JPH02190640A - 精密除振装置 - Google Patents
精密除振装置Info
- Publication number
- JPH02190640A JPH02190640A JP1009452A JP945289A JPH02190640A JP H02190640 A JPH02190640 A JP H02190640A JP 1009452 A JP1009452 A JP 1009452A JP 945289 A JP945289 A JP 945289A JP H02190640 A JPH02190640 A JP H02190640A
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- JP
- Japan
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- surface plate
- vibration
- precision
- magnetic flux
- linear motor
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- Pending
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は精密除振装置に係わり、特に、床からの振動及
び塔載した精密機器自身の加振を除振する能動除振装置
を有する精密除振装置に関する。
び塔載した精密機器自身の加振を除振する能動除振装置
を有する精密除振装置に関する。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課Ｍ］従来か
ら、光、電子ビームを応用した電子顕微鏡、ホログラフ
ィ−装置等の精密機器は振動が光路障害になったり、ま
たステッパー等のＬＳＩ製造装置は同じ場所に次々と回
路を重ね描きするため、振動により位置合わせができな
かったり、処理時間が長くなったりするため、除振装置
上に載置して使用される。このような除振装置として従
来より空気ばね、コイルばね、防振ゴム等の振動吸収手
段により振動を減衰する受動除振装置がある。しかし、
このような受動除振装置は床からの振動は除振できても
、精密機器自身の自励や除振台定盤の固有振動等に対し
ては有効に除振できない。そのため、従来から定盤の振
動のｘ、ｙ、ｚ方向の各運動成分をそれぞれ検知して、
各方向の運動の成分に対応して逆位相に能動制動子を作
動させ、能動的に除振する能動除振装置がある。このよ
うな能動除振装置においては、第４図に示すように、精
密機器１を塔載した石定盤やハニカム定盤等の定盤２を
床３に固定された架台４から空気ばね５で支持すると共
に、定盤２に取り付けられたセンサ６により定盤２の振
動を検知し、このセンサ６の信号をプリアンプ７で増幅
し制御部８で処理しパワーアンプ９により増幅した後、
定盤２に生じた振動と逆位相の振動を加振するよう能動
制動子１０を作動して速かな除振を行なっている。ここ
では運動成分の一成分の除振についてのみ図示したが、
少なくとも３方向の除振を行なうものである。
ら、光、電子ビームを応用した電子顕微鏡、ホログラフ
ィ−装置等の精密機器は振動が光路障害になったり、ま
たステッパー等のＬＳＩ製造装置は同じ場所に次々と回
路を重ね描きするため、振動により位置合わせができな
かったり、処理時間が長くなったりするため、除振装置
上に載置して使用される。このような除振装置として従
来より空気ばね、コイルばね、防振ゴム等の振動吸収手
段により振動を減衰する受動除振装置がある。しかし、
このような受動除振装置は床からの振動は除振できても
、精密機器自身の自励や除振台定盤の固有振動等に対し
ては有効に除振できない。そのため、従来から定盤の振
動のｘ、ｙ、ｚ方向の各運動成分をそれぞれ検知して、
各方向の運動の成分に対応して逆位相に能動制動子を作
動させ、能動的に除振する能動除振装置がある。このよ
うな能動除振装置においては、第４図に示すように、精
密機器１を塔載した石定盤やハニカム定盤等の定盤２を
床３に固定された架台４から空気ばね５で支持すると共
に、定盤２に取り付けられたセンサ６により定盤２の振
動を検知し、このセンサ６の信号をプリアンプ７で増幅
し制御部８で処理しパワーアンプ９により増幅した後、
定盤２に生じた振動と逆位相の振動を加振するよう能動
制動子１０を作動して速かな除振を行なっている。ここ
では運動成分の一成分の除振についてのみ図示したが、
少なくとも３方向の除振を行なうものである。
このような能動除振装置の能動制動子１０としては油圧
アクチュエータ、エアアクチュエータ、電磁力アクチュ
エータ等が用いられているが、−般に電磁力アクチュエ
ータが用いられ、特に、ボイスコイルモータ等のリニア
モータが用いられる。
アクチュエータ、エアアクチュエータ、電磁力アクチュ
エータ等が用いられているが、−般に電磁力アクチュエ
ータが用いられ、特に、ボイスコイルモータ等のリニア
モータが用いられる。
