材料を用い、かつ従来品に比して性能的に遜色のない
もしくはそれ以上の反射率を有する多層膜反射鏡を提供
することを目的としてなされたものである。
（課題を解決するだめの手段・作用）
周知の如く、軟Ｘ線領域では全ての物質の屈折率が１に
近く、有効な光学系を形成するのが極めて難しい。そこ
でごく僅かに屈折率の異なる物質を多数重ねて、その境
界で起こるほんの僅かの反射波の位相をうまくコントロ
ールして比較的効率のよい光学系を得ようとしている。
近く、有効な光学系を形成するのが極めて難しい。そこ
でごく僅かに屈折率の異なる物質を多数重ねて、その境
界で起こるほんの僅かの反射波の位相をうまくコントロ
ールして比較的効率のよい光学系を得ようとしている。
従ってこの分野ではいかに効率の良い物質の組合せを見
出すかが重要な要素の一つであり、本発明も従来この分
野で最も高効率の反射が得られるとされているＢｅ／Ｎ
ｉの組合せを超える効率をもたらす組合せを得ようとす
るものである。
出すかが重要な要素の一つであり、本発明も従来この分
野で最も高効率の反射が得られるとされているＢｅ／Ｎ
ｉの組合せを超える効率をもたらす組合せを得ようとす
るものである。
各々の屈折率には波長依存性があり、各組合せについて
反射率をコンピュータシミュレーションによシ確認し、
膜厚、および層数等共々決定される。
反射率をコンピュータシミュレーションによシ確認し、
膜厚、および層数等共々決定される。
本願において提供する多層膜反射鏡は低屈折率物質とし
てニッケル、高屈折率物質としてリチウムをペースとし
た物質との組合せを挙げ、実施例において、上記高屈折
率物質にリチウム、水素化リチウムおよび酸化リチウム
を用いた場合の反射率の線図を示した。特に生体顕微鏡
光学素子（波長域２．３３〜４．４ ｎｍ ）用の酸化
リチウムとニッケルとの組合せにつき説明を補足する。
てニッケル、高屈折率物質としてリチウムをペースとし
た物質との組合せを挙げ、実施例において、上記高屈折
率物質にリチウム、水素化リチウムおよび酸化リチウム
を用いた場合の反射率の線図を示した。特に生体顕微鏡
光学素子（波長域２．３３〜４．４ ｎｍ ）用の酸化
リチウムとニッケルとの組合せにつき説明を補足する。
第５図は軟Ｘ線領域の中の３ｎｍ前後のＸ線に対する各
物質の透過率を示したものであるが、図からも明らかな
通シ、この領域では水とたん白質のＸ線に対する吸収が
他に比較して１桁程度異なる。
物質の透過率を示したものであるが、図からも明らかな
通シ、この領域では水とたん白質のＸ線に対する吸収が
他に比較して１桁程度異なる。
その為、たん白質等による生体の構造を水の吸収に邪魔
されることなく、像の濃淡としてとらえることができる
。これは水分子を構成する酸素の光学吸収端（２，３７
ｎｍ）の近傍の長波長側で酸素によるＸ線の吸収が小さ
くなる為である。すなわち水の様に何らかの酸化物を多
層の高屈折率層に用いる事により吸収の少ない多層反射
膜を形成できる可能性が有る。そこで様々な酸化物につ
いて原子散乱因子を用いたシミュレーションを繰シ返し
た結果得られた組合せが酸化リチウムとニッケルである
。
されることなく、像の濃淡としてとらえることができる
。これは水分子を構成する酸素の光学吸収端（２，３７
ｎｍ）の近傍の長波長側で酸素によるＸ線の吸収が小さ
くなる為である。すなわち水の様に何らかの酸化物を多
層の高屈折率層に用いる事により吸収の少ない多層反射
膜を形成できる可能性が有る。そこで様々な酸化物につ
いて原子散乱因子を用いたシミュレーションを繰シ返し
た結果得られた組合せが酸化リチウムとニッケルである
。
（実施例）
第１図に本発明を平面ミラーに適用した例を示す。従来
例（第６図）と同様な構成で基板１、低屈折率層として
のニッケル２−！では全く同じで、高屈折率層としての
ベリリウム３の代りにリチウムをペースとした物質４を
用い、最外部に８１０２等の保護膜５を形成したもので
ある。
例（第６図）と同様な構成で基板１、低屈折率層として
のニッケル２−！では全く同じで、高屈折率層としての
ベリリウム３の代りにリチウムをペースとした物質４を
用い、最外部に８１０２等の保護膜５を形成したもので
ある。
第２．３．４図は、高屈折率層にリチウム４′、水素化
リチウム４″および酸化リチウム４″′を用いた多層膜
反射鏡の波長に対する反射率を、従来のベリリウム・ニ
ッケルの組合せのものとの比較の形で各々示したもので
ある。なお、設定条件としては従来例も含めて入射角７
０’、積層数１９９層とした。
リチウム４″および酸化リチウム４″′を用いた多層膜
反射鏡の波長に対する反射率を、従来のベリリウム・ニ
ッケルの組合せのものとの比較の形で各々示したもので
ある。なお、設定条件としては従来例も含めて入射角７
０’、積層数１９９層とした。
第２図のリチウム／ニッケル（実線）とベリリウム／ニ
ッケル（−点鎖線）では前者が後者より反射率が２０〜
３０％、第３図の水素化リチウム／ニッケル（実線）ト
ベリリウム／ニッケル（−点鎖線）では前者が後者より
約１５〜２５％、第４図の酸化リチウム／ニッケルとベ
リリウム（実線）／ニッケル（−点鎖線）では、生体顕
微鏡で問題にしている酸素の吸収端（２，３７ｎｍ ）
より長波長側において約１０％それぞれ上まわっている
ことが示されている。
ッケル（−点鎖線）では前者が後者より反射率が２０〜
３０％、第３図の水素化リチウム／ニッケル（実線）ト
ベリリウム／ニッケル（−点鎖線）では前者が後者より
