JPH02137141A - 光情報記録媒体複製用スタンパ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク等の光情報記録媒体の複製に使用さ
れるスタンパに関するものである。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
この種のスタンパは、ガラス基板上にフォトレジストを
形成し、レーザカッティングを行い、次いで導電化処理
を行ってガラス原盤を製作するマスタリング工程と、こ
のガラス原盤にニッケル電鋳を行いスタンパを得る電鋳
工程とからなる製造工程により製造される。この製造工
程により製造されるスタンパは、その表面に例えば深さ
０．１１．、幅０．４ＩＪａの案内溝やピットなどの極
く微細な凹凸パターンが形成されており、キズや欠陥と
称されるようなものはスタンパの全面積の１００万分の
１程度しか許されていない。このようなスタンパを製造
するには、クリーンルームの中で高度に精密な技術を使
い細心の注意を払って製造を行わねばならない。また、
これらの工程は完成までに数時間から１日以上の時間を
要し、その間はこりや汚れ等から守られて製造される必
要がある。特にこの製造工程において時間を要するのは
電鋳工程であり、この間にスタンパが汚染されたり欠陥
が発生したりする確率が大きい、さらに、この電鋳工程
においては１時間のみならず電鋳のための大電力を長時
間消費することが要求され、そのうえ電鋳時の品質管理
のための工程管理についても細心の注意を払わねばなら
ない。これらの設備に要するコストは多大なものであり
、従ってスタンパのコストは飛躍的に大きくなる。

本発明は゛、以上のような従来技術の実情に鑑みてなさ
れたもので、短時間に低コストで製造でき、品質が良好
であり、大量複製に適した光情報記録媒体複製用スタン
パを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者は、２Ｐ（フォトポリマー）工法が簡便であり
、その転写性が良好であることに着目し、従来のスタン
パの製造工程の前半の段階すなわちマスタリング工程に
おいて得られるガラス原盤をスタンパの母型とし、この
ガラス原盤より２Ｐ工法で転写された複製板をスタンパ
として使用し、電鋳工程を省略することにつき鋭意研究
した結果、本発明を完成するに至った。

すなわち１本発明によれば、表面に微細凹凸パターンを
有する透明な板と、該透明な板の微細凹凸パターン側表
面に形成された金属皮膜からなり、該金属皮膜はスパッ
タ法により形成されたものであることを特徴とする光情
報記録媒体複製用スタンパが提供される。

本発明のスタンパは、以下のようにして製造される。先
ず、ガラス基板上にフォトレジストを塗布し、光書き込
みを行った後、現像してガラス原盤を作成し、その記録
面（凹凸微細パターンが形成された面）側にスパッタ法
により金属皮膜を形成したものをマスター（スタンパの
母型）とする。

次にこのマスターと透明な板との間に光重合性成形樹脂
液を介在させ、透明な板側から光を照射し、光重合性成
形樹脂液を硬化させた後、マスターから剥離させる。そ
して、光重合性成形樹脂による凹凸微細パターンが形成
された透明な板の記録面側にスパッタ法により金属皮膜
を形成し、スタンパを得る。

上記マスタリングの導電処理で設けられる金属皮膜はス
パッタリングの工程でガラス原盤に強固に付着して通常
の２Ｐ工法では剥離しないように形成される。またスタ
ンパの金属皮膜も同様にスパッタリングの工程で通常の
２Ｐ工法では剥離しないように形成される。

上記透明な板としては、ガラス、強化ガラス、ポリ塩化
ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ボーリ
カーボネート、ポリエステル、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、セルローストリアセテート、セルロ
ースアセトブチラード等や、これらの混合物を用いるこ
とができる。この透明な板は１００趨〜１０ｍａ＋の厚
さで使用される。

