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JPH02235633A - 耐熱性フィルム又はその類似物 - Google Patents

耐熱性フィルム又はその類似物

Info

Publication number
JPH02235633A
JPH02235633A JP1057324A JP5732489A JPH02235633A JP H02235633 A JPH02235633 A JP H02235633A JP 1057324 A JP1057324 A JP 1057324A JP 5732489 A JP5732489 A JP 5732489A JP H02235633 A JPH02235633 A JP H02235633A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
resin
base material
film
resistant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1057324A
Other languages
English (en)
Inventor
Kosuke Iida
飯田 浩介
Hiroshi Yamato
大和 博司
Yoji Sumino
角野 洋二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takiron Co Ltd
Original Assignee
Takiron Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takiron Co Ltd filed Critical Takiron Co Ltd
Priority to JP1057324A priority Critical patent/JPH02235633A/ja
Publication of JPH02235633A publication Critical patent/JPH02235633A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/036Multilayers with layers of different types

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、熱可塑性樹脂よりなる基材に合成樹脂の薄膜
を形成した耐熱性フィルム又はその類似物に関する. 〔従来の技術〕 熱可塑性樹脂を基材とする柔軟なフィルムやその類似物
であるシート(以下、これらを総称してフィルムという
.)などは、それらに具備された可撓性のためにデザイ
ンの自由度が高く、しかもある程度の絶縁性を有してい
るが、一般的には耐.熱性が不十分であるために、その
用途が限られている.従来、基材として使用される無処
理フィルムの中で、比較的優れた耐熱性を有するものと
して、ポリイミド(P!)フィルム等のようなエンジニ
アリングプラスチックがあったが、樹脂自体が高価であ
り、また、これをフィルムに加工するのに高度な加工技
術が加わって一層高価なものとなり、汎用的に使用しに
くいものであった。そこで、近年では、基材自体に安価
な熱可塑性樹脂を用いているにもかかわらず、基材自体
よりなる無処理フィルムよりも優れた耐熱性を具備する
フィルムについて種々の研究がなされ、現実にそのよう
なフィルムも種々提案されている. 安価で入手が容易な熱可塑性樹脂の代表であるポリ塩化
ビニル樹脂(PVC)に所定の添加剤を混和した組成物
を基材とするフィルムもその一つである.ところが、添
加剤を混和して基材の耐熱性を改善する方法では、目標
とする耐熱特性を得るために種々の添加物を混和して調
整しなければならないことが多く、そのため、添加物の
混和に伴って透明度やその他の物性値も大きく変化して
しまうという難点が指摘されていた. 他方、熱可塑性樹脂よりなる基材に合成樹脂の薄膜を形
成することによって、基材自体では得られなかった耐熱
特性を持つフィルムを得ることも考えられる.このよう
なフィルムによると、基材自体が持つ透明度などの物性
