JPH0212139B2 - - Google Patents
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- JPH0212139B2 JPH0212139B2 JP59136114A JP13611484A JPH0212139B2 JP H0212139 B2 JPH0212139 B2 JP H0212139B2 JP 59136114 A JP59136114 A JP 59136114A JP 13611484 A JP13611484 A JP 13611484A JP H0212139 B2 JPH0212139 B2 JP H0212139B2
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- JP
- Japan
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- gas
- chemical solution
- chemical
- inert gas
- container
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Weting (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薬液の供給方法および装置に関し、
特に薬液を収容した気密容器に不活性ガスを圧入
し、この容器に連通した管路に薬液を送り出すよ
うにした薬液供給方法および装置に関するもので
ある。
特に薬液を収容した気密容器に不活性ガスを圧入
し、この容器に連通した管路に薬液を送り出すよ
うにした薬液供給方法および装置に関するもので
ある。
〔従来技術〕
たとえば、フオトレジスト液、現像液、あるい
はエツチング液等を貯蔵容器から回転式基板処理
装置の薬液ノズルに供給する手段としては、特開
昭55−78529号公報や、特開昭57−113226号公報
に開示されているように、加圧された窒素ガスを
密閉された薬液収容容器に導入して、そのガス圧
により薬液を管路に送り出すようにした装置が知
られている。第3図に、その従来技術の概要を示
す。
はエツチング液等を貯蔵容器から回転式基板処理
装置の薬液ノズルに供給する手段としては、特開
昭55−78529号公報や、特開昭57−113226号公報
に開示されているように、加圧された窒素ガスを
密閉された薬液収容容器に導入して、そのガス圧
により薬液を管路に送り出すようにした装置が知
られている。第3図に、その従来技術の概要を示
す。
薬液1を収容した、気密容器であるタンク2に
薬液送出管である薬液供給管3を挿入し、その薬
液供給管3の管路の中間に自動弁4を、末端にノ
ズル5をそれぞれ設置する。そのノズル5の下方
には、回転チヤツク7に被処理基板6を保持し、
所要回転数で回転させる。また、タンク2の上面
には気体送入管である不活性ガス圧入管8を接続
し、レギユレータ9を経て、窒素等のような不活
性ガスを加圧してタンク2に導入する。
薬液送出管である薬液供給管3を挿入し、その薬
液供給管3の管路の中間に自動弁4を、末端にノ
ズル5をそれぞれ設置する。そのノズル5の下方
には、回転チヤツク7に被処理基板6を保持し、
所要回転数で回転させる。また、タンク2の上面
には気体送入管である不活性ガス圧入管8を接続
し、レギユレータ9を経て、窒素等のような不活
性ガスを加圧してタンク2に導入する。
窒素ガスはレギユレータ9によつて、所要の圧
力に調整されてタンク2内に圧入され、その圧力
により密閉されたタンク2内の薬液1を、薬液供
給管3および自動開閉弁4を経てノズル5から被
処理基板6の面に供給し、被処理基板6に所要の
表面処理、たとえば、現像処理、またはエツチン
グ処理等を行う。
力に調整されてタンク2内に圧入され、その圧力
により密閉されたタンク2内の薬液1を、薬液供
給管3および自動開閉弁4を経てノズル5から被
処理基板6の面に供給し、被処理基板6に所要の
表面処理、たとえば、現像処理、またはエツチン
グ処理等を行う。
上述の加圧ガスにより、薬液を供給する従来装
置においては、一般的に不活性ガスである窒素ガ
スが使用されるが、本来、窒素ガスを空気中より
分離するためには、一旦、空気を液化させた上
で、他のガスとの蒸発温度の差を利用して分離し
ているため、液体窒素を充填したボンベより供給
される窒素ガスの絶対湿度は、ほとんど零に近
い。第3図示装置において、かかる乾燥した不活
性ガスをタンク2に導入すると、薬液1の溶媒ま
たは、蒸気圧の高い成分が気化して不活性ガス中
に吸収され、薬液1の組成が変化するという問題
がある。
置においては、一般的に不活性ガスである窒素ガ
スが使用されるが、本来、窒素ガスを空気中より
分離するためには、一旦、空気を液化させた上
