JPH02115186A - 殺微生物剤 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
- A01N43/90—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having two or more relevant hetero rings, condensed among themselves or with a common carbocyclic ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H19/00—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof
- C07H19/01—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof sharing oxygen
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は式1で表わされる大環状化合物、その製造方法
、及び植物の病気を抑制するためのその使用方法、並び
に有効化合物として前記化合物を含む植物−殺微生物剤
に関するものである。
、及び植物の病気を抑制するためのその使用方法、並び
に有効化合物として前記化合物を含む植物−殺微生物剤
に関するものである。
前記式中、Xは水素原子又はメチル基を表わし、Yは水
素原子、−CHO基、−COCH3基、−COCH20
C’H3基、−COCH,NH,基、ベンジル基、メチ
ル基又はシリル保護基を表わし、そしてA−B−Cは下
記の03−鎖要素を表わす:に第三ブチルジメチルシリ
ル基が挙げられる。
素原子、−CHO基、−COCH3基、−COCH20
C’H3基、−COCH,NH,基、ベンジル基、メチ
ル基又はシリル保護基を表わし、そしてA−B−Cは下
記の03−鎖要素を表わす:に第三ブチルジメチルシリ
ル基が挙げられる。
炭素原子数1ないし3のアルキル基はメチル基、エチル
基、プロピル基又はイソプ關ビル基を表わすものと解さ
れる。
基、プロピル基又はイソプ關ビル基を表わすものと解さ
れる。
式1で表わされる化合物は次式:
〔式中、R,、R2及びR3は互いに独立して水素原子
、メチル基、−CHO基、−COCI−13基、−CO
CH20CH3基、−Co(?l−12NH2基又はシ
リル保護基を弄わし、そして1−t4とR5は水素原子
、〕・ロゲン原子又は−COO(炭素原子数1ないし3
〕アルキル基を表わす〕。
、メチル基、−CHO基、−COCI−13基、−CO
CH20CH3基、−Co(?l−12NH2基又はシ
リル保護基を弄わし、そして1−t4とR5は水素原子
、〕・ロゲン原子又は−COO(炭素原子数1ないし3
〕アルキル基を表わす〕。
シリル基は、例えば水酸基に対するシリル保護基として
天然生成物合成において通常使用される基を意味するも
のと解さ九る。記載し得る例としてはトリメチルシリル
基、ジフェニル第三ブチルシリル基、ビス(イノプロピ
ル)メチルシリル基、トリフェニルシリル基等及び、特
で表わされる新規な天然大環状化合物である1ノラフエ
ン(5oraphen ) A ’ トして知うレル基
本構造から誘導される。
天然生成物合成において通常使用される基を意味するも
のと解さ九る。記載し得る例としてはトリメチルシリル
基、ジフェニル第三ブチルシリル基、ビス(イノプロピ
ル)メチルシリル基、トリフェニルシリル基等及び、特
で表わされる新規な天然大環状化合物である1ノラフエ
ン(5oraphen ) A ’ トして知うレル基
本構造から誘導される。
その物理化学的データに基づいて、前記試料は下記の構
造を有していると予想される:ソラ7エンAはソランジ
ウム(ポリアンジウム) セ/I/ Oスム(Sora
ngium(Polyangium )ceilulo
sum )菌株’So ce 26”を培養することに
より微生物学的方法で得られる。この菌株は1987年
3月5日に大プリテン島、アバーディーン(Aberd
een ) Kあるトリー研究ステージ= ン(Tor
ry Re5earch 5tation )のM国立
工業海洋細菌貯蔵所(Naticnal Co11ec
tion of In −dustrial and
Marine Bacteria :NCIB)’に
、ブタベスト条約の規定に従って、寄託番号NCIB
12411で寄託された。ソランジウムセルロスムはボ
リア/ジウム科(Polyangiaceae)、ソラ
ンジウム亜目(5ub−order 8orangi−
neae )、粘液菌目(Myxobacterale
s )に属する。
造を有していると予想される:ソラ7エンAはソランジ
ウム(ポリアンジウム) セ/I/ Oスム(Sora
ngium(Polyangium )ceilulo
sum )菌株’So ce 26”を培養することに
より微生物学的方法で得られる。この菌株は1987年
3月5日に大プリテン島、アバーディーン(Aberd
een ) Kあるトリー研究ステージ= ン(Tor
ry Re5earch 5tation )のM国立
工業海洋細菌貯蔵所(Naticnal Co11ec
tion of In −dustrial and
Marine Bacteria :NCIB)’に
、ブタベスト条約の規定に従って、寄託番号NCIB
12411で寄託された。ソランジウムセルロスムはボ
リア/ジウム科(Polyangiaceae)、ソラ
ンジウム亜目(5ub−order 8orangi−
neae )、粘液菌目(Myxobacterale
s )に属する。
”So ce 26”それ自体、又は突然変異種(mu
tants )又は組換型(rccombinants
)は、ヨーロッパ特許願BP−A−0282455号
の目的物である。この菌株は慣用の微生物学的方法、例
えば10−35℃でpH6−8を有する栄養培地を使用
した攪拌培養機(agitated cultures
)中で又は醪酵装置(fermenters )中で
培養することができる。操作は好気的である。前記微生
物を培養するための条件は、EP−A−0282455
号参照として本文中に記載されている。
tants )又は組換型(rccombinants
)は、ヨーロッパ特許願BP−A−0282455号
の目的物である。この菌株は慣用の微生物学的方法、例
えば10−35℃でpH6−8を有する栄養培地を使用
した攪拌培養機(agitated cultures
)中で又は醪酵装置(fermenters )中で
培養することができる。操作は好気的である。前記微生
物を培養するための条件は、EP−A−0282455
号参照として本文中に記載されている。
ソラ7エンAから式1で表わされる化合物を製造するた
めの本発明の方法は、所望により且つ順序にかかわらず
、 a)9.10−位に対するカルベン付加、二酸化セレン
酸化、四酸化オスミウム酸化又はエポキシ化、所望によ
り更に形成されたエポキシドの開環、及び/又は、所望
により、 b) 3−OH基のメチル化、及び/又は、所望によ
り、 c)s−OH基の及び/又は、8−99−又は10−位
に新たに形成されたOH基のホルミル化、アセチル化、
メトキシアセチル化、アミノアセチル化、メチル化、ベ
ンジル化又はシリル化、を特徴とする。
めの本発明の方法は、所望により且つ順序にかかわらず
、 a)9.10−位に対するカルベン付加、二酸化セレン
酸化、四酸化オスミウム酸化又はエポキシ化、所望によ
り更に形成されたエポキシドの開環、及び/又は、所望
により、 b) 3−OH基のメチル化、及び/又は、所望によ
り、 c)s−OH基の及び/又は、8−99−又は10−位
に新たに形成されたOH基のホルミル化、アセチル化、
メトキシアセチル化、アミノアセチル化、メチル化、ベ
ンジル化又はシリル化、を特徴とする。
反応工程の選択は行うべき反応に依存する。
式1中の9,10−二重結合を定義a)に基づいて9,
10−エポキシドに変換すべき場合には、これは−30
℃ないし+100℃、好ましくは一10℃ないし+30
℃、及び好適には0℃ないし10℃でH2O2又は過酸
例えばm−クロロ過安息香酸若しくは過酢酸を使用して
、不活性溶媒例えばジクロロメタン、トルエン、ベンゼ
ン等中で、塩基例えばNaHCO3、Na2HPO4等
の存在又は不存在下で、ソラフェンA又は5−位が保護
された(3−位が保護さ九たものでもよい)ソラフェン
A誘導体の酸化により達成することができる。
10−エポキシドに変換すべき場合には、これは−30
℃ないし+100℃、好ましくは一10℃ないし+30
℃、及び好適には0℃ないし10℃でH2O2又は過酸
