JP2002107914A - Pellicle and pellicle mounting method - Google Patents
Pellicle and pellicle mounting methodInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペリクル板を損傷することなくフォトマスク
に確実かつ容易に装着可能なペリクルおよびペリクルの
装着方法を提供する。
【解決手段】 ペリクル11は、ペリクルフレーム15
の一方の端部にペリクル板3が接着されてなり、ペリク
ルフレーム15の他方の端部にフォトマスク7が装着さ
れる。ペリクルフレーム15の一方の端部には、ペリク
ル板3が接着されるペリクル板接着部と、ペリクル板3
の外周縁より外側に位置する被押圧部15aとが設けら
れている。
[PROBLEMS] To provide a pellicle and a method for mounting a pellicle which can be surely and easily mounted on a photomask without damaging a pellicle plate. A pellicle (11) has a pellicle frame (15).
The pellicle plate 3 is adhered to one end of the pellicle frame, and the photomask 7 is mounted on the other end of the pellicle frame 15. At one end of the pellicle frame 15, a pellicle plate bonding portion to which the pellicle plate 3 is bonded,
And a pressed portion 15a located outside the outer peripheral edge of the main body.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI、超LSI
などの半導体素子あるいは液晶表示装置などの製造に用
いられ、とりわけ実質的に波長220nm以下の光を用
いる露光法に好適なペリクルおよびペリクルの装着方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an LSI,
The present invention relates to a pellicle and a pellicle mounting method suitable for an exposure method using light having a wavelength of substantially 220 nm or less, which is used for manufacturing a semiconductor element such as a liquid crystal display device or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】LSIや超LSIなどの半導体素子ある
いは液晶表示装置の製造においては、パターニングの際
にフォトマスクのパターン形成面にゴミが付着するのを
防止するために、ペリクルをフォトマスク上に載置して
露光作業を行うのが一般的である。また、これらの素子
や装置の製造に用いられる露光光は、微細化の要求に対
して波長は益々短くなってきており、今日ではF2レー
ザーなど波長220nm以下の露光光を使用する技術が
考案されている。2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductor elements such as LSIs and VLSIs or liquid crystal display devices, a pellicle is placed on a photomask in order to prevent dust from adhering to the pattern forming surface of the photomask during patterning. It is common to carry out exposure work by mounting. The exposure light used in the manufacture of these elements and devices, wavelength in response to a request miniaturization is becoming increasingly shorter, techniques devised to use an F 2 laser etc. Wavelength 220nm or less of the exposure light Today Have been.
【0003】図5は従来のペリクルをフォトマスクに装
着した状態を示す斜視図であり、図6は図5のAA断面
図である。ペリクル1は、露光光を透過させるペリクル
膜2を接着剤4によりペリクルフレーム5に接着して構
成されている。露光作業に際してこのペリクル1は、ペ
リクルフレーム5を粘着剤6によりフォトマスク7に装
着される。具体的には、フォトマスク7上に粘着剤6を
介してペリクルフレーム5を載置した後、ペリクル膜2
の上から図中矢印Fで示すように図示は省略される装着
装置(ペリクルマウンタ)によって、ペリクルフレーム
5をフォトマスク7に向けて押圧し、その状態を維持し
てペリクルフレーム5をフォトマスク7に装着する。FIG. 5 is a perspective view showing a state in which a conventional pellicle is mounted on a photomask, and FIG. 6 is a sectional view taken along the line AA of FIG. The pellicle 1 is configured by bonding a pellicle film 2 that transmits exposure light to a pellicle frame 5 with an adhesive 4. At the time of the exposure operation, the pellicle 1 has the pellicle frame 5 mounted on the photomask 7 with the adhesive 6. Specifically, after placing the pellicle frame 5 on the photomask 7 with the adhesive 6 interposed therebetween, the pellicle film 2
The pellicle frame 5 is pressed toward the photomask 7 by a mounting device (pellicle mounter) (not shown) as shown by an arrow F in the figure from above, and the pellicle frame 5 is maintained while maintaining the state. Attach to
【0004】従来ではペリクル膜2として、厚さ1μm
以下の合成樹脂製の薄膜が使用されている。しかし、従
来のペリクル膜2では、上記したような短波長の光が照
射されると合成樹脂が容易に分解して実用に耐えられな
いため、上記したような短波長の露光光を用いる露光系
では、合成石英ガラスを薄い平板に加工したペリクル板
を使用することが検討されている。尚、この合成石英ガ
ラスは、例えば珪素源と酸素源とを気相で反応させてス
ートと呼ばれる酸化珪素からなる多孔質を成長させ、焼
結して得られる実質的に酸化珪素のみからなるガラスで
ある。Conventionally, the pellicle film 2 has a thickness of 1 μm.
