JPH0241305A - シンジオタクチツクポリプロピレン - Google Patents
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F10/04—Monomers containing three or four carbon atoms
- C08F10/06—Propene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/42—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors
- C08F4/44—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides
- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
- C08F4/64—Titanium, zirconium, hafnium or compounds thereof
- C08F4/659—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond
- C08F4/6592—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond containing at least one cyclopentadienyl ring, condensed or not, e.g. an indenyl or a fluorenyl ring
- C08F4/65922—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond containing at least one cyclopentadienyl ring, condensed or not, e.g. an indenyl or a fluorenyl ring containing at least two cyclopentadienyl rings, fused or not
- C08F4/65927—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond containing at least one cyclopentadienyl ring, condensed or not, e.g. an indenyl or a fluorenyl ring containing at least two cyclopentadienyl rings, fused or not two cyclopentadienyl rings being mutually bridged
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の技術的背景
本発明は高度に結晶性であるシンジオタクチックポリプ
ロピレンの新規微細構造に関する。
ロピレンの新規微細構造に関する。
本発明を要約すれば、本発明は重合体主鎖の微細構造が
主としてメン トリアド(meso triad)(m
m)から成る単位により連結されている繰り返しラセミ
(r)ダイアド(racamic dya’d)のブロ
ックから成る新規構造を提供し、本発明による重合体は
又高度に結晶性であり、且つ高率のラセミ(r)ダイア
ドから構成されていることである。
主としてメン トリアド(meso triad)(m
m)から成る単位により連結されている繰り返しラセミ
(r)ダイアド(racamic dya’d)のブロ
ックから成る新規構造を提供し、本発明による重合体は
又高度に結晶性であり、且つ高率のラセミ(r)ダイア
ドから構成されていることである。
当該技術で周知のように、シンジオタクチック重合体は
、不斉炭素原子の鏡像的形態を有する単量体単位が、高
分子主鎖中で互いに交互に且つ規則正しく続いていると
いう独特な立体化学的構造を有している。シンジオタク
チックポリプロピレンは最初にナツタ(Natta)等
により米国特許第3゜258.455号中で開示された
。ナツタのグループは三塩化チタン及びジエチルアルミ
ニウムモノクロリドから製造された触媒を使用すること
によりシンジオタクチックポリプロピレンを得た。
、不斉炭素原子の鏡像的形態を有する単量体単位が、高
分子主鎖中で互いに交互に且つ規則正しく続いていると
いう独特な立体化学的構造を有している。シンジオタク
チックポリプロピレンは最初にナツタ(Natta)等
により米国特許第3゜258.455号中で開示された
。ナツタのグループは三塩化チタン及びジエチルアルミ
ニウムモノクロリドから製造された触媒を使用すること
によりシンジオタクチックポリプロピレンを得た。
ナツタ等の後期の米国特許第3.305.538号はシ
ンジオタクチックポリプロピレンを製造するために、バ
ナジウムトリアセチルアセトネート又はハロゲン化バナ
ジウム化合物を有機アルミニウム化合物と組み合わせて
使用することを開示している。エムリック(Emr 1
ck)の米国特許第3,364.190号はシンジオタ
クチックポリプロピレンを製造するために、微粉砕され
たチタン又はバナジウムの三塩化物、塩化アルミニウム
、トリアルキルアルミニウム及び燐を含むルイス塩基か
ら成る触媒系を開示している。
ンジオタクチックポリプロピレンを製造するために、バ
ナジウムトリアセチルアセトネート又はハロゲン化バナ
ジウム化合物を有機アルミニウム化合物と組み合わせて
使用することを開示している。エムリック(Emr 1
ck)の米国特許第3,364.190号はシンジオタ
クチックポリプロピレンを製造するために、微粉砕され
たチタン又はバナジウムの三塩化物、塩化アルミニウム
、トリアルキルアルミニウム及び燐を含むルイス塩基か
ら成る触媒系を開示している。
これらの特許文献に開示されたように、且つ技術上周知
のように、シンジオタクチックポリプロピレンの構造及
び性質はアイソタクチックポリプロピレンの構造、性質
とは顕著に異なっている。
のように、シンジオタクチックポリプロピレンの構造及
び性質はアイソタクチックポリプロピレンの構造、性質
とは顕著に異なっている。
アイソタクチック構造は重合体の主鎖を通る仮想的な平
面の同じ側に、連続する単量体単位の第三炭素原子に結
合しているメチル基を有している、即ちメチル基が総て
同平面の上又は下方にあると一般に記載されている。フ
ィッシャーの投影式を使用すれば、アイソタクチックポ
リプロピレンの立体化学的配列は下記: のように記載される。
面の同じ側に、連続する単量体単位の第三炭素原子に結
合しているメチル基を有している、即ちメチル基が総て
同平面の上又は下方にあると一般に記載されている。フ
ィッシャーの投影式を使用すれば、アイソタクチックポ
リプロピレンの立体化学的配列は下記: のように記載される。
構造を記載する別な方法はNMRの使用によることであ
る。アイソタクチックなベンタド(pentad)に対
するポーベイ(Bovey)のNMR命名法は、、m
m m m 、、、であり、各”m”は“メソ″ダイア
ト又は平面の同じ側にある連続したメチル基を表してい
る。技術上既知なように、高分子鎖の構造が少しでも偏
差(deviat 1on)又は逆転すると、重合体の
アイソタクチック性及び結晶性の度合が低下する。
る。アイソタクチックなベンタド(pentad)に対
するポーベイ(Bovey)のNMR命名法は、、m
m m m 、、、であり、各”m”は“メソ″ダイア
ト又は平面の同じ側にある連続したメチル基を表してい
る。技術上既知なように、高分子鎖の構造が少しでも偏
差(deviat 1on)又は逆転すると、重合体の
アイソタクチック性及び結晶性の度合が低下する。
アイソタクチック構造と対照的に、シンジオタクチック
重合体は高分子鎖中の連続する単量体単位の第三炭素原
子に結合したメチル基が重合体の平面の交互の側にある
重合体である。シンジオタクチックポリプロピレンは下
記: のようにジグザグな表記で示される。フィッシャー投影
式を使用すると、シンジオタクチック重合体の構造は下
記: のように表示される。NMR命名方法においては、この
ベンタドは、、、rrrr、、、のように記載され、各
“r ”は“ラセミ”ダイアト、即ち平面の交互の側に
ある連続したメチル基を表す。高分子鎖中のrダイアト
の%は重合体のンンジオタク千ツク性の度合を決定する
。シンジオタクチック重合体は結晶性であり、且つアイ
ツタクチ7り重合体のようにキ7レンに不溶性である。
重合体は高分子鎖中の連続する単量体単位の第三炭素原
子に結合したメチル基が重合体の平面の交互の側にある
重合体である。シンジオタクチックポリプロピレンは下
記: のようにジグザグな表記で示される。フィッシャー投影
式を使用すると、シンジオタクチック重合体の構造は下
記: のように表示される。NMR命名方法においては、この
ベンタドは、、、rrrr、、、のように記載され、各
“r ”は“ラセミ”ダイアト、即ち平面の交互の側に
ある連続したメチル基を表す。高分子鎖中のrダイアト
の%は重合体のンンジオタク千ツク性の度合を決定する
。シンジオタクチック重合体は結晶性であり、且つアイ
ツタクチ7り重合体のようにキ7レンに不溶性である。
この結晶化度はンンジオタクチソク及びアイツタクチツ
タ重合体の両者を、キシレンに可溶であるアタツチ/り
重合体と区別するものである。アタクチック重合体は重
合体主鎖中の繰り返し単位の配置に規則的な秩序か見ら
れず、主としてワックス状の生成物を形成する。
タ重合体の両者を、キシレンに可溶であるアタツチ/り
重合体と区別するものである。アタクチック重合体は重
合体主鎖中の繰り返し単位の配置に規則的な秩序か見ら
れず、主としてワックス状の生成物を形成する。
触媒が三種の総ての重合体を製造することは可能である
が、触媒がアククチツクを極めて僅かしか生成せず、主
としてアイソタクチック又はシンジオタクチック重合体
を生成することは望ましいことである。アイソタクチッ
クポリオレフィンを生成する触媒は1987年、4月3
日付けの米国特許出願番号環034.472号; 19
87年、9月11日付けの米国特許出願番号環096.
075号;及び1987年、9月11日付けの米国特許
出願番号環095,755号に開示されている。これら
の特許出願はオレフィンを重合させる対掌性(chir
al)の立体剛性(stereorigid)なメタロ
セン(metallocena)触媒を開示しており、
特に高度なアイソタクチックポリプロピレンの重合に有
用である。しかし本発明はシンジオタクチックポリオレ
フィン、及びより詳細にはシンジオタクチックポリプロ
ピレンの重合に有用である異なった種類のメタロセン触
媒を利用する。
が、触媒がアククチツクを極めて僅かしか生成せず、主
としてアイソタクチック又はシンジオタクチック重合体
を生成することは望ましいことである。アイソタクチッ
クポリオレフィンを生成する触媒は1987年、4月3
日付けの米国特許出願番号環034.472号; 19
87年、9月11日付けの米国特許出願番号環096.
