JPH02207890A - 塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法 - Google Patents
塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法Info
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- JPH02207890A JPH02207890A JP2695689A JP2695689A JPH02207890A JP H02207890 A JPH02207890 A JP H02207890A JP 2695689 A JP2695689 A JP 2695689A JP 2695689 A JP2695689 A JP 2695689A JP H02207890 A JPH02207890 A JP H02207890A
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- Japan
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- arsenic
- alkaline earth
- earth metal
- soln
- iron chloride
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/10—Inorganic compounds
- C02F2101/103—Arsenic compounds
Landscapes
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は例えば鉄、銅、ニッケル、あるいはそれらを主
体とする合金を塩化第二鉄水溶液を用いてエツチングす
る際に生ずる廃液、あるいは該廃液から再往される再生
液等のヒ素を含有する塩化鉄水溶液からヒ素を除去する
゛方法に関するものである。
体とする合金を塩化第二鉄水溶液を用いてエツチングす
る際に生ずる廃液、あるいは該廃液から再往される再生
液等のヒ素を含有する塩化鉄水溶液からヒ素を除去する
゛方法に関するものである。
電子機器に用いられるプリント基板、リードフレーム、
シャドウマスク等は鉄、銅、ニッケル、あるいはそれら
の合金を塩化第二鉄水溶液にょうてエツチングすること
により製造される。このようなエツチング工程において
はエツチング廃液が生ずる。このようなエツチング廃液
は塩化第二鉄、あるいは塩化第一鉄と塩化第二鉄とを含
む水溶液であり、この廃液は通常廃棄されるかあるいは
含有する塩化第一鉄を酸化して塩化第二鉄とし、このよ
うにして処理された液は再びエツチング液としてエツチ
ングに用いるか、または排水処理における沈降剤として
再利用する。しかしながら上記エツチング廃液にはエツ
チングの際に金属または合金から溶出するヒ素が多く含
まれるようになり、該廃液をそのまま廃棄あるいは再生
することは出来なくなってきた。
シャドウマスク等は鉄、銅、ニッケル、あるいはそれら
の合金を塩化第二鉄水溶液にょうてエツチングすること
により製造される。このようなエツチング工程において
はエツチング廃液が生ずる。このようなエツチング廃液
は塩化第二鉄、あるいは塩化第一鉄と塩化第二鉄とを含
む水溶液であり、この廃液は通常廃棄されるかあるいは
含有する塩化第一鉄を酸化して塩化第二鉄とし、このよ
うにして処理された液は再びエツチング液としてエツチ
ングに用いるか、または排水処理における沈降剤として
再利用する。しかしながら上記エツチング廃液にはエツ
チングの際に金属または合金から溶出するヒ素が多く含
まれるようになり、該廃液をそのまま廃棄あるいは再生
することは出来なくなってきた。
このようなヒ素を含むエツチング廃液からヒ素を除去す
る手段としては、塩化第一鉄に還元した後、金属鉄を添
加することにより重金属を除去する公知の方法（特公昭
５６−３６１２７号公報）を利用してエツチング廃液中
の塩化第二鉄を還元剤で処理して塩化第一鉄に還元し、
これを上記の方法によって処理する方法が考えられる。
る手段としては、塩化第一鉄に還元した後、金属鉄を添
加することにより重金属を除去する公知の方法（特公昭
５６−３６１２７号公報）を利用してエツチング廃液中
の塩化第二鉄を還元剤で処理して塩化第一鉄に還元し、
これを上記の方法によって処理する方法が考えられる。
しかしながら上記従来技術においては還元と金属鉄との
反応という二段階の工程が必要であり処理時間が長くな
るし、還元剤も必要である。
反応という二段階の工程が必要であり処理時間が長くな
るし、還元剤も必要である。
本発明は上記従来の課題を解決する手段として。
ヒ素を含有する塩化鉄水溶液を固体状のアルカリ土類金
属酸化物と接触させ、ついで該アルカリ土類金属酸化物
を分離する塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法を提供する
ものである。
属酸化物と接触させ、ついで該アルカリ土類金属酸化物
を分離する塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法を提供する
