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JPH02176601A - Projection lens and its manufacture - Google Patents

Projection lens and its manufacture

Info

Publication number
JPH02176601A
JPH02176601A JP571589A JP571589A JPH02176601A JP H02176601 A JPH02176601 A JP H02176601A JP 571589 A JP571589 A JP 571589A JP 571589 A JP571589 A JP 571589A JP H02176601 A JPH02176601 A JP H02176601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
refractive index
projection lens
lens
peripheral part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP571589A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Kamon
和也 加門
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP571589A priority Critical patent/JPH02176601A/en
Publication of JPH02176601A publication Critical patent/JPH02176601A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To realize image formation which is small in aberration add distortion by forming an optical element having a layer which varies in refractive index between its center part and peripheral part. CONSTITUTION:The optical element 21 as the projection lens is formed of the optical element which is formed of a converging lens whose surface is plane and has the layer 22 varying in refractive index between its center part and peripheral part. The refractive index of the optical element 21 is larger at part 23 nearby the center than at the peripheral part 24 and has such a gradient that the refractive index decreases gradually from the center part to the peripheral part. For thus constituted projection lens, an optical path difference is generated in the optical element 21 owing to the difference in refractive index to change the traveling direction of a light beam, so the optical element 21 whose surface shape is flat is securely obtained. Consequently, the image formation which is small in aberration and distortion is realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、一般に使用される光学系の収束1発散用の投
影レンズおよびその製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a generally used converging/diverging projection lens in an optical system and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の投影レンズとしては、第6図(alおよ
び(b)に示す凸レンズ1.凹レンズ2と、これらに若
干の変形が施された平凸レンズ、平凹レンズ、凹凸レン
ズ等が採用されている。
Conventionally, as this type of projection lens, a convex lens 1 and a concave lens 2 shown in FIGS. There is.

これらのレンズは、均質で2表面を球面研磨して光路差
を形成することにより、光3を収束(A)。
These lenses are homogeneous and have two spherical polished surfaces to form an optical path difference, converging light 3 (A).

発散(B)させているものである。This is caused by divergence (B).

次に、この種の投影レンズの製造方法につき、第7図を
用いて説明する。
Next, a method for manufacturing this type of projection lens will be explained with reference to FIG.

先ず、ガラス11を加熱・溶解する。次いで、これを予
め形成された鋳型12のレンズ形成用孔13の中へ流し
込んで冷却する。しかる後、レンズ素材14に表面処理
を施す。
First, the glass 11 is heated and melted. Next, this is poured into the lens forming hole 13 of the mold 12 formed in advance and cooled. After that, the lens material 14 is subjected to surface treatment.

このようにして、投影レンズを製造することができる。In this way, a projection lens can be manufactured.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、従来の投影レンズおよびその製造方法におい
ては、レンズ素材14の表面を球面研磨して光路差を形
成するものであるため、表面形状が制約を受けることに
なり、球面研磨と比較してレンズの製造・加工を困難な
ものにするという問題があった。また、レンズの表面が
球面であることは、平面研磨したものと比較して収差や
歪が少ない結像を得ることができず、レンズ品質上の信
転性が低下するという問題もあった。
By the way, in conventional projection lenses and their manufacturing methods, the surface of the lens material 14 is spherically polished to form an optical path difference, so the surface shape is subject to restrictions, and compared to spherical polishing, the lens There was a problem in that it made manufacturing and processing difficult. Furthermore, when the surface of the lens is spherical, it is not possible to obtain an image with less aberrations and distortion than when the surface is polished flat, and there is also the problem that reliability in terms of lens quality is lowered.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、レン
ズの製造加工を簡単に行うことができると共に、レンズ
品質上の信転性を向上させることができる投影レンズお
よびその製造方法を提供するものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a projection lens and a method for manufacturing the same, which can facilitate lens manufacturing and processing and improve reliability in terms of lens quality. It is something.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係る投影レンズは、光線が透過する光学素子で
あって、この光学素子を、中央部と周辺部間で屈折率が
変化する層をもつ光学素子によって形成したものである
The projection lens according to the present invention is an optical element through which light rays pass, and is formed by an optical element having a layer whose refractive index changes between a central portion and a peripheral portion.