が余り損なわれず、薄膜によって基材自体では得られな
い耐熱特性を得られる可能性がある。このようなフィル
ムの製造方法としては、一般に、熱可塑性樹脂よりなる
基材に収縮やしわを生じるおそれがない低温条件下で薄
膜を焼き付けるという手段が考えられる。
しかし、薄膜を有するフィルムの耐熱性は薄膜の焼付温
度と相関し、そのような低温で焼き付けると、耐熱性の
改善度合が比較的小さいものにしかならないと想定され
る。また、耐熱性繊維やガラス繊維のシート状のものに
耐熱性樹脂を含浸して既存フィルムにラミネートした耐
熱性フィルムが存在するが、厚みが厚く、柔軟性が失わ
れ、特に厚みが薄く柔軟性の要求されるような可撓性プ
リント配線基板等の用途には完全ではなかった。そのた
め、従来のフィルムは、いずれにしても耐熱性フィルム
としては未だ十分なものであるとはいい難いものであっ
た。
〔発明が解決しようとする課題〕
以上のように、従来想定される耐熱性フィルムは、基材
自体よりなる無処理フィルムに比べると幾分かは耐熱性
が改善される可能性はあり得るが、十分な耐熱性を有す
るものであるとはいい難く、また既存のその他の耐熱性
フィルムは上記に述べた如く厚み・柔軟性やコスト面の
点で、また、添加剤の混和によって耐熱性を改善すると
、他の物性が損なわれる等、満足できるものではなかっ
た。
本発明は以上の事情に鑑みてなされたもので、ポリアリ
レ−I・樹脂よりなる基材に薄膜が高温度で焼き付けら
れた耐熱性フィルムを提供することを目的とする。
c問題点を解決するための手段〕 上記目的を達成するため、本発明のフィルムは、ポリア
リレート樹脂(PAR)よりなる基材にイミド基を有す
る高耐熱性樹脂の薄膜を焼き付けてなることを特徴とす
る。
(実施例〕 以下、本発明の実施例を説明する。
第1図は耐熱性フィルムの断面図で、lOOは基材、1
10は基材100に焼き付けられた薄膜を示す。
上記基材100を形成するための熱可塑性樹脂はPAR
である。PARはジカルボン酸とビスフェノールとを溶
融重合させたり、ジカルボン酸ジクロライドとビスフェ
ノールとを溶液重合や界面重合させたりして得られる樹
脂である。たとえばユニチカ■製の商品名Uボリマーは
ビスフェノールAとフタル酸成分からなる重縮合系樹脂
であり、熱変形温度は透明タイプで190゜Cの高温度
を保有している.そして、光学的に等方性である, P
ARフィルムは引裂強度に優れ、可撓性に冨み、しかも
優れた耐熱性と耐高温収縮性を持つ。PARは現在のと
ころ汎用的ではないが、今後は安価で汎用的に市場に供
給されることが予想される。基材100は、耐薬品性の
点から75μ以上の厚みを有することが必要で、好まし
くは75〜500μの厚みを有することが望ましい。厚
みが,これより薄いと薬品性が不十分になり、後述する
薄膜の塗布時に高耐熱性樹脂の溶剤に侵され溶失するか
らである.たとえば高耐熱性樹脂の一つであるポリバラ
バン酸の溶剤としてN−メチルービロリドンやNN−ジ
メチルホルムアミドが使用されているが、これらの溶剤
がPARフィルムを侵してストレスクラックを生じ、7
5μ以下では溶失して引張り不可能となる。75μ以上
になるとフィルム表面は溶失しても内部は溶失せずに残
り引張り可能である。
そして高耐熱性樹脂フェスへの侵漬時間も10秒以内、
特に5秒以内にしないと、たとえPARフィルムを75
μとしても溶失してしまうおそれが生じる。厚みが50
0μより厚いとデザインの自由度が不足する心配がある
I1膜110はアミド基を有する高耐熱性樹脂にはPI
、ポリバラバン酸樹脂(PPA)、ポリアミドイミド樹
脂(FAI)、ポリヒダントイン樹脂(PH)等のイミ
ド基を有するものが使用される。yi膜110を形成す
るための高耐熱性樹脂はフェス状であることを要し、P
ARフィルムの熱変形温度よりも高温の200〜300
゜Cで焼き付けられる。
PPAとしては例えば東亜燃料工業■製,商品名XT−
1,XT−4がある。このものは一般式を基本単位とす
る単独重合体又は共重合体である。
上記Arとしては、 ミド(DMF:bρ153゜C),N−メチルピロリド
ン(NMP)等を主溶剤とし、希釈溶剤としてアセトン
、MEK,MIBK等のケトン系溶剤を用いてフェス状