例えばm−クロロ過安息香酸若しくは過酢酸を使用して
、不活性溶媒例えばジクロロメタン、トルエン、ベンゼ
ン等中で、塩基例えばNaHCO3、Na2HPO4等
の存在又は不存在下で、ソラフェンA又は5−位が保護
された(3−位が保護さ九たものでもよい)ソラフェン
A誘導体の酸化により達成することができる。
この酸化は、第三ブチルヒドロパーオキシドを使用して
触媒、例えばバナジル(IV)アセチルアセトネートか
ら出発するバナジウム(V)錯体又は例えばモリブデン
ヘキサカルボニルかう出発するMo(■)錯体などの存
在下で、不活性溶媒例えば乾燥炭化水素(例えばベンゼ
ン、トルエン又はキシレン)中でも行うことができる。
触媒、例えばバナジル(IV)アセチルアセトネートか
ら出発するバナジウム(V)錯体又は例えばモリブデン
ヘキサカルボニルかう出発するMo(■)錯体などの存
在下で、不活性溶媒例えば乾燥炭化水素(例えばベンゼ
ン、トルエン又はキシレン)中でも行うことができる。
9.10−エポキシドをb)型の9,10−ジオールに
変換すべき場合には、エポキシドは穏やかなルイス酸例
えばZnC12,ZnBr2又はTiCl4を使用して
、水の存在下で開環することができる。
変換すべき場合には、エポキシドは穏やかなルイス酸例
えばZnC12,ZnBr2又はTiCl4を使用して
、水の存在下で開環することができる。
9.10−ジオールは部会長くは0℃ないし100℃、
好ましくは室温で四酸化オスミウムを用いる反応により
オレフィンから得ることができる。使用することができ
る溶媒の例はエーテル、テ+ラヒドロフラン、アセトン
等であシ、所望によジピリジンを添加する。
好ましくは室温で四酸化オスミウムを用いる反応により
オレフィンから得ることができる。使用することができ
る溶媒の例はエーテル、テ+ラヒドロフラン、アセトン
等であシ、所望によジピリジンを添加する。
8−位に酸素官能性基を含むC)型の化合物を製造すべ
き場合には、′ソラフエンA”の9゜10−二重結合は
溶媒例えば酢酸、無水酢酸、ジオキサン又はアルコール
中で、所望により水を添加して、0℃ないし100℃で
、二酸化セレンを使用して醇化することができる。
き場合には、′ソラフエンA”の9゜10−二重結合は
溶媒例えば酢酸、無水酢酸、ジオキサン又はアルコール
中で、所望により水を添加して、0℃ないし100℃で
、二酸化セレンを使用して醇化することができる。
d)の下の定義中に記載したシクロプロパン誘導体は、
適するオレフィンをカルベンと反応させることにより得
ることができる。(ホウベンーヴエイル(Houben
−Weyl、 ”有機化学の方法(Methoden
der organischen Chemie )
’ 、第413巻、第98頁)。
適するオレフィンをカルベンと反応させることにより得
ることができる。(ホウベンーヴエイル(Houben
−Weyl、 ”有機化学の方法(Methoden
der organischen Chemie )
’ 、第413巻、第98頁)。
カルベンは例えばジアゾメタンから出発し、それを熱分
解的に、光分解的に又は接触反応的に(例えば銅、硫酸
@ (II)、塩化銅(1)、塩化白金(IV)又は沃
化亜鉛の存在下で:+(H2ct)に変換する文献記載
の方法により製造することができる。カルベンはシモン
ースミス(8irr+mon −8m1th)の方法(
(H2C1)を形成するために工法化メチレンを亜鉛/
銅対と反応させる)によっても製造することができる。
解的に、光分解的に又は接触反応的に(例えば銅、硫酸
@ (II)、塩化銅(1)、塩化白金(IV)又は沃
化亜鉛の存在下で:+(H2ct)に変換する文献記載
の方法により製造することができる。カルベンはシモン
ースミス(8irr+mon −8m1th)の方法(
(H2C1)を形成するために工法化メチレンを亜鉛/
銅対と反応させる)によっても製造することができる。
ハロカルベン(R4と几5=)10ゲン[子)H1塩基
を用いて処理することにより好適に置換されたメタン誘
導体から製造することができる。
を用いて処理することにより好適に置換されたメタン誘
導体から製造することができる。
適するカルベン生成剤の例はクロロホルム、ブロモホル
ム及びジクロロメタンである。塩基性成分の例はKOH
、アルカリ金属アルコレート例えばに第三ブチレート又
はアルキルリチウム例えばn−ブチルリチウムである。
ム及びジクロロメタンである。塩基性成分の例はKOH
、アルカリ金属アルコレート例えばに第三ブチレート又
はアルキルリチウム例えばn−ブチルリチウムである。
ハロカルベンは50℃ないし300℃に加温することに
よシ適するパーハロゲン化酢醜塩から製造することもで
きる。
よシ適するパーハロゲン化酢醜塩から製造することもで
きる。
アルコキシカルボニルカルベン(R4トR5=C0Oア
ルキル基)は、接触分解により適するジアゾ酢酸エステ
ルから得ることができる。用いることができる触媒の例
は金屈銅又は銅塩例えばCuSO4、又はロジウム塩例
えば酢酸ロジウム<n)である。それらの場合の総てに
おいて、使用する溶媒は単独又は不活性溶媒例えばエー
テル(ジエチルエーテル、ジグリム、ジオキサン又はテ
トラヒドロフラン)又は炭化水素(例えば石油エーテル
)と混合したカルベン生成剤であってよい。
ルキル基)は、接触分解により適するジアゾ酢酸エステ
ルから得ることができる。用いることができる触媒の例
は金屈銅又は銅塩例えばCuSO4、又はロジウム塩例
えば酢酸ロジウム<n)である。それらの場合の総てに
おいて、使用する溶媒は単独又は不活性溶媒例えばエー
テル(ジエチルエーテル、ジグリム、ジオキサン又はテ
トラヒドロフラン)又は炭化水素(例えば石油エーテル
)と混合したカルベン生成剤であってよい。
使用する適するカルベンを得るだめの反応温度は、−5
0℃と+300℃との間である。
0℃と+300℃との間である。
1ソラ7エンA1中に既に存在している水酸基のメチル
化は、室温で塩基例えばKOHを添加してジメチルスル
ホキシド中で沃化メチルを使用して都合良く行うことが
できる。ベンジル化は都合良くは臭化ベンジルを使用し
て行う。
化は、室温で塩基例えばKOHを添加してジメチルスル
ホキシド中で沃化メチルを使用して都合良く行うことが
できる。ベンジル化は都合良くは臭化ベンジルを使用し
て行う。
適するカルボン酸を使用するか又は適するノ・ロゲン化
アシル若しくはアシル無水物を使用するOH基の慣用の
アシル化或いは次式:〔これは遊離結合上にアルキル基
、フェニル基又はベンジル基を有していてよい〕で表わ
される適する置換シラン誘導体を使用するOH基の反応
によるシリル化により、前記において定義した総てのホ
ルミル、アセチル又はシリル誘導体が得られる(用語ハ
ロゲン化アシルは塩化アシル又は臭化アシルを意味し、
そしてXはシリル残基を意味する)。シリル残基Xは、
例えば臭素原子、塩素原子及びトリフルオロメタンスル
フヱートを含む。
アシル若しくはアシル無水物を使用するOH基の慣用の
アシル化或いは次式:〔これは遊離結合上にアルキル基
、フェニル基又はベンジル基を有していてよい〕で表わ
される適する置換シラン誘導体を使用するOH基の反応
によるシリル化により、前記において定義した総てのホ
ルミル、アセチル又はシリル誘導体が得られる(用語ハ
ロゲン化アシルは塩化アシル又は臭化アシルを意味し、
そしてXはシリル残基を意味する)。シリル残基Xは、
例えば臭素原子、塩素原子及びトリフルオロメタンスル
フヱートを含む。
0−アシル化及びO−シリル化は、無水溶媒中で例えば
不溶性溶媒中で及び特に好1しくに中性溶媒中で行う。
不溶性溶媒中で及び特に好1しくに中性溶媒中で行う。
この反応は都合良<UO℃ないし80℃、好オし、くけ
10℃ないし50℃の温度範囲内で進行する。好捷しく
に有機塩基を加える。記載し得る例は第三アミン例えば
トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、トリアゾー
ル及び好ましくはピリジン、ジイソプロピルアミン、4
−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、又は1.8
−ジアゾシクロ〔540〕ウンデセ−7−エン(DBU
)である。
10℃ないし50℃の温度範囲内で進行する。好捷しく
に有機塩基を加える。記載し得る例は第三アミン例えば
トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、トリアゾー
ル及び好ましくはピリジン、ジイソプロピルアミン、4
−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、又は1.8