しかしボイスコイルモータ等のリニアモータは漏洩磁束
が大きく例えばＩＯＮを発生するボイスコイルモータで
は開口部における漏洩磁束密度は３ガウス程度になって
しまう、このため厚い鉄板等で覆って設置する方法もあ
るが０．３ガウス程度の漏洩磁束密度が認められる。ま
たボイスコイルモータの構造を低漏洩磁気回路にすると
、漏洩磁束密度を１ガウス以下に押える事は可能である
が静止状態における漏洩磁束密度より振動により変動状
態における漏洩磁束密度の方が大きくなるため、静止状
態での漏洩磁束は高精度に遮蔽されることが要求される
。そのためこれらの漏洩磁束密度は定盤２上に搭載され
る機器によっては弊害を受け、特に電子顕微鏡やＸ線ス
ッテパー等では漏洩磁束密度を数ミリガウス好ましくは
１ミリガウス以下にしないと最高性能を維持させること
は困難である。
が大きく例えばＩＯＮを発生するボイスコイルモータで
は開口部における漏洩磁束密度は３ガウス程度になって
しまう、このため厚い鉄板等で覆って設置する方法もあ
るが０．３ガウス程度の漏洩磁束密度が認められる。ま
たボイスコイルモータの構造を低漏洩磁気回路にすると
、漏洩磁束密度を１ガウス以下に押える事は可能である
が静止状態における漏洩磁束密度より振動により変動状
態における漏洩磁束密度の方が大きくなるため、静止状
態での漏洩磁束は高精度に遮蔽されることが要求される
。そのためこれらの漏洩磁束密度は定盤２上に搭載され
る機器によっては弊害を受け、特に電子顕微鏡やＸ線ス
ッテパー等では漏洩磁束密度を数ミリガウス好ましくは
１ミリガウス以下にしないと最高性能を維持させること
は困難である。
［発明の目的］
本発明は上記の欠点を解消するためなされたもので、ス
ペース的にも満足できリニアモータの漏洩磁束を高精度
に遮蔽して載置された精密機器に弊害となる磁場を生じ
ない精密除振装置を提供することを目的とする。
ペース的にも満足できリニアモータの漏洩磁束を高精度
に遮蔽して載置された精密機器に弊害となる磁場を生じ
ない精密除振装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
以上の目的を達成するため本発明の精密除振装置は、定
盤と、該定盤を架台上に支持する受動制動子と、前記定
盤の振動を検出するセンサと、該センサの出力を信号処
理し制御信号を出力する制御部と、該制御信号によって
作動する能動制動子であるリニアモータとからなる精密
除振装置において、前記定盤に複数の脚を設け、前記架
台と前記脚の下部との間に前記リニアモータを備え、該
リニアモータは磁気遮蔽部材で被覆する。
盤と、該定盤を架台上に支持する受動制動子と、前記定
盤の振動を検出するセンサと、該センサの出力を信号処
理し制御信号を出力する制御部と、該制御信号によって
作動する能動制動子であるリニアモータとからなる精密
除振装置において、前記定盤に複数の脚を設け、前記架
台と前記脚の下部との間に前記リニアモータを備え、該
リニアモータは磁気遮蔽部材で被覆する。
［作用コ
本発明の精密除振装置は、精密機器がリニアモータから
受ける磁界の強さを減少させるため、リニアモータを定
盤に設けた脚の下部と架台間に設け、精密機器とリニア
モータ間の隔を大きくさせることにより実現する。磁界
の強さはおおよそ距離の３乗に反比例するため、従来の
ものより精密機器が受ける磁束密度を非常に減少させる
ことができる。
受ける磁界の強さを減少させるため、リニアモータを定
盤に設けた脚の下部と架台間に設け、精密機器とリニア
モータ間の隔を大きくさせることにより実現する。磁界
の強さはおおよそ距離の３乗に反比例するため、従来の
ものより精密機器が受ける磁束密度を非常に減少させる
ことができる。
また磁気遮蔽は磁界を拡散させないことであり。
それには発生源で封じるのが効果的であるため定盤に設
けた脚と架台にリニアモータを覆うよう磁気遮蔽部材を
備える。
けた脚と架台にリニアモータを覆うよう磁気遮蔽部材を
備える。
［実施例］
以下、本発明の精密除振装置の一実施例を第１図及び第
２図を参照して説明する。
２図を参照して説明する。
第１図は一実施例の概略構成図であり、第２図は一実施
例の部分断面図である。
例の部分断面図である。
第１図において、精密機器１を塔載した定盤２０は石定
盤であり、レベリングボルト３１により床３に固定され
た架台４０に受動制動子である空気ばね５０により支持
される。定盤２０の振動はＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の成
分をそれぞれセンサ６１．６２．６３により検知され、
それぞれプリアンプ７１．７２．７３で増幅され制御部
である位相補正回路８１．８２．８３により定盤２０に
生じた振動と逆位相の振動を加振するよう位相調整しパ
ワーアンプ９１．９２．９３により増幅した後定盤２０
に設けられた脚２１の下部と架台４０間に設けられたリ
ニアモータ１１．１２．１３に出力し、リニアモータ１
１，１２．１３はそれぞれＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に