The following synthetic resin thin films are used. However, in the conventional pellicle film 2, if the above-mentioned short-wavelength light is irradiated, the synthetic resin is easily decomposed and cannot be put to practical use. The use of a pellicle plate obtained by processing a synthetic quartz glass into a thin flat plate has been studied. The synthetic quartz glass is, for example, a glass made of silicon oxide substantially obtained by reacting a silicon source and an oxygen source in a gas phase to grow a porous material called silicon oxide called soot and sintering the soot. It is.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ペリクル板を用いたペ
リクルをフォトマスクに装着する際に、ペリクル膜2を
用いたペリクル1のときと同様に、ペリクル板の上から
ペリクルフレームをフォトマスクに向けて押圧すると、
ペリクル板が割れるおそれが生じる。When a pellicle using a pellicle plate is mounted on a photomask, the pellicle frame is directed from above the pellicle plate toward the photomask, as in the case of the pellicle 1 using the pellicle film 2. And press
The pellicle plate may be broken.
【0006】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、ペリクル板を損傷すること
なくフォトマスクに確実かつ容易に装着可能なペリクル
およびペリクルの装着方法を提供することにある。The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a pellicle and a pellicle mounting method which can be surely and easily mounted on a photomask without damaging a pellicle plate. It is in.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、ペリクルフレームの一方の端部にペ
リクル板が接着されてなり、前記ペリクルフレームの他
方の端部にフォトマスクが装着されるペリクルにおい
て、前記ペリクルフレームの一方の端部は、ペリクル板
が接着されるペリクル板接着部と前記ペリクル板の外周
縁より外側に位置する被押圧部とを備えていることを特
徴とするペリクルを提供する。また、前述した目的を達
成するために、本発明は、ペリクルフレームの一方の端
部にペリクル板が接着されてなるペリクルの、前記ペリ
クルフレームの他方の端部をフォトマスクに装着するペ
リクルの装着方法において、前記ペリクルフレームの一
方の端部は前記ペリクル板の外周縁より外側に位置する
被押圧部を備えており、前記ペリクルフレームの他方の
端部をフォトマスクに当接した状態で、前記被押圧部を
ペリクルマウンタで押圧して、前記ペリクルを前記フォ
トマスク上に装着することを特徴とするペリクルの装着
方法を提供する。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a pellicle frame in which a pellicle plate is adhered to one end of the pellicle frame, and a photomask is provided on the other end of the pellicle frame. In the pellicle to be mounted, one end of the pellicle frame has a pellicle plate bonding portion to which a pellicle plate is bonded and a pressed portion located outside the outer peripheral edge of the pellicle plate. To provide a pellicle. According to another aspect of the present invention, there is provided a pellicle having a pellicle plate adhered to one end of a pellicle frame, the pellicle being mounted on a photomask at the other end of the pellicle frame. In the method, one end of the pellicle frame has a pressed portion located outside an outer peripheral edge of the pellicle plate, and the other end of the pellicle frame is in contact with a photomask, A pellicle mounting method is provided, wherein a pressed portion is pressed by a pellicle mounter to mount the pellicle on the photomask.
【0008】以上のような構成のペリクルおよびペリク
ルの装着方法によれば、ペリクル板を損傷することなく
ペリクルをフォトマスクに確実かつ容易に装着できる。
本明細書において「ペリクル板」とは、ペリクルフレー
ムの一方の端部のペリクル板接着部に接着される厚さ
0.01〜2mm程度の合成石英ガラスからなる板材を
いう。接着のためには、従来と同様に、ポリブテン樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系、フッ
素樹脂系接着剤等の接着剤を用いることができる。According to the pellicle and the method of mounting the pellicle having the above-described configuration, the pellicle can be reliably and easily mounted on the photomask without damaging the pellicle plate.