−ジアゾシクロ〔540〕ウンデセ−7−エン(DBU
)である。
適する溶媒の例は:エーテル及びエーテル様化合物例え
ばジアルキルエーテル(ジエチルエーテル、ジインプロ
ピルエーテル、第三ブチルメチルエーテル、ジメトキシ
エタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール
1. 等) :ハロゲン化炭化水素例えばクロロベンゼ
ン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、四塩化エチレン、等;ジメチルホルムアミド(
=DMF )又はスルホキシド例えばジメチルスルホキ
シド、であり、更に芳香族又は脂肪族炭化水濡例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、リフロイ
ン、シクロヘキサン、等が存在していてもよい。いくつ
かの場合には、この反応は保護ガス雰囲気(例えばアル
ゴン、ヘリウム、窒素、等)下及び/又は無水溶媒中で
行うのが都合が良いであろう。
ばジアルキルエーテル(ジエチルエーテル、ジインプロ
ピルエーテル、第三ブチルメチルエーテル、ジメトキシ
エタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール
1. 等) :ハロゲン化炭化水素例えばクロロベンゼ
ン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、四塩化エチレン、等;ジメチルホルムアミド(
=DMF )又はスルホキシド例えばジメチルスルホキ
シド、であり、更に芳香族又は脂肪族炭化水濡例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、リフロイ
ン、シクロヘキサン、等が存在していてもよい。いくつ
かの場合には、この反応は保護ガス雰囲気(例えばアル
ゴン、ヘリウム、窒素、等)下及び/又は無水溶媒中で
行うのが都合が良いであろう。
アシル化のために酸ハロゲン化物又は酸無水物を用いる
場合には、中和剤の添加を行うのが都合が良い。第三ア
ミン例えばトリアルキルアミン、ピリジン又はピリジン
塩基例えば4−ジメチルアミノピリジンは都合の良い反
応試薬である。
場合には、中和剤の添加を行うのが都合が良い。第三ア
ミン例えばトリアルキルアミン、ピリジン又はピリジン
塩基例えば4−ジメチルアミノピリジンは都合の良い反
応試薬である。
干渉性官能基例えばOH基が分子中又は反応物中に存在
する場合には、それらはアセチル化又は他の保護基例え
ば更にシリル基の導入により上記の如く予めマスクする
ことができる〔ティー、タブり二一、グリ−y (、’
r、 w、 Green )1有機合成における保護基
(Protective Grou −ps in O
rganic 5ynthesis ) ”、ジエイ、
ウィリアントサンズ(J 、 Wi ley & 5o
ns ) 1981にューヨーク)〕。
する場合には、それらはアセチル化又は他の保護基例え
ば更にシリル基の導入により上記の如く予めマスクする
ことができる〔ティー、タブり二一、グリ−y (、’
r、 w、 Green )1有機合成における保護基
(Protective Grou −ps in O
rganic 5ynthesis ) ”、ジエイ、
ウィリアントサンズ(J 、 Wi ley & 5o
ns ) 1981にューヨーク)〕。
所望により、保護基例えばアシル基は穏やかな加水分解
(一般的に例えばNH3/メタノールを使用する)によ
シ除くことができる。この副工程における適する溶媒は
、特に中性の代表的なもの例えばジクロロメタン、アセ
トニトリル、ベンゼン、トルエン、ニトロメタン、ジオ
キサン、THF及びエチレングリコールジメチルエーテ
ルである;ジエチルエーテルが特に適している。
(一般的に例えばNH3/メタノールを使用する)によ
シ除くことができる。この副工程における適する溶媒は
、特に中性の代表的なもの例えばジクロロメタン、アセ
トニトリル、ベンゼン、トルエン、ニトロメタン、ジオ
キサン、THF及びエチレングリコールジメチルエーテ
ルである;ジエチルエーテルが特に適している。
シリル基は酸又は弗素イオン、好ましくはアセトニトリ
ル中の弗化水素酸又はテトラヒドロフラン(=T)(F
)中の弗化テトラブチルアンモニウムを用いる処理に
より除くことができる。
ル中の弗化水素酸又はテトラヒドロフラン(=T)(F
)中の弗化テトラブチルアンモニウムを用いる処理に
より除くことができる。
上記方法総てのリストは限定的なものではない。所望に
よシ、最終生成物は慣用の方法例えば洗浄、温浸、抽出
、再結晶、クロマトグラフィ、等によ#)m製すること
ができる。
よシ、最終生成物は慣用の方法例えば洗浄、温浸、抽出
、再結晶、クロマトグラフィ、等によ#)m製すること
ができる。
記載した製造方法は、総ての可能な立体異性体の形態で
式■で表わされる化合物を得るための総ての副工程を含
み、本発明の一部を成す。
式■で表わされる化合物を得るための総ての副工程を含
み、本発明の一部を成す。
本発明は特に、式中、Yが水素原子、−CHO基、−C
OCH3基、ベンジル基、メチル基又はシリル保護基を
表わし、そしてitl、 R2及びR3が互いに独立し
て水素原子、メチル基、−CHO基、−〇OCR,基又
はシリル保護基を表わし、そしてX、 R4及び几5が
上記において定義されたものと同じ意味を表わす式Iで
表わさnる化合物(副群■a)に関するものである。
OCH3基、ベンジル基、メチル基又はシリル保護基を
表わし、そしてitl、 R2及びR3が互いに独立し
て水素原子、メチル基、−CHO基、−〇OCR,基又
はシリル保護基を表わし、そしてX、 R4及び几5が
上記において定義されたものと同じ意味を表わす式Iで
表わさnる化合物(副群■a)に関するものである。
式Iで表わされる範囲内の別の重要な化合物の群は、式
中、A−B−Cが次式: 〔式中、R,と几2は互いに独立して水素原子、メチル
基、−CHO基、−COCH3基、−COCH,CH。
中、A−B−Cが次式: 〔式中、R,と几2は互いに独立して水素原子、メチル
基、−CHO基、−COCH3基、−COCH,CH。
基、−COCH3基H,基を表わし、セしてXとYは上
記において定餓されたものと同じ意味を表わす化合物(
副群Ib)である。この群中で、式中、Xが水素原子を
表わす化合物(副群1bb)が好ましい。
記において定餓されたものと同じ意味を表わす化合物(
副群Ib)である。この群中で、式中、Xが水素原子を
表わす化合物(副群1bb)が好ましい。
更に、式中、A−B−Cが次式:
〔式中、Xは水素原子を表わし、そしてY。
几1及びR2は互いに独立して水素原子、メチル基、−
CIO基、−COCH3基又はシリル保護基を表わす〕
のいずれかを表わす式Iで表わされる化合物(、111
群IC)が重要である。
CIO基、−COCH3基又はシリル保護基を表わす〕
のいずれかを表わす式Iで表わされる化合物(、111
群IC)が重要である。
副群■Cの範囲内において、式中、Yが水素原子、メチ
ル基、−〇HO基、−COCH3基又はシリル保護基を
表わし、そしてR1とR2が同一であり且つ水素原子、
メチル基又はホルミル基を表わす化合物(副群Icc
)が好ましい。
ル基、−〇HO基、−COCH3基又はシリル保護基を
表わし、そしてR1とR2が同一であり且つ水素原子、
メチル基又はホルミル基を表わす化合物(副群Icc
)が好ましい。
好ましい個々の化合物としては、下記のものを記載すべ
きである: 9.10−エボキシーソラフェンA1 9.10−ジヒドロキシ−ソラフェンA15,9.10
−)リホルミルーソラフエン人15.9.10−トリア
セチルーツラフエンA19.10−エボキシーソラ7エ
ンA 5−アセテート、 9.10−ビス(メトキシアセトキシ)−ソラフエンA
5−メトキシアセテート、及び9.10−ビス(アミ
ノアセトキシ)−ノラフエンA 5−アミノアセテート
。
きである: 9.10−エボキシーソラフェンA1 9.10−ジヒドロキシ−ソラフェンA15,9.10
−)リホルミルーソラフエン人15.9.10−トリア
セチルーツラフエンA19.10−エボキシーソラ7エ
ンA 5−アセテート、 9.10−ビス(メトキシアセトキシ)−ソラフエンA
5−メトキシアセテート、及び9.10−ビス(アミ
ノアセトキシ)−ノラフエンA 5−アミノアセテート
。
式!で表わされる大環状ソラフエンは通常示されたヘミ
アセクール形態で存在するが、しかしこの形態は下記式
に基づいて可逆的開環をすることができる。
アセクール形態で存在するが、しかしこの形態は下記式