で、他のガスとの蒸発温度の差を利用して分離し
ているため、液体窒素を充填したボンベより供給
される窒素ガスの絶対湿度は、ほとんど零に近
い。第3図示装置において、かかる乾燥した不活
性ガスをタンク2に導入すると、薬液1の溶媒ま
たは、蒸気圧の高い成分が気化して不活性ガス中
に吸収され、薬液1の組成が変化するという問題
がある。
これは、純水のように単一成分の液の場合は、
単にタンク2内の液量の変化にすぎないので問題
となることは少ないが、蒸気圧が異なる複数成分
を有する薬液や、溶質の含有パーセンテージを一
定値に維持する必要がある薬液の場合には問題が
生じる。
単にタンク2内の液量の変化にすぎないので問題
となることは少ないが、蒸気圧が異なる複数成分
を有する薬液や、溶質の含有パーセンテージを一
定値に維持する必要がある薬液の場合には問題が
生じる。
また、不活性ガスの圧力によつて、薬液を供給
する場合のほかに、薬液の酸化防止のため、タン
ク2内の空気を不活性ガスで置換する場合にも、
同様の問題がある。
する場合のほかに、薬液の酸化防止のため、タン
ク2内の空気を不活性ガスで置換する場合にも、
同様の問題がある。
特に、近年、半導体基板の加工精度の高度化に
ともない、従来無視されていた薬液の僅少な質的
変化が問題となつてきており、上述の現象による
薬液の組成変化を防止する手段の実現が要望され
ている。
ともない、従来無視されていた薬液の僅少な質的
変化が問題となつてきており、上述の現象による
薬液の組成変化を防止する手段の実現が要望され
ている。
本発明は、タンクに導入される不活性ガスをあ
らかじめ、その薬液の蒸気に飽和させておくこと
により、上上述問題点を解決するものである。
らかじめ、その薬液の蒸気に飽和させておくこと
により、上上述問題点を解決するものである。
すなわち、本発明の要旨は、(1)気体送入管と薬
液送出管とを接続した気密容器に収容した薬液
を、必要に応じて該薬液を用いる処理装置へ送り
出し、かつ、薬液送出量に対応する容積の不活性
ガスを、前記気密容器へ送りこむ薬液供給方法に
おいて、前記気体送入管から送り込む不活性ガス
を、前記薬液と同等の薬液の蒸気によつて、あら
かじめほぼ飽和させておき、前記気密容器内の薬
液の変質を防止することを特徴とする薬液供給方
法にあり、また、(3)薬液を収容する気密容器と、
該気密容器に不活性ガスを圧入する気体送入管
と、前記不活性ガスの圧入にともなつて前記薬液
を前記気密容器から送り出す薬液送出管と、前記
気体送入管に付設され、前記不活性ガスに前記薬
液と同等の薬液の蒸気を添加する変質防止手段と
を備えてなる薬液供給装置にある。
液送出管とを接続した気密容器に収容した薬液
を、必要に応じて該薬液を用いる処理装置へ送り
出し、かつ、薬液送出量に対応する容積の不活性
ガスを、前記気密容器へ送りこむ薬液供給方法に
おいて、前記気体送入管から送り込む不活性ガス
を、前記薬液と同等の薬液の蒸気によつて、あら
かじめほぼ飽和させておき、前記気密容器内の薬
液の変質を防止することを特徴とする薬液供給方
法にあり、また、(3)薬液を収容する気密容器と、
該気密容器に不活性ガスを圧入する気体送入管
と、前記不活性ガスの圧入にともなつて前記薬液
を前記気密容器から送り出す薬液送出管と、前記
気体送入管に付設され、前記不活性ガスに前記薬
液と同等の薬液の蒸気を添加する変質防止手段と
を備えてなる薬液供給装置にある。
〔第1実施例〕
第1図は、本装置発明の第1実施例装置の概略
構成を示す。
構成を示す。
管路の途中に、リギユレータ9および気密容器
である薬液容器10を介在した不活性ガス圧入管
8から成る変質防止手段を、前記第3図示の従来
装置に準ずる構成のタンク2に、薬液供給管3と
ともに接続し、この不活性ガス圧入管8はタンク
2の上部、薬液供給管3はタンク2の底部に接続
してある。薬液容器10の不活性ガス入口側管
8′は、第2図示のように薬液容器10の薬液中
に没入し、圧入される不活性ガスが薬液に充分接
触するようにしてある。出口側の不活性ガス圧入
管8は薬液容器10の上部に接続してある。
である薬液容器10を介在した不活性ガス圧入管
8から成る変質防止手段を、前記第3図示の従来
装置に準ずる構成のタンク2に、薬液供給管3と
ともに接続し、この不活性ガス圧入管8はタンク
2の上部、薬液供給管3はタンク2の底部に接続
してある。薬液容器10の不活性ガス入口側管
8′は、第2図示のように薬液容器10の薬液中
に没入し、圧入される不活性ガスが薬液に充分接
触するようにしてある。出口側の不活性ガス圧入
管8は薬液容器10の上部に接続してある。
本実施例装置の作用は、次の通りである。不活
性ガスは、レギユレータ9により所要の圧力に調
整され、薬液容器10に圧入され、薬液に接触し
て完全乾燥状態の不活性ガス中に薬液の蒸気圧の