の10%溶液に調製して使用する。PPAはPIに次ぐ
耐熱性を持ち、しかも他の高耐熱性樹脂に比べて着色が
少なく、薄膜になると透明性を有するようになるから本
発明の耐熱性フィルム、特に透明耐熱性フィルムの高耐
熱性樹脂層を形成するための熱可塑性樹脂として好適に
使用できるものである。
PIとしては例えばカネボーエヌエスシー■製.商品名
サーミフド(IP−600)を好適に使用できる。
このPIは末端にアセチレン基を持つポリイソイミドオ
リゴマーであり、次の構造式で表される.(以下、余白
) 等がある。上掲のPPAはN,N〜ジメチルホルムアと
し、希釈剤としてアセトン、MEK,MIBK等のケト
ン系溶剤を使用する。またPIとしてビスマレイミド・
トリアジン樹脂のような熱硬化性ポリイミド樹脂(三菱
瓦斯化学■,BTレジンBT−2170 )を使用でき
る. FAIとしては例えば次の構造式で表されるバイエル社
製.商品面レジスサーム(Al 133L)を使用でき
る。
このものの溶剤にはNMP..DMAC (ジメチルア
セトアミド)等を主溶剤とし、希釈剤としてアセトン、
MEK,MIBK等のケトン系溶剤を使用する。
PHとしては例えば次の構造式で表される住友バイエル
ウレタン■製,商品名レジスサーム(PI{20)を使
用できる。
このものの溶剤にはDMF,NMP等を主溶剤このもの
の溶剤にはクレゾール、フェノール等を主溶剤とし、希
釈剤としてアセトン、MEK、MIBK等のケトン系溶
剤を使用する。
薄膜110はイミド基を有する高耐熱性樹脂に難燃剤や
その他の機能性を向上させ得る添加剤を混和したフェス
状の溶液を基材100に担持させ、200〜300℃で
焼き付けることにより形成されるが、焼付温度が高すぎ
ると基材100からのブリ・−ドや他の物性値の低下を
伴うだけでなく、大きな収縮やしわ等の不都合を生じや
すく、フィルムとしての性能が損なわれる.フィルムと
しての性能を維持し得る焼付温度は300゜C以下であ
る。焼付温度が200゜Cより低いと十分な耐熱性、密
着性などが得られない。焼付後の薄膜110の厚みはド
ライで10μ以下好ましくは5μ以下であることが望ま
しく、その程度の厚みであれば十分な耐熱性と無着色透
明性が得られる. 焼付時間は2〜5分以内に設定しておくことが望ましい
。ここで、注意を要することは、焼き付けは温度条件を
上記範囲に設定することのみでなく、基材100に弛み
を生じさせることなく平坦に保形した状態に維持して行
うことである。ところで加熱処理時に基材100に積極
的に引張力を付与して弛みを防止すると、基材100が
強制的に引き伸ばされてその形状保持が困難になる。そ
こで、本発明方法において、加熱処理時に基材100に
積極的に引張力を付与することなく弛みを生しないよう
にその基材100を平坦に保形している.しかし、結果
的に基材100に引張力が付与されることはあり得る。
このように保形して焼き付けを行うと、基材100に担
持された薄膜110の耐熱性、形状維持性と相まって基
材100がそのガラス転移温度よりも高い温度で加熱さ
れるにもかかわらず基材100が変形せず、フィルム表
面に高度な平滑性が付与される.フィルム表面の平滑性
を高めるためには、ドラムやローラを用いて上下からフ
ィルムを押圧してもよい.第2図は本発明の耐熱性フィ
ルムの製造方法を実施するための製造工程のフローシ一
トであり、1は基材の繰出機、2は高耐熱性樹脂溶液の
ディッピング装置、3は加熱炉、4は焼付炉、5はトリ
ミング装置、6は巻取機である. 繰出機1から繰り出された基材100にはディッピング
装置2を通過する間に高耐熱性樹脂が塗布され、その高
耐熱性樹脂がバーコータ20で厚み調整された後に加熱
炉3を通る間に乾燥される。
その後、上記基材100が平坦に保形された状態で焼付
炉4を通過する間に上記高耐熱性樹脂が所定温度で焼き
付けられ、薄膜110(第1図参照)を形成する.こう
して得られたフィルムはトリミング加工された後、巻取
機6に巻き取られる.上記において、基材100はPA
Rフィルムよりなり、長時間溶剤に侵されると厚みが7
5μ以上であっても溶失するおそれがあるために、短時
間で好ましくは5秒以内さらに好ましくは2−・・3秒