に基づいて可逆的開環をすることができる。
製造方法又は処理方法、並びにpH及び溶媒に応じて、
ソラフェンは一つ又は他の形態又は二つの形態の混合物
として製造される。3−位の CNMRシグナルの及び
特定の他の位置の’HNMRシグナルの移動は、開環の
特徴である。
ソラフェンは一つ又は他の形態又は二つの形態の混合物
として製造される。3−位の CNMRシグナルの及び
特定の他の位置の’HNMRシグナルの移動は、開環の
特徴である。
ソラフエン人においては、例えば、下記の変化が観察さ
れた:13CNMR(CDCl2. ppmでのδ)9
9.5−+2(11(3−C)。’HNMR(CDC1
3、ppmでのδ)?3.14→3.72(2−H):
3.18→4.5(4−H);3.83→3.16(7
−H);5.86→5.7 (17−H)。
れた:13CNMR(CDCl2. ppmでのδ)9
9.5−+2(11(3−C)。’HNMR(CDC1
3、ppmでのδ)?3.14→3.72(2−H):
3.18→4.5(4−H);3.83→3.16(7
−H);5.86→5.7 (17−H)。
同様の移動は本文中に記載した式Iで表わされるソラ7
エン誘導体においても観察される。本発明の式■は、低
pH値において好ましい3−へミアセタール形態及び更
に開環した3−ケト−7−ヒドロキシル形態の両方を常
に含む。
エン誘導体においても観察される。本発明の式■は、低
pH値において好ましい3−へミアセタール形態及び更
に開環した3−ケト−7−ヒドロキシル形態の両方を常
に含む。
式Iで表わされる化合物が実用上植物病原性菌類特に真
菌に対して非常に有益な殺菌性スペクトルを有すること
が発見された。それらは非常に有利な油動性、浸透性及
び、特に予防性を有し、種々の栽培植物を保護するため
に使用できる。式Iで表わされる有効物質を使用して、
種々の有益な作物の植物体又は植物体の一部分(果実、
花、葉、茎、塊茎、根)に発生する微生物を抑制又は撲
滅することができ、更ド植物の後に成長する部分も又植
物病原性菌類の攻撃から保護される。
菌に対して非常に有益な殺菌性スペクトルを有すること
が発見された。それらは非常に有利な油動性、浸透性及
び、特に予防性を有し、種々の栽培植物を保護するため
に使用できる。式Iで表わされる有効物質を使用して、
種々の有益な作物の植物体又は植物体の一部分(果実、
花、葉、茎、塊茎、根)に発生する微生物を抑制又は撲
滅することができ、更ド植物の後に成長する部分も又植
物病原性菌類の攻撃から保護される。
殺微生物剤として、式lで表わされる化合物は以下の屑
に属する植物病原性菌類に対して有効である:不完全菌
類〔例えば、特にハイイロカビ(Botrytis )
、更にビリキーラリア(Pyri−cularia )
、ヘルミントスボリウム(Helmint −hosp
orium ) 、フーザリウム(Fusarium
) 、セブトリア(8eptoria )、セルコスポ
ラ(Cercos−pora )及び不完全真菌(Al
ternaria ) ”J ;担子菌類〔例えばリ
ゾクトニア(Rh1zocotonia )、ヘミレイ
7 (Hem1 le ia )、プシニ7 (Puc
cini −a))。それらは又嚢子菌類〔例えば特に
ベンチュリ7 (Venturia )及びエリ’/
7 工(Erysip−he)、更にポドス77 :1
う(Podosphaera )、モニリニ7 (Mo
nilinia ) 及びウンシヌラ(Uncinul
a ) )、及び卵菌類〔例えばフィトフトラ(Phy
tophthora )、プラスモパラ(plasmo
−para ) )に対しても有効である。式Iで表わ
される化合物は更に菌類の感染、並びは土壌中に発生す
る植物病原性微生物から保護するために種子〔果実、塊
茎、種子(grain ) )及び挿木を処理するため
の種子ドレッシング剤として用いることができる。
に属する植物病原性菌類に対して有効である:不完全菌
類〔例えば、特にハイイロカビ(Botrytis )
、更にビリキーラリア(Pyri−cularia )
、ヘルミントスボリウム(Helmint −hosp
orium ) 、フーザリウム(Fusarium
) 、セブトリア(8eptoria )、セルコスポ
ラ(Cercos−pora )及び不完全真菌(Al
ternaria ) ”J ;担子菌類〔例えばリ
ゾクトニア(Rh1zocotonia )、ヘミレイ
7 (Hem1 le ia )、プシニ7 (Puc
cini −a))。それらは又嚢子菌類〔例えば特に
ベンチュリ7 (Venturia )及びエリ’/
7 工(Erysip−he)、更にポドス77 :1
う(Podosphaera )、モニリニ7 (Mo
nilinia ) 及びウンシヌラ(Uncinul
a ) )、及び卵菌類〔例えばフィトフトラ(Phy
tophthora )、プラスモパラ(plasmo
−para ) )に対しても有効である。式Iで表わ
される化合物は更に菌類の感染、並びは土壌中に発生す
る植物病原性微生物から保護するために種子〔果実、塊
茎、種子(grain ) )及び挿木を処理するため
の種子ドレッシング剤として用いることができる。
本発明は有効成分として可能な立体異性体形態のうちの
一つとして式Iで表わされる化合物を含む薬剤、特に植
物保護剤、並びに農業分で又は関連分野におけるその使
用方法にも関するものである。
一つとして式Iで表わされる化合物を含む薬剤、特に植
物保護剤、並びに農業分で又は関連分野におけるその使
用方法にも関するものである。
本発明は式Iで表わされる新規化合物又は相当する新規
薬剤の使用を%徴とする植物の処理方法にも関するもの
である。
薬剤の使用を%徴とする植物の処理方法にも関するもの
である。
本発明の範囲内で、本文中に開示された植物保護使用の
ための目標作物の例は下記の植物種である:穀物(小麦
、大麦、ライ麦、オート麦、稲、トウモロコシ、モロコ
シ及び関連作物)、ビート〔砂糖大根及び家畜ビート(
fodder be−et ) ) 、梨果、石朱及び
軟性’J4(’)ンゴ、西洋なし、プラム、もも、アー
モンド、さくらんぼ、オランタイチコ、う、+、 ヘリ
−(rasberries )及びくろいちご)、豆科
植物(そら豆、レンズ豆、えんどう、大豆)、油植物(
アブラナ、カラン、ケシ、オリーブ、ひまわり、ココや
しの実、ヒマシ油植物、ココア豆、落花生)、キュウリ
科植物(キュウリ、かぼちゃ、メロン)、繊維植物(綿
花、亜麻、麻、黄麻)、橙属果実(オレンジ、メロン、
グレープフルーツ、支那蜜柑)、種々の野菜(はうnん
そう、レタス、アスパラガス、キャベツ、にんじん、玉
ねぎ、トマト、じゃがいも、パプリカ)、クスノキ科(
アボガド、桂皮、樟脳)又はたばこ、堅来、シ1琲、パ
イナツプル、蔗糖、茶、ぶどうの木、ポツプ、バナナ及
び天然ゴムを得る植物、並びに*1i植物(混合物)。
ための目標作物の例は下記の植物種である:穀物(小麦
、大麦、ライ麦、オート麦、稲、トウモロコシ、モロコ
シ及び関連作物)、ビート〔砂糖大根及び家畜ビート(
fodder be−et ) ) 、梨果、石朱及び
軟性’J4(’)ンゴ、西洋なし、プラム、もも、アー
モンド、さくらんぼ、オランタイチコ、う、+、 ヘリ
−(rasberries )及びくろいちご)、豆科
植物(そら豆、レンズ豆、えんどう、大豆)、油植物(
アブラナ、カラン、ケシ、オリーブ、ひまわり、ココや
しの実、ヒマシ油植物、ココア豆、落花生)、キュウリ
科植物(キュウリ、かぼちゃ、メロン)、繊維植物(綿
花、亜麻、麻、黄麻)、橙属果実(オレンジ、メロン、
グレープフルーツ、支那蜜柑)、種々の野菜(はうnん
そう、レタス、アスパラガス、キャベツ、にんじん、玉
ねぎ、トマト、じゃがいも、パプリカ)、クスノキ科(
アボガド、桂皮、樟脳)又はたばこ、堅来、シ1琲、パ
イナツプル、蔗糖、茶、ぶどうの木、ポツプ、バナナ及
び天然ゴムを得る植物、並びに*1i植物(混合物)。
この列挙は何頭なる限定も示すものではない。
式Iで表わされる有効物質は、通常組成物の形態で使用
され、そして処理すべき栽培地又は植物に他の有効物質
とともに同時に又は綬けて施用することができる。前記
他の有効物質は、肥料、微量栄養素供給体又は植物の成
長に影響を与える他の配合剤であってもよい。このよう
な関係においては、選択的除草剤並びに殺虫剤、殺菌剤
、殺バクテリア剤、線虫撲滅剤、殺軟体動物剤(mol
Iusicides )又はこれらの配合剤の複数の
混合物を、所望により配合技術において慣用の別の担体
、界面活性剤又は施用を助ける他の添加剤とともに使用
することもできる。
され、そして処理すべき栽培地又は植物に他の有効物質
とともに同時に又は綬けて施用することができる。前記
