JPH02135701A - 電圧非直線抵抗体の製造方法 - Google Patents
電圧非直線抵抗体の製造方法Info
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- JPH02135701A JPH02135701A JP63288959A JP28895988A JPH02135701A JP H02135701 A JPH02135701 A JP H02135701A JP 63288959 A JP63288959 A JP 63288959A JP 28895988 A JP28895988 A JP 28895988A JP H02135701 A JPH02135701 A JP H02135701A
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Landscapes
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- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は酸化亜鉛を主成分とする電圧非直線抵抗体の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
(従来の技術)
従来から酸化亜鉛を主成分とし、Bi2O3,5b20
3゜5in2. Co2O3,MnO2等の少量の添加
物を含有した抵抗体は、優れた電圧非直線性を示すこと
が広く知られており、その性質を利用して避雷器等に使
用されている。
3゜5in2. Co2O3,MnO2等の少量の添加
物を含有した抵抗体は、優れた電圧非直線性を示すこと
が広く知られており、その性質を利用して避雷器等に使
用されている。
この電圧非直線抵抗体では、雷等のサージ電流が素子に
印加された場合に主として素子側面に沿った閃絡いわゆ
る沿面閃絡が生じ素子が破壊することがあるため、円周
側面にBi −Sb −Si系化合物またはBi −3
b −Si −Zn系化合物よりなる高抵抗層を設ける
のが一般的である。
印加された場合に主として素子側面に沿った閃絡いわゆ
る沿面閃絡が生じ素子が破壊することがあるため、円周
側面にBi −Sb −Si系化合物またはBi −3
b −Si −Zn系化合物よりなる高抵抗層を設ける
のが一般的である。
(発明が解決しようとする課題)
従来の電圧非直線抵抗体の原料は結晶質構造のものを使
用したため、ZnO粒子間の粒界層が均一とならず特性
のバラツキや品質の低下をきたすことがあり、この点を
解決するため抵抗体の各原料の少なくとも1種を非晶質
構造のものとする技術が、特開昭59−903号公報で
開示されている。
用したため、ZnO粒子間の粒界層が均一とならず特性
のバラツキや品質の低下をきたすことがあり、この点を
解決するため抵抗体の各原料の少なくとも1種を非晶質
構造のものとする技術が、特開昭59−903号公報で
開示されている。
しかしながら、上述した特開昭59−903号公報で開
示された技術では、抵抗体の各原料の少なくとも1種を
非晶質構造のものとしているだけであるため、この抵抗
体に従来のように3成分系または4成分系の側面高抵抗
層を設けると、抵抗体本体と側面高抵抗層との密着性が
悪化し、その結果特性がバラツキ、放電耐量も変化する
とともに課電寿命も悪くなる場合があった。
示された技術では、抵抗体の各原料の少なくとも1種を
非晶質構造のものとしているだけであるため、この抵抗
体に従来のように3成分系または4成分系の側面高抵抗
層を設けると、抵抗体本体と側面高抵抗層との密着性が
悪化し、その結果特性がバラツキ、放電耐量も変化する
とともに課電寿命も悪くなる場合があった。
本発明の目的は上述した課題を解消して、各種放電耐量
および課電寿命が向上し、特性のバラツキが減少すると
ともに、抵抗体本体と側面高抵抗層との密着性も良好な
電圧非直線抵抗体の製造方法を提供しようとするもので
ある。
および課電寿命が向上し、特性のバラツキが減少すると
ともに、抵抗体本体と側面高抵抗層との密着性も良好な
電圧非直線抵抗体の製造方法を提供しようとするもので
ある。
(課題を解決するための手段)
本発明の電圧非直線抵抗体の製造方法は、酸化亜鉛を主
成分とし少なくともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体
の側面に、少なくともケイ素化合物、アンチモン化合物
、ビスマス化合物よりなる側面高抵抗層用の混合物を塗