In the present specification, the “pellicle plate” refers to a plate material made of synthetic quartz glass having a thickness of about 0.01 to 2 mm adhered to the pellicle plate bonding portion at one end of the pellicle frame. For bonding, an adhesive such as a polybutene resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a silicone-based, or a fluororesin-based adhesive can be used as in the conventional case.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明に関して図面を参照
して説明する。図1は本発明の第1実施形態であるペリ
クルをフォトマスクに装着した状態で示す斜視図であ
り、図2は図1のAA面図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a state in which a pellicle according to a first embodiment of the present invention is mounted on a photomask, and FIG. 2 is an AA plane view of FIG.
【0010】図1に示すように、ペリクル11は、露光
光を透過させるペリクル板3をペリクルフレーム15の
上端部(一方の端部)のペリクル板接着部に接着して構
成されている。ペリクルフレーム15は、前記ペリクル
板接着部と、ペリクル板3の外周縁より外側に位置する
被押圧部15aとを備えている。As shown in FIG. 1, the pellicle 11 is formed by bonding a pellicle plate 3 that transmits exposure light to a pellicle plate bonding portion at an upper end (one end) of a pellicle frame 15. The pellicle frame 15 includes the pellicle plate bonding portion and a pressed portion 15 a located outside the outer peripheral edge of the pellicle plate 3.
【0011】図2に示すように、本実施形態では、縦断
面形状が長方形状であるペリクルフレーム15の上端面
の内周側を段階的に凹ませることで外周側の部分を上方
に突出させ、その外周側の部分を被押圧部15aとして
いる。ペリクルフレーム15上端面の内周側の凹んだ部
分がペリクル板接着部であり、この上に接着剤4を塗布
し、その接着剤4の上にペリクル板3の周縁部を載置し
て、ペリクル板3とペリクルフレーム15とを接着して
いる。ここでは、被押圧部15aの上端面がペリクル板
3の上面より突出している。As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the inner peripheral side of the upper end surface of the pellicle frame 15 having a rectangular longitudinal cross section is gradually depressed so that the outer peripheral side portion is projected upward. The portion on the outer peripheral side is a pressed portion 15a. A concave portion on the inner peripheral side of the upper end surface of the pellicle frame 15 is a pellicle plate bonding portion, and an adhesive 4 is applied thereon, and the peripheral portion of the pellicle plate 3 is placed on the adhesive 4. The pellicle plate 3 and the pellicle frame 15 are bonded. Here, the upper end surface of the pressed portion 15 a protrudes from the upper surface of the pellicle plate 3.
【0012】被押圧部15aの幅W1および内周側の凹
んだ部分(ペリクル板接着部)の幅W2は限定されない
が、例えば、ペリクルフレーム15の外寸が149.0
×122.0mmで内寸が145.0×118.0mm
のとき、W1を0.1〜1.9mm、W2を0.1〜
1.9mmとすることができる。The width W1 of the pressed portion 15a and the width W2 of the concave portion on the inner peripheral side (the pellicle plate bonding portion) are not limited. For example, the outer size of the pellicle frame 15 is 149.0.
× 122.0mm and inner size is 145.0 × 118.0mm
, W1 is 0.1 to 1.9 mm, W2 is 0.1 to
It can be 1.9 mm.