他の有効物質は、肥料、微量栄養素供給体又は植物の成
長に影響を与える他の配合剤であってもよい。このよう
な関係においては、選択的除草剤並びに殺虫剤、殺菌剤
、殺バクテリア剤、線虫撲滅剤、殺軟体動物剤(mol
Iusicides )又はこれらの配合剤の複数の
混合物を、所望により配合技術において慣用の別の担体
、界面活性剤又は施用を助ける他の添加剤とともに使用
することもできる。
適する担体及び添加剤は固体又は液体であってもよく、
そして配合技術において都合良く使用される物質例えば
天然又は再生鉱物質、溶媒、分散剤、湿潤剤、粘着剤、
結合剤又は肥料に相当する。
そして配合技術において都合良く使用される物質例えば
天然又は再生鉱物質、溶媒、分散剤、湿潤剤、粘着剤、
結合剤又は肥料に相当する。
前記式1で表わされる有効物質又は前記の有効物質のう
ちの少なくとも一つを含んでいる農薬の施用の好ましい
方法は茎葉散布(葉散布)である。このような関係にお
いては、施用の頻度及び投与率は、特定の病原菌による
感染の危険率に依存する。しかしながら、式Iで表わさ
れる有効物質は、液体配合物を栽培地にしみこますこと
により、又は土壌に固体の形態で例えば粒剤の形態でそ
の物質を施用すること(土壌17f、布)により土壌を
経て根から植物に入ることもできる(浸透作用)。式■
で表わされる化合物は、有効物質の液体配合物中に種子
を浸漬することKよるか又は固体配合物を用いて種子を
被覆することにより種子に施用することもできる(被覆
)。
ちの少なくとも一つを含んでいる農薬の施用の好ましい
方法は茎葉散布(葉散布)である。このような関係にお
いては、施用の頻度及び投与率は、特定の病原菌による
感染の危険率に依存する。しかしながら、式Iで表わさ
れる有効物質は、液体配合物を栽培地にしみこますこと
により、又は土壌に固体の形態で例えば粒剤の形態でそ
の物質を施用すること(土壌17f、布)により土壌を
経て根から植物に入ることもできる(浸透作用)。式■
で表わされる化合物は、有効物質の液体配合物中に種子
を浸漬することKよるか又は固体配合物を用いて種子を
被覆することにより種子に施用することもできる(被覆
)。
このような関係において、式Iで表わされる化合物はそ
の1まの形居)で又は、好ましくは、配合技術で慣用の
助剤と一緒に用いる。この目的のために、それらは都合
良くは乳濁液濃厚物、被gペースト、直接噴霧又は希釈
水溶液、希釈乳濁液、水和剤、水溶性粉剤、粉剤、粒剤
を得るか又は例えばポリマー状物竹中にカプセル化する
ために公知方法により加工される。施用方法例えば噴霧
、霧化、粉散、散布、はけ塗り又は注水、並びに薬剤の
種類は、意図した用途及び周囲の項境に合わせて選ぶ。
の1まの形居)で又は、好ましくは、配合技術で慣用の
助剤と一緒に用いる。この目的のために、それらは都合
良くは乳濁液濃厚物、被gペースト、直接噴霧又は希釈
水溶液、希釈乳濁液、水和剤、水溶性粉剤、粉剤、粒剤
を得るか又は例えばポリマー状物竹中にカプセル化する
ために公知方法により加工される。施用方法例えば噴霧
、霧化、粉散、散布、はけ塗り又は注水、並びに薬剤の
種類は、意図した用途及び周囲の項境に合わせて選ぶ。
有利な施用率は一般的にヘクタール当シ有効物質(a、
s、 )10?ないし5002程度、好ましくは50
5’ないし200 f a、 s、 /ha程度である
。
s、 )10?ないし5002程度、好ましくは50
5’ないし200 f a、 s、 /ha程度である
。
配合物、例えば式Iで表わされる有効物質及び固体又は
液体添加剤全台む薬剤は、公知方法により製造される。
液体添加剤全台む薬剤は、公知方法により製造される。
可能な溶媒は:芳香族及び脂肪族炭化水素、例えばキシ
レン混合物、シクロヘキサン又はパラフィン;更にアル
コール及びグリコール並びにそれらのエーテル及びエス
テル、例えばエタノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル又はエチレングリコールモノエチルエーテル
、又は酢酸エステル;シクロヘキサノンのようなケトン
、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド
又はジメチルホルムアミドのような強極性溶媒並びにエ
ポキシ化ココナツツ油、ヒマワリ油又は大豆油のような
エポキシ化植物油;又は水である。
レン混合物、シクロヘキサン又はパラフィン;更にアル
コール及びグリコール並びにそれらのエーテル及びエス
テル、例えばエタノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル又はエチレングリコールモノエチルエーテル
、又は酢酸エステル;シクロヘキサノンのようなケトン
、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド
又はジメチルホルムアミドのような強極性溶媒並びにエ
ポキシ化ココナツツ油、ヒマワリ油又は大豆油のような
エポキシ化植物油;又は水である。
例えば粉剤及び分散剤のために一般的に使用する固体担
体は方解石、メルク、カオリン、モンモリロナイト又は
アタパルジャイトのような粉砕天然鉱物である。物理的
性質を改善するために、高分散珪酸又は高分散吸着性ポ
リマーを加えることも可能である。可能な吸着性で粒状
の細粒担体は多孔性型のもので例えば軽石、粉砕したレ
ンガ、海泡石又はベントナイトであシ、可能な非吸着担
体は例えば方解石又は砂のような材料である。更に、非
常に多くの無機の天然の予備粉砕した材料、例えば特に
ドロマイト、又は粉砕した植物残留物を使用することが
できる。
体は方解石、メルク、カオリン、モンモリロナイト又は
アタパルジャイトのような粉砕天然鉱物である。物理的
性質を改善するために、高分散珪酸又は高分散吸着性ポ
リマーを加えることも可能である。可能な吸着性で粒状
の細粒担体は多孔性型のもので例えば軽石、粉砕したレ
ンガ、海泡石又はベントナイトであシ、可能な非吸着担
体は例えば方解石又は砂のような材料である。更に、非
常に多くの無機の天然の予備粉砕した材料、例えば特に
ドロマイト、又は粉砕した植物残留物を使用することが
できる。
製剤化されるべき式Iで表わされる有効物質の種類によ
るが、適する表面活性化合物は良好な乳化、分散及び湿
潤性を有する非イオン性又は陽イオン活性及び/または
陰イオン活性界面活性剤である。界面活性剤は界面活性
剤の混合物を含むものとしても理解されたい。
るが、適する表面活性化合物は良好な乳化、分散及び湿
潤性を有する非イオン性又は陽イオン活性及び/または
陰イオン活性界面活性剤である。界面活性剤は界面活性
剤の混合物を含むものとしても理解されたい。
適する陰イオン性界面活性剤はいわゆる水溶柱石けん又
は水溶性の合成表面活性化合物のどちらでもよい。
は水溶性の合成表面活性化合物のどちらでもよい。
しかしながら、更にひんばんに、いわゆる合成界面活性
剤が使用され、特にアルカンスルホネート、脂肪族アル
コールスルフェート、スルホン化ベンズイミダゾール誘
導体又はアルキルスルホネートが使用される。
剤が使用され、特にアルカンスルホネート、脂肪族アル
コールスルフェート、スルホン化ベンズイミダゾール誘
導体又はアルキルスルホネートが使用される。
可能な非イオン性界面活性剤は脂肪族又は脂環式アルコ
ール、飽和又は不飽和脂肪酸及びアルキルフェノールの
ポリグリコールエーテル誘導体であり、その誘導体は3
ないし30個のグリコールエーテル基及び(脂肪族)炭
化水素部分に8ないし20個の炭素原子及びアルキルフ
ェノールのアルキル部分に6ないし18個の炭素原子を
含むことができる。
ール、飽和又は不飽和脂肪酸及びアルキルフェノールの
ポリグリコールエーテル誘導体であり、その誘導体は3
ないし30個のグリコールエーテル基及び(脂肪族)炭
化水素部分に8ないし20個の炭素原子及びアルキルフ
ェノールのアルキル部分に6ないし18個の炭素原子を
含むことができる。
記載し得る非イオン性界面活性剤の別の例はノニルフェ
ノールポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコー
ルエーテル、ポリプロピレン/ポリエチレンオキシド付
加物、トリブチルフェノキシポリエチレンエタノール、
ポリエチレングリコール及びオクチルフェノキシポリエ
トキシエタノールである。
ノールポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコー
ルエーテル、ポリプロピレン/ポリエチレンオキシド付
加物、トリブチルフェノキシポリエチレンエタノール、
ポリエチレングリコール及びオクチルフェノキシポリエ