でディッピング装置2を通過するようにすることが望ま
れる. また、ディッピング装置2に入る前の基材100にブラ
イマー処理やコロナ放電処理を施(、7てその表面活性
を高めると共に、基材100の静電除去処理やごみ除去
処理を行・うことは、高耐熱性樹脂層の密着性を高める
上で有益である。
また、ディッピング装置2の通過処理過程は基材100
の高耐熱性樹脂塗布状態に応じて、何回もくり返しても
よい.更に、ディッピング装置2の構造は、実施例のも
のに限定されるものでないのは当然である。そ1,7て
、基材100の両面に塗布せずに片面のみに塗布するこ
とも除外するものではない. 上記保形状態を維持する装置の一例を第3図及び第4図
に示してある.この装置は、第4図に示すクリップ機構
10を無端状に多数連結してなる左右一対の無端回動体
11,11を、その一端部同士又は他端部同士が個別に
接近離反できる状態として基台に取り付けてなる。第4
図に示すように、クリップ機構10は、支持台13に具
備されたブラケット14に、先端の爪15が上記支持台
13に対して基材100を挾み込む位置と支持台l3か
ら離れた位置との間で変位可能となるようにアーム16
を取り付け、このアーム16とブラケット14との間に
、上記爪15を上記挾み込み位置側へ常時付勢するばね
17を介装してなり、無端回動体11の巻掛ローラに設
けられた制御用回転板18の外周部に上記アーム16の
上端部19を対応させている。
以上の構成において、無端回動体11を図中矢印方向に
回転駆動させると、無端回動体1lの転向部分ではクリ
ップ機構lOのアーム16が制御用回転板18により第
4図の仮想線の位置へ揺動されて爪15が支持台13か
ら離され、その他の部分ではアーム16が同図実線の位
置へ復帰して爪15が支持台13に対応する。従って、
高耐熱性樹脂が含浸されている基材100を一対の無端
回動体11,11の間へ送り込むと、その基材l00の
両端部が上記装置の入口部分でクリップ機構10により
第4図実線のように支持された後、そのままの状態で同
装置の出口部分に達し、出口部分でその保持が解除され
る.ここで、基材100が加熱により伸張する場合には
一対の無端回動体11.11の間隔を出口側に近付くほ
ど漸次広くなるようにし、加熱により収縮する場合には
上記間隔を出口側に近付くほど漸次狭くなるようにして
おけば、焼付炉4を通過中、基材100に弛みを生じる
ことがないので基材100がその熱変形温度よりも高温
度に加熱されても変形(穴,しわなど)することがなく
、基材100が平坦に保形された状態に維持され、表面
平滑性が損なわれない。なお、第3図には基材100が
加熱により収縮する場合の無端回動体11,11の配置
状態を仮想線で例示してある. 叙述のように基材100を平坦に保形して基材100に
高耐熱性樹脂を焼き付けて薄膜110を形成させると、
基材の収縮やしわ等が発生せず、フィルムとしての性能
が損なわれない。特に、この発明では、焼付温度が基材
の熱変形温度よりも高温であるので、基材を平坦に保形
することには大きな意味がある。
次に実験例を説明する。
〔実験例〕 第1表に本発明により製造したフィルム(以下、発明品
という。)の基材の厚み、薄膜の合成樹脂の種類や厚み
等を示し、第2表に比較品である高耐熱性樹脂よりなる
無処理フィルムの諸特性を示し、第3〜4表に発明品1
〜2の諸特性を示した.なお、50μの厚みのPARよ
りなる基材を用いて第1表と同じ条件で製造しようとす
ると、ディッピング装置に浸漬中に基材が溶失し、本発
明の耐熱性フィルムを得ることができなかった.(以下
、余白) 第2〜4表より、発明品は、PARを基材としていなが
らPARより10〜30゜Cも耐熱性が向上し、その耐
熱性が上記無処理フィルムに近づいていることが判る。
そして、本発明品程度の耐熱性を有しておれば溶融半田
に接してもフィルムが変形することがなく十分使用に耐
え得る。なお、本発明品の耐熱性は焼付温度が高いほど
よく、基材と高耐熱性樹脂層との密着性も良好である。
本発明品の全光線透過率はPARと同等であってPIや
PPAよりもはるかに良好で、無色の透明性を有してい
ることが判る.吸水率もPARと同等の性能を有し、水
分を嫌う用途に使用可能である.引張強さ、加熱収縮率