約１５〜２５％、第４図の酸化リチウム／ニッケルとベ
リリウム（実線）／ニッケル（−点鎖線）では、生体顕
微鏡で問題にしている酸素の吸収端（２，３７ｎｍ ）
より長波長側において約１０％それぞれ上まわっている
ことが示されている。
（発明の効果）
以上説明したように、軟Ｘ線の波長領域における光学素
子用多層膜反射鏡の高屈折率物質として、リチウムをペ
ースとした物質を低屈折率物質であるニッケルと組合せ
ることによシ、従来のベリリウムとニッケルの組合せよ
り反射率において大巾に上まわり、かつその作業過程に
おける毒性等の環境問題も改善され得られる効果は犬で
ある。
子用多層膜反射鏡の高屈折率物質として、リチウムをペ
ースとした物質を低屈折率物質であるニッケルと組合せ
ることによシ、従来のベリリウムとニッケルの組合せよ
り反射率において大巾に上まわり、かつその作業過程に
おける毒性等の環境問題も改善され得られる効果は犬で
ある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の多層膜反射鏡の断面図、第２図から第
４図までは本発明の多層膜反射鏡と従来例の反射鏡との
波長に対する反射率の線図で、第２図は高屈折率物質と
してリチウム、第３図は水素化リチウム、第４図は酸化
リチウムを各々用いたもの、第５図は波長３ｎｍ前後の
Ｘ線に対する各物質の吸収率を示したもの、第６図は従
来例多層脱灰射鏡の断面図である。 １・・・ペース、２・・・低屈折率物質にッケル）、３
・・・高屈折率物質（ぺ１７１Ｊウム）、４・・・高屈
折率物質（リチウムをベースとした物質）、４′・・・
リチウム、４″・・・水素化リチウム、４″′・・・酸
化リチウム。 工業技術院長 飯 塚 幸 □Ｌ１／旧 第 図 −ＬｉＨ／Ｎｌ −・−Ｂｅ／Ｎ 波長（ｎｍ） 第３図 ＬｉｚＯ／Ｎ −−−Ｂａ／Ｎ 波長（ｎｍ） 第 図
４図までは本発明の多層膜反射鏡と従来例の反射鏡との
波長に対する反射率の線図で、第２図は高屈折率物質と
してリチウム、第３図は水素化リチウム、第４図は酸化
リチウムを各々用いたもの、第５図は波長３ｎｍ前後の
Ｘ線に対する各物質の吸収率を示したもの、第６図は従
来例多層脱灰射鏡の断面図である。 １・・・ペース、２・・・低屈折率物質にッケル）、３
・・・高屈折率物質（ぺ１７１Ｊウム）、４・・・高屈
折率物質（リチウムをベースとした物質）、４′・・・
リチウム、４″・・・水素化リチウム、４″′・・・酸
化リチウム。 工業技術院長 飯 塚 幸 □Ｌ１／旧 第 図 −ＬｉＨ／Ｎｌ −・−Ｂｅ／Ｎ 波長（ｎｍ） 第３図 ＬｉｚＯ／Ｎ −−−Ｂａ／Ｎ 波長（ｎｍ） 第 図
Claims (4)
- （１）Ｘ線に対する屈折率の異なる物質を交互に積層し
、その境界における反射波が互いに強めあうようにそれ
ぞれの層の厚さを調整して高反射率を得るように構成さ
れたＸ線反射鏡において、高屈折率層（軽原素系）にリ
チウムをベースとした物質を用いたことを特徴とする軟
Ｘ線用多層膜反射鏡。 - （２）前記高屈折率層に用いられた物質がリチウムその
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
記載の軟Ｘ線用多層膜反射鏡。 - （３）前記高屈折率層に用いられた物質が水素化リチウ
ムであることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記
載の軟Ｘ線用多層膜反射鏡。 - （４）前記高屈折率層に用いられた物質が酸化リチウム
であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
の軟Ｘ線用多層膜反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19215888A JPH0242399A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 軟ｘ線用多層膜反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19215888A JPH0242399A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 軟ｘ線用多層膜反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0242399A true JPH0242399A (ja) | 1990-02-13 |
| JPH0587800B2 JPH0587800B2 (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=16286661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19215888A Granted JPH0242399A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 軟ｘ線用多層膜反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0242399A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0434400A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 軟ｘ線多層膜反射鏡 |