布し次いで焼成する電圧非直線抵抗体の製造方法におい
て、前記抵抗体のケイ素成分原料として非晶質シリカを
使用するとともに、前記混合物中のケイ素化合物として
非晶質シリカを使用することを特徴とするものである。
成分とし少なくともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体
の側面に、少なくともケイ素化合物、アンチモン化合物
、ビスマス化合物よりなる側面高抵抗層用の混合物を塗
布し次いで焼成する電圧非直線抵抗体の製造方法におい
て、前記抵抗体のケイ素成分原料として非晶質シリカを
使用するとともに、前記混合物中のケイ素化合物として
非晶質シリカを使用することを特徴とするものである。
(作 用)
上述した構成において、本発明者らは使用する抵抗体の
各添加成分の性状および側面高抵抗層の各成分の性状を
種々検討した結果、抵抗体本体中および側面高抵抗層中
のSi成分として非晶質シリカを使用することにより、
各種放電耐量および課電寿命が良好になりバラツキも減
少するとともに、抵抗体本体と側面高抵抗層との接着性
も良好となることを見出した。
各添加成分の性状および側面高抵抗層の各成分の性状を
種々検討した結果、抵抗体本体中および側面高抵抗層中
のSi成分として非晶質シリカを使用することにより、
各種放電耐量および課電寿命が良好になりバラツキも減
少するとともに、抵抗体本体と側面高抵抗層との接着性
も良好となることを見出した。
即ち、各種添加成分の中で特にSi添加成分は、抵抗体
本体及び側面高抵抗層において酸化亜鉛と反応してケイ
酸亜鉛(Zn2SiO,)を生成する。このケイ酸亜鉛
は抵抗体本体では酸化亜鉛の粒成長制御等抵抗体本体の
均一性向上に重要な働きをするとともに、側面高抵抗層
でも雷サージ印加による沿面閃絡防止等重要な働きをす
る。
本体及び側面高抵抗層において酸化亜鉛と反応してケイ
酸亜鉛(Zn2SiO,)を生成する。このケイ酸亜鉛
は抵抗体本体では酸化亜鉛の粒成長制御等抵抗体本体の
均一性向上に重要な働きをするとともに、側面高抵抗層
でも雷サージ印加による沿面閃絡防止等重要な働きをす
る。
このS1添加成分が結晶質の場合には、酸化亜鉛との反
応性が悪くなるため、ケイ酸亜鉛の分布も不均一となり
、抵抗体本体及び側面高抵抗層の均一性が低下する。そ
のため、抵抗体本体では開閉サージの印加により内部貫
通破壊がおきやすくなるとともに、サージ印加によるバ
リスタ電圧の低下及び課電寿命の悪化等により常時課電
では抵抗体が熱暴走しやすくなる。また、側面高抵抗層
では雷サージ印加により抵抗体側面の沿面閃絡が起きや
すくなる。
応性が悪くなるため、ケイ酸亜鉛の分布も不均一となり
、抵抗体本体及び側面高抵抗層の均一性が低下する。そ
のため、抵抗体本体では開閉サージの印加により内部貫
通破壊がおきやすくなるとともに、サージ印加によるバ
リスタ電圧の低下及び課電寿命の悪化等により常時課電
では抵抗体が熱暴走しやすくなる。また、側面高抵抗層
では雷サージ印加により抵抗体側面の沿面閃絡が起きや
すくなる。
また、側面高抵抗層の81添加成分も抵抗体本体と同じ
非晶質のものを用いないと、焼成による抵抗体本体と側
面高抵抗層との収縮バランスがくずれ、側面高抵抗層が
剥離しやすくなるため、側面高抵抗層が吸湿性を示すと
ともにサージ印加により抵抗体側面の沿面閃絡がおきや
すくなる。なお、側面高抵抗層が吸湿性を示すことは長
期信頼性の点で好ましくない。
非晶質のものを用いないと、焼成による抵抗体本体と側
面高抵抗層との収縮バランスがくずれ、側面高抵抗層が
剥離しやすくなるため、側面高抵抗層が吸湿性を示すと
ともにサージ印加により抵抗体側面の沿面閃絡がおきや
すくなる。なお、側面高抵抗層が吸湿性を示すことは長
期信頼性の点で好ましくない。
なお、使用する非晶質シリカの製造方法については特に
限定するものではないが、ケイ酸ナトリウムの複分解反
応から得られたもの及び四塩化ケイ素の熱分解により得
られたものを使用すると、後述する実施例から明らかな
ように特性が良好になるため好ましい。また、その純度
は5102として95%以上であり、その平均粒径は1
0μm以下であると好ましい。
限定するものではないが、ケイ酸ナトリウムの複分解反
応から得られたもの及び四塩化ケイ素の熱分解により得
られたものを使用すると、後述する実施例から明らかな
ように特性が良好になるため好ましい。また、その純度
は5102として95%以上であり、その平均粒径は1
0μm以下であると好ましい。
さらに、側面高抵抗層を形成する混合物としては、非晶