ものである。
上記本発明を更に詳しく述べれば、本発明の対象である
塩化鉄水溶液とは例えばエツチング廃液または再生エツ
チング液であり、塩化第二鉄あるいは塩化第一鉄と塩化
第二鉄とを含む水溶液であり、該水溶液にはヒ素が含有
される。また該水溶液に鉱酸が存在すると、添加するア
ルカリ土類金属酸化物と反応を起すので、鉱酸は含有さ
れないことが望ましい、該水溶液中に多量の鉱酸を含ん
でいる場合は鉄材を予め加え反応除去する。エツチング
廃液の場合は該水溶液中に含まれる塩化第二鉄の濃度は
略２０〜４０重量％、塩化第一鉄の濃度は略５〜２０重
量％、ヒ素の濃度は略２〜Ｓｐｐ園程度で、ＰＨは１以
下である。
塩化鉄水溶液とは例えばエツチング廃液または再生エツ
チング液であり、塩化第二鉄あるいは塩化第一鉄と塩化
第二鉄とを含む水溶液であり、該水溶液にはヒ素が含有
される。また該水溶液に鉱酸が存在すると、添加するア
ルカリ土類金属酸化物と反応を起すので、鉱酸は含有さ
れないことが望ましい、該水溶液中に多量の鉱酸を含ん
でいる場合は鉄材を予め加え反応除去する。エツチング
廃液の場合は該水溶液中に含まれる塩化第二鉄の濃度は
略２０〜４０重量％、塩化第一鉄の濃度は略５〜２０重
量％、ヒ素の濃度は略２〜Ｓｐｐ園程度で、ＰＨは１以
下である。
上記塩化鉄水溶液に添加されるアルカリ土類金属酸化物
としては、酸化ベリリウム、酸化カルシウム、酸化マグ
ネシウム、酸化ストロンチウム。
としては、酸化ベリリウム、酸化カルシウム、酸化マグ
ネシウム、酸化ストロンチウム。
酸化バリウム等がある。上記アルカリ土類金属酸化物の
うち、酸化マグネシウムがヒ素の除去効果が大きく好ま
しい。
うち、酸化マグネシウムがヒ素の除去効果が大きく好ま
しい。
上記アルカリ土類金属酸化物は通常粉末状１粒状やフレ
ーク状の形状で用いられるが、特に表面積の大きい粉末
状は望ましい形状である。しかしながら粒状、フレーク
状のものでも上記塩化鉄水溶液に添加し攪拌混合すれば
部分的には粉末状となる。
ーク状の形状で用いられるが、特に表面積の大きい粉末
状は望ましい形状である。しかしながら粒状、フレーク
状のものでも上記塩化鉄水溶液に添加し攪拌混合すれば
部分的には粉末状となる。
上記アルカリ土類金属酸化物の上記塩化鉄水溶液に対す
る添加量は該塩化鉄水溶液中に含まれるヒ素の含有量に
依存するが、上記エツチング廃液のようにヒ素が数ｐｐ
−含有される場合には該アルカリ土類金属酸化物は通常
０．１重量％以上、望ましくは０．３〜２重量％、更に
望ましくは０．５〜２重量％の範囲で添加される。０．
１重量％未満ではヒ素を十分に除去できず、２重量％を
超えても添加の効果はこれ以上増加しない。
る添加量は該塩化鉄水溶液中に含まれるヒ素の含有量に
依存するが、上記エツチング廃液のようにヒ素が数ｐｐ
−含有される場合には該アルカリ土類金属酸化物は通常
０．１重量％以上、望ましくは０．３〜２重量％、更に
望ましくは０．５〜２重量％の範囲で添加される。０．
１重量％未満ではヒ素を十分に除去できず、２重量％を
超えても添加の効果はこれ以上増加しない。
上記アルカリ土類金属酸化物を上記塩化鉄水溶液に添加
し処理する場合、望ましくは処理温度は１０℃以上、更
に望ましくは４０〜９０℃の範囲とする。上記温度範囲
においては処理は短時間にかつ円滑に進行する。しかし
て処理時間はヒ素の含有量にもよるが、エツチング廃液
のようなヒ素を数ｐｐ■含有する塩化鉄水溶液の場合に
は通常２時間以上、望ましくは３〜１０時間を要する。
し処理する場合、望ましくは処理温度は１０℃以上、更
に望ましくは４０〜９０℃の範囲とする。上記温度範囲
においては処理は短時間にかつ円滑に進行する。しかし
て処理時間はヒ素の含有量にもよるが、エツチング廃液
のようなヒ素を数ｐｐ■含有する塩化鉄水溶液の場合に
は通常２時間以上、望ましくは３〜１０時間を要する。
処理後上記塩化鉄水溶液に含まれるアルカリ土類金属酸
化物は＄濾過、あるいは遠心分離等の適当な固液分離手
段によって分離されるが、特に望ましいのはフィルター
プレスによる圧濾過法の適用である。この場合、フィル
タープレスのヂ布としては通常２００メツシユのものを
用いる。このようにして得られたヂ液または上澄液は実
質的にヒ素を含有しない塩化鉄水溶液である。この水溶
液は、そのまＮ、もしくは塩化第一鉄が含まれる場合は
塩素等と反応させ塩化第二鉄とした上で、再生エツチン
グ液または排水処理用の沈降剤として再利用出来る。
化物は＄濾過、あるいは遠心分離等の適当な固液分離手
段によって分離されるが、特に望ましいのはフィルター
プレスによる圧濾過法の適用である。この場合、フィル
タープレスのヂ布としては通常２００メツシユのものを
用いる。このようにして得られたヂ液または上澄液は実
質的にヒ素を含有しない塩化鉄水溶液である。この水溶
液は、そのまＮ、もしくは塩化第一鉄が含まれる場合は
塩素等と反応させ塩化第二鉄とした上で、再生エツチン
グ液または排水処理用の沈降剤として再利用出来る。
塩化鉄水溶液中のヒ素がどのような機構によってアルカ
リ土類金属酸化物により除去されるのかは明らかではな
いが、アルカリ土類金属酸化物がヒ素と反応するか、あ