高い成分が気化してとりこまれ、ほぼ飽和した状
態の不活性ガスとなつて不活性ガス圧入管8を介
して、タンク2に圧入される。タンク2内の薬液
1には、常時、レギユレータ9で調整した圧力が
加わるが、薬液容器10では不活性ガスはほぼ飽
和されて、薬液の蒸気、特に蒸気圧の高い成分を
含んでいるため、タンク2内での薬液1の蒸発量
はきわめて小さくなり従来装置に比してほとんど
無視できる程度になる。
性ガスは、レギユレータ9により所要の圧力に調
整され、薬液容器10に圧入され、薬液に接触し
て完全乾燥状態の不活性ガス中に薬液の蒸気圧の
高い成分が気化してとりこまれ、ほぼ飽和した状
態の不活性ガスとなつて不活性ガス圧入管8を介
して、タンク2に圧入される。タンク2内の薬液
1には、常時、レギユレータ9で調整した圧力が
加わるが、薬液容器10では不活性ガスはほぼ飽
和されて、薬液の蒸気、特に蒸気圧の高い成分を
含んでいるため、タンク2内での薬液1の蒸発量
はきわめて小さくなり従来装置に比してほとんど
無視できる程度になる。
所要のシーケンスにより自動弁4を開閉すれば
被処理基板6に薬液1を不活性ガスの圧力により
供給することができる。薬液1の供給した容積分
だけタンク2に不活性ガスが圧入されてくるが、
いずれも事前に、変質防止手段を構成する薬液容
器10で飽和されるため、タンク2内の薬液1の
質的変化は、無視できる程度に小さくなる。
被処理基板6に薬液1を不活性ガスの圧力により
供給することができる。薬液1の供給した容積分
だけタンク2に不活性ガスが圧入されてくるが、
いずれも事前に、変質防止手段を構成する薬液容
器10で飽和されるため、タンク2内の薬液1の
質的変化は、無視できる程度に小さくなる。
〔第2実施例〕
第2図は、本装置発明の他の実施例装置の概略
構成を示し、第1図示装置と共通の構成要素に
は、同一符号を付してある。
構成を示し、第1図示装置と共通の構成要素に
は、同一符号を付してある。
本実施例装置が、第1図示装置と異なる主な点
は、薬液供給管3に自動弁4がなく、その代わり
に送液ポンプ11を設けたことである。すなわ
ち、本実施例では、ポンプ11により、薬液1を
ノズル5から高圧で噴射し、より高速で処理を行
いうるようにしたものである。しかし、単に薬液
供給管3にポンプ11を設けると、ポンプ11が
作動している間は、所要の薬液噴射が得られる
が、ポンプ11が停止したときも、薬液が流れつ
づけることが生じる。これは、特にダイヤフラム
式ポンプや遠心ポンプなどを使用した場合、レギ
ユレータ9の調整圧力によつて押出される薬液
は、これらのポンプを自由に通過しうるためであ
る。
は、薬液供給管3に自動弁4がなく、その代わり
に送液ポンプ11を設けたことである。すなわ
ち、本実施例では、ポンプ11により、薬液1を
ノズル5から高圧で噴射し、より高速で処理を行
いうるようにしたものである。しかし、単に薬液
供給管3にポンプ11を設けると、ポンプ11が
作動している間は、所要の薬液噴射が得られる
が、ポンプ11が停止したときも、薬液が流れつ
づけることが生じる。これは、特にダイヤフラム
式ポンプや遠心ポンプなどを使用した場合、レギ
ユレータ9の調整圧力によつて押出される薬液
は、これらのポンプを自由に通過しうるためであ
る。
そこで、第2図示装置では、ポンプ11の吐出
側に背圧弁12を、また、タンク2に逆止弁13
を付設して、この不都合を防ぐようにしてある。
側に背圧弁12を、また、タンク2に逆止弁13
を付設して、この不都合を防ぐようにしてある。
背圧弁12は、ポンプ11により吐出される薬
液は通過させるが、レギユレータ9の調整圧力に
対しては、管路を閉止するように作動圧が設定さ
れている。また、逆止弁13は、タンク2の内圧
が過大となることを防ぐために、ガスを放出する
ためのもので、その作動圧は、背圧弁12よりも
低く、レギユレータ9による調整圧力とほぼ同程
度に設定する。
液は通過させるが、レギユレータ9の調整圧力に
対しては、管路を閉止するように作動圧が設定さ
れている。また、逆止弁13は、タンク2の内圧
が過大となることを防ぐために、ガスを放出する
ためのもので、その作動圧は、背圧弁12よりも
低く、レギユレータ9による調整圧力とほぼ同程
度に設定する。
第2図示装置は、上述構成であるため、ポンプ
11が作動した場合、タンク2の薬液1は、背圧
弁12を通つてノズル5から噴射され、一方、タ
ンク2内の薬液が減少した量だけ不活性ガス圧入
管8から不活性ガスが圧入される。この圧入され
る不活性ガスは、薬液容器10において、薬液蒸
気によつてほぼ飽和されているので、タンク2内
の薬液組成に影響を及ぼすことがないことは、前
述第1実施例と同様である。
11が作動した場合、タンク2の薬液1は、背圧
弁12を通つてノズル5から噴射され、一方、タ
ンク2内の薬液が減少した量だけ不活性ガス圧入