075号;及び1987年、9月11日付けの米国特許
出願番号環095,755号に開示されている。これら
の特許出願はオレフィンを重合させる対掌性(chir
al)の立体剛性(stereorigid)なメタロ
セン(metallocena)触媒を開示しており、
特に高度なアイソタクチックポリプロピレンの重合に有
用である。しかし本発明はシンジオタクチックポリオレ
フィン、及びより詳細にはシンジオタクチックポリプロ
ピレンの重合に有用である異なった種類のメタロセン触
媒を利用する。
本発明は新規微細構造を有するシンジオタクチックポリ
プロピレンを提供する。触媒の構造はアイソタクチック
重合体と異なってシンジオタクチック重合体の生成に影
響するのみではなく、重合体中の主要な繰り返し単位か
ら高分子鎖中の偏差の形式及び数にも影響するように見
えることか見出された。従来シンジオタクチックポリプ
ロピレンを生成するのに使用された触媒は重合機構以上
に連鎖末端の制御に作用すると信じられていた。上記に
記載の文献中でナツタ等により開示された触媒のような
従来既知の触媒は、主として下記構造又はNMR命名法
では 、、、rrrrrmrrrrr、、、を有するシンジオ
タクチック重合体を生じる。シンジオタクチックポリプ
ロピレンのこの構造に対するNMR分析はザンベリ(Z
ambe I 1 i)等のMacromolecul
es。
プロピレンを提供する。触媒の構造はアイソタクチック
重合体と異なってシンジオタクチック重合体の生成に影
響するのみではなく、重合体中の主要な繰り返し単位か
ら高分子鎖中の偏差の形式及び数にも影響するように見
えることか見出された。従来シンジオタクチックポリプ
ロピレンを生成するのに使用された触媒は重合機構以上
に連鎖末端の制御に作用すると信じられていた。上記に
記載の文献中でナツタ等により開示された触媒のような
従来既知の触媒は、主として下記構造又はNMR命名法
では 、、、rrrrrmrrrrr、、、を有するシンジオ
タクチック重合体を生じる。シンジオタクチックポリプ
ロピレンのこの構造に対するNMR分析はザンベリ(Z
ambe I 1 i)等のMacromolecul
es。
13巻、267−270頁(1980)に示されている
。ザンベリ等の分析によれば、高分子鎖中の他の偏差以
上に多く単一のメン ダイアドが支配的であることを示
している。しかし、本明細書に藺示される触媒は従来既
知の且つ開示されたものと異なる微細構造を有する重合
体で、更に構造中に高率でラセミ ダイアドを有する重
合体を生じることが見出された。
。ザンベリ等の分析によれば、高分子鎖中の他の偏差以
上に多く単一のメン ダイアドが支配的であることを示
している。しかし、本明細書に藺示される触媒は従来既
知の且つ開示されたものと異なる微細構造を有する重合
体で、更に構造中に高率でラセミ ダイアドを有する重
合体を生じることが見出された。
本発明の総括
本発明は高いシンジオタクチック指数を有し、且つ新規
微細構造を有するシンジオタクチックポリプロピレンを
提供する。更にシンジオタクチックポリプロピレンは高
い結晶化度を有し、幅の広い又は狭い分子量分布のいず
れかを持って製造することができる。本発明のシンジオ
タクチックポリプロピレンの新規微細構造は、一対のメ
ン(m)ダイアド、即ちメン トリアド“mm″から成
る単位により主として連結された繰り返しラセミ(r)
ダイアトのブロックを有している。重合体の高分子鎖の
主要構造は、NMHの命名法によれば、、、rrrmm
rrr、、、と記載されるO更に、重合体主鎖は好適に
は80%以上のラセミダイアト、及び最も好適には95
%以上のラセミダイアトから成る。
微細構造を有するシンジオタクチックポリプロピレンを
提供する。更にシンジオタクチックポリプロピレンは高
い結晶化度を有し、幅の広い又は狭い分子量分布のいず
れかを持って製造することができる。本発明のシンジオ
タクチックポリプロピレンの新規微細構造は、一対のメ
ン(m)ダイアド、即ちメン トリアド“mm″から成
る単位により主として連結された繰り返しラセミ(r)
ダイアトのブロックを有している。重合体の高分子鎖の
主要構造は、NMHの命名法によれば、、、rrrmm
rrr、、、と記載されるO更に、重合体主鎖は好適に
は80%以上のラセミダイアト、及び最も好適には95
%以上のラセミダイアトから成る。
新規微細構造は下記式
%式%
但し 各Cpはシクロペンタジェニル又は置換さレタシ
クロペンタジエニル環であり: R0及びR1,は1−20炭素原子を有するヒドロカル
ビル残基であり;R″はCp環に立体剛性をもたらす二
つのCp環の間の構造的架橋であり;Meは遷移金属で
あり;各Qはヒドロカルビル残基又はハロゲンである、 によって記載される立体剛性メタロセン触媒の使用によ
って得られる。更にRl、は(Cp R’、)が(Cp
R、)と立体的に異なる置換されたシクロペンタジェ
ニル環でありように選択される。置換基の面から立体的
に異なるシクロペンタジェニル環を持った上記のような
メタロセン触媒の使用により、上記のような新規微細構
造を有するシンジオタクチックポリプロピレンが生成す
ることが見出された。
クロペンタジエニル環であり: R0及びR1,は1−20炭素原子を有するヒドロカル
ビル残基であり;R″はCp環に立体剛性をもたらす二
つのCp環の間の構造的架橋であり;Meは遷移金属で
あり;各Qはヒドロカルビル残基又はハロゲンである、 によって記載される立体剛性メタロセン触媒の使用によ
って得られる。更にRl、は(Cp R’、)が(Cp
R、)と立体的に異なる置換されたシクロペンタジェ
ニル環でありように選択される。置換基の面から立体的
に異なるシクロペンタジェニル環を持った上記のような
メタロセン触媒の使用により、上記のような新規微細構
造を有するシンジオタクチックポリプロピレンが生成す
ることが見出された。
シンジオタクチックポリプロピレンの新規微細構造は、
上記式によって記載される触媒の少なくとも一種を、プ
ロピレン単量体を含む重合反応区域中に導入することに
よって得られる。更にアラムオキサン(alumoxa
ne)のような電子供与化合物及び/又は助触媒を反応
区域に導入することができる。更に触媒は又それを反応
区域に導入する前及び/又は反応器中の反応条件が確立
される前に予備重合することができる。
上記式によって記載される触媒の少なくとも一種を、プ
ロピレン単量体を含む重合反応区域中に導入することに
よって得られる。更にアラムオキサン(alumoxa
ne)のような電子供与化合物及び/又は助触媒を反応
区域に導入することができる。更に触媒は又それを反応
区域に導入する前及び/又は反応器中の反応条件が確立
される前に予備重合することができる。
本発明は又幅の広い分子量分布を有するシンジオタクチ
ックポリプロピレンを製造する方法を含む。この方法は
重合工程において上記式によって記載される少なくとも
二種の触媒を利用することから成る。
ックポリプロピレンを製造する方法を含む。この方法は
重合工程において上記式によって記載される少なくとも
二種の触媒を利用することから成る。
更に本文記載の重合方法によって製造された重合体の特
性は、重合温度又は触媒の構造を変えることにより制御
できることが見出された。特に重合体の融点は反応温度
、触媒−助触媒比、及び触媒の構造によって影響を受け
ることが見出された。
性は、重合温度又は触媒の構造を変えることにより制御
できることが見出された。特に重合体の融点は反応温度
、触媒−助触媒比、及び触媒の構造によって影響を受け
ることが見出された。
反応温度が高いと、一般に低融点を有する結晶性の小さ
い重合体が生じる。更に異なった構造を持った触媒を使
用することによって、異なった融点を有する重合体生成
物を得ることができる。
い重合体が生じる。更に異なった構造を持った触媒を使
用することによって、異なった融点を有する重合体生成
物を得ることができる。
本発明の詳細
な説明は新規微細構造を有するシンジオタクチックポリ
プロピレンを提供する。この新規構造は一対のメン ダ
イアドから成る単位によって主として結合しているラセ
ミ ダイアドのブロックから成る。NMR命名法におい
て述べたように1、、、rrrmmrrrr、、、構造
である@重合体は高率のラセミ ダイアトから成り、高
度に結晶性である。それは融点、分子量、及び分子量分
布の仕様を変えて製造することができる。
プロピレンを提供する。この新規構造は一対のメン ダ
イアドから成る単位によって主として結合しているラセ
ミ ダイアドのブロックから成る。NMR命名法におい
て述べたように1、、、rrrmmrrrr、、、構造
である@重合体は高率のラセミ ダイアトから成り、高
度に結晶性である。それは融点、分子量、及び分子量分
布の仕様を変えて製造することができる。
プロピレン又は他のアルファーオレフィンが遷移金属化
合物から成る触媒を用いて重合される時に、重合体生成
物は一般に非晶質のアタクチックと結晶性のキシレン不
溶性の両分の混合物を構成する。結晶性画分はアイソタ
クチック又はシンジオタクチックのいずれか、又は両者
の混合物を含んでいる可能性がある。極めてアイソ−特
異性のメタロセン触媒が米国特許出願番号第034.4
72号;第096,075号及び第095,755号に
開示されている。これらの特許出願に記載された触媒と
対照的に、本発明の重合体を製造するのに有用な触媒は
、シンジオ−特異性であり、高度なシンジオタクチック
指数を持った重合体を生しる。シンジオタクチックポリ
プロピレンは対応するアイツタクチ/り重合体よりも低
い結晶化熱を有することが見出された。更に、重合体鎖
に同じ数の不完全性がある場合、シンジオタクチック重
合体はアイソタクチック重合体よりも高い融点を有して
いる。
合物から成る触媒を用いて重合される時に、重合体生成
物は一般に非晶質のアタクチックと結晶性のキシレン不
溶性の両分の混合物を構成する。結晶性画分はアイソタ
クチック又はシンジオタクチックのいずれか、又は両者
の混合物を含んでいる可能性がある。極めてアイソ−特
異性のメタロセン触媒が米国特許出願番号第034.4
72号;第096,075号及び第095,755号に
開示されている。これらの特許出願に記載された触媒と
対照的に、本発明の重合体を製造するのに有用な触媒は
、シンジオ−特異性であり、高度なシンジオタクチック
指数を持った重合体を生しる。シンジオタクチックポリ