るいはヒ素を吸着するかいずれかと思われるが、多分、
アルカリ土類金属酸化物がヒ素化合物と反応するものと
思われる。
リ土類金属酸化物により除去されるのかは明らかではな
いが、アルカリ土類金属酸化物がヒ素と反応するか、あ
るいはヒ素を吸着するかいずれかと思われるが、多分、
アルカリ土類金属酸化物がヒ素化合物と反応するものと
思われる。
〔発明の効果〕
したがって本発明においては還元剤を用いることなくア
ルカリ土類金属酸化物のみにて一段階の工程により塩化
鉄水溶液中に含まれるヒ素を効率良く除去する事が出来
る。
ルカリ土類金属酸化物のみにて一段階の工程により塩化
鉄水溶液中に含まれるヒ素を効率良く除去する事が出来
る。
以下に本発明を更に具体的に説明するための実施例を挙
げる。
げる。
実施例１
塩化第二鉄を４３．７重量％、ヒ素を２ 、５ ｐｐｍ
含有する塩化第二鉄水溶液１０００ｋｇに粉末状の酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）を第１表に示す量添加し。
含有する塩化第二鉄水溶液１０００ｋｇに粉末状の酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）を第１表に示す量添加し。
同表に示す条件で攪拌しつ一処理した。処理後は定量ヂ
紙５Ｂを用いてＳ濾過し、得られた５戸液のヒ素濃度は
第１表に示される。
紙５Ｂを用いてＳ濾過し、得られた５戸液のヒ素濃度は
第１表に示される。
加し、攪拌しつつ処理温度６０℃、処理時間４時間の条
件で処理を行い、処理後は定量５戸紙５Ｂを用いて濾過
し、得られたｆ液のヒ素濃度は第２表に示される。
件で処理を行い、処理後は定量５戸紙５Ｂを用いて濾過
し、得られたｆ液のヒ素濃度は第２表に示される。
第１表によれば処理温度が３０℃より６０℃に上昇する
とヒ素除去効率が向上し、またＭｇＯの０．６重量％以
上の添加量でヒ素除去効率が段階的に向上していること
が理解される。
とヒ素除去効率が向上し、またＭｇＯの０．６重量％以
上の添加量でヒ素除去効率が段階的に向上していること
が理解される。
実施例２
Claims (1)
- ヒ素を含有する塩化鉄水溶液を固体状のアルカリ土類金
属酸化物と接触させ、ついで該アルカリ土類金属酸化物
を分離することを特徴とする塩化鉄水溶液中のヒ素の除
去方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2695689A JPH02207890A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2695689A JPH02207890A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02207890A true JPH02207890A (ja) | 1990-08-17 |
Family
ID=12207608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2695689A Pending JPH02207890A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02207890A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5840194A (en) * | 1996-01-16 | 1998-11-24 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Process for treating arsenic-containing waste water |
| JP2007125536A (ja) * | 2005-01-31 | 2007-05-24 | Egs:Kk | 有害成分の固定化薬剤および固定化方法 |
| CN102328982A (zh) * | 2011-09-01 | 2012-01-25 | 上海新禹固废处理有限公司 | 一种氯化铁废液再生并回收有价金属的方法 |
-
1989
- 1989-02-03 JP JP2695689A patent/JPH02207890A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5840194A (en) * | 1996-01-16 | 1998-11-24 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Process for treating arsenic-containing waste water |
| JP2007125536A (ja) * | 2005-01-31 | 2007-05-24 | Egs:Kk | 有害成分の固定化薬剤および固定化方法 |
| CN102328982A (zh) * | 2011-09-01 | 2012-01-25 | 上海新禹固废处理有限公司 | 一种氯化铁废液再生并回收有价金属的方法 |
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