管8から不活性ガスが圧入される。この圧入され
る不活性ガスは、薬液容器10において、薬液蒸
気によつてほぼ飽和されているので、タンク2内
の薬液組成に影響を及ぼすことがないことは、前
述第1実施例と同様である。
また、第2図示装置において、逆止弁13を設
けない比較的小径の管をタンク2に接続し、背圧
弁12を介在させずにノズル5へ供給してもよ
い。
けない比較的小径の管をタンク2に接続し、背圧
弁12を介在させずにノズル5へ供給してもよ
い。
本発明によれば、
(1) 加圧された不活性ガスにより、容器内の薬液
を送り出す場合や、不活性ガスにより薬液の酸
化防止のため空気を置換する場合に、その不活
性ガスをあらかじめその薬液と気液平衡状態に
しておくことにより、つまり、薬液の蒸気によ
つて、あらかじめほぼ飽和させておくことによ
り、気密容器に収容された薬液の成分の蒸発を
防ぎ、容器内の薬液の質的変化を防止すること
ができる。
を送り出す場合や、不活性ガスにより薬液の酸
化防止のため空気を置換する場合に、その不活
性ガスをあらかじめその薬液と気液平衡状態に
しておくことにより、つまり、薬液の蒸気によ
つて、あらかじめほぼ飽和させておくことによ
り、気密容器に収容された薬液の成分の蒸発を
防ぎ、容器内の薬液の質的変化を防止すること
ができる。
(2) 気密容器へ送り込む不活性ガスを、あらかじ
め薬液の蒸気によつてほぼ飽和させておくよう
にしたので、かかる飽和操作中に送り込まれる
不活性ガスに対し、その温度、流動、ゴミの除
去などの整正化ができることから、気密容器か
ら送り出す薬液の質的変化を更に防止すること
ができる。
め薬液の蒸気によつてほぼ飽和させておくよう
にしたので、かかる飽和操作中に送り込まれる
不活性ガスに対し、その温度、流動、ゴミの除
去などの整正化ができることから、気密容器か
ら送り出す薬液の質的変化を更に防止すること
ができる。
第1図は本発明装置の第1の実施例の概念図、
第2図は別の実施例の概念図、第3図は従来例の
概念図である。 1…薬液、2…タンク、3…薬液供給管、8…
不活性ガス圧入管、10…薬液容器。
第2図は別の実施例の概念図、第3図は従来例の
概念図である。 1…薬液、2…タンク、3…薬液供給管、8…
不活性ガス圧入管、10…薬液容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 気体送入管と薬液送出管とを接続した気密容
器に収容した薬液を、必要に応じて該薬液を用い
る処理装置へ送り出し、かつ、薬液送出量に対応
する容積の不活性ガスを、前記気密容器へ送りこ
む薬液供給方法において、前記気体送入管から送
り込む不活性ガスを、前記薬液と同等の薬液の蒸
気によつて、あらかじめほぼ飽和させておき、前
記気密容器内の薬液の変質を防止することを特徴
とする薬液供給方法。 2 気密容器に加圧不活性ガスを送り込むことに
より、薬液を送り出すようにした特許請求の範囲
第1項に記載の薬液供給方法。 3 薬液を収容する気密容器と、該気密容器に不
活性ガスを圧入する気体送入管と、前記不活性ガ
スの圧入にともなつて前記薬液を前記気密容器か
ら送り出す薬液送出管と、前記気体送入管に付設
され、前記不活性ガスに前記薬液と同等の薬液の
蒸気を添加する変質防止手段とを備えてなる薬液
供給装置。 4 変質防止手段が、薬液を収容し、その液面下
に開口する気体流入管と液面より上部に開口する
気体流出管とが接続された気密容器である特許請
求の範囲第3項に記載の薬液供給装置。 5 薬液を収容する容器と、該容器から薬液を薬
液送出管に送出すポンプ手段と、前記容器に不活
性ガスを圧入する気体送入管と、該気体送入管に
付設され、前記加圧気体に前記薬液と同等の薬液
の蒸気を添加する変質防止手段と、前記容器から
過剰の不活性ガスを排出する排気手段とを備えて
なる薬液供給装置。 6 排気手段が、容器外へ排気する方向のみ気体
を通過させる逆止弁である特許請求の範囲第5項
に記載の薬液供給装置。 7 ポンプ手段の吐出側に背圧弁を付設し、逆止
弁の作動圧が送りこまれる気体の圧力とほぼ同等
で、背圧弁の作動圧がそれより高く設定されてい
る特許請求の範囲第5項に記載の薬液供給装置。 8 変質防止手段が、薬液を収容し、その液面下
に開口する気体流入管と液面より上部に開口する
気体流出管とが接続された気密容器である特許請
求の範囲第5項に記載の薬液供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13611484A JPS6115729A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薬液供給方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13611484A JPS6115729A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薬液供給方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6115729A JPS6115729A (ja) | 1986-01-23 |