プロピレンは対応するアイツタクチ/り重合体よりも低
い結晶化熱を有することが見出された。更に、重合体鎖
に同じ数の不完全性がある場合、シンジオタクチック重
合体はアイソタクチック重合体よりも高い融点を有して
いる。
本発明のメタロセン触媒は式
%式%
但し 各cpはシクロペンタジェニル又は置換さレタシ
クロペンタジエニル環であり; R1及びR′やは1−20炭素原子を有するヒドロカル
ヒル残基であり、各R1は同−又は異なっていてもよく
、及び各R″、は同−又は異なっていてもよい;R″は
Cp環に立体剛性をもたらす二つのcp環の間の構造的
架橋であり、そしてR”はl−4炭素原子を有するアル
キル残基又は珪素、ゲルマニウム、燐、窒素、硼素又は
アルミニウムを含むヒドロカルビル残基から成る部類か
ら選択されることが好ましく;Meは元素の周期律表の
4b、5b、又は6b族の金属であり;各Qは1−20
炭素原子を有するヒドロカルビリ残基又はハロゲンであ
り;0≦に≦3;0≦n≦4:及びl≦m≦4である、 によって記述することができる。シンジオ−特異性であ
るためには、メタロセン触媒中のcp環は、二つのcp
環の間に立体的な相違が存在するように事実上具なった
方式で置換されていなければならないことが見出され、
従ってR″4は(CpR’、)か事実上(Cp R、)
とは相違するように置換されているように選択される。
クロペンタジエニル環であり; R1及びR′やは1−20炭素原子を有するヒドロカル
ヒル残基であり、各R1は同−又は異なっていてもよく
、及び各R″、は同−又は異なっていてもよい;R″は
Cp環に立体剛性をもたらす二つのcp環の間の構造的
架橋であり、そしてR”はl−4炭素原子を有するアル
キル残基又は珪素、ゲルマニウム、燐、窒素、硼素又は
アルミニウムを含むヒドロカルビル残基から成る部類か
ら選択されることが好ましく;Meは元素の周期律表の
4b、5b、又は6b族の金属であり;各Qは1−20
炭素原子を有するヒドロカルビリ残基又はハロゲンであ
り;0≦に≦3;0≦n≦4:及びl≦m≦4である、 によって記述することができる。シンジオ−特異性であ
るためには、メタロセン触媒中のcp環は、二つのcp
環の間に立体的な相違が存在するように事実上具なった
方式で置換されていなければならないことが見出され、
従ってR″4は(CpR’、)か事実上(Cp R、)
とは相違するように置換されているように選択される。
シンジオタクチック重合体を生じるためには、シクロペ
ンタジェニル環を直接置換している基の特性が重要であ
るように、怒われる。従って本文中で使用される“立体
的な相違(steric differences)”
又は゛立体的に異なる(sterically dif
ferent)”という用語は、重合体鎖に付加されて
シンジオタクチック配置を生じる各々連続的な単量体単
位の接近を制御するCp環の立体特性の間の相違を意味
するものと了解されl二い。
ンタジェニル環を直接置換している基の特性が重要であ
るように、怒われる。従って本文中で使用される“立体
的な相違(steric differences)”
又は゛立体的に異なる(sterically dif
ferent)”という用語は、重合体鎖に付加されて
シンジオタクチック配置を生じる各々連続的な単量体単
位の接近を制御するCp環の立体特性の間の相違を意味
するものと了解されl二い。
本発明の重合体を生じる際の有用な好ましい触媒におい
て、Meはチタン、ジルコニウム又はハフニウムであり
;Qは好適にはハロゲンであり、最も好適には塩素であ
り;及びkは好適には2であるが、金属原子の価数と共
に変わってもよい。
て、Meはチタン、ジルコニウム又はハフニウムであり
;Qは好適にはハロゲンであり、最も好適には塩素であ
り;及びkは好適には2であるが、金属原子の価数と共
に変わってもよい。
ヒドロキシカルビル残基の例を挙げれば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ア
ミル、イソアミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、セチル、フェニル、等々である。メタロ
セン触媒中の有用な他のヒドロカルビル残基は他のアル
キル、アリール、アルケニル、アルキルアリール又はア
リールアルキル残基を包含している。更にR1及びR′
6はCp環中の単一の炭素原子に結合しているヒドロカ
ルビル残基並びに環中の二つの炭素原子に結合している
残基を含んでいてもよい。第1図は好適な触媒であるイ
ソプロピル(フルオレニル)(シクロペンタジェニル)
ハフニウムジクロリドの構造を示している。第1図に示
された触媒のジルコニウム類似体(analogue)
も同様に好適である。
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ア
ミル、イソアミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、セチル、フェニル、等々である。メタロ
セン触媒中の有用な他のヒドロカルビル残基は他のアル
キル、アリール、アルケニル、アルキルアリール又はア
リールアルキル残基を包含している。更にR1及びR′
6はCp環中の単一の炭素原子に結合しているヒドロカ
ルビル残基並びに環中の二つの炭素原子に結合している
残基を含んでいてもよい。第1図は好適な触媒であるイ
ソプロピル(フルオレニル)(シクロペンタジェニル)
ハフニウムジクロリドの構造を示している。第1図に示
された触媒のジルコニウム類似体(analogue)
も同様に好適である。
触媒は技術上既知の任意の方法で製造してもよい。下記
の実施例は触媒を製造する二種の方法を示しているが、
第二の方法は一層安定且つ活性な触媒を生じるので、こ
の方法が好適である。触媒錯体については、不純な触媒
を用いると通常低分子量の無定形な重合体が生じるので
、′純粋”であることが重要である。一般に触媒錯体の
製造はCp又は置換されたCp配位子を形成し、且つ単
離し、それを次いで金属ハロゲン化物と反応させて錯体
を形成することから成る。
の実施例は触媒を製造する二種の方法を示しているが、
第二の方法は一層安定且つ活性な触媒を生じるので、こ
の方法が好適である。触媒錯体については、不純な触媒
を用いると通常低分子量の無定形な重合体が生じるので
、′純粋”であることが重要である。一般に触媒錯体の
製造はCp又は置換されたCp配位子を形成し、且つ単
離し、それを次いで金属ハロゲン化物と反応させて錯体
を形成することから成る。
本発明のメタロセン触媒はアイソタクチックポリプロピ
レンの製造用として開示された多数のものを含めて、技
術上周知の多数の重合方法において有用である。本発明
の触媒がこれらの形式の方法において使用される時には
、アイソタクチック重合体よりもシンジオタクチック重
合体が生成する。更に本発明により記載される重合体の
製造において有用な重合方法の例は、1987年2月2
日付けの米国特許出願番号筒009.712号及び19
87年9月11日付けの出願番号第095゜755号に
記載された方法を含み、これらの開示を参照して参考と
されたい。これらの好適な重合方法は触媒を反応区域に
導入する前に、触媒を予備重合(prepolymer
izing)及び/又は助触媒及びオレフィン単量体と
共に触媒と予備接触(precontac【)する工程
を含んでいる。
レンの製造用として開示された多数のものを含めて、技
術上周知の多数の重合方法において有用である。本発明
の触媒がこれらの形式の方法において使用される時には
、アイソタクチック重合体よりもシンジオタクチック重
合体が生成する。更に本発明により記載される重合体の
製造において有用な重合方法の例は、1987年2月2
日付けの米国特許出願番号筒009.712号及び19
87年9月11日付けの出願番号第095゜755号に
記載された方法を含み、これらの開示を参照して参考と
されたい。これらの好適な重合方法は触媒を反応区域に
導入する前に、触媒を予備重合(prepolymer
izing)及び/又は助触媒及びオレフィン単量体と
共に触媒と予備接触(precontac【)する工程
を含んでいる。
アイソタクチック重合体を製造するためのメタロセン触
媒に関する従来の開示と同様、本発明の触媒はアルミニ
ウム助触媒、好適にはアラムオキサン、アルキルアルミ
ニウム又はそれらの混合物と併用すると特に有用である
。更に、本文に記載されるようなメタロセン触媒と、発
明者としてリストされたハワード・ターナ−(Howa
rd Turner)と共にエクソン・ケミカル・パテ
ンッ(Exxon Chemical Patents
)社に譲渡された1987年6月24日付けのヨーロッ
パ特許公開公報第226.463号の教示によるアルミ
ニウム助触媒の過剰量との間で錯体を単離することがで
きる。本発明の触媒と併用して有用なアラムオキサンは
環状形態の一般式(R−A l−0−)及び線状形態の
一般式R(R−AI−0)、−ALR2 但し Rは1ないし5の炭素原子を有するアルキル基で
あり、及びnは1ないし約20の整数である、 によって表される。最も好適にはRはメチル基である。
媒に関する従来の開示と同様、本発明の触媒はアルミニ
ウム助触媒、好適にはアラムオキサン、アルキルアルミ
ニウム又はそれらの混合物と併用すると特に有用である
。更に、本文に記載されるようなメタロセン触媒と、発
明者としてリストされたハワード・ターナ−(Howa
rd Turner)と共にエクソン・ケミカル・パテ
ンッ(Exxon Chemical Patents
)社に譲渡された1987年6月24日付けのヨーロッ
パ特許公開公報第226.463号の教示によるアルミ
ニウム助触媒の過剰量との間で錯体を単離することがで
きる。本発明の触媒と併用して有用なアラムオキサンは
環状形態の一般式(R−A l−0−)及び線状形態の
一般式R(R−AI−0)、−ALR2 但し Rは1ないし5の炭素原子を有するアルキル基で
あり、及びnは1ないし約20の整数である、 によって表される。最も好適にはRはメチル基である。
アラムオキサンは技術上周知の各種の方法で製造するこ
とができる。好適には、それらはベンゼンのような適当
な溶剤に溶かした、トリメチルアルミニウムのようなト
リアルキルアルミニウムの溶液を、水と接触させること
により製造される。他の好適な方法は、米国特許第4.
404.344号に記載されたような水和した硫酸鋼の
存在におけるアラムオキサンの製造を含み、該特許の記
載を参照して参考とされたい。この方法はトルエン中の
トリメチルアルミニウムの希釈溶液を硫酸銅で処理する
ことから成る。本発明において有用な他のアルミニウム
助触媒の製造は当業者には周知の方法により製造できる
。
とができる。好適には、それらはベンゼンのような適当
な溶剤に溶かした、トリメチルアルミニウムのようなト
リアルキルアルミニウムの溶液を、水と接触させること
により製造される。他の好適な方法は、米国特許第4.
404.344号に記載されたような水和した硫酸鋼の
存在におけるアラムオキサンの製造を含み、該特許の記
載を参照して参考とされたい。この方法はトルエン中の
トリメチルアルミニウムの希釈溶液を硫酸銅で処理する
ことから成る。本発明において有用な他のアルミニウム
助触媒の製造は当業者には周知の方法により製造できる
。
下記の実施例は本発明を例示し、及びその各種の利点及
び有益性を一層詳細に説明する。ジルコニウム及びハフ
ニウムメタロセン触媒の両者について、A及びBと称す
る二種の異なった合成方法が記載される。これらの方法
によって生成する触媒に対する一般的な触媒式はイソ−
プロピル(フルオレニル)(シクロペンタジェニル)M
e C1zであり、上式でMeは実施例によってジル
コニウム及びハフニウムのいずれかである。第1図はハ
フニウム触媒の構造を示すが、ジルコニウム触媒はHf
原子の位置にZrが位置した本質的に同一の構造を持っ
ている。
び有益性を一層詳細に説明する。ジルコニウム及びハフ
ニウムメタロセン触媒の両者について、A及びBと称す
る二種の異なった合成方法が記載される。これらの方法
によって生成する触媒に対する一般的な触媒式はイソ−
プロピル(フルオレニル)(シクロペンタジェニル)M
e C1zであり、上式でMeは実施例によってジル
コニウム及びハフニウムのいずれかである。第1図はハ
フニウム触媒の構造を示すが、ジルコニウム触媒はHf
原子の位置にZrが位置した本質的に同一の構造を持っ
ている。
触媒の製造法一方法A
触媒の合成方法は真空雰囲気グローブボックス(Vac
uum Atmosphere glovebox)、
又はシユレツダ(Schlenk)法を用いて不活性ガ
ス雰囲気中で行われI:。合成方法は一般にl)ハロゲ
ン化又はアルキル化金属化合物の製造、2)配位子の製
造、3)錯体の合成、及び4)錯体の精製の工程から成
る。
uum Atmosphere glovebox)、
又はシユレツダ(Schlenk)法を用いて不活性ガ
ス雰囲気中で行われI:。合成方法は一般にl)ハロゲ
ン化又はアルキル化金属化合物の製造、2)配位子の製
造、3)錯体の合成、及び4)錯体の精製の工程から成
る。
方法Aにおいては、ハロゲン化合物金属化合物が溶剤と
してテトラヒドロフラン(“THF″)を用いて製造さ
れ、最終的に触媒にTHFを結合したものが得られる。
してテトラヒドロフラン(“THF″)を用いて製造さ
れ、最終的に触媒にTHFを結合したものが得られる。
特にM e CI 47 HFがマンザー(Manze
r)、L、、Inorg、5ynth、、21,135
−36(1982)に記載されたようにして製造された
。下記の実施例においては、Meはジルコニウム及びハ
フニウムであるが、チタン又は他の遷移金属を含んでい
てもよい。
r)、L、、Inorg、5ynth、、21,135
−36(1982)に記載されたようにして製造された
。下記の実施例においては、Meはジルコニウム及びハ
フニウムであるが、チタン又は他の遷移金属を含んでい
てもよい。
置換されたジイソシクロペンタジェニル配位子は、特定
の架橋又は環状置換基の選択に応じて技術上周知の各種
の方法を用いて製造することができる。下記の実施例に
示される好適な具体化においては、配位子は2.2−イ
ソプロピル=(フルオレン)シクロペンタジェンである
。この配位子を製造するためには、44g (0,25
モル)のフルオレンを側方枝管(side arm)及
び滴下濾斗を備えた丸底フラスコ中に入れた350mC
のTHFに溶解した。濾斗内にエーテル(1,4M)に
溶かしtl、25モルのメチルリチウム(CI4sLi
)を入れた。CH,Liをフルオレン溶液に滴下し、濃
い橙赤色の溶液を数時間撹拌した。ガスの発生が止んだ
後、溶液を一78°Cに冷却し、26.5g (0,2
5モル)の6.6−シメチルフルペンを含む100+Q
のTHFを溶液に滴下した。赤色の溶液を徐々に室温に
加温し、−夜撹拌した。溶液を200m12の水で処理
し、10分間撹拌した。溶液の有機画分を数回100m
0.うつのジエチルエーテルで抽出し、有機相を一緒に
して硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機相からエーテ
ルを除去すると、黄色い固体が残り、これを500m(
2のクロロホルム中に溶解し、過剰のメタノールを添加
することにより2℃で再結晶すると白色の粉末が得られ
た。
の架橋又は環状置換基の選択に応じて技術上周知の各種
の方法を用いて製造することができる。下記の実施例に
示される好適な具体化においては、配位子は2.2−イ
ソプロピル=(フルオレン)シクロペンタジェンである
。この配位子を製造するためには、44g (0,25
モル)のフルオレンを側方枝管(side arm)及
び滴下濾斗を備えた丸底フラスコ中に入れた350mC
のTHFに溶解した。濾斗内にエーテル(1,4M)に
溶かしtl、25モルのメチルリチウム(CI4sLi
)を入れた。CH,Liをフルオレン溶液に滴下し、濃
い橙赤色の溶液を数時間撹拌した。ガスの発生が止んだ
後、溶液を一78°Cに冷却し、26.5g (0,2
5モル)の6.6−シメチルフルペンを含む100+Q
のTHFを溶液に滴下した。赤色の溶液を徐々に室温に
加温し、−夜撹拌した。溶液を200m12の水で処理
し、10分間撹拌した。溶液の有機画分を数回100m
0.うつのジエチルエーテルで抽出し、有機相を一緒に
して硫酸マグネシウム上で乾燥した。有機相からエーテ
ルを除去すると、黄色い固体が残り、これを500m(
2のクロロホルム中に溶解し、過剰のメタノールを添加
することにより2℃で再結晶すると白色の粉末が得られ
た。
配位子の元素分析によれば、炭素は化合物の91.8重
量%であり、水素は7.4重量%であることが示された
。これはC,、H,、の重量百分率、92.6%の炭素
及び7.4%の水素に対応している。
量%であり、水素は7.4重量%であることが示された
。これはC,、H,、の重量百分率、92.6%の炭素
及び7.4%の水素に対応している。
配位子のNMRスペクトルによれば、置換されてフルオ
レニル残基を形成している第二のシクロペンタジェニル
環にイソプロピル架橋によって結合している一つのシク
ロペンタジェニル環を含む構造であることが確証される
。
レニル残基を形成している第二のシクロペンタジェニル
環にイソプロピル架橋によって結合している一つのシク
ロペンタジェニル環を含む構造であることが確証される
。
シンジオ特異性触媒錯体が配位子及び金属テトラクロリ
ド−THF錯体を用いて合成された。触媒は上記の6.
8g (0,025モル)のCp配位子を含む100+
m12のTHF溶液に、ヘキサン(1゜6M)中の0.
05モルのN−ブチルリチウムを滴下することにより形
成された。溶液は2QOmαのTHF中に含まれた(J
、4g (0,025モル)のZ r Cl * 2
T HFを、配位子溶液と共に激しく撹拌しなから5
00mQの丸底フラスコ中に迅速にカニユーレ挿入(c
annulate)後、35°Cで12時間撹拌した。
ド−THF錯体を用いて合成された。触媒は上記の6.
8g (0,025モル)のCp配位子を含む100+
m12のTHF溶液に、ヘキサン(1゜6M)中の0.
05モルのN−ブチルリチウムを滴下することにより形
成された。溶液は2QOmαのTHF中に含まれた(J
、4g (0,025モル)のZ r Cl * 2
T HFを、配位子溶液と共に激しく撹拌しなから5
00mQの丸底フラスコ中に迅速にカニユーレ挿入(c
annulate)後、35°Cで12時間撹拌した。
濃い橙赤色の溶液を還流下に12時間撹拌した。真空下
に溶剤を除去し、L i C1と赤色の固体を単離した
。
に溶剤を除去し、L i C1と赤色の固体を単離した
。
方法Aに従って製造された触媒は幾分か不純であり、空
気及び湿気に極めて敏感であった。その結果、下記の実
施例においては、方法Aの触媒は下記の精製方法の一つ
又は幾つかを用いて精製され tこ : 1、ペンタンによる抽出。固形の赤色触媒錯体に含まれ
る痕跡量の黄色の不純物はペンタンが無色となるまでペ
ンタンで繰り返し抽出された。
気及び湿気に極めて敏感であった。その結果、下記の実
施例においては、方法Aの触媒は下記の精製方法の一つ
又は幾つかを用いて精製され tこ : 1、ペンタンによる抽出。固形の赤色触媒錯体に含まれ
る痕跡量の黄色の不純物はペンタンが無色となるまでペ
ンタンで繰り返し抽出された。
2、分別再結晶。赤色錯体をloomQのトルエンに溶
解し、目の細かい焼結ガラス7リツトを通して濾過し、
ペンタンを加えることによって飽和溶液とすることによ
り、白いLiClから分離した。
解し、目の細かい焼結ガラス7リツトを通して濾過し、
ペンタンを加えることによって飽和溶液とすることによ
り、白いLiClから分離した。
赤いジルコニウム錯体が一20’Oでの結晶化!こより
単離した。
単離した。
3、バイオ−ビーズによるクロマトグラフィー50gの
ベイオービーズS M −2(パイオーラド[Bio−
Radl研究所製の20−50メツシユの巨大網状[m
acroreticularlスチレン−ジビニルベン
ゼン共重合体)を30X1.5cmのカラム中で70°
Cで48時間真空下に乾燥した。次いでビーズをトルエ
ンと数時間平衡させた。トルエン中の赤色触媒錯体の濃
厚溶液を15l50−2O0のトルエンでカラムから溶
離した。真空下にトルエンを蒸発することにより錯体を
回収した。
ベイオービーズS M −2(パイオーラド[Bio−
Radl研究所製の20−50メツシユの巨大網状[m
acroreticularlスチレン−ジビニルベン
ゼン共重合体)を30X1.5cmのカラム中で70°
Cで48時間真空下に乾燥した。次いでビーズをトルエ
ンと数時間平衡させた。トルエン中の赤色触媒錯体の濃
厚溶液を15l50−2O0のトルエンでカラムから溶
離した。真空下にトルエンを蒸発することにより錯体を
回収した。
触媒の製造法一方法B
別な合成方法として、方法Bは空気中で一層安定であり
、より活性で且つ高率のシンジオタクチックポリプロピ
レンを生じる触媒を提供する。この方法においては、非
−配位溶剤として塩化メチレンが使用される。下記の方
法は遷移金属としてハフニウムを使用しているが、本方
法はジルコニウム、チタン又は他の遷移金属の使用にも
適合している。置換されたジシクロペンタジェニル配位
子は上記の方法Aと同じ方式でTHF中で合成された。
、より活性で且つ高率のシンジオタクチックポリプロピ
レンを生じる触媒を提供する。この方法においては、非
−配位溶剤として塩化メチレンが使用される。下記の方
法は遷移金属としてハフニウムを使用しているが、本方
法はジルコニウム、チタン又は他の遷移金属の使用にも
適合している。置換されたジシクロペンタジェニル配位
子は上記の方法Aと同じ方式でTHF中で合成された。
配位子の赤色のジリチオ(dilithio)塩(0,
025モル)は、真空下で溶剤を除去し、且つペンタン
で洗浄することにより、方法Aに記載されたように単離
された。単離された赤色のジリチオ塩を125mQの冷
却した塩化メチレンに溶解し、別個に当量(0,025
モル)のHfC1゜を−78°Cで125mcの塩化メ
チレン中でスラリー化した。HfCl、スラリーを配位
子溶液を含むフラスコ中に迅速にカニコーレ挿入した。
025モル)は、真空下で溶剤を除去し、且つペンタン
で洗浄することにより、方法Aに記載されたように単離
された。単離された赤色のジリチオ塩を125mQの冷
却した塩化メチレンに溶解し、別個に当量(0,025
モル)のHfC1゜を−78°Cで125mcの塩化メ
チレン中でスラリー化した。HfCl、スラリーを配位
子溶液を含むフラスコ中に迅速にカニコーレ挿入した。
混合物を一78℃で2時間撹拌し、徐々に室温に加温し
、さらに12時間撹拌した。不溶性の白色塩(LiC1
)を濾別した。褐/黄色の塩化メチレン溶液を一20℃
に冷却し、上澄液をカニユーレで取り去ることにより、
空気感受性の余り大きくない黄色い粉末が得られた。カ
ニユーレで取り出した冷却した上澄液を、繰り返し戻し
て濾別することにより焼結したグラス・フィルター上で
鮮黄色の生成物を洗浄した。真空を用!て溶剤を吸引除
去することにより触媒錯体を単離し、脱酸素した乾燥ア
ルゴン下で貯蔵した。本法による触媒錯体の収量は5.
5gであった。
、さらに12時間撹拌した。不溶性の白色塩(LiC1
)を濾別した。褐/黄色の塩化メチレン溶液を一20℃
に冷却し、上澄液をカニユーレで取り去ることにより、
空気感受性の余り大きくない黄色い粉末が得られた。カ
ニユーレで取り出した冷却した上澄液を、繰り返し戻し
て濾別することにより焼結したグラス・フィルター上で
鮮黄色の生成物を洗浄した。真空を用!て溶剤を吸引除
去することにより触媒錯体を単離し、脱酸素した乾燥ア
ルゴン下で貯蔵した。本法による触媒錯体の収量は5.
5gであった。
方法Bを用いて製造されたハフニウム触媒錯体の元素分
析の結果によれば、触媒は48.79重量%の炭素、3
.4%の水素、15.14%の塩素及び33.2%のハ
フニウムから成ることが示された。同様に方法Bを用い
て製造されたジルコニウム触媒錯体の元素分析の結果に
よれば、予想値又は理論値に近い値が示された。更に下
記に例示された数種のハフニウム錯体は約4%のジルコ
ニウムを含む純度96%のHfC1,を用いて製造され
た。なお他の触媒試料は純度99.99%のHfC1,
を用いて製造された。純粋なHf触媒を用いて製造され
た重合体、及び少量の百分率でジルコニウムを含む触媒
を用いて製造された重合体の分子量分布の間に相違が認
められた。混合物触媒は純粋な触媒系よりもやや幅の広
い分子量分布を持った重合体を生じる。
析の結果によれば、触媒は48.79重量%の炭素、3
.4%の水素、15.14%の塩素及び33.2%のハ
フニウムから成ることが示された。同様に方法Bを用い
て製造されたジルコニウム触媒錯体の元素分析の結果に
よれば、予想値又は理論値に近い値が示された。更に下
記に例示された数種のハフニウム錯体は約4%のジルコ
ニウムを含む純度96%のHfC1,を用いて製造され
た。なお他の触媒試料は純度99.99%のHfC1,
を用いて製造された。純粋なHf触媒を用いて製造され
た重合体、及び少量の百分率でジルコニウムを含む触媒
を用いて製造された重合体の分子量分布の間に相違が認
められた。混合物触媒は純粋な触媒系よりもやや幅の広
い分子量分布を持った重合体を生じる。
下記の実施例は本発明の重合体の製造及びその各種の利
点を一層詳細に例示している。重合体方法及び重合体の
分析の結果は実施例1−17の場合は第1表に、及び実
施例18−33の場合は第2表に示されている。
点を一層詳細に例示している。重合体方法及び重合体の
分析の結果は実施例1−17の場合は第1表に、及び実
施例18−33の場合は第2表に示されている。
実施例 l
プロピレンの重合は上記の方法Aに従って製造されj二
O,16+++9のインプロピル(シクロペンタジ工二
ル)(70レニル)ジルコニウムジクロリトヲ用いて行
われた。触媒は分別再結晶を用いて精製された。触媒は
平均分子量約1300を有する1000重量%のメチル
アラムオキサン(M A O)を含むトルエン溶液と2
0分間予備接触した。アラムオキサン重合反応における
助触媒として役立つ。
O,16+++9のインプロピル(シクロペンタジ工二
ル)(70レニル)ジルコニウムジクロリトヲ用いて行
われた。触媒は分別再結晶を用いて精製された。触媒は
平均分子量約1300を有する1000重量%のメチル
アラムオキサン(M A O)を含むトルエン溶液と2
0分間予備接触した。アラムオキサン重合反応における
助触媒として役立つ。
1OccのMAO溶液を重合に使用した。触媒及び助触
媒溶液をジッパ−クレープ(Zipperclave)
反応器に室温で添加し、次いで1.2Qの液体プロピレ
ンを添加した。反応器の内容物を第1表及び2表に示す
ような反応温度、T1この場合は20℃に約5分間より
短時間加熱した。この時間の間、触媒の予備重合が生起
した。重合反応は60分間に互って進行し、その間反応
器は重合温度に保持された。単量体を迅速にガス抜きす
ることにより重合反応を停止した。反応器の内容物を希
HC1溶液中の50%メタノールで洗浄し、真空乾燥す
る。本重合方法により“重合したまま(as p。
媒溶液をジッパ−クレープ(Zipperclave)
反応器に室温で添加し、次いで1.2Qの液体プロピレ
ンを添加した。反応器の内容物を第1表及び2表に示す
ような反応温度、T1この場合は20℃に約5分間より
短時間加熱した。この時間の間、触媒の予備重合が生起
した。重合反応は60分間に互って進行し、その間反応
器は重合温度に保持された。単量体を迅速にガス抜きす
ることにより重合反応を停止した。反応器の内容物を希
HC1溶液中の50%メタノールで洗浄し、真空乾燥す
る。本重合方法により“重合したまま(as p。
lymerized)”の、即ちまだ単離又は精製され
ていないポリプロピレン14gが得られた。
ていないポリプロピレン14gが得られた。
重合体の分析
融点Tm、結晶熱Hc、分子量Mp1Mw、及びMn、
キシレン不溶率X■、及びシンジオタクチック指数S、
l 、を測定するために重合体を分析した。特に断らな
い限り、分析はシンジオタクチック画分、及びもし生成
していればアイソタクチック重合体を含む、重合体のキ
シレン不溶性画分について行われた。重合体生成物を熱
キシレンに溶解し、溶液を0℃に冷却し、及びキシレン
不溶性画分を沈澱させることによりアタクチック重合体
を除去した。このようにして逐次再結晶を行うと、事実
上キシレン不溶性画分から総てのアタクチック重合体を
除去する結果が得られる。
キシレン不溶率X■、及びシンジオタクチック指数S、
l 、を測定するために重合体を分析した。特に断らな
い限り、分析はシンジオタクチック画分、及びもし生成
していればアイソタクチック重合体を含む、重合体のキ
シレン不溶性画分について行われた。重合体生成物を熱
キシレンに溶解し、溶液を0℃に冷却し、及びキシレン
不溶性画分を沈澱させることによりアタクチック重合体
を除去した。このようにして逐次再結晶を行うと、事実
上キシレン不溶性画分から総てのアタクチック重合体を
除去する結果が得られる。
融点Tmは技術上既知の示差走査熱量計(DSC)デー
タを用いて誘導された。第1表及び2表に表示される融
点Tml及びTm2は真の平衡融点ではなく、DSCピ
ークの温度である。ポリプロピレンの場合は、低温及び
高温側のピーク温度、即ち二つのピークを得ることは異
常なことではなく、第1表及び2表にはTmlとして低
融点及びTm2として高融点の両者の融点が報告されて
いる。数時間に互って得られた真の平衡融点は、DSC
の低い方のピーク融点よりは大部分が数度高いようであ
る。技術上既知なように、ポリプロピレンの融点は重合
体のキシレン不溶性画分の結晶性によって決定される。
タを用いて誘導された。第1表及び2表に表示される融
点Tml及びTm2は真の平衡融点ではなく、DSCピ
ークの温度である。ポリプロピレンの場合は、低温及び
高温側のピーク温度、即ち二つのピークを得ることは異
常なことではなく、第1表及び2表にはTmlとして低
融点及びTm2として高融点の両者の融点が報告されて
いる。数時間に互って得られた真の平衡融点は、DSC
の低い方のピーク融点よりは大部分が数度高いようであ
る。技術上既知なように、ポリプロピレンの融点は重合
体のキシレン不溶性画分の結晶性によって決定される。
これはキシレン可溶性又はアタクチック形の重合体を除
去する前と後にDSC融点を試験することにより真実で
あることが示された。その結果大部分のアタクチック重
合体が除去された後の融点の差は僅かl−2°Cであっ
た。第1表に示すように、実施例1で製造された重合体
については融点は140°C及び150°Cであると測
定された。DSCデータは又J/9で測定された第1表
及び2表中に示された一Hc、結晶化熱を測定するため
に使用された。融点及び−Hcはアタクチック重合体を
除去する前の“重合したまま″の試料について測定され
た。
去する前と後にDSC融点を試験することにより真実で
あることが示された。その結果大部分のアタクチック重
合体が除去された後の融点の差は僅かl−2°Cであっ
た。第1表に示すように、実施例1で製造された重合体
については融点は140°C及び150°Cであると測
定された。DSCデータは又J/9で測定された第1表
及び2表中に示された一Hc、結晶化熱を測定するため
に使用された。融点及び−Hcはアタクチック重合体を
除去する前の“重合したまま″の試料について測定され
た。
重合体の分子量はジョルディ(Jordi)ゲル及び超
高分子量混合床のカラムを用いて、ウォーターズ(Wa
ters) l 50 C装置で行なわれたゲル透過ク
ロマトグラフィー(GPC)を使用して計算された。溶
剤はトリクロロベンゼンで操作温度は140°Cであっ
た。GPCから、ピーク分子量であるMp、数平均分子
量であるM n 、及び重量平均分子量であるMwが、
生成した重合体のキシレン不溶性画分から誘導された。
高分子量混合床のカラムを用いて、ウォーターズ(Wa
ters) l 50 C装置で行なわれたゲル透過ク
ロマトグラフィー(GPC)を使用して計算された。溶
剤はトリクロロベンゼンで操作温度は140°Cであっ
た。GPCから、ピーク分子量であるMp、数平均分子
量であるM n 、及び重量平均分子量であるMwが、
生成した重合体のキシレン不溶性画分から誘導された。
分子量分布、MWD。
は普通M w / M nとして測定される。この試料
について測定された値は第1表に示されている。GPC
分析は又第1表及び2表中に示されたシンジオタクチッ
ク指数、5.1.%を測定するために使用された。シン
ジオタクチック指数は重合反応中に生成したシンジオタ
クチック構造の目安であり、“重合したまま”の試料の
分子量データから測定された。
について測定された値は第1表に示されている。GPC
分析は又第1表及び2表中に示されたシンジオタクチッ
ク指数、5.1.%を測定するために使用された。シン
ジオタクチック指数は重合反応中に生成したシンジオタ
クチック構造の目安であり、“重合したまま”の試料の
分子量データから測定された。
重合体の微細構造を測定するためにNMR分析が使用さ
れた。上記のようにして製造されj;重合体の試料を1
.2.4−トリクロロベンゼン/ a e−ベンゼンの
20%溶液中に溶解し、インバース・ゲート広幅デカッ
プリング(inverse gate broadba
nd decoupling)法を用いるプリューカー
(Bruker)AM300WBスペクトロメーターを
使用して試験した。実験条件は下記の通りである二送信
周波数(transmitter frequency
) 75−47 M Hz ;デカップラー(deco
upler)周波数300.3MHz;パルス繰り返し
時間12秒;捕捉(acqu is i t 1on)
時間1.38秒:パルス角度90°(11,5マイクロ
秒パルス幅);メモリ・サイズ(memory 5iz
e)74にポイント;スペクトラル・ウィンドウ(sp
ectral window)、12195Hz、70
00の過渡信号(transient)が集積され、プ
ローブ(probe)温度は133℃に設定された。製
造されてキシレンから一回再結晶された重合体のNMR
スペクトルは第2図に示されている。スペクトルについ
ての計算値及び測定値は、キシレンから一度再結晶され
た試料のデータを表す実施例11及びキシレンから三度
再結晶された試料のデータを表す実施例1−Aについて
第3表に示されている。計算値はイノウx (Inou
e)、Y等、Polymer、25巻、1640頁(1
984)に記載されているベルヌーイ(Bernoul
li)の確率式を用い、技術上周知のようにして誘導さ
れた。
れた。上記のようにして製造されj;重合体の試料を1
.2.4−トリクロロベンゼン/ a e−ベンゼンの
20%溶液中に溶解し、インバース・ゲート広幅デカッ
プリング(inverse gate broadba
nd decoupling)法を用いるプリューカー
(Bruker)AM300WBスペクトロメーターを
使用して試験した。実験条件は下記の通りである二送信
周波数(transmitter frequency
) 75−47 M Hz ;デカップラー(deco
upler)周波数300.3MHz;パルス繰り返し
時間12秒;捕捉(acqu is i t 1on)
時間1.38秒:パルス角度90°(11,5マイクロ
秒パルス幅);メモリ・サイズ(memory 5iz
e)74にポイント;スペクトラル・ウィンドウ(sp
ectral window)、12195Hz、70
00の過渡信号(transient)が集積され、プ
ローブ(probe)温度は133℃に設定された。製
造されてキシレンから一回再結晶された重合体のNMR
スペクトルは第2図に示されている。スペクトルについ
ての計算値及び測定値は、キシレンから一度再結晶され
た試料のデータを表す実施例11及びキシレンから三度
再結晶された試料のデータを表す実施例1−Aについて
第3表に示されている。計算値はイノウx (Inou
e)、Y等、Polymer、25巻、1640頁(1
984)に記載されているベルヌーイ(Bernoul
li)の確率式を用い、技術上周知のようにして誘導さ
れた。
その結果キシレンから一回再結晶された試料のラセミ
ダイアド(r)のパーセントは95%であることが示さ
れた。キシレンから三回再結晶した試料のr ダイアド
のパーセントは98%であり、メン(m)ダイアドは2
%又はそれ以下を構成する重合体であることを示してい
る。更にNMRスペクトルによれば、メン ダイアドは
従来既知の高分子鎖中の単一mダイアト構造とは対照的
に、主として対をなして、即ちmmトリアドとして存在
することを示している。第3表中のデータは重合体が新
規微細構造を実際に有することを確証している。
ダイアド(r)のパーセントは95%であることが示さ
れた。キシレンから三回再結晶した試料のr ダイアド
のパーセントは98%であり、メン(m)ダイアドは2
%又はそれ以下を構成する重合体であることを示してい
る。更にNMRスペクトルによれば、メン ダイアドは
従来既知の高分子鎖中の単一mダイアト構造とは対照的
に、主として対をなして、即ちmmトリアドとして存在
することを示している。第3表中のデータは重合体が新
規微細構造を実際に有することを確証している。
実施例 2
重合反応における補助溶剤として500m12のトルエ
ンを使用する外は、実施例1の方法を繰り返した。更に
1gのMAOを重合に使用し、且つ反応温度は50°C
であった。重合体生成物と共に15gの油状物が得られ
た。重合体を上記の方法で分析し、その結果は第1表に
示されている。
ンを使用する外は、実施例1の方法を繰り返した。更に
1gのMAOを重合に使用し、且つ反応温度は50°C
であった。重合体生成物と共に15gの油状物が得られ
た。重合体を上記の方法で分析し、その結果は第1表に
示されている。
実施例 3
触媒中の遷移金属としてハフニウムを使用する外は、実
施例2の方法を繰り返した。他の反応条件は第1表に示
されており、得られた生成物の分析の結果も第1表に示
されている。
施例2の方法を繰り返した。他の反応条件は第1表に示
されており、得られた生成物の分析の結果も第1表に示
されている。
実施例 4ないし8
第1表に示されるように反応条件が異なる以外は、実施
例1の方法を繰り返した。更に、実施例4は精製方法と
してクロマトグラフィーを使用し、実施例5は何の精製
方法も使用しなかった。重合及び重合体の分析の結果は
第1表に示されている。
例1の方法を繰り返した。更に、実施例4は精製方法と
してクロマトグラフィーを使用し、実施例5は何の精製
方法も使用しなかった。重合及び重合体の分析の結果は
第1表に示されている。
第3図及び4図は夫々実施例7及び8で生成した重合体
の赤外スペクトルである。977及び962crn−’
のシンジオタクチックポリプロピレンの特性吸収が容易
に認められる。これらの吸収帯の存在は重合体のシンジ
オタクチック構造を再肯定するものである。アイソタク
チックポリプロピレンの対応する吸収帯は夫々995及
び974である。
の赤外スペクトルである。977及び962crn−’
のシンジオタクチックポリプロピレンの特性吸収が容易
に認められる。これらの吸収帯の存在は重合体のシンジ
オタクチック構造を再肯定するものである。アイソタク
チックポリプロピレンの対応する吸収帯は夫々995及
び974である。
実施例 9−16
第1表に指示されたように触媒及び助触媒の量を変えた
以外は、実施例1の方法を繰り返した。
以外は、実施例1の方法を繰り返した。
更に実施例9−13及び15の触媒はペンタンでの抽出
及び分別再結晶の両者を用いて精製された。
及び分別再結晶の両者を用いて精製された。
実施例14は精製方法としてペンタンでの抽出及びクロ
マトグラフィーを使用した。実施例16は何の精製方法
も実施しなかった。
マトグラフィーを使用した。実施例16は何の精製方法
も実施しなかった。
実施例 17
触媒の遷移金属としてハフニウムを使用する以外は、実
施例1の方法を繰り返した。他の反応条件は第1表に示
しである。触媒はペンタンでの抽出及び分別再結晶を用
いて精製された。重合の結果は第1表に示されている。
施例1の方法を繰り返した。他の反応条件は第1表に示
しである。触媒はペンタンでの抽出及び分別再結晶を用
いて精製された。重合の結果は第1表に示されている。
実施例 18及び19
上記のような方法Bを用い、且つ約4%のZrCl4を
含む純度95%のHfCl4を使用してハフニウムメタ
ロセン触媒を合成した。重合は第2表に示された条件下
で実施例1の重合方法を用いて行った。実施例1に記載
された方法に従って重合体を分析し、その結果を第2表
に表示しである。
含む純度95%のHfCl4を使用してハフニウムメタ
ロセン触媒を合成した。重合は第2表に示された条件下
で実施例1の重合方法を用いて行った。実施例1に記載
された方法に従って重合体を分析し、その結果を第2表
に表示しである。
実施例 20及び31
方法Bの合成方法を用いてジルコニウムメタロセン触媒
を製造し、各実施例について第2表に示されたような条
件下でプロピレンの重合を行った。
を製造し、各実施例について第2表に示されたような条
件下でプロピレンの重合を行った。
実施例1の方法に従って重合体生成物を分析し、その結
果を第2表に示す。実施例20−22の場合シンジオタ
クチック指数、S、1.はキシレン不溶性画分について
測定されたことに留意すべきである。これらの画分のシ
ンジオタクチック指数は殆ど100%であった。実施例
20及び22の実測された(obsd、)N M Rス
ペクトルデータは第4表に示されている。実施例20及
び22の場合のデータは夫々実施例20及び22におい
て製造され、キシレンから一回再結晶された重合体から
得られたものである。実施例22−Aはキシレンから三
日再結晶した実施例22の重合体である。
果を第2表に示す。実施例20−22の場合シンジオタ
クチック指数、S、1.はキシレン不溶性画分について
測定されたことに留意すべきである。これらの画分のシ
ンジオタクチック指数は殆ど100%であった。実施例
20及び22の実測された(obsd、)N M Rス
ペクトルデータは第4表に示されている。実施例20及
び22の場合のデータは夫々実施例20及び22におい
て製造され、キシレンから一回再結晶された重合体から
得られたものである。実施例22−Aはキシレンから三
日再結晶した実施例22の重合体である。
実施例 32及び33
方法Bの合成方法を使用してハフニウムメタロセン触媒
を製造した。重合体32の触媒は純度99%のHfCl
4を用いて製造されたが、実施例33の触媒は約4%の
ZrC1,を含む純度95%のHf Cl 4から製造
された。第2表の実施例32及び33に示された条件下
で、実施例1の方法に従って重合が行われた。これらの
実施例中で製造された重合体の分析の結果も第2表に示
しである。実施例33のNMRデータはキシレンから一
回再結晶された試料(実施例33)及びキシレンから三
日再結晶された試料(実施例33A)について第4表に
示されている。
を製造した。重合体32の触媒は純度99%のHfCl
4を用いて製造されたが、実施例33の触媒は約4%の
ZrC1,を含む純度95%のHf Cl 4から製造
された。第2表の実施例32及び33に示された条件下
で、実施例1の方法に従って重合が行われた。これらの
実施例中で製造された重合体の分析の結果も第2表に示
しである。実施例33のNMRデータはキシレンから一
回再結晶された試料(実施例33)及びキシレンから三
日再結晶された試料(実施例33A)について第4表に
示されている。
第1−4表及び第2図及び3図に示されたデータは、本
発明の重合体が高い結晶化度及び新規微網構造を有する
主としてシンジオタクチックなポリプロピレンであるこ
とを示している。特に第3表及び4表に示すNMRデー
タによれば、キシレン不溶性画分は、もしあったにして
も、極めて僅かしかアイソタクチック重合体が生成して
いない極めて高率のシンジオタクチック重合体から成る
ことを確証している。更に、シンジオタクチック重合体
は重合体主鎖中の“、、、rrrr、、。
発明の重合体が高い結晶化度及び新規微網構造を有する
主としてシンジオタクチックなポリプロピレンであるこ
とを示している。特に第3表及び4表に示すNMRデー
タによれば、キシレン不溶性画分は、もしあったにして
も、極めて僅かしかアイソタクチック重合体が生成して
いない極めて高率のシンジオタクチック重合体から成る
ことを確証している。更に、シンジオタクチック重合体
は重合体主鎖中の“、、、rrrr、、。
構造からの偏差の割合が極めて少ないことを示す高率の
“r ”群及び“rrrr”ペンタドを含有している。
“r ”群及び“rrrr”ペンタドを含有している。
実際に存在する偏差は主として“mm型である。実際に
第3表中の実施例1−Aの結果は高分子鎖中の唯一の偏
差は゛” m m ”型であることを示している。他の
NMR試料も” m ”偏差以上に″m m ”偏差が
主であることを示している。
第3表中の実施例1−Aの結果は高分子鎖中の唯一の偏
差は゛” m m ”型であることを示している。他の
NMR試料も” m ”偏差以上に″m m ”偏差が
主であることを示している。
従って、シンジオタクチックポリプロピレンの新規微細
構造が発見されたことになる。
構造が発見されたことになる。
第1表及び2表のデータは重合体生成物の高い結晶性を
示している。比較的高い融点、TMI及びTM2、及び
比較的高い結晶化熱、−Haは重合体が非常に結晶性で
あることを示す。更にデータによれば、重合体の重合反
応温度、T及び融点、分子量及び結晶化熱の間の相関関
係が指示されている。反応温度が増大するにつれて、こ
れらの三つの性質が総て減少する。又重合体の収量が最
大となる温度範囲があるように思われる。この反応温度
範囲は使用される触媒の型によって異なるが、一般には
50−70°Cである。メチルアラムオキサン(MAO
)の濃度も重合体の収量に影響するようである。データ
によれば、成魚までは、MAOの濃度が大きければ、重
合体の収量も高くなる。
示している。比較的高い融点、TMI及びTM2、及び
比較的高い結晶化熱、−Haは重合体が非常に結晶性で
あることを示す。更にデータによれば、重合体の重合反
応温度、T及び融点、分子量及び結晶化熱の間の相関関
係が指示されている。反応温度が増大するにつれて、こ
れらの三つの性質が総て減少する。又重合体の収量が最
大となる温度範囲があるように思われる。この反応温度
範囲は使用される触媒の型によって異なるが、一般には
50−70°Cである。メチルアラムオキサン(MAO
)の濃度も重合体の収量に影響するようである。データ
によれば、成魚までは、MAOの濃度が大きければ、重
合体の収量も高くなる。
MAOの濃度は又生成するアククチツク重合体の量に成
程度の効果を有するように見える。MAOは不純物の掃
去剤のように作用し、生成するアク2チンク重合体の量
を減少させるように思われる。
程度の効果を有するように見える。MAOは不純物の掃
去剤のように作用し、生成するアク2チンク重合体の量
を減少させるように思われる。
更にデータによれば、本発明のジルコニウム触媒及びハ
フニウム触媒の間の相違が示される。ハフニウム触媒で
生成する重合体は結晶性が小さく、ジルコニウム触媒を
用いて生成する重合体よりも低い融点を有する傾向があ
る。第4表のデータは、ハフニウム触媒はアイソタクチ
ックペンタドmmmmの存在によって反映されるように
、重合体鎖中に高い割合でアイソタクチックグロックを
生じることを示している。
フニウム触媒の間の相違が示される。ハフニウム触媒で
生成する重合体は結晶性が小さく、ジルコニウム触媒を
用いて生成する重合体よりも低い融点を有する傾向があ
る。第4表のデータは、ハフニウム触媒はアイソタクチ
ックペンタドmmmmの存在によって反映されるように
、重合体鎖中に高い割合でアイソタクチックグロックを
生じることを示している。
実施例18.19及び33は、本発明により記載された
触媒の混合物の使用により、広い分子量分布、M W
D = M w / M nが達成される可能性を示す
。これらの実施例における触媒は約4%のZrC1,を
含むHfCl4から製造された。これらの実施例中の重
合体のMWDは、実際に純粋なハフニウム触媒により製
造された重合体のMWD−実施例32参照−よりも著し
く高い。従って二種の異なった触媒の混合物は幅広いM
WDを有する重合体を製造するために使用することがで
きる。
触媒の混合物の使用により、広い分子量分布、M W
D = M w / M nが達成される可能性を示す
。これらの実施例における触媒は約4%のZrC1,を
含むHfCl4から製造された。これらの実施例中の重
合体のMWDは、実際に純粋なハフニウム触媒により製
造された重合体のMWD−実施例32参照−よりも著し
く高い。従って二種の異なった触媒の混合物は幅広いM
WDを有する重合体を製造するために使用することがで
きる。
更に本発明のシンジオ特異性触媒は実施例中に採録され
た特定の構造には限定されず、むしろ一つのCp環が立
体的に異なった方式で置換されている本文中に示された
一般式により記載された触媒を含むことを理解すべきで
ある。上記の実施例において、環は置換されていないC
p環及びフルオレニル基を形成するように置換されたC
p基を含んでいたが、その中のcp環の一つが他のCp
環と事実上天なる方式で置換されている場合、例えばイ
ンデニル残基とCp環、テトラメチル置換Cp環とモノ
置換Cp環等、架橋されたCp環から成る他の配位子を
使用することにより類似した結果が得られる。
た特定の構造には限定されず、むしろ一つのCp環が立
体的に異なった方式で置換されている本文中に示された
一般式により記載された触媒を含むことを理解すべきで
ある。上記の実施例において、環は置換されていないC
p環及びフルオレニル基を形成するように置換されたC
p基を含んでいたが、その中のcp環の一つが他のCp
環と事実上天なる方式で置換されている場合、例えばイ
ンデニル残基とCp環、テトラメチル置換Cp環とモノ
置換Cp環等、架橋されたCp環から成る他の配位子を
使用することにより類似した結果が得られる。
上述した本発明の詳細な説明から、本発明はシンジオタ
クチックポリプロピレンの新規構造を提供することが明
らかである。数例の具体化のみを記載したが、当業者に
は本発明の範囲から逸脱することなく、上記の重合体に
各種の変更及び改作を為し得ることが明らかであろう。
クチックポリプロピレンの新規構造を提供することが明
らかである。数例の具体化のみを記載したが、当業者に
は本発明の範囲から逸脱することなく、上記の重合体に
各種の変更及び改作を為し得ることが明らかであろう。
第
表
第
表
実施例 l 実施例1A
実測値% 計算値% 実測値% 計算値%%r
mmm
mm r
mmr
mrr
0.3
0.3
1.5
2.4
0.2
0.6
1.4
2.9
1.3
1.9
!、0
2.1
mm r
r rmr+
実施例20 実施例22
実測値% 実測値%
0 0.77
1123 0.45
2.27
3.23
実施例22−A
実測値%
0.51
O331
3,57
実施例33 実施例33−A
実測値% 実測値%
2.34 2.04
0.73 0.76
2.87
3.12
mrm
rmr
rrr
rrr
rrm
偏差
1.5
1.6
88.0
3.9
0.4
1.6
0.8
89.1
3.1
0.4
0.2
94.7
2.2
94.7
2.1
0.1
6.45
7.75
9.02
7.4
8、Ol
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1、重合体鎖の微細構造が主としてメソ トリアド(m
m)から成る単位により連結されている繰り返しラセミ
(r)ダイアトのブロックから成るシンジオタクチック
ポリプロピレン。
m)から成る単位により連結されている繰り返しラセミ
(r)ダイアトのブロックから成るシンジオタクチック
ポリプロピレン。
2、連結単位の40%以上がメン トリアド(mm)で
ある上記lに記載のシンジオタクチックポリプロピレン
。
ある上記lに記載のシンジオタクチックポリプロピレン
。
3、重合体構造が80%以上のラセミ(r)ダイアトか
ら成るシンジオタクチックポリプロピし・ン。
ら成るシンジオタクチックポリプロピし・ン。
4、重合体構造が95%以上のラセミ(r)ダイアトか
ら成るシンジオタクチックポリプロピレン。
ら成るシンジオタクチックポリプロピレン。
5、分子量分布(M w / M n )が3よりも大
きい上記lに記載のシンジオタクチックポリプロピレン
。
きい上記lに記載のシンジオタクチックポリプロピレン
。
第1図は新規シンジオタクチック構造を製造するのに有
用な好適な触媒の構造の図解である。第1図は詳細には
インーグロピル(シクロペンタジ工二ル)(フルオレニ
ル)/17ニウムジクロリドを示す。 第2図は実施例1で製造された重合体をキシレンから一
回再結晶したものについてのNMRスペクトルである。 第3図及び4図は夫々実施例7及び8で製造された重合
体をキシレンから三日再結晶したものについての赤外ス
ペクトルである。
用な好適な触媒の構造の図解である。第1図は詳細には
インーグロピル(シクロペンタジ工二ル)(フルオレニ
ル)/17ニウムジクロリドを示す。 第2図は実施例1で製造された重合体をキシレンから一
回再結晶したものについてのNMRスペクトルである。 第3図及び4図は夫々実施例7及び8で製造された重合
体をキシレンから三日再結晶したものについての赤外ス
ペクトルである。
Claims (1)
- 1、重合体鎖の微細構造が主としてメソトリアド(mm
)から成る単位により連結されている繰り返しラセミ(
r)ダイアドのブロックから成るシンジオタクチックポ
リプロピレン。
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