また、本発明の別の発明に係る投影レンズの製造方法は
、各々が互いに異なる複数の不純物からなる層を基板上
に順次形成する工程と、これに加圧、加熱処理を施した
後、表面処理を施す工程とを備えたものである。
Further, a method for manufacturing a projection lens according to another aspect of the present invention includes the steps of sequentially forming layers each consisting of a plurality of different impurities on a substrate, applying pressure and heat treatment to the layers, and then applying pressure and heat treatment to the layers. The method includes a step of performing a treatment.

〔作 用〕 本発明においては、光学素子内での屈折率の差異によっ
て光路差が発生し、光線の進行方向を変化させることが
できる。
[Function] In the present invention, an optical path difference occurs due to the difference in refractive index within the optical element, and the traveling direction of the light ray can be changed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の構成等を図に示す実施例によって詳細に
説明する。
EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure etc. of this invention will be explained in detail by the Example shown in the figure.

第1図は本発明に係る投影レンズを示す断面図、第2図
は同じく本発明における投影レンズ内の屈折率分布を示
す図である。同図において、符号21で示す投影レンズ
としての光学素子は、その表面が平面である集光型のレ
ンズによって形成されている。この光学素子21は、中
央部と周辺部間で屈折率が変化する層22をもつ光学素
子によって形成されている。この光学素子21の屈折率
は、中央部付近の部分23が周辺の部分24より大きく
なるように構成されている。すなわち、屈折率は、中央
部から周辺部に向かって連続的に小さくなる勾配をもつ
屈折率に設定されているのである。なお、図中符号25
および26は入射光と出射光である。
FIG. 1 is a sectional view showing a projection lens according to the invention, and FIG. 2 is a diagram showing a refractive index distribution within the projection lens according to the invention. In the figure, an optical element as a projection lens indicated by reference numeral 21 is formed of a condensing lens whose surface is flat. This optical element 21 is formed of an optical element having a layer 22 whose refractive index changes between the central part and the peripheral part. The refractive index of this optical element 21 is configured such that a portion 23 near the center has a larger refractive index than a peripheral portion 24. That is, the refractive index is set to have a gradient that decreases continuously from the center toward the periphery. In addition, the reference numeral 25 in the figure
and 26 are incident light and outgoing light.

このように構成された投影レンズにおいては、光学素子
21内での屈折率の差異によって光路差が発生し、光線
の進行方向を変化させることができるから、表面形状が
平面である光学素子21を確実に得ることができる。
In the projection lens configured in this way, an optical path difference occurs due to the difference in refractive index within the optical element 21, and the traveling direction of the light ray can be changed. You can definitely get it.

また、本発明においては、レンズ表面が平面であること
から、表面が球面である場合と比較して収差や歪の少な
い結像を得ることができる。
Furthermore, in the present invention, since the lens surface is flat, it is possible to obtain an image with fewer aberrations and distortions than when the lens surface is spherical.

ここで、本発明の投影レンズを透過する光線の進行状況
につき、第3図を用いて説明すると、光学素子21の屈
折率は中央付近における部分23が周辺における部分2
4より大きいことから、入射光25の成分波27の半径
は中央付近の部分24が周辺の部分25よりも小さくな
る。このため、入射時に直線状であった等位相面28が
曲線状の等位相面29となり、光線はこの等位相面29
の法線方向に進行して収束した出射光26となる。なお
、入射光25は直線状の等位相面28をもって進行する
平面波とし、レンズ表面30に入射した入射光25の等
位相面28は直線状である。
Here, to explain the progress of light rays passing through the projection lens of the present invention with reference to FIG.
4, the radius of the component wave 27 of the incident light 25 is smaller in the portion 24 near the center than in the peripheral portion 25. For this reason, the equiphase surface 28 that was linear at the time of incidence becomes a curved equiphase surface 29, and the light beam is directed to this equiphase surface 29.
The output light 26 travels in the normal direction and becomes converged. Incidentally, the incident light 25 is a plane wave that travels with a linear equiphase surface 28, and the equiphase surface 28 of the incident light 25 that has entered the lens surface 30 is linear.