【0013】図2に基づいてペリクル11をフォトマス
ク7に装着する方法を説明する。先ず、粘着剤6を介し
てペリクルフレーム15の下端部(他方の端部)をフォ
トマスク7に当接する。次に、ペリクルマウンタ(装着
装置)の可動部20により、ペリクルフレーム15の被
押圧部15aをフォトマスク7に向けて押圧する。可動
部20は、ペリクル膜2を用いた従来のペリクル1(図
6参照)の装着に用いられていたものと同様の、平板部
の下面周縁に押圧枠部21を備えた構成である。押圧枠
部21によって、図中矢印Fで示すようにペリクルフレ
ーム15の被押圧部15aを押圧した状態を維持しつ
つ、粘着剤6にて、ペリクル11をフォトマスク7に固
定する。このとき、押圧枠部21はペリクル板3を押圧
しない。こうしてペリクル11をフォトマスク7に装着
できる。A method for mounting the pellicle 11 on the photomask 7 will be described with reference to FIG. First, the lower end (the other end) of the pellicle frame 15 is brought into contact with the photomask 7 via the adhesive 6. Next, the pressed part 15a of the pellicle frame 15 is pressed toward the photomask 7 by the movable part 20 of the pellicle mounter (mounting device). The movable portion 20 has a configuration in which a pressing frame portion 21 is provided on the lower surface peripheral edge of the flat plate portion, similar to the one used for mounting the conventional pellicle 1 (see FIG. 6) using the pellicle film 2. The pellicle 11 is fixed to the photomask 7 with the adhesive 6 while maintaining the state where the pressed portion 15 a of the pellicle frame 15 is pressed by the pressing frame portion 21 as shown by the arrow F in the drawing. At this time, the pressing frame 21 does not press the pellicle plate 3. Thus, the pellicle 11 can be mounted on the photomask 7.
【0014】以上のようなペリクル11およびペリクル
の装着方法によれば、ペリクル板3を損傷することなく
ペリクル11をフォトマスク7に確実かつ容易に装着で
きる。According to the pellicle 11 and the pellicle mounting method as described above, the pellicle 11 can be securely and easily mounted on the photomask 7 without damaging the pellicle plate 3.
【0015】図3に、本発明の第2実施形態であるペリ
クル31を示す。本実施形態では、縦断面形状が長方形
状であるペリクルフレーム35の上端部の外周側を段階
的に凹ませ、その外周側の部分を被押圧部35aとして
いる。ペリクルフレーム35上端部の内周側の部分(ペ
リクル板接着部)の上に接着剤4を塗布し、その接着剤
4の上にペリクル板3の周縁部を載置して、ペリクル板
3とペリクルフレーム35とを接着している。FIG. 3 shows a pellicle 31 according to a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, the outer peripheral side of the upper end portion of the pellicle frame 35 having a rectangular vertical cross section is gradually recessed, and a portion on the outer peripheral side is a pressed portion 35a. The adhesive 4 is applied on the inner peripheral portion (the pellicle plate bonding portion) of the upper end of the pellicle frame 35, and the peripheral portion of the pellicle plate 3 is placed on the adhesive 4, and The pellicle frame 35 is adhered.
【0016】このペリクル31をフォトマスク7に装着
するには、先ず、粘着剤6を介してペリクルフレーム3
5の下端部をフォトマスク7に当接する。次に、ペリク
ルマウンタの可動部40により、ペリクルフレーム35
の被押圧部35aをフォトマスク7に向けて押圧する。
可動部40は、平板部の下面周縁に押圧枠部41を備え
た構成であるが、この押圧枠部41は、第1実施形態で
用いた可動部の押圧枠部21(図2参照)より高さを延
長したものである。押圧枠部41によって、図中矢印F
で示すようにペリクルフレーム35の被押圧部35aを
押圧した状態を維持しつつ、粘着剤6にてペリクル31
をフォトマスク7に固定する。このとき、押圧枠部41
はペリクル板3を押圧しない。こうしてペリクル31を
フォトマスク7に装着できる。In order to mount the pellicle 31 on the photomask 7, first, the pellicle frame 3
The lower end of 5 is in contact with photomask 7. Next, the pellicle frame 35 is moved by the movable part 40 of the pellicle mounter.
Is pressed toward the photomask 7.
The movable portion 40 has a configuration in which a pressing frame portion 41 is provided on the lower peripheral edge of the flat plate portion. The pressing frame portion 41 is different from the pressing frame portion 21 (see FIG. 2) of the movable portion used in the first embodiment. It is an extension of the height. The arrow F in FIG.
While maintaining the state where the pressed portion 35a of the pellicle frame 35 is pressed as shown by, the pellicle 31 is
Is fixed to the photomask 7. At this time, the pressing frame 41
Does not press the pellicle plate 3. Thus, the pellicle 31 can be mounted on the photomask 7.
【0017】以上のようなペリクル31は、ペリクル板
3を損傷することなくフォトマスク7に確実かつ容易に
装着できるとともに、ペリクルフレーム35に接着剤4
を塗布してペリクル板3を接着するのが容易である。The pellicle 31 as described above can be securely and easily mounted on the photomask 7 without damaging the pellicle plate 3, and the adhesive 4
And the pellicle plate 3 is easily bonded.