トキシエタノールである。
更に別の好ましい物質はポリオキシエチレンソルビタン
の脂肪酸エステル、例えばポリオキシエチレンソルビク
ントリオレートである。
の脂肪酸エステル、例えばポリオキシエチレンソルビク
ントリオレートである。
製剤技術で使用されている別の界面活性剤は当技術分野
の専門家に知られているか又は専門文献中に見い出すこ
とができる。
の専門家に知られているか又は専門文献中に見い出すこ
とができる。
農業用組成物は通常、弐■で表わされる有効物質01な
いし95%、固体又は液体添加剤999ないし5%、及
び界面活性剤口ないし25%を含む。
いし95%、固体又は液体添加剤999ないし5%、及
び界面活性剤口ないし25%を含む。
一方明らかに濃厚物が市販製品として好ましく、消費者
は通常稀釈された薬剤を使用する。
は通常稀釈された薬剤を使用する。
薬剤は別の添加剤例えば安定剤、消泡剤、粘度調節剤、
結合剤、粘着付与剤並びに肥料又は特別な効果を得るた
めの他の有効物質を含んでもよい。
結合剤、粘着付与剤並びに肥料又は特別な効果を得るた
めの他の有効物質を含んでもよい。
下記実施例は如何なる限定も付することなく本発明を更
に詳細に説明するためのものである。
に詳細に説明するためのものである。
四酸化オスミウム100■及びピリジン2ゴをジエチル
エーテル10ゴ中のンラフエンA21■に攪拌しながら
加え、次いでこの混合物を室温で8日間放置する。上澄
み溶液をピペットによシ除き、次いで生成した沈殿物を
ジクロロメタン3−に溶かし、次いで注意深くヘキサン
を加えることによシ再沈殿させる。溶媒を除去した後、
沈殿物を乾燥する。
エーテル10ゴ中のンラフエンA21■に攪拌しながら
加え、次いでこの混合物を室温で8日間放置する。上澄
み溶液をピペットによシ除き、次いで生成した沈殿物を
ジクロロメタン3−に溶かし、次いで注意深くヘキサン
を加えることによシ再沈殿させる。溶媒を除去した後、
沈殿物を乾燥する。
水3011Ll!及びピリジン201中(7)NaH8
041,8fの溶液を沈殿物に加え、次いで混合物を室
温で25分間攪拌する。次いでこの溶液をジクロロメタ
ン各50尻1を用いて3回抽出する。
041,8fの溶液を沈殿物に加え、次いで混合物を室
温で25分間攪拌する。次いでこの溶液をジクロロメタ
ン各50尻1を用いて3回抽出する。
混合した有機相を飽和NaC1溶液3011tl!を用
いて一回洗浄し、Na2SO4−上で乾燥し、次いで蒸
発させる。残りの油状物を溶離剤として酢市エチル/ヘ
キサン(3:1)を使用してシリヵゲル上で精製する:
最終生成物5.1■。
いて一回洗浄し、Na2SO4−上で乾燥し、次いで蒸
発させる。残りの油状物を溶離剤として酢市エチル/ヘ
キサン(3:1)を使用してシリヵゲル上で精製する:
最終生成物5.1■。
Rf(ヘキサン/酢酸エテル−1:2):0.12M8
:M+=554 ’HNMR(重7セ):y ): 250 MH,z s、ssppm (t、J=7H2゜ )1−(’17) 13CNMR(重アセトンと 69.2 ;70.3 ニア5.9 ;74.7 ;7
5.2 ;77.1 ;81.7 ;84.1(8d)
; 101.1(s) 溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、次いで濾過し、次いで溶媒を除
く。クロマトグラフィーにより、5−第三ブチルジメチ
ルシリルーンラフエンAO,84?を得る。
:M+=554 ’HNMR(重7セ):y ): 250 MH,z s、ssppm (t、J=7H2゜ )1−(’17) 13CNMR(重アセトンと 69.2 ;70.3 ニア5.9 ;74.7 ;7
5.2 ;77.1 ;81.7 ;84.1(8d)
; 101.1(s) 溶液及び飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、次いで濾過し、次いで溶媒を除
く。クロマトグラフィーにより、5−第三ブチルジメチ
ルシリルーンラフエンAO,84?を得る。
この化合物1:1.51tを塩化メチレン51!lI!
に溶かし、次いでm−クロロ過安息香酸082グを加え
る。反応が完了した時、混合物を酢酸エチルを用いて稀
釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用いて洗浄し、次
いで硫醜す) IJウム上で乾燥し、次いで溶媒を除く
。クロマトグラフィーにより、生成物0341を得る。
に溶かし、次いでm−クロロ過安息香酸082グを加え
る。反応が完了した時、混合物を酢酸エチルを用いて稀
釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用いて洗浄し、次
いで硫醜す) IJウム上で乾燥し、次いで溶媒を除く
。クロマトグラフィーにより、生成物0341を得る。
の?!!造
イミダゾール112及び第三ブチルジメチルシリルクロ
リド162を室温でDMP 5 m、l中のソラフェン
A 1. O?に加える。この混合物を3日間攪拌し、
次いでジエチルエーテルに注ぎ、1N塩酸を用いて、次
いで飽和炭酢水TナトリウムTHF中の1N弗化テトラ
ブチルアンモニウム溶液I Kgを化合物A26.10
”%’に加え、次いでこの混合物を室温で20分間攪拌
する。混合物を酢酸エテルに溶かし、飽和塩化ナトリウ
ム溶液を用いて洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次
いで蒸発させる。クロマトグラフィーにより、9.10
−エボキシーンラフェンA2.7■を得る。
リド162を室温でDMP 5 m、l中のソラフェン
A 1. O?に加える。この混合物を3日間攪拌し、
次いでジエチルエーテルに注ぎ、1N塩酸を用いて、次
いで飽和炭酢水TナトリウムTHF中の1N弗化テトラ
ブチルアンモニウム溶液I Kgを化合物A26.10
”%’に加え、次いでこの混合物を室温で20分間攪拌
する。混合物を酢酸エテルに溶かし、飽和塩化ナトリウ
ム溶液を用いて洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次
いで蒸発させる。クロマトグラフィーにより、9.10
−エボキシーンラフェンA2.7■を得る。
乙5)の製造
化合物&26 、 1.111をベンゼン2ゴに溶かし
、次いで臭化亜鉛3.82を加える。この懸濁液を室温
で一晩攪拌し、」過し、次いで蒸発させる。クロマトグ
ラフィーによシ、化合物A35を得、これから9,10
−ジヒドロキシ−ソラフェン人(化合物iG 1に対し
てエピマーでtりJ、そして式中、二つのOH基は分子
平面の同一側に位置している)が、弗化物を使用する脱
シリル化により得らj、る。
、次いで臭化亜鉛3.82を加える。この懸濁液を室温
で一晩攪拌し、」過し、次いで蒸発させる。クロマトグ
ラフィーによシ、化合物A35を得、これから9,10
−ジヒドロキシ−ソラフェン人(化合物iG 1に対し
てエピマーでtりJ、そして式中、二つのOH基は分子
平面の同一側に位置している)が、弗化物を使用する脱
シリル化により得らj、る。
第1表
1(f(溶媒) IHNMR(重アセトン
)化合物& MS (FD ) 1 0.27(2) 5.85(H−1
7) 5.60(OI−1)5.06(OH,) 4.
24 7 03以1)5ろ7(M+)H) 6.02
(11−17) 5.76(OH)536(OH)4
.36(H−5) 4.08 (H−7) 9 066(1)579(M”+H) 5.88
(H−17ン 5.11 (OH)4.21 (H−7
) 17 0.30(2) 5.83(
H−17)5.17(OH)4.80 4.72 260.27(3) 651(M”+H) 6.0
2()(−17) 5.55(OH)4.45(H−
5)4.08(H−7)270.38(2J 551(
M”+H) 6.03(H−17) 5.10(
OH)3.90(H7) 280.45(2)668(M”)” 5.86(
H−17)5.34(OH)4.34 4.18 31 0.51(1) 720(M”)” 6.1
0(H−17) 5.40(HC)5.22(3−O
H)4.48(H−7)4.32(H−5) 350、/In(1668(M−26,1o(H−17
)5.50(OH)4.74(H−7)4.42(H−
5)4.12 (1)酢酸エテル/ヘキサン1:1 (2)酢酸エチル/ヘキサン3:1 (3) ジエチルエーテル/ヘキサン1:1傘=CI 下記表に示すソラフエンA誘導体は、同様の方法により
又は上記方法のうちの一つにより得ることができる。
)化合物& MS (FD ) 1 0.27(2) 5.85(H−1
7) 5.60(OI−1)5.06(OH,) 4.