次に、本発明による投影レンズの製造方法につき、第4
図(al〜(f)を用いて説明する。同図中、符号31
および32はガラス基板33にドープする第1゜第2の
不純物としてのフラックス(両フラックス31、32の
種類は各々が互いに異なる)、34および35は各両フ
ラックス3L 32による堆積物、36は圧縮装置37
の処理容器38内を真空引きする真空系、39および4
0は拡散炉とヒータである。
Next, regarding the method of manufacturing a projection lens according to the present invention, the fourth
This will be explained using figures (al to (f)). In the figure, reference numeral 31
32 is a flux as a first and second impurity doped into the glass substrate 33 (the types of both fluxes 31 and 32 are different from each other), 34 and 35 are deposits due to each flux 3L and 32, and 36 is a compressed device 37
a vacuum system 39 and 4 that evacuates the inside of the processing container 38;
0 is a diffusion furnace and a heater.

先ず、同図(a)に示すように薄いガラス基板33の表
面にフラックス31を注入することにより、同図fb)
に示すように堆積物34を形成する。このとき、集光型
イオンビーム(FIB)を用いると、フラ・7クスの分
布を厳密に制御することができる。次に、同図(blに
示すように堆積物34上にフラックス32を注入するこ
とにより、同図(C1に示すように堆積物35を形成す
る。この堆積物34および堆積物35は、ガラス基板3
3の表裏面に対して形成される。しかる後、このガラス
基板33を一つあるいは複数個用意し、同図(d)に示
すように圧縮装置37の処理容器38内に収容して真空
系36によって真空引きする。
First, by injecting flux 31 into the surface of a thin glass substrate 33 as shown in FIG.
A deposit 34 is formed as shown in FIG. At this time, if a focused ion beam (FIB) is used, the distribution of fluxes can be precisely controlled. Next, by injecting the flux 32 onto the deposit 34 as shown in the figure (bl), a deposit 35 is formed as shown in the figure (C1). Board 3
Formed on the front and back surfaces of 3. Thereafter, one or more glass substrates 33 are prepared, and as shown in FIG. 3D, the glass substrates 33 are housed in a processing container 38 of a compression device 37 and evacuated by a vacuum system 36.

そして、これを圧縮してから、同図(elに示すように
拡散炉39内でヒータ40によってアニールし、同図(
flに矢印41で示ずように表面処理する。
Then, after compressing this, it is annealed by a heater 40 in a diffusion furnace 39 as shown in the same figure (el).
The surface of fl is treated as shown by arrow 41.

このようにして、投影レンズを製造することができる。In this way, a projection lens can be manufactured.

なお、本実施例における投影レンズの製造を第5図(a
)および(blに示すようにグラスファイバー製造方法
であるVAI)方法あるいはFICVD方法によって行
うこともできる。同図中、符号70は酸素ガス、71は
5iC14,72はGeCl4.73は回転コネクタ、
74はチャック、75は石英管、76は煤状ガラス堆積
物、77は酸素水素バーナー、78は透明ガラス層、7
9はガラス旋盤、80は石英母材、81はリング状ヒー
タ、82は多孔質母材、83はバーナー、84は5iC
14等の原料ガス、85は酸素水素ガスである。
The production of the projection lens in this example is shown in Figure 5 (a).
) and (VAI) method, which is a glass fiber manufacturing method as shown in bl, or FICVD method. In the figure, 70 is oxygen gas, 71 is 5iC14, 72 is GeCl4.73 is a rotary connector,
74 is a chuck, 75 is a quartz tube, 76 is a sooty glass deposit, 77 is an oxygen-hydrogen burner, 78 is a transparent glass layer, 7
9 is a glass lathe, 80 is a quartz base material, 81 is a ring-shaped heater, 82 is a porous base material, 83 is a burner, 84 is a 5iC
14 is a raw material gas, and 85 is an oxygen-hydrogen gas.

MCVD方法は、第5図(alに示すように石英ガラス
の原料四塩化炭素(CC14,)71を炭素ガス70と
共に石英管75の中へ導入することにより行われる。こ
の場合、石英管75はカラス旋盤79によって回転して
いるため、加熱源である酸素バーナー77の移動に伴っ
て石英管75の内壁にガラス微粒子76が煤状となって
管壁に堆積し、この後1500℃程度の高温で溶融して
透明なガラス層となる。この工程が繰り返され、層毎に
添加物のガス濃度を変更することにより、屈折率分布を
制御する。そして、堆積工程の終了後に2000°C程
度の高温で石英管75内の中空部を潰す。
The MCVD method is carried out by introducing carbon tetrachloride (CC14,) 71, a raw material for quartz glass, into a quartz tube 75 together with carbon gas 70, as shown in FIG. Since it is rotated by a glass lathe 79, glass fine particles 76 become soot-like and accumulate on the inner wall of the quartz tube 75 as the oxygen burner 77, which is the heating source, moves, and then the temperature reaches a high temperature of about 1500°C. This process is repeated to control the refractive index distribution by changing the additive gas concentration for each layer.Then, after the deposition process is completed, the glass layer is heated to about 2000°C. The hollow part inside the quartz tube 75 is crushed at high temperature.

一方、νAD方法は、回転しながら引き上げられている
石英棒80の下方から5iC1a 84を酸素水素ガス
85と共に吹き付け、バーナー83によって化学反応さ
せ、煤状のガラス微粒子を軸線方向に堆積させることに
より行われる。そして、この堆積物をリング状ヒータ8
1によって加熱することにより、透明ガラス化した母材
を形成する。この場合、バーナー83の炎の中の温度分
布により平衡状態が異なるから、添加物の濃度分布が生
じ、バーナー炎の温度分布を制御することにより屈折率
分布を得ることができる。
On the other hand, the νAD method is carried out by spraying 5iC1a 84 together with oxygen-hydrogen gas 85 from below the quartz rod 80 that is being pulled up while rotating, causing a chemical reaction by a burner 83, and depositing soot-like glass particles in the axial direction. be exposed. Then, this deposit is transferred to a ring-shaped heater 8.
By heating according to step 1, a transparent vitrified base material is formed. In this case, since the equilibrium state differs depending on the temperature distribution in the flame of the burner 83, a concentration distribution of the additive occurs, and a refractive index distribution can be obtained by controlling the temperature distribution of the burner flame.

このような方法による母材は、透明ガラス78や多孔質
母材82に見られるように円柱状に形成される。この後
、所望の断面形状となるように輪切り(横切り)にして
本発明における投影レンズを形成してから、所望の断面
形状に研磨する。この場合、断面形状としては、屈折率
の制御によって光路差を補償することができるから、任
意の形状を選択することができる。
The base material formed by such a method is formed into a cylindrical shape, as seen in the transparent glass 78 and the porous base material 82. Thereafter, the projection lens of the present invention is formed by slicing (cross-cutting) into a desired cross-sectional shape, and then polished into a desired cross-sectional shape. In this case, any cross-sectional shape can be selected because the optical path difference can be compensated for by controlling the refractive index.

また、本実施例における投影レンズの表面形状は、平面
である場合を示したが、本発明はこれに限定されるもの
ではなく、表面形状やレンズ厚さ分布を任意に選択する
ことができ、所望のコンタクトレンズや他のメガネレン
ズを製造することができる。
Further, although the surface shape of the projection lens in this embodiment is a flat surface, the present invention is not limited to this, and the surface shape and lens thickness distribution can be arbitrarily selected. Desired contact lenses and other eyeglass lenses can be manufactured.

さらに、本実施例においては、光学素子21の屈折率が
連続的に変化する勾配をもつものを示したが、本発明は
屈折率の勾配が不連続的に変化する勾配をもつものであ
っても何等差し支えない。
Furthermore, in this embodiment, the optical element 21 has a gradient in which the refractive index changes continuously, but the present invention is directed to an optical element 21 having a gradient in which the refractive index changes discontinuously. There is no problem with that.