JPH0212139B2 true JPH0212139B2 (ja) | 1990-03-19 |
Family
ID=15167621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13611484A Granted JPS6115729A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薬液供給方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6115729A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022176057A (ja) * | 2021-05-12 | 2022-11-25 | 株式会社西村ケミテック | 薬液供給装置及び薬液供給方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11244683A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-14 | Japan Atom Energy Res Inst | 湿式造粒方法及び装置 |
JP4314537B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2009-08-19 | 関東化学株式会社 | 安全検出型薬液供給装置 |
JP2002273113A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-24 | Koganei Corp | 濾過器および薬液供給装置並びに薬液供給方法 |
JP4255269B2 (ja) * | 2002-11-25 | 2009-04-15 | 昭和炭酸株式会社 | 超低温窒素ガス供給装置 |
US8440139B2 (en) | 2004-03-04 | 2013-05-14 | Ethican, Inc. | Method of delivering liquid sterilant to a sterilizer |
JP4558538B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-10-06 | エシコン・インコーポレイテッド | 液体滅菌剤を滅菌器に送達する方法 |
JP4736646B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2011-07-27 | 横浜ゴム株式会社 | マンドレル処理液の攪拌供給装置 |
JP6973534B2 (ja) * | 2020-03-10 | 2021-12-01 | 栗田工業株式会社 | 希薄薬液供給装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5844747B2 (ja) * | 1980-08-18 | 1983-10-05 | 川崎製鉄株式会社 | ステンレス鋼帯の連続酸洗における過酸化水素の添加方法 |
JPS57171414A (en) * | 1981-04-14 | 1982-10-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas scrubbing apparatus |
JPS58193725A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-11-11 | Nec Kyushu Ltd | 半導体製造装置への有機薬品の供給方法 |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13611484A patent/JPS6115729A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022176057A (ja) * | 2021-05-12 | 2022-11-25 | 株式会社西村ケミテック | 薬液供給装置及び薬液供給方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6115729A (ja) | 1986-01-23 |
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