24 7 03以1)5ろ7(M+)H) 6.02
(11−17) 5.76(OH)536(OH)4
.36(H−5) 4.08 (H−7) 9 066(1)579(M”+H) 5.88
(H−17ン 5.11 (OH)4.21 (H−7
) 17 0.30(2) 5.83(
H−17)5.17(OH)4.80 4.72 260.27(3) 651(M”+H) 6.0
2()(−17) 5.55(OH)4.45(H−
5)4.08(H−7)270.38(2J 551(
M”+H) 6.03(H−17) 5.10(
OH)3.90(H7) 280.45(2)668(M”)” 5.86(
H−17)5.34(OH)4.34 4.18 31 0.51(1) 720(M”)” 6.1
0(H−17) 5.40(HC)5.22(3−O
H)4.48(H−7)4.32(H−5) 350、/In(1668(M−26,1o(H−17
)5.50(OH)4.74(H−7)4.42(H−
5)4.12 (1)酢酸エテル/ヘキサン1:1 (2)酢酸エチル/ヘキサン3:1 (3) ジエチルエーテル/ヘキサン1:1傘=CI 下記表に示すソラフエンA誘導体は、同様の方法により
又は上記方法のうちの一つにより得ることができる。
第2表
第2表(続き)
第2表(続き)
第2表(絣き)
第2表(紗き)
第2表(Mき)
は、前記第2表の有効物質を示す〕
21乳濁液濃厚物 a) b) c)有効物
質 25% 40% 50%ドテシルベン
ゼンスルホン酸 カルシウム 5% 8%6% (エチレンオキシド30モル) 12%シクロへ
キサノン −15%キシレン混合物
65% 25%如何なる所望濃度の乳濁液もこのよ 物を水で稀釈することにより製造する きる。
質 25% 40% 50%ドテシルベン
ゼンスルホン酸 カルシウム 5% 8%6% (エチレンオキシド30モル) 12%シクロへ
キサノン −15%キシレン混合物
65% 25%如何なる所望濃度の乳濁液もこのよ 物を水で稀釈することにより製造する きる。
2.2水溶液 a) b)有効物質
80%10% エチレングリコールモノ エチルエーテル 20% N−メチル−2−ピロリドン −20%エポキシ化コ
コナツツ油 4% 20% 20% うな濃厚 ことがで c) d) 5% 95% 1% 5% 前記水溶液は微小液滴の形態による施用に適している。
80%10% エチレングリコールモノ エチルエーテル 20% N−メチル−2−ピロリドン −20%エポキシ化コ
コナツツ油 4% 20% 20% うな濃厚 ことがで c) d) 5% 95% 1% 5% 前記水溶液は微小液滴の形態による施用に適している。
2.3粒剤 a) b)有効物
質 5% 10%カオリン
94% 高分散珪酸 1% アタパルジャイト 90%有効物質は塩
化メチレンに溶かし、その溶液を担体に噴霧し、次いで
溶媒を真空中で蒸発させる。
質 5% 10%カオリン
94% 高分散珪酸 1% アタパルジャイト 90%有効物質は塩
化メチレンに溶かし、その溶液を担体に噴霧し、次いで
溶媒を真空中で蒸発させる。
2.4粉剤 a) b)有効物
質 2% 5%高分散珪酸
1% 5%メルク末 97% カオリン 9o%有効物質を
担体物質と十分に混合することによう、即使用可能な粉
剤を得る。三つの担体物質を更に添加して、有効物質0
001%を含むそのまま施用することができる粉剤を得
るために前記粉剤を粉砕してもよい。
質 2% 5%高分散珪酸
1% 5%メルク末 97% カオリン 9o%有効物質を
担体物質と十分に混合することによう、即使用可能な粉
剤を得る。三つの担体物質を更に添加して、有効物質0
001%を含むそのまま施用することができる粉剤を得
るために前記粉剤を粉砕してもよい。
2.5水和剤 a) b) c)
有効物質 25%50%75%リグノス
ルホン酸ナトリウム ラウリル硫酸ナトリウム 5% 3% 5% 5% ジイソブチルナフタレンスル ホン酸ナトリウム 6% 10% 2.7懸濁液濃厚物 有効物質 エチレングリコール 40% 10% 高分散珪醗 5% 10% 10% カオリン 62% 27% 有効物質は添加剤と十分に混合し、次いでそのミキサー
中で、ポリエチレングリコールで湿らせたカオリンを細
かく粉砕した有効物質で均一に被覆する。この方法によ
り、非粉末性被覆粒剤を得る。混合物を適当な粉砕機で
十分粉砕する。これにより水で稀釈して如何なる所望の
濃度の懸濁液も与えることができろ水和剤を得る。
有効物質 25%50%75%リグノス
ルホン酸ナトリウム ラウリル硫酸ナトリウム 5% 3% 5% 5% ジイソブチルナフタレンスル ホン酸ナトリウム 6% 10% 2.7懸濁液濃厚物 有効物質 エチレングリコール 40% 10% 高分散珪醗 5% 10% 10% カオリン 62% 27% 有効物質は添加剤と十分に混合し、次いでそのミキサー
中で、ポリエチレングリコールで湿らせたカオリンを細
かく粉砕した有効物質で均一に被覆する。この方法によ
り、非粉末性被覆粒剤を得る。混合物を適当な粉砕機で
十分粉砕する。これにより水で稀釈して如何なる所望の
濃度の懸濁液も与えることができろ水和剤を得る。
有効物質 6%ホリエチレング
リコール(MW200) 5 %カオリン 94 % リグノスルホン酸ナトリウム 10%カ
ルボキシメチルセルロース 1%37%
ホルムアルデヒド水溶液 0.2%75%
水性乳濁液の形態のシリコーン油 0.8%水
32%細か
く粉砕した有効物質を添加剤と十分に混合する。これに
より、水で稀釈することにょシ如何なる所望濃度の懸濁
液も製造することができる懸濁濃厚物を得る。
リコール(MW200) 5 %カオリン 94 % リグノスルホン酸ナトリウム 10%カ
ルボキシメチルセルロース 1%37%
ホルムアルデヒド水溶液 0.2%75%
水性乳濁液の形態のシリコーン油 0.8%水
32%細か
く粉砕した有効物質を添加剤と十分に混合する。これに
より、水で稀釈することにょシ如何なる所望濃度の懸濁
液も製造することができる懸濁濃厚物を得る。
(下記において“有効物質1は、特記しない限り第2表
の製造物を示す) 播種の6日後に、小麦植物に有効物質の水和剤から調製
した噴霧液(有効成分0.02%)を噴霧する。24時
間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸濁液を用いて感
染させる。相対湿度95−100%及び約20℃で48
時間培養した後、感染された植物を約22℃の温室内に
置く。さび病r1胞の発生は、感染後12日目に評価す
る。
の製造物を示す) 播種の6日後に、小麦植物に有効物質の水和剤から調製
した噴霧液(有効成分0.02%)を噴霧する。24時
間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸濁液を用いて感
染させる。相対湿度95−100%及び約20℃で48
時間培養した後、感染された植物を約22℃の温室内に
置く。さび病r1胞の発生は、感染後12日目に評価す
る。
b)浸透作用
播種の5日後に、有効物質の水和剤から調製した噴霧液
(土壌容積に対して有効成分0.006%)を小麦植物
に注ぐ。48時間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸
濁液を用いて感染させる。相対湿度95−1[10%及
び約20℃で48時間培養後、感染された植物を約22
℃の温室内に置く。さび病膿胞の発生は、感染後12日
目に評価する。
(土壌容積に対して有効成分0.006%)を小麦植物
に注ぐ。48時間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸
濁液を用いて感染させる。相対湿度95−1[10%及
び約20℃で48時間培養後、感染された植物を約22
℃の温室内に置く。さび病膿胞の発生は、感染後12日
目に評価する。
両試験において、菌の感染は式1で表わされる有効物質
により完全に抑制された。試験a)において、化合物点
1.2.7.56及び47は、0.007S%の濃度に
おいてさえも完全な抑制(0−5%)を示した。
により完全に抑制された。試験a)において、化合物点
1.2.7.56及び47は、0.007S%の濃度に
おいてさえも完全な抑制(0−5%)を示した。
反対に、未処理で感染された対照植物はブクシニアによ
る100%の感染を示した。
る100%の感染を示した。
3週間栽培した後、トマト植物に有効物質の水和剤から
調製した噴霧液(有効成分0.02%)を噴霧した。2
4時間後、処理した植物を真菌の胞子嚢の懸濁液を用い
て感染させた。感染された植物を相対湿度90−100
%及び20’Cで5日間培養した後、菌の感染を評価し
た。
調製した噴霧液(有効成分0.02%)を噴霧した。2
4時間後、処理した植物を真菌の胞子嚢の懸濁液を用い
て感染させた。感染された植物を相対湿度90−100
%及び20’Cで5日間培養した後、菌の感染を評価し
た。
3週間栽培した後、有効物質の水和剤から調製した噴霧
液(土壌容積に対して有効成分0.006%)をトマト
植物に注いだ。噴霧液が植物の土壌の上の部分に接触し
ないように注意した。
液(土壌容積に対して有効成分0.006%)をトマト
植物に注いだ。噴霧液が植物の土壌の上の部分に接触し
ないように注意した。
48時間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸濁液を用
いて感染させた。感染さ九た植物を相対湿度90−10
0%及び20℃で5日間培養した後、菌の感染を評価し
た。
いて感染させた。感染さ九た植物を相対湿度90−10
0%及び20℃で5日間培養した後、菌の感染を評価し
た。
両試験において、菌の感染は評価の間全く観察されなか
った。
った。
作用
4−5葉期のぶどうの木に、有効物質の水和剤から調製
した噴霧液(有効成分0. OO6%)を噴霧した。2
4時間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸濁液を用い
て感染させる。この植物を相対湿度95−100%及び
20℃で6日間培養した後、菌の感染を評価する。
した噴霧液(有効成分0. OO6%)を噴霧した。2
4時間後、処理した植物を真菌の夏胞子の懸濁液を用い
て感染させる。この植物を相対湿度95−100%及び
20℃で6日間培養した後、菌の感染を評価する。
菌の感染が100%であった未処理の感染された対照植
物とは反対に、式■で表わされる有効物質を用いて処理
した植物は全く感染されなかった。
物とは反対に、式■で表わされる有効物質を用いて処理
した植物は全く感染されなかった。
残留保護作用
10−15mの高さの落下生植物に有効物質の水和剤か
ら調製した噴霧液(有効成分0.00+S%)を噴霧し
、次いで48時間後に真菌の分生子器の懸濁液を用いて
感染させる。感染された植物を約21℃及び高湿度で7
2時間培養し、次いで典型的な葉の斑点が生ずるまで温
室内に置く。
ら調製した噴霧液(有効成分0.00+S%)を噴霧し
、次いで48時間後に真菌の分生子器の懸濁液を用いて
感染させる。感染された植物を約21℃及び高湿度で7
2時間培養し、次いで典型的な葉の斑点が生ずるまで温
室内に置く。
殺菌作用は、生ずる斑点の数と大きさに基づいて感染後
12日目に評価する。
12日目に評価する。
有効物質Iを用いて処理した植物は全く感染されなかっ
た。化合物& 1.2.7.27.29及び36ないし
41を用いると、0.002%の有効物質濃度において
さえも、菌の感染は完全に抑制された(0−5%感染)
。反対に、未処理で感染された対照植物は分生子器によ
る100%の感染を示した。
た。化合物& 1.2.7.27.29及び36ないし
41を用いると、0.002%の有効物質濃度において
さえも、菌の感染は完全に抑制された(0−5%感染)
。反対に、未処理で感染された対照植物は分生子器によ
る100%の感染を示した。
長さ10−20mの新しい若枝を有するシんごの若木に
、有効物質の水和剤から調製した噴霧液(有効成分0.