質シリカ、ビスマス化合物、アンチモン化合物を5in
2. Bi2O3,5b203換算でSin□70〜9
5モル%、好ましくは80〜90モル%、B12O31
〜15モル%、好ましくは3〜10モル%、5b203
3〜20モル%、好ましくは5〜15%必、要に応じて
亜鉛化合物を外記でZnOに換算して150モル%以下
好ましくは80モル%以下添加したものが好ましく、全
体の平均粒径が10μm以下であると好ましい。そして
、側面高抵抗層の厚さは30〜150μmであると好ま
しい。
質シリカ、ビスマス化合物、アンチモン化合物を5in
2. Bi2O3,5b203換算でSin□70〜9
5モル%、好ましくは80〜90モル%、B12O31
〜15モル%、好ましくは3〜10モル%、5b203
3〜20モル%、好ましくは5〜15%必、要に応じて
亜鉛化合物を外記でZnOに換算して150モル%以下
好ましくは80モル%以下添加したものが好ましく、全
体の平均粒径が10μm以下であると好ましい。そして
、側面高抵抗層の厚さは30〜150μmであると好ま
しい。
ここで、側面高抵抗層用の混合物の組成としてビスマス
化合物、アンチモン化合物、亜鉛化合物を規定したが、
各化合物とも1000℃以下、好ましくは800℃以下
で酸化物に変化するものであればよい。具体的には酸化
物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等があげられるが、酸化
物が最も好ましい。
化合物、アンチモン化合物、亜鉛化合物を規定したが、
各化合物とも1000℃以下、好ましくは800℃以下
で酸化物に変化するものであればよい。具体的には酸化
物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等があげられるが、酸化
物が最も好ましい。
(実施例)
酸化亜鉛を主成分とする電圧非直線抵抗体を得るには、
まず所定の粒度に調整した酸化亜鉛原料と所定の粒度に
調整したBi、03. co2o3. MnO□。
まず所定の粒度に調整した酸化亜鉛原料と所定の粒度に
調整したBi、03. co2o3. MnO□。
5b203. Cr2O3,5i02. NiO等より
なる添加物の所定量を混合する。この際、本発明では5
102源原料として平均粒径10μm以下の非晶質シリ
カを使用する。これら原料粉末に対して所定量のポリビ
ニルアルコール水溶液等を加え、好ましくはデイスパー
ミルにより混合した後、好ましくはスプレードライヤに
より造粒して造粒物を得る。造粒後、成形圧力800〜
1000kg/c+n2の下で所定の形状に成形する。
なる添加物の所定量を混合する。この際、本発明では5
102源原料として平均粒径10μm以下の非晶質シリ
カを使用する。これら原料粉末に対して所定量のポリビ
ニルアルコール水溶液等を加え、好ましくはデイスパー
ミルにより混合した後、好ましくはスプレードライヤに
より造粒して造粒物を得る。造粒後、成形圧力800〜
1000kg/c+n2の下で所定の形状に成形する。
そして成形体を昇降温速度50〜70℃/hrで800
〜1000℃保持時間1〜5時間という条件で仮焼成す
る。
〜1000℃保持時間1〜5時間という条件で仮焼成す
る。
なお、仮焼成の前に成形体を昇降温速度10〜100℃
/hrで400〜600℃保持時間1〜10時間で熱処
理し結合剤を飛敗除去することが好ましい。
/hrで400〜600℃保持時間1〜10時間で熱処
理し結合剤を飛敗除去することが好ましい。
なお、本願発明の素体とは、成形体または成形体を上記
条件で熱処理した脱脂体をいう。
条件で熱処理した脱脂体をいう。
次に、仮焼成した仮焼体の側面に側面高抵抗層を形成す
る。本発明では、ビスマス化合物、アンチモン化合物、
ケイ素化合物等の所定量に有機結合剤としてエチルセル
ロース、ブチルカルピトール、酢酸nブチル等を加えた
側面高抵抗層用混合物ペーストを、60〜300 μm
の厚さに仮焼体の側面に塗布する。なお、前記混合物ペ
ーストは素体に塗布してもよい。この際、本発明ではケ
イ素化合物として、好ましくは平均粒径が10μm以下
の非晶質シリカを使用する。次に、これを昇降温速度4
0〜60℃/hr、 100(]−11300℃ましく
は1100〜1250℃13〜′7時間という条件で本
焼成する。なお、ガラス粉末に有機結合剤としてエチル
セルロース、プチルカルビトーノベ酢酸nブチル等を加
えたガラスペーストを前記の側面高抵抗層上に100〜
300μmの厚さに塗布し、空気中で昇降温速度100
〜200℃/hr 、 400〜600℃保持時間0.