上記金属皮膜としては、銀、金、ニッケル、クロム等の
酸化されにくい金属を用いることができる。

上記光重合性成形樹脂の主成分は以下に示すアクリレー
トモノマー又はメタクリレートモノマーあるいはオリゴ
マーと光重合開始剤とからなる。

アクレリートモツマ−およびメタクリレートモノマーの
代表例としては、モノアクリレートおよびモノメタクリ
レート、特にアルキルアクリレート、フェニルアクリレ
ート、アルコキシアルキルアクリレートおよびフェノキ
シルアクリレートならびにそれぞれに対応するメタクリ
レートをあげることができ、特に極めて適当な代表例は
エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｉ−ブ
チルアクリレート、ヘキシルアクリレート、ヘプチルア
クリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシ
ルアクリレート、デシルアクリレート、ドデシルアクリ
レート、オクタデシルアクリレート、エトキシエチルア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフ
ェート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ステア
リルアクリレート、ラウリルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジ
シクロペンテニールアクリレートおよびそれぞれに対応
するメタクリレートがあり、またジアクリレートおよび
ジメタクリレート、例えば１，３−プロパンジオールジ
アクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート
、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，１０
−デカンジオールアクリレート、ジエチレンジグリコー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、テトラエチレングリコ−゛ルジアクリレート、ト
リプロビレンゲリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステル、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、ビスオキシエチレン化ビスフェノ
ールＡジアクリレート、ビスジ（オキシエチレン化）ビ
スフェノールＡジアクリレート、ビスオキシプロピレン
化ビスフェノールＡジアクリレート、ビスジ（オキシプ
ロピレン化）ビスフェノールＡジアクリレート、３−メ
チルベンタンジオールジアクリレートおよび上記それぞ
れのアクリレートに対応するメタクリレートなどをあげ
ることができ、さらにトリアクリレート、例えばトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレートおよびそれぞれ対応するメタクリ
レートならびにトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシ
アネートをあげることができる。また、上記モノマーの
代表例として４個以上の官能基を有するアクリレートお
よびメタクリレート、例えばジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアク
リレートおよびペンタエリスリトールテトラアクリレー
トおよびそれぞれに対応するメタクリレートをあげるこ
とができる。

また、上記光重合性成形樹脂には必要に応じてさらに増
感剤、貯蔵安定剤、還元剤およびその他の添加剤を含有
させてもよい。

また、光重合開始剤としては従来既知のものを好適に用
いることができるがその代表例をあげれば次のとおりで
ある。アセトフェノン、２，２−ジェトキシアセトフェ
ノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、Ｐ−ジメチ
ルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロ
ロベンゾフェノン、ＰｅＰ’−ジクロロベンゾフェノン
、ＰｓＰ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインｎ−ブチル
エーテル、べ°ンジルメチルケタール、テトラメチルチ
ウラムモノサルファイド、チオキサントン、２−クロロ
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、アゾビス
イソブチロニトリル、ベンゾインパーオキサイド、ジー
ｔａｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−イソプロピル−
α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシ−
イソブチルフェノン、ジベンゾスベロン、ジエチルチオ
キサントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン。

これらの光重合開始剤は上記モノマー１００重量部に対
して０．０５から１０重量部の範囲で用いるが、好まし
くは０．２から５重量部の範囲である。

本発明のスタンパは２Ｐ法あるいは注型法といった熱や
圧力の比較的少ない複製法に好ましく用いられる０本発
明のスタンパを用いて光情報記録媒体を複製するには１
本発明のスタンパと透明基板の間に光重合性成形樹脂液
を介在させ、透明基板側から光照射を行い光重合性成形
樹脂液を硬化させ、スタンパから剥離した後、記録層を
形成し、公知の方法で例えばエアーサンドイッチ型等の
構造とする。

上記記録層には９、Ｔｅ、　Ｉｎ、　５ＬＳｂ、　Ｓｅ
、　Ｇｅ、　ＴＱ等の低融点金属や合金、あるいはフタ
ロシアニン、ナフタロシアニン、シアニン等の有機材料
を用いることができる。