【0018】図4は、第2実施形態のペリクル31をフ
ォトマスク7に装着する方法の他の例を説明する図であ
る。図4に示すように、先ず、粘着剤6を介してペリク
ルフレーム35の下端部をフォトマスク7に当接すると
ともに、被押圧部35aの上に押圧治具25を設置す
る。このとき、押圧治具25の上端面はペリクル板3の
上面より突出する。押圧治具25としては、枠状部材を
用いることができる。次に、第1実施形態で用いたもの
と同様のペリクルマウンタの可動部20の押圧枠部21
によって、図中矢印Fで示すように押圧治具25を介し
てペリクルフレーム35の被押圧部35aを押圧した状
態を維持しつつ、粘着剤6にてペリクル31をフォトマ
スク7に固定する。このとき、押圧枠部21はペリクル
板3を押圧しない。こうしてペリクル31をフォトマス
ク7に装着できる。ペリクル31をフォトマスク7に装
着した後、押圧治具25をペリクル31から取り外す。FIG. 4 is a view for explaining another example of a method for mounting the pellicle 31 of the second embodiment on the photomask 7. In FIG. As shown in FIG. 4, first, the lower end of the pellicle frame 35 is brought into contact with the photomask 7 via the adhesive 6, and the pressing jig 25 is set on the pressed portion 35a. At this time, the upper end surface of the pressing jig 25 protrudes from the upper surface of the pellicle plate 3. As the pressing jig 25, a frame-shaped member can be used. Next, the pressing frame portion 21 of the movable portion 20 of the pellicle mounter similar to that used in the first embodiment.
As a result, the pellicle 31 is fixed to the photomask 7 with the adhesive 6 while maintaining the state in which the pressed portion 35a of the pellicle frame 35 is pressed via the pressing jig 25 as shown by the arrow F in the drawing. At this time, the pressing frame 21 does not press the pellicle plate 3. Thus, the pellicle 31 can be mounted on the photomask 7. After attaching the pellicle 31 to the photomask 7, the pressing jig 25 is removed from the pellicle 31.
【0019】以上のようなペリクル31の装着方法によ
れば、従来のものと同様のマウンタを使用できる。According to the mounting method of the pellicle 31 as described above, a mounter similar to the conventional mounter can be used.
【0020】なお、本発明は前述した実施形態に限定さ
れるものではなく、適宜な変形、改良等が可能である。
例えば、ペリクルフレーム外周側の被押圧部が、ペリク
ルフレーム内周側の部分(ペリクル板接着部)と面一で
あってもよい。例えば、ペリクルフレームの外周面に、
周方向に間隔を隔てて複数の被押圧部を設けてもよい。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications and improvements can be made.
For example, the pressed portion on the outer peripheral side of the pellicle frame may be flush with the portion on the inner peripheral side of the pellicle frame (the pellicle plate bonding portion). For example, on the outer peripheral surface of the pellicle frame,
A plurality of pressed parts may be provided at intervals in the circumferential direction.
【0021】[0021]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ペリクル板を損傷することなくペリクルをフォトマスク
に確実かつ容易に装着できる。As described above, according to the present invention,
The pellicle can be securely and easily attached to the photomask without damaging the pellicle plate.
【図1】本発明の第1実施形態であるペリクルをフォト
マスクに装着した状態で示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a state in which a pellicle according to a first embodiment of the present invention is mounted on a photomask.
【図2】図1におけるAA断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG.
【図3】本発明の第2実施形態であるペリクルをフォト
マスクに装着した状態で示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a state in which a pellicle according to a second embodiment of the present invention is mounted on a photomask.
【図4】本発明の第2実施形態であるペリクルの装着方
法の第2例を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a second example of a pellicle mounting method according to a second embodiment of the present invention.
【図5】従来のペリクルをフォトマスクに装着した状態
で示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a state in which a conventional pellicle is mounted on a photomask.
【図6】図5におけるAA断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line AA in FIG.