5〜2時間という条件で熱処理することによりガラス層
を形成すると好ましい。
る。本発明では、ビスマス化合物、アンチモン化合物、
ケイ素化合物等の所定量に有機結合剤としてエチルセル
ロース、ブチルカルピトール、酢酸nブチル等を加えた
側面高抵抗層用混合物ペーストを、60〜300 μm
の厚さに仮焼体の側面に塗布する。なお、前記混合物ペ
ーストは素体に塗布してもよい。この際、本発明ではケ
イ素化合物として、好ましくは平均粒径が10μm以下
の非晶質シリカを使用する。次に、これを昇降温速度4
0〜60℃/hr、 100(]−11300℃ましく
は1100〜1250℃13〜′7時間という条件で本
焼成する。なお、ガラス粉末に有機結合剤としてエチル
セルロース、プチルカルビトーノベ酢酸nブチル等を加
えたガラスペーストを前記の側面高抵抗層上に100〜
300μmの厚さに塗布し、空気中で昇降温速度100
〜200℃/hr 、 400〜600℃保持時間0.
5〜2時間という条件で熱処理することによりガラス層
を形成すると好ましい。
その後、得られた電圧非直線抵抗体の両端面をSiC,
Aj!20.、ダイヤモンド等の#400〜2000相
当の研磨剤により水好ましくは油を使用して研磨する。
Aj!20.、ダイヤモンド等の#400〜2000相
当の研磨剤により水好ましくは油を使用して研磨する。
次に、研磨面を洗浄後、研磨した両端面に例えばアルミ
ニウム等によって電極を例えば溶射により設けて電圧非
直線抵抗体を得ている。
ニウム等によって電極を例えば溶射により設けて電圧非
直線抵抗体を得ている。
以下、実際に本発明範囲内および範囲外の電圧非直線抵
抗体について各種特性を測定した結果について説明する
。
抗体について各種特性を測定した結果について説明する
。
実施例1
上述した方法で作成した直径47mm 、厚さ20mm
でV l −A = 210〜230 V/mm (D
電圧非直線抵抗体において、抵抗体本体中および側面高
抵抗層用の混合物中のケイ素の状態が特性に及ぼす影響
を調べるため、両者とも非晶質シリカを使用した本発明
範囲内の試料No、 1〜8と、いずれかの点で本発明
の範囲を満たさない比較例No、 1〜4を準備し、雷
サージ印加後におけるバリスタ電圧の低下率(△V l
aA ) 、雷サージ耐量破壊率、開閉サージ耐重破壊
率、漏洩電流の比および側面高抵抗層の吸湿性を測定し
た。
でV l −A = 210〜230 V/mm (D
電圧非直線抵抗体において、抵抗体本体中および側面高
抵抗層用の混合物中のケイ素の状態が特性に及ぼす影響
を調べるため、両者とも非晶質シリカを使用した本発明
範囲内の試料No、 1〜8と、いずれかの点で本発明
の範囲を満たさない比較例No、 1〜4を準備し、雷
サージ印加後におけるバリスタ電圧の低下率(△V l
aA ) 、雷サージ耐量破壊率、開閉サージ耐重破壊
率、漏洩電流の比および側面高抵抗層の吸湿性を測定し
た。
なお、試験した抵抗体の組成は、Bi2O,、Co3O
4゜MnO2,5b203. Cr2O3,NiOを各
0.1〜2モル%A I! (NO3) 3・9H20
を0.001〜0.旧モル%、銀を含むホウケイ酸ビス
マスガラスを 0.旧〜0.3重量%、5IO2を2モ
ル%、残部ZnOとした。また、使用した非晶質シリカ
については、第1図(a)〜(C)の製造方法に従って
作成したものを使用し、第1図(a)に従ったものをA
、第1図(b)に従ったものを81第1図(C)に従っ
たものをCとし、その他罪晶質のシリカガラスおよび結
晶質構造の従来品として石英ちよびクリストバライトを
第1表に示す平均粒径で使用した。さらに、側面高抵抗
層用のケイ素化合物以外の混合物はビスマス化合物とし
ては平均粒径5μmの酸化ビスマスを、アンチモン化合
物としては平均粒径3μmの酸化アンチモンを使用した
。なあ、側面高抵抗層用の混合物は、Sin、 135
モル%、812035モル%、5b20310モル%の
3元系とした。結果を第2表に示す。
4゜MnO2,5b203. Cr2O3,NiOを各
0.1〜2モル%A I! (NO3) 3・9H20
を0.001〜0.旧モル%、銀を含むホウケイ酸ビス
マスガラスを 0.旧〜0.3重量%、5IO2を2モ
ル%、残部ZnOとした。また、使用した非晶質シリカ
については、第1図(a)〜(C)の製造方法に従って
作成したものを使用し、第1図(a)に従ったものをA
、第1図(b)に従ったものを81第1図(C)に従っ
たものをCとし、その他罪晶質のシリカガラスおよび結
晶質構造の従来品として石英ちよびクリストバライトを
第1表に示す平均粒径で使用した。さらに、側面高抵抗
層用のケイ素化合物以外の混合物はビスマス化合物とし