（す施例〕 次に本発明を実施例により更に詳しく説明する。

先ず、欠陥の少ないガラス円板（直径２００■、厚さ８
　ｍ　）にフォトレジストの密着性を向上させるために
、ヘキサメチルジシラザンの５０％イソプロピルアルコ
ール液をスピナー（回転速度１０１０００ｒｐにより塗
布した後、乾燥させた１次いでガラス円板上にフォトレ
ジスト（東京応化製、　０ＦＰＲ−８００１ＣＰ）を塗
布した後、９０℃で３０分間プリベークを行った。

乾燥後の膜厚は約１３００人であった。その後、フォト
レジストが形成されたガラス円板を原盤露光器に載せて
、アルゴンレーザーの４５７，９ｎｍの波長の光を用い
て溝記録を行った。記録した溝の間隔は１、Ｆ：μｓピ
ッチである。次に、露光を終えた原盤を現像液（東京応
化製、　ＤＥ−３）に浸漬し、干渉色が最大になるまで
現像を行い、即座に純水で洗浄した後に１３０℃で３０
分間ボストベークを行った。この後、この円板をスパッ
タ装置にセットし、ニッケル膜を５００人の厚さに付着
した。スパッタ膜の付着強度を上げるため１０−”　Ｔ
ｏｒｒのＡｒ雰囲気中でスパッタを行った。

このようにして得られたガラス原盤をマスターとし、さ
らに上記と同じガラス円板を ＣＨ２＝ＣＨ−Ｃ−０−８ｉ−＋ＱＣ２Ｈ５）で処理（
０，０１％溶液を塗布、１２０℃で１０分間ベーキング
）したものを用い、以下の２Ｐ液により転写を行った。

１．６ヘキサンジオールジアクリレ　　５０重量部−ト ベンジルジメチルケタール　　　　　３重量部硬化条件
は、高圧水銀灯下、照射パワー１６０ｍＷ／ａ！（３６
０ｎｍ）で２０秒間であり、光照射後即座に剥離を行っ
た。静電気を除去した後、スパッタ装置にセットし、マ
スタリングと同一の条件でスパッタを行い、ニッケル膜
を形成し、スタンパを得た。

次に、直径２５０Ｉ、厚さ１．２ｍｍのアクリル板に２
Ｐ剤との接着性を向上させるため上記２Ｐ液をさらにト
ルエン／酢酸エチル（重量比１：ｌ）の溶媒に錦とかし
込んだものを塗布した後、乾燥させた。そして上記で作
製したスタンパを用い、このアクリル板上に上記と同様
にして２Ｐ転写を行った。そして２Ｐ転写後のアクリル
板に下記構造式の皮膜を７００人の膜厚に形成し、公知
の方法でエアーサンドイッチ型の光ディスクを作製した
。

以上のようにして作製した光ディスクについて、欠陥率
評価装置により欠陥を評価したところ、欠陥率は２　Ｘ
　１０−”と小さく、通常の方法で２Ｐ転写を行った光
ディスクとほぼ同じレベルであった。また、トラッキン
グ信号についても評価を行ったが。

通常の方法で作製した光ディスクとほぼ同一の値を得る
こと−ができ、転写性に差異がないことが明らかどなっ
た。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように、本発明によれば、透明な板
の微細凹凸パターン形成面にスパッタ法により金属皮膜
を設けてスタンパを構成したので。

材料が安価なものが使え、工程が短縮されるため、欠陥
の少ないスタンパが低コストで多量に供給できる。また
、本発明のスタンパを用いることにより、品質の良好な
光情報記録媒体を多量に複製できるようになり、コスト
ダウンが期待される。

特許出願人　株式会社　リ　　コ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面に微細凹凸パターンを有する透明な板と、該
   透明な板の微細凹凸パターン側表面に形成された金属皮
   膜からなり、該金属皮膜はスパッタ法により形成された
   ものであることを特徴とする光情報記録媒体複製用スタ
   ンパ。