定盤２０の脚２１を加振して定盤２０の能動的除振を行
う、ここで一つの脚について述べたが他の脚についても
各脚毎に上記のようにＸ方向、Ｙ方向、２方向のセンサ
、プリアンプ、位相補正回路、パワーアンプ及びリニア
モータが備えられ、除振を行うものである。
盤であり、レベリングボルト３１により床３に固定され
た架台４０に受動制動子である空気ばね５０により支持
される。定盤２０の振動はＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の成
分をそれぞれセンサ６１．６２．６３により検知され、
それぞれプリアンプ７１．７２．７３で増幅され制御部
である位相補正回路８１．８２．８３により定盤２０に
生じた振動と逆位相の振動を加振するよう位相調整しパ
ワーアンプ９１．９２．９３により増幅した後定盤２０
に設けられた脚２１の下部と架台４０間に設けられたリ
ニアモータ１１．１２．１３に出力し、リニアモータ１
１，１２．１３はそれぞれＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に
定盤２０の脚２１を加振して定盤２０の能動的除振を行
う、ここで一つの脚について述べたが他の脚についても
各脚毎に上記のようにＸ方向、Ｙ方向、２方向のセンサ
、プリアンプ、位相補正回路、パワーアンプ及びリニア
モータが備えられ、除振を行うものである。
リニアモータ１１．１２及び１３はさらに第２図に示す
ように鉄板等で形成された磁気遮蔽部材２２で覆われる
。リニアモータ１１．１２，１３は第３図の断面図に示
すよう磁石１４に可動コイル１５が設けられたものであ
って、ここで位相補正回路８１．８２．８３からの信号
により可動コイル１５が上下運動し、コイルヘッド１６
の移動により定盤２０の脚２１を移動させるものである
。
ように鉄板等で形成された磁気遮蔽部材２２で覆われる
。リニアモータ１１．１２，１３は第３図の断面図に示
すよう磁石１４に可動コイル１５が設けられたものであ
って、ここで位相補正回路８１．８２．８３からの信号
により可動コイル１５が上下運動し、コイルヘッド１６
の移動により定盤２０の脚２１を移動させるものである
。
磁石２４から発生する磁力線は磁気遮蔽部材２２を設け
ない場合はＨのように拡散してしまうが磁気遮蔽部材２
２を設ければＭのように拡散せず遮蔽することができる
。磁気遮蔽部材２２は架台４０に固定された内枠２３及
び脚２１に固定された外枠２４からなっている。ここで
内枠２３が架台４０に固定されれば、リニアモータ１１
．１２．１３を完全に覆うと共に定盤２０の重量を増加
させることなく好適である。
ない場合はＨのように拡散してしまうが磁気遮蔽部材２
２を設ければＭのように拡散せず遮蔽することができる
。磁気遮蔽部材２２は架台４０に固定された内枠２３及
び脚２１に固定された外枠２４からなっている。ここで
内枠２３が架台４０に固定されれば、リニアモータ１１
．１２．１３を完全に覆うと共に定盤２０の重量を増加
させることなく好適である。
以上の説明のようにボイスコイルモータを低漏洩磁気回
路を用いたものにすることで漏洩磁束を通常のリニアモ
ータを用いたものの１７１０に低減でき、また精密機器
とボイスコイルモータの隔を増加した事により１／３に
低減し、さらに磁気遮蔽部材により１／１００に低減で
きる。精密機器が受ける磁束は無対策時に較べると１
／３０００に低減され、３ガウス程度の磁束密度が実測
されていたものを１ミリガウスに低下させ得る。この静
的な漏洩磁束の低下は、精密機器が振動を受けている場
合でも十分漏洩磁束の低減が実現され、精密機器が磁界
による性能低下を受けることはなく、除振を行うことが
できる ［発明の効果］ 以上の実施例から明らかのように本発明の精密除振装置
によれば、定盤に脚を設け、脚の下部と架台との間にリ
ニアモータを設けたため定盤上の精密機器とリニアモー
タ間の隔が大きくなり、しかもリニアモータを磁気遮蔽
部材で覆うためリニアモータの漏洩磁束の遮蔽が実現で
き、漏洩磁束による精密機器への機能低下を示すことな
く適格な除振を行うことができる。
路を用いたものにすることで漏洩磁束を通常のリニアモ
ータを用いたものの１７１０に低減でき、また精密機器
とボイスコイルモータの隔を増加した事により１／３に
低減し、さらに磁気遮蔽部材により１／１００に低減で
きる。精密機器が受ける磁束は無対策時に較べると１
／３０００に低減され、３ガウス程度の磁束密度が実測
されていたものを１ミリガウスに低下させ得る。この静
的な漏洩磁束の低下は、精密機器が振動を受けている場
合でも十分漏洩磁束の低減が実現され、精密機器が磁界
による性能低下を受けることはなく、除振を行うことが
できる ［発明の効果］ 以上の実施例から明らかのように本発明の精密除振装置
によれば、定盤に脚を設け、脚の下部と架台との間にリ
ニアモータを設けたため定盤上の精密機器とリニアモー
タ間の隔が大きくなり、しかもリニアモータを磁気遮蔽
部材で覆うためリニアモータの漏洩磁束の遮蔽が実現で