ては平均粒径5μmの酸化ビスマスを、アンチモン化合
物としては平均粒径3μmの酸化アンチモンを使用した
。なあ、側面高抵抗層用の混合物は、Sin、 135
モル%、812035モル%、5b20310モル%の
3元系とした。結果を第2表に示す。
第2表において、ΔV1.Aは、8/20μsの電流波
形で30KAの電流を10回繰り返し印加したのちのバ
リスタ電圧(V、、A)の低下率を、雷サージ耐量破壊
率は、100KA、 ll0KA、 120KAのパル
ス電流を4710μsの電流波形で2回印加した後破壊
したものの割合を示した。また、開閉サージ耐量破壊率
は、100OA、 l100A、 1200Aの電流を
2msの電流波形で20回繰り返し印加した後破壊した
ものの割合を、漏洩電流の比は周囲温度130℃課電率
95%で課電し、課電直後に対する課電100時間後の
電流比I、。。時間/Io時間から求めた。
形で30KAの電流を10回繰り返し印加したのちのバ
リスタ電圧(V、、A)の低下率を、雷サージ耐量破壊
率は、100KA、 ll0KA、 120KAのパル
ス電流を4710μsの電流波形で2回印加した後破壊
したものの割合を示した。また、開閉サージ耐量破壊率
は、100OA、 l100A、 1200Aの電流を
2msの電流波形で20回繰り返し印加した後破壊した
ものの割合を、漏洩電流の比は周囲温度130℃課電率
95%で課電し、課電直後に対する課電100時間後の
電流比I、。。時間/Io時間から求めた。
さらに、側面高抵抗層の吸湿性は、素子を蛍光探傷液中
に圧力200kg/cm”の状態で24時間浸漬した後
吸湿状態を検査し、高抵抗層に滲みのないものを○、滲
みのあるものをXとして表示した。
に圧力200kg/cm”の状態で24時間浸漬した後
吸湿状態を検査し、高抵抗層に滲みのないものを○、滲
みのあるものをXとして表示した。
第
表
第2表の結果から、抵抗体および高抵抗層中のイ素原料
として非晶質シリカを使用した本発明1料No、 1〜
8は、いずれかの点で本発明を満足しい比較例No、
1〜4と比較して、各種特性が良好あることがわかった
。また、本発明の中でも、晶質シリカとしてケイ酸す)
IJウムの複分解反を利用して得たものまたは四塩化
ケイ素の熱分反応を利用して得たものを使用すると、各
種特がさらに良好になるため好ましい。さらに、抵体お
よび高抵抗層中に使う非晶質シリカとしてじ種類のもの
を使用すると、前述のとおり焼成よる抵抗体本体と側面
高抵抗層の収縮バランス一致するため、各種特性がさら
に良好にり好まいことがわかる。
として非晶質シリカを使用した本発明1料No、 1〜
8は、いずれかの点で本発明を満足しい比較例No、
1〜4と比較して、各種特性が良好あることがわかった
。また、本発明の中でも、晶質シリカとしてケイ酸す)
IJウムの複分解反を利用して得たものまたは四塩化
ケイ素の熱分反応を利用して得たものを使用すると、各
種特がさらに良好になるため好ましい。さらに、抵体お
よび高抵抗層中に使う非晶質シリカとしてじ種類のもの
を使用すると、前述のとおり焼成よる抵抗体本体と側面
高抵抗層の収縮バランス一致するため、各種特性がさら
に良好にり好まいことがわかる。
発明の効果)
以上の説明から明らかなように、本発明の電圧直線抵抗
体の製造方法によれば、抵抗体本体おび側面高抵抗層用
の混合物中のケイ素成分とし非晶質シリカを使用するこ
とにより、各種放電量および課電寿命が向上し、特性の
バラツキが減少するとともに、側面高抵抗層の吸湿性が
良好で抵抗体本体と高抵抗層との密着性が良好な電圧非
直線抵抗体を得ることができる。
体の製造方法によれば、抵抗体本体おび側面高抵抗層用
の混合物中のケイ素成分とし非晶質シリカを使用するこ
とにより、各種放電量および課電寿命が向上し、特性の
バラツキが減少するとともに、側面高抵抗層の吸湿性が
良好で抵抗体本体と高抵抗層との密着性が良好な電圧非
直線抵抗体を得ることができる。
また、制限電圧についても良好な特性が得られることが
確認された。
確認された。
第1図(a)〜(C)はそれぞれ本発明で使用する非晶
質シリカの製造方法の一例を示すフローチャートである
。 特 許 出 願 人 日 木 碍 子 株 式 %式%
質シリカの製造方法の一例を示すフローチャートである
。 特 許 出 願 人 日 木 碍 子 株 式 %式%
Claims (2)
- 1.酸化亜鉛を主成分とし少なくともケイ素成分を含む
電圧非直線抵抗体の側面に、少なくともケイ素化合物、
アンチモン化合物、ビスマス化合物よりなる側面高抵抗
層用の混合物を塗布し次いで焼成する電圧非直線抵抗体
の製造方法において、前記抵抗体のケイ素成分原料とし