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| NL1018139C2 (nl) * | 2001-05-23 | 2002-11-26 | Stichting Fund Ond Material | Meerlagenspiegel voor straling in het XUV-golflengtegebied en werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
| DE10134267A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Geesthacht Gkss Forschung | Einrichtung zur Reflektion von Röntgenstrahlen |
| KR100545427B1 (ko) * | 1997-09-01 | 2006-07-25 | 신-에쓰 한도타이 가부시키가이샤 | 수송용기 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273099A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-10 | Nec Corp | 分光素子 |
| JPS6481911A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481909A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481908A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481907A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481910A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
-
1988
- 1988-08-02 JP JP19215888A patent/JPH0242399A/ja active Granted
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS6481907A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
| JPS6481910A (en) * | 1987-09-24 | 1989-03-28 | Nec Corp | Spectral element |
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| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| EP1091360A2 (en) * | 1995-01-19 | 2001-04-11 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
| EP1091360A3 (en) * | 1995-01-19 | 2003-05-07 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
| KR100545427B1 (ko) * | 1997-09-01 | 2006-07-25 | 신-에쓰 한도타이 가부시키가이샤 | 수송용기 |
| NL1018139C2 (nl) * | 2001-05-23 | 2002-11-26 | Stichting Fund Ond Material | Meerlagenspiegel voor straling in het XUV-golflengtegebied en werkwijze voor de vervaardiging daarvan. |
| WO2002095771A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-28 | Stichting Voor Fundamenteel Onderzoek Der Materie | Multi-layer mirror for radiation in the xuv wavelenght range and method for manufacture thereof |
| DE10134267A1 (de) * | 2001-07-18 | 2003-02-06 | Geesthacht Gkss Forschung | Einrichtung zur Reflektion von Röntgenstrahlen |
| DE10134267B4 (de) * | 2001-07-18 | 2007-03-01 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Einrichtung zur Reflexion von Röntgenstrahlen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0587800B2 (ja) | 1993-12-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |