JPH02247651A - Pellicle removal device - Google Patents
Pellicle removal deviceInfo
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- JPH02247651A JPH02247651A JP1067889A JP6788989A JPH02247651A JP H02247651 A JPH02247651 A JP H02247651A JP 1067889 A JP1067889 A JP 1067889A JP 6788989 A JP6788989 A JP 6788989A JP H02247651 A JPH02247651 A JP H02247651A
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- 230000036346 tooth eruption Effects 0.000 claims description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
［概要］
マスクやレチクルの表面に接着して使用するペリクルの
除去装置に関し、
ペリクルをマスクあるいはレチクルがら取外す場合にペ
リクル膜がマスクあるいはレチクル表面に付着しないよ
うにすることを目的とし、ペリクル膜を吸着する吸着板
と、その吸着板に吸着されたペリクル膜をペリクルのフ
レームに沿って切断する切断歯とを枠体に設けて構成す
る。[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding a pellicle removal device used by adhering to the surface of a mask or reticle, an object of the present invention is to prevent a pellicle film from adhering to the surface of the mask or reticle when removing the pellicle from the mask or reticle. For this purpose, the frame is provided with a suction plate that suctions the pellicle film and cutting teeth that cut the pellicle membrane adsorbed to the suction plate along the frame of the pellicle.
［産業上の利用分野］
この発明はマスクやレチクルの表面に接着して使用する
ペリクルの除去装置に関するものである。[Industrial Application Field] The present invention relates to a pellicle removal device that is used by adhering to the surface of a mask or reticle.
ペリクルはマスクやレチクルを使用したフォトエツチン
グの際にマスクやレチクル表面に付着する塵の投影を防
止するために、同マスクやレチクルの表面に接着される
ものであり、アルミ等のフレームにニトロセルロースで
形成される透明なペリクル膜を貼着したものである。A pellicle is a device that is adhered to the surface of a mask or reticle to prevent the projection of dust that adheres to the surface of the mask or reticle during photoetching using a mask or reticle. A transparent pellicle film made of
［従来の技術］
第４図に示すように、ペリクル１はアルミ等で形成され
る環状のフレーム２の一側にペリクル膜３が貼着されて
いる。そして、このようなペリクル１がフレーム２の他
側をマスク４の表面に当接させる状態で同マスク４両面
にそれぞれ接着され、パターニングされたマスク４表面
への塵の付着を防止している。[Prior Art] As shown in FIG. 4, a pellicle 1 includes a pellicle membrane 3 attached to one side of an annular frame 2 made of aluminum or the like. The pellicle 1 is adhered to both surfaces of the mask 4 with the other side of the frame 2 in contact with the surface of the mask 4, thereby preventing dust from adhering to the patterned surface of the mask 4.
このようにマスク４に接着されたペリクル１は、そのペ
リクル１の接着後にマスク４表面に塵が発見された場合
等には第４図に示す治具５を使用してペリクル１をマス
ク４から取外す必要がある。If dust is found on the surface of the mask 4 after the pellicle 1 is bonded to the mask 4 in this way, the pellicle 1 can be removed from the mask 4 using a jig 5 shown in FIG. It needs to be removed.
この治具５は柄部５ａの下端に嘴状に突出する突部７が
形成され、その突部５ｂをペリクル１とマスク４との間
隙に挿入して、同ペリクル１とマスク４との接着状態を
こじあけるものである。This jig 5 has a beak-shaped protrusion 7 formed at the lower end of the handle 5a, and the protrusion 5b is inserted into the gap between the pellicle 1 and the mask 4 to bond the pellicle 1 and the mask 4 together. It is something that pries out the situation.
［発明が解決しようとする課題］
上記のような治具５を使用したペリクル１の取外し作業
では、フレーム２をマスク４から取外す際に誤ってペリ
クル膜３が破れることがあり、破れたペリクル膜３は第
５図に示すように静電気によりマスク４のパターン面に
付着する。そして、このペリクルＷＡ３をマスク４から
引き剥がそうとすると静電気の放電によりマスク４表面
に形成されているクロム膜のパターンが破壊されること
があるという問題点があった。[Problems to be Solved by the Invention] In the removal work of the pellicle 1 using the jig 5 as described above, the pellicle membrane 3 may be accidentally torn when removing the frame 2 from the mask 4. 3 is attached to the patterned surface of the mask 4 by static electricity, as shown in FIG. When attempting to peel off the pellicle WA3 from the mask 4, there is a problem in that the pattern of the chromium film formed on the surface of the mask 4 may be destroyed due to electrostatic discharge.
この発明の目的は、ペリクルをマスクあるいはレチクル
から取外す場合にペリクル膜がマスクあるいはレチクル
表面に付着することのないペリクル除去装置を提供する
にある。An object of the present invention is to provide a pellicle removal device in which a pellicle film does not adhere to the mask or reticle surface when the pellicle is removed from the mask or reticle.
［課題を解決するための手段］
第１図は本発明の原理説明図である。すなわち、ペリク
ル膜を吸着する吸着板８と、その吸着板８に吸着された
ペリクル膜をペリクルのフレームに沿って切断する切断
歯】、２とが枠体７に設けられている。[Means for Solving the Problems] FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention. That is, the frame body 7 is provided with a suction plate 8 for suctioning the pellicle film and cutting teeth 2 for cutting the pellicle film suctioned by the suction plate 8 along the frame of the pellicle.
［作用］
ペリクル膜は吸着板８で吸着された状態で切断歯１２に
よりペリクルのフレームから切断されて除去される。[Operation] The pellicle film is removed by being cut from the pellicle frame by the cutting teeth 12 while being adsorbed by the adsorption plate 8.
［実施例］
以下、この発明を具体化した一実施例を第２図及び第３
図に従って説明すると、ペリクル除去装置６は蓋状の枠
体７内にテフロンで形成された吸着板８が支持され、そ
の吸着板８の下面は枠体７の周縁部７ａ下縁とほぼ面一
である。また、第３図に示すように枠体７の外形はべり
クル１のフレーム２に沿う形状となっている。[Example] Hereinafter, an example embodying this invention is shown in FIGS. 2 and 3.
To explain according to the drawing, the pellicle removing device 6 has a suction plate 8 made of Teflon supported in a lid-like frame 7, and the lower surface of the suction plate 8 is almost flush with the lower edge of the peripheral edge 7a of the frame 7. It is. Further, as shown in FIG. 3, the outer shape of the frame body 7 is shaped to follow the frame 2 of the frame 1.
吸着板８と枠体７との間にはへリクルＭ３を切断するた
めの切断器９が上下動可能に支持されている。すなわち
、切断器９は枠体７の中央部を貫通する支軸１０の下端
に支持板１１が固定され、その支持板１１の端縁部には
枠体周縁部７ａに沿って下方へ突出する環状の切断歯１
２が設けられている。支軸１０の上端にはフランジ状の
操作部１３が形成され、その操作部１３と枠体７１面と
の間にはコイルスプリング１４だ配設され、そのコイル
スプリング１４の付勢力により操作部１３は常に上方へ
付勢されている。従って、切断器９はコイルスプリング
１４の付勢力により常には支持板１１が枠体７に当接す
る最上位置にあり、この状態では切断１１２は枠体７内
に収納されている。そして、コイルスプリング１４の付
勢力に抗して操作部１３を下方へ押すと、切断歯１２が
枠体周縁部７ａより下方へ突出されるようになっている
。A cutter 9 for cutting the helical M3 is supported between the suction plate 8 and the frame 7 so as to be movable up and down. That is, in the cutter 9, a support plate 11 is fixed to the lower end of a support shaft 10 that passes through the center of the frame 7, and the support plate 11 has a support plate 11 that protrudes downward along the frame peripheral edge 7a. Annular cutting tooth 1
2 is provided. A flange-like operating portion 13 is formed at the upper end of the support shaft 10, and a coil spring 14 is disposed between the operating portion 13 and the surface of the frame 71, and the urging force of the coil spring 14 causes the operating portion 13 to is always biased upward. Therefore, the cutter 9 is always at the uppermost position where the support plate 11 is in contact with the frame 7 due to the biasing force of the coil spring 14, and in this state the cutter 112 is housed within the frame 7. When the operating portion 13 is pushed downward against the biasing force of the coil spring 14, the cutting teeth 12 are projected downward from the frame peripheral edge 7a.
さて、このように構成されたペリクル除去装置６を使用
する場合には、まず第３図に示すように枠体７の周縁部
７ａをマスク４に接着されているペリクル１のフレーム
２上に載置する。すると、吸着板８はテフロンで形成さ
れていて静電気が発生しやすいのでペリクル膜３が吸着
板８に吸着される。そして、この状態で操作部１３を下
方ノ＼押圧すると第３図に鎖線で示すように切断歯１２
が下降してフレーム２の内側でペリクル膜３が切断され
、次いでペリクル除去装置６をフレーム２上から除去す
ると、マスク４上にはべりクル１のフレーム２だけが残
る。この後、前記治具５でフレーム２をマスク４から取
外せばペリクル１の取外しが完了する。Now, when using the pellicle removing device 6 configured as described above, first, as shown in FIG. place Then, the pellicle film 3 is attracted to the suction plate 8 because the suction plate 8 is made of Teflon and tends to generate static electricity. In this state, when the operating section 13 is pressed downward, the cutting teeth 12 are pressed down as shown by the chain lines in FIG.
is lowered to cut the pellicle membrane 3 inside the frame 2, and then the pellicle removing device 6 is removed from above the frame 2, leaving only the frame 2 of the pellicle 1 on the mask 4. Thereafter, when the frame 2 is removed from the mask 4 using the jig 5, the removal of the pellicle 1 is completed.
以上のようにこのペリクル除去装置１では、ペリクル１
のフレーム２の取外しに先立ってペリクル［３がフレー
ム２から切断されて除去されるので、そのフレーム２の
取外しの際にペリクル膜３が破れてマスク４表面に付着
するという不具合を解消することができる。従って、ペ
リクル膜３をマスク４表面から引き剥がすことによるパ
ターンの損傷を未然に防止することができる。As described above, in this pellicle removing device 1, the pellicle 1
Since the pellicle [3 is cut and removed from the frame 2 before the frame 2 is removed, it is possible to eliminate the problem of the pellicle film 3 breaking and adhering to the surface of the mask 4 when the frame 2 is removed. can. Therefore, damage to the pattern caused by peeling off the pellicle film 3 from the surface of the mask 4 can be prevented.
［発明の効果］
以上詳述したように、この発明はペリクルをマスクある
いはレチクルから取外す場合にペリクル膜がマスクある
いはレチクル表面に付着することを防止することができ
る優れた効果を発揮する。[Effects of the Invention] As detailed above, the present invention exhibits an excellent effect of preventing the pellicle film from adhering to the surface of the mask or reticle when the pellicle is removed from the mask or reticle.
第１図は本発明の原理説明図、第２図は本発明を具体化
した実施例を示す断面図、第３図はその使用状況を示す
断面図、第４図は従来の治具を使用したペリクルの取外
し作業を示す説明図、第５図はペリクル膜がマスクに付
着した状態を示す断面図である。
図中、１はペリクル、２はフレーム、３はペリクル膜、
７は枠体、８は吸着板、１２は切断歯で第１図
本発明の原理説明図
第４図
従来の治具を使用したペリクルの取り外しｆ￥業を示す
説明因第５図
ペリクル膜がマスクに付着した状態を示す断面図第２図
本発明の実施例を示す断面図
第３図Fig. 1 is a diagram explaining the principle of the present invention, Fig. 2 is a sectional view showing an embodiment embodying the invention, Fig. 3 is a sectional view showing its usage situation, and Fig. 4 is a conventional jig used. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the state in which the pellicle film is attached to the mask. In the figure, 1 is a pellicle, 2 is a frame, 3 is a pellicle membrane,
7 is a frame body, 8 is a suction plate, and 12 is a cutting tooth. FIG. 1 An explanatory diagram of the principle of the present invention. FIG. Fig. 2 is a cross-sectional view showing the state in which it is attached to a mask. Fig. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the present invention.
Claims (1)
吸着板（８）に吸着されたペリクル膜（３）をペリクル
（１）のフレーム（２）に沿って切断する切断歯（１２
）とを枠体（７）に設けたことを特徴とするペリクル除
去装置。1. A suction plate (8) that adsorbs the pellicle film (3), and cutting teeth (that cut the pellicle film (3) adsorbed to the suction plate (8) along the frame (2) of the pellicle (1). 12
) is provided on the frame (7).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067889A JPH02247651A (en) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | Pellicle removal device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067889A JPH02247651A (en) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | Pellicle removal device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02247651A true JPH02247651A (en) | 1990-10-03 |
Family
ID=13357914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1067889A Pending JPH02247651A (en) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | Pellicle removal device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02247651A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005003863A2 (en) * | 2003-07-07 | 2005-01-13 | Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh | Device and method for processing a mask pattern used for the production of semiconductors |
| JP2011095453A (en) * | 2009-10-29 | 2011-05-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | Tool and method for separating pellicle |
| US8118531B2 (en) * | 2005-11-21 | 2012-02-21 | Hirata Corporation | Tray holding device |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1067889A patent/JPH02247651A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| TWI423382B (en) * | 2009-10-29 | 2014-01-11 | Shinetsu Chemical Co | Pellicle peeling jig and peeling method |
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