はPIやPPAより若干劣るもののPARと同等で実使
用には何ら問題を生じない。また、本発明品は耐熱性樹
脂に比べて広範囲に使用可能である。なお、透湿性につ
いては、PARは悪いがPPAが良好であるため、これ
らを積層した本発明品はPPA並みになるであろうと推
測される。
なお、発明品において、薄膜を形成する高耐熱性樹脂と
して、PI、PAI,PHを用いた場合でも、上記PP
Aとほぼ同様の物性が得られ、この結果、同様の効果を
得ることができる。
ところで、熱可塑性樹脂を基材とするフィルムの可撓性
を活用することによって、FPCやコンデンサ、耐熱導
電フィルム、ICキャリアテープなどのエレクトロニク
ス分野や、航空機・自動車の内装材や、原子力関連分野
などに用いる試みがなされているが、それらに上記フィ
ルムを用いる場合には、その加工条件や使用条件に応じ
た耐熱性が要求される。例えばFPCのベースフィルム
として用いる場合は、半田時に高温にさらされるため、
半田温度である250〜260゜C程度の耐熱性が要求
される.この要求に応え得るものとして、上表より、2
60゜C以上で焼付処理したものが使用できることが明
らかであり、これを使用すると、その可撓性を活用して
曲面部分へのFPCの配備などが可能になる利点がある
。また、透明電極用のベースフィルムとして用いる場合
は、酸化インジウム(ITO)などの蒸着工程での耐熱
性とLSlなどの熔接のための半田耐熱性が要求される
と同時に、光学的に等方性を有するものが好ましいが、
本発明品は上記のように十分な耐熱性を有し、樹脂も等
方性のPAR,PPA,PI,PA1,PHを用いてお
り、透明電極用、たとえば液晶の透明電極用フィルムと
して用いることが可能である。特に、透明性の良好なP
ARと成膜時に着色が少ないPPAとの組み合わせは透
明耐熱性フィルムとして好ましい。
次に、各項目の試験方法などを説明する。
密着性: 高耐熱性樹脂層にレザー刃で格子状に切目を付け、24
mm幅のセロファンテープを貼り合わせ、急激にセロフ
ァンテーブを剥離したときの塗膜の剥離の有無を目視観
察する。○は剥離が殆どなかったものを表している。発
明品はすべて剥離していない。
耐溶剤性: JIS C−6481 5.13に準じ、アセトン、M
EK,トルエン及びトリクレンの各々に室温下で5分間
浸漬する。Oは剥離や溶解が殆どない状態、×は塗膜の
剥離や溶解が認められ、布でこすると脱離する状態を表
している。発明品は十分な耐溶剤性を有し、このことか
らエッチング処理などにも十分耐え得るものであること
が判る。
耐熱性: 銅箔を貼り合わせたフィルムを5C1l×5cIIlに
カットし、表中に表示した各温度のオイル浴あるいは半
田浴の中に10秒間浸漬する。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の耐熱性フィルムは、十分
な耐熱性を示し、しかも、優れた透明性を有する薄肉の
ものを得られ、かつ、耐溶剤性、吸水率等に優れるため
、特に過酷な温度条件やエッチング条件の製造過程や使
用条件におかれるFPCや透明電極用フィルムとしての
用途に適するばかりでなく、絶縁用フィルム、耐熱導電
フィルムやその他種々の用途にも汎用できるものである
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の耐熱性フィルムの拡大断面図、第2図
は本発明の耐熱性フイルムの製造工程を示すフローシ一
ト、第3図は基材を保形した状態に維持するための装置
の概略平面図、第4図はクリップ機構の概略一部切欠側
面図である。 100・・・基材、110・・・薄膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ポリアリレート樹脂よりなる基材にイミド基を有す
    る高耐熱性樹脂の薄膜を焼き付けてなる耐熱性フィルム
    又はその類似物。
JP1057324A 1989-03-08 1989-03-08 耐熱性フィルム又はその類似物 Pending JPH02235633A (ja)

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