3 ペリクル板 4 接着剤 6 粘着剤 7 フォトマスク 11,31 ペリクル 15,35 ペリクルフレーム 15a,35a 被押圧部 Reference Signs List 3 pellicle plate 4 adhesive 6 adhesive 7 photomask 11, 31 pellicle 15, 35 pellicle frame 15a, 35a pressed part
フロントページの続き (72)発明者 岡田 要 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 菊川 信也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 有島 浩 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 森田 寛 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 旭 硝子株式会社内 (72)発明者 重松 茂人 山口県玖珂郡和木町和木六丁目1番2号 三井化学株式会社内 (72)発明者 中川 広秋 山口県玖珂郡和木町和木六丁目1番2号 三井化学株式会社内 Fターム(参考) 2H095 BC38 BC39 5F046 AA28 CB17 CB27 DA06 Continuing on the front page (72) Inventor: Okada required, Asahi Glass Co., Ltd., 1150 Hazawacho, Kanagawa-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture (72) Inventor Shinya Kikukawa, 1150 Hazawacho, Kanagawa-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture, Asahi Glass Co., Ltd. (72) Invention Person Hiroshi Arishima 1-12-1 Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Asahi Glass Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Morita 1-12-1 Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo Asahi Glass Co., Ltd. (72) Inventor Shigehito Shigematsu (1-2) Inventor Hiroaki Nakagawa 6-1-2 Waki, Waki-machi, Kuga-gun, Yamaguchi Prefecture F-term in Mitsui Chemicals, Inc. (1-2) 2H095 BC38 BC39 5F046 AA28 CB17 CB27 DA06
Claims (5)
板が接着されてなり、前記ペリクルフレームの他方の端
部にフォトマスクが装着されるペリクルにおいて、前記
ペリクルフレームの一方の端部は、ペリクル板が接着さ
れるペリクル板接着部と前記ペリクル板の外周縁より外
側に位置する被押圧部とを備えていることを特徴とする
ペリクル。1. A pellicle wherein a pellicle plate is bonded to one end of a pellicle frame and a photomask is mounted on the other end of the pellicle frame. A pellicle comprising: a pellicle plate bonding portion to which a plate is bonded; and a pressed portion located outside an outer peripheral edge of the pellicle plate.
面より突出している請求項1記載のペリクル。2. The pellicle according to claim 1, wherein an upper end surface of the pressed portion protrudes from an upper surface of the pellicle plate.
板が接着されてなるペリクルの、前記ペリクルフレーム
の他方の端部をフォトマスクに装着するペリクルの装着
方法において、前記ペリクルフレームの一方の端部は前
記ペリクル板の外周縁より外側に位置する被押圧部を備
えており、前記ペリクルフレームの他方の端部をフォト
マスクに当接した状態で、前記被押圧部をペリクルマウ
ンタで押圧して、前記ペリクルを前記フォトマスク上に
装着することを特徴とするペリクルの装着方法。3. A method for mounting a pellicle, wherein a pellicle plate is adhered to one end of a pellicle frame, wherein the other end of the pellicle frame is mounted on a photomask. The portion has a pressed portion located outside the outer peripheral edge of the pellicle plate, and in a state where the other end of the pellicle frame is in contact with a photomask, the pressed portion is pressed by a pellicle mounter. Mounting the pellicle on the photomask.
板の上面より突出した前記被押圧部の上端面を押圧する
ことにより行われる請求項3記載のペリクルの装着方
法。4. The pellicle mounting method according to claim 3, wherein the pressing by the pellicle mounter is performed by pressing an upper end surface of the pressed portion projecting from an upper surface of the pellicle plate.
板の上面より後退した前記被押圧部の上端面を、押圧治
具またはマウンタに備えられた押圧枠部を介して押圧す
ることにより行われる請求項3記載のペリクルの装着方
法。5. The pressing by the pellicle mounter is performed by pressing the upper end surface of the pressed portion retreated from the upper surface of the pellicle plate via a pressing jig or a pressing frame portion provided on the mounter. 3. The method for mounting a pellicle according to 3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000302305A JP2002107914A (en) | 2000-10-02 | 2000-10-02 | Pellicle and pellicle mounting method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002107914A true JP2002107914A (en) | 2002-04-10 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000302305A Pending JP2002107914A (en) | 2000-10-02 | 2000-10-02 | Pellicle and pellicle mounting method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002107914A (en) |
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