き、漏洩磁束による精密機器への機能低下を示すことな
く適格な除振を行うことができる。
第１図は本発明の精密除振装置の一実施例の概略構成図
、第２図は一実施例の部分断面図、第３図は一実施例を
説明するための部分断面図、第４図は従来の精密除振装
置の概略構成図である。 第１図 １・・・・・・・・・・精密機器 ２０・・・・・・・・定盤 ４０・・・・・・・・架台 ５０・・・・・・・・空気ばね（受動制動子）６１．６
２．６３・・・センサ ８１．８２，８３・・・位相補正回路（制御部）１１．
１２．１３・・・リニアモータ ２１・・・・・・・・脚 ２２・・・・・・・・磁気遮蔽部材 代理人 弁理士 守 谷 −雄
、第２図は一実施例の部分断面図、第３図は一実施例を
説明するための部分断面図、第４図は従来の精密除振装
置の概略構成図である。 第１図 １・・・・・・・・・・精密機器 ２０・・・・・・・・定盤 ４０・・・・・・・・架台 ５０・・・・・・・・空気ばね（受動制動子）６１．６
２．６３・・・センサ ８１．８２，８３・・・位相補正回路（制御部）１１．
１２．１３・・・リニアモータ ２１・・・・・・・・脚 ２２・・・・・・・・磁気遮蔽部材 代理人 弁理士 守 谷 −雄
Claims (1)
- 定盤と、該定盤を架台上に支持する受動制動子と、前記
定盤の振動を検出するセンサと、該センサの出力を信号
処理し制御信号を出力する制御部と、該制御信号によっ
て作動する能動制動子であるリニアモータとからなる精
密除振装置において、前記定盤に複数の脚を設け、前記
架台と前記脚の下部との間に、前記リニアモータを備え
、該リニアモータを磁気遮蔽部材で被覆することを特徴
とする精密除振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1009452A JPH02190640A (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | 精密除振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1009452A JPH02190640A (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | 精密除振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02190640A true JPH02190640A (ja) | 1990-07-26 |
Family
ID=11720680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1009452A Pending JPH02190640A (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | 精密除振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02190640A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07181395A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Ebara Corp | 顕微鏡装置 |
| US5487533A (en) * | 1993-06-04 | 1996-01-30 | Shinko Electric Co., Ltd. | Automatic transport vehicle with three-axis motion sensing and vibration damping |
| JP2012163426A (ja) * | 2011-02-07 | 2012-08-30 | West Japan Railway Co | 計測装置および除振装置 |
-
1989
- 1989-01-18 JP JP1009452A patent/JPH02190640A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5487533A (en) * | 1993-06-04 | 1996-01-30 | Shinko Electric Co., Ltd. | Automatic transport vehicle with three-axis motion sensing and vibration damping |
| JPH07181395A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Ebara Corp | 顕微鏡装置 |
| JP2012163426A (ja) * | 2011-02-07 | 2012-08-30 | West Japan Railway Co | 計測装置および除振装置 |
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