て非晶質シリカを使用するとともに、前記混合物中のケ
イ素化合物として非晶質シリカを使用することを特徴と
する電圧非直線抵抗体の製造方法。 - 2.前記非晶質シリカとして、ケイ酸ナトリウムの複分
解反応により得られたもの、または四塩化ケイ素の熱分
解により得られたものを使用する請求項1記載の電圧非
直線抵抗体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63288959A JPH0812810B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63288959A JPH0812810B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02135701A true JPH02135701A (ja) | 1990-05-24 |
JPH0812810B2 JPH0812810B2 (ja) | 1996-02-07 |
Family
ID=17737016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63288959A Expired - Lifetime JPH0812810B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0812810B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008547213A (ja) * | 2005-06-20 | 2008-12-25 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 低減された寄生容量を備えた電気的多層構成素子 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51134860A (en) * | 1975-05-19 | 1976-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Voltage nonnlinear resistor element and method of making same |
JPS58225604A (ja) * | 1982-06-25 | 1983-12-27 | 株式会社東芝 | 酸化物電圧非直線抵抗体 |
JPS59903A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-06 | 株式会社東芝 | 電圧非直線抵抗体 |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP63288959A patent/JPH0812810B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51134860A (en) * | 1975-05-19 | 1976-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Voltage nonnlinear resistor element and method of making same |
JPS58225604A (ja) * | 1982-06-25 | 1983-12-27 | 株式会社東芝 | 酸化物電圧非直線抵抗体 |
JPS59903A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-06 | 株式会社東芝 | 電圧非直線抵抗体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008547213A (ja) * | 2005-06-20 | 2008-12-25 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 低減された寄生容量を備えた電気的多層構成素子 |
US8058965B2 (en) | 2005-06-20 | 2011-11-15 | Epcos Ag | Electrical multilayer component with reduced parasitic capacitance |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0812810B2 (ja) | 1996-02-07 |
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