さらにまた、本実施例においては、集光型の投影レンズ
に適用する例を示したが、本発明はこれに限定されず、
レンズ中央部と周辺部の屈折率の大小を逆にすれば、発
散型の投影レンズに適用可能である。
Furthermore, although this embodiment shows an example of application to a condensing projection lens, the present invention is not limited to this.
By reversing the magnitude of the refractive index at the center and the periphery of the lens, it can be applied to a diverging projection lens.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、光線が透過する光
学素子であって、この光学素子を、中央部と周辺部間で
屈折率が変化する層をもつ光学素子によって形成したの
で、また各々が互いに異なる複数の不純物からなる層を
基板上に順次形成する工程と、これに加圧、加熱処理を
施した後、表面処理を施す工程とを備えたので、光学素
子内での屈折率の差異によって光路差が発生し、光線の
進行方向を変化させることができる。したがって、表面
形状が平面である光学素子を確実に得ることができるか
ら、表面が球面である光学素子と比較して収差や歪の少
ない結像を得ることができ、品質上の信頼性を向上させ
ることができる。また、光学素子の表面形状が平面で済
むことは、製造加工を簡単に行うことができるといった
利点もある。
As explained above, according to the present invention, the optical element transmits light rays and is formed of an optical element having a layer in which the refractive index changes between the central part and the peripheral part. The method includes a step of sequentially forming layers made of multiple impurities with different impurities on a substrate, and a step of applying pressure and heat treatment to the layers, and then surface treatment. The difference causes an optical path difference, and the traveling direction of the light beam can be changed. Therefore, since it is possible to reliably obtain an optical element with a flat surface, it is possible to obtain an image with less aberration and distortion compared to an optical element with a spherical surface, improving quality reliability. can be done. Further, the fact that the surface shape of the optical element is flat has the advantage that manufacturing processing can be easily performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る投影レンズを示す断面図、第2図
は同じく本発明における投影レンズ内の屈折率分布を示
す図、第3図は本発明の実施例による光の進行状況を示
す図、第4図(al〜(flは本発明に係る投影レンズ
の製造工程を示す断面図、第5図(a)および(blは
他の投影レンズの製造方法を説明するための図、第6図
(a)および(blは従来の凸レンズと凹レンズを示す
図、第7図は従来の投影レンズの製造工程を示す模式図
である。 21・・・・光学素子、22・・・・層、23・・・・
中央付近の部分、24・・・・周辺の部分、25・・・
・入射光、26・・・・出射光、31.32・・・・フ
ラックス、33・・・・ガラス基板、34.35・・・
・堆積物、36・・・・真空系、37・・・・圧縮装置
、38・・・・処理容器、39・・・・拡散炉、40・
・・・ヒータ。 代 理 人 大岩増雄 \t キ披曽 6一
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a projection lens according to the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a refractive index distribution within the projection lens according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing the progress of light according to an embodiment of the present invention. Figures 4 (al to (fl) are cross-sectional views showing the manufacturing process of the projection lens according to the present invention, Figures 5 (a) and (bl) are views for explaining other methods of manufacturing the projection lens, 6(a) and (bl) are diagrams showing a conventional convex lens and a concave lens, and FIG. 7 is a schematic diagram showing the manufacturing process of a conventional projection lens. 21... optical element, 22... layer , 23...
Part near the center, 24... Surrounding part, 25...
・Incoming light, 26... Outgoing light, 31.32... Flux, 33... Glass substrate, 34.35...
- Deposit, 36... Vacuum system, 37... Compression device, 38... Processing container, 39... Diffusion furnace, 40...
···heater. Deputy Masuo Oiwa\t Kihiso61

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)光線が透過する光学素子であって、この光学素子
を、中央部と周辺部間で屈折率が変化する層をもつ光学
素子によって形成したことを特徴とする投影レンズ。
(1) A projection lens, which is an optical element through which light rays pass, and is formed by an optical element having a layer whose refractive index changes between a central portion and a peripheral portion.
(2)各々が互いに異なる複数の不純物からなる層を基
板上に順次形成する工程と、これに加圧、加熱処理を施
した後、表面処理を施す工程とを備えたことを特徴とす
る投影レンズの製造方法。
(2) A projection characterized by comprising a step of sequentially forming layers each consisting of a plurality of different impurities on a substrate, and a step of applying pressure and heat treatment to the layers, and then surface treatment. How to manufacture lenses.
JP571589A 1988-09-28 1989-01-12 Projection lens and its manufacture Pending JPH02176601A (en)

Priority Applications (1)

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JP63-243216 1988-09-28
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