02%)を噴霧する。24時間後、処理した植物を真菌
の分生子の懸濁液を用いて感染させる。次いでこの植物
を相対湿度90−100%で5日間培養し、次いで20
−24℃の温室内に10日よシも多くの日数置く。斑点
病の感染は感染後15日目に評価する。
、有効物質の水和剤から調製した噴霧液(有効成分0.
02%)を噴霧する。24時間後、処理した植物を真菌
の分生子の懸濁液を用いて感染させる。次いでこの植物
を相対湿度90−100%で5日間培養し、次いで20
−24℃の温室内に10日よシも多くの日数置く。斑点
病の感染は感染後15日目に評価する。
有効物質Iを用いて処理した切り枝は全く感染されなか
った。
った。
人の手で傷をつけたりんごを、その損傷箇所に有効物質
の水和剤から調製した噴霧液(有効成分0.006%)
を滴下施用することにより処理する。次いで処理した果
実を真菌の胞子懸濁液を用いて接種し、次いで高湿度及
び約20℃で一週間培養した。評価においては、腐敗の
徴候を示す損傷箇所を数え、そして試験物質の殺菌作用
をそれから算出する。
の水和剤から調製した噴霧液(有効成分0.006%)
を滴下施用することにより処理する。次いで処理した果
実を真菌の胞子懸濁液を用いて接種し、次いで高湿度及
び約20℃で一週間培養した。評価においては、腐敗の
徴候を示す損傷箇所を数え、そして試験物質の殺菌作用
をそれから算出する。
有効物質■は、菌の生長を完全に抑制した。
有効物質AI、 2.3.4.6.7.8.9.17.
26゜27.28,29.30及び34−41を用いる
と、0.002%の濃度においてさえも、菌の感染は完
全に抑制された(0−5%感染)。
26゜27.28,29.30及び34−41を用いる
と、0.002%の濃度においてさえも、菌の感染は完
全に抑制された(0−5%感染)。
高さ約8c1nの大麦植物に、有効物質の水和剤から調
製した噴霧液(有効成分0006%)を噴霧する。3−
4時間後、処理した植物に真菌の分生子器をふりかける
。感染した大麦植物を約22℃の温室内に置き、次いで
菌の感染を10日後に評価する。
製した噴霧液(有効成分0006%)を噴霧する。3−
4時間後、処理した植物に真菌の分生子器をふりかける
。感染した大麦植物を約22℃の温室内に置き、次いで
菌の感染を10日後に評価する。
有効物質の水和剤から調製された噴霧液(土壌容積に対
して有効成分0.02%)を、高さ約8信の大麦植物に
注ぐ。噴霧液が植物の土壌の上の部分に接触しないよう
に注意した。48時間後、処理した植物に真菌の分生子
器をふシかける。感染した大麦植物を約22℃の温室内
に置き、次いで菌の感染を10日後に評価する。
して有効成分0.02%)を、高さ約8信の大麦植物に
注ぐ。噴霧液が植物の土壌の上の部分に接触しないよう
に注意した。48時間後、処理した植物に真菌の分生子
器をふシかける。感染した大麦植物を約22℃の温室内
に置き、次いで菌の感染を10日後に評価する。
両試験において、前記植物は全く感染されず、そして対
照植物は完全に感染された。試験a)において、有効物
質AI、 2.3.4.7.8.9゜17.26,27
,29.30及び34−41は、α002%の濃度にお
いてさえも、菌の感染を完全に抑制した(0−5%感染
)。
照植物は完全に感染された。試験a)において、有効物
質AI、 2.3.4.7.8.9゜17.26,27
,29.30及び34−41は、α002%の濃度にお
いてさえも、菌の感染を完全に抑制した(0−5%感染
)。
する作用
有効物質の製剤から調製した噴霧液(有効成分0002
%)を、12日齢の稲植物に、その植物の土壌の上の部
分にかからないように注ぐ。
%)を、12日齢の稲植物に、その植物の土壌の上の部
分にかからないように注ぐ。
処理植物を感染させるために、リゾクトニアソラニの薗
糸体と歌膜の懸濁液を土壌表面に適用する。温湿管理室
中において27℃(昼間)及び23℃(夜間)及び相対
温度100%(湿度ボックス)で6日間培養した後、葉
鞘、葉及び茎上の菌の感染を評価する。
糸体と歌膜の懸濁液を土壌表面に適用する。温湿管理室
中において27℃(昼間)及び23℃(夜間)及び相対
温度100%(湿度ボックス)で6日間培養した後、葉
鞘、葉及び茎上の菌の感染を評価する。
有効物質Iを用いて処理した後は、感染はほとんど全く
起らなかった。
起らなかった。
化合物点7は完全に感染を抑制した。
特許出願人 ゲゼルシャフト ヒュールギツシエ フ
オルシュング ビオテクノ口 エムペーノ\− 同 テバーガイギー 代 理 人 弁理士 萼 アクチェンゲゼルシャフト 優 美 ゛ (ほか2名)
オルシュング ビオテクノ口 エムペーノ\− 同 テバーガイギー 代 理 人 弁理士 萼 アクチェンゲゼルシャフト 優 美 ゛ (ほか2名)
Claims (17)
- (1)次式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、置換基は下記の意味を有する;X は水素原子又はメチル基を表わし、Yは水素原子、−C
HO基、−COCH_3基、−COCH_2OCH_3
基、−COCH_2NH_2基、ベンジル基、メチル基
又はシリル保護基を表わし、そしてA−B−Cは下記の
C_3−鎖要素を表わす; a)▲数式、化学式、表等があります▼b)▲数式、化
学式、表等があります▼ c)▲数式、化学式、表等があります▼d)▲数式、化
学式、表等があります▼ {式中、R_1、R_2及びR_3は互いに独立して水
素原子、メチル基、−CHO基、−COCH_3基、−
COCH_2OCH_3基、−COCH_2NH_2基
又はシリル保護基を表わし、そしてR_4とR_5は水
素原子、ハロゲン原子又は−COO(炭素原子数1ない
し3)アルキル基を表わす}〕で表わされる大環状化合
物。 - (2)式中、Yが水素原子、−CHO基、−COCH_
3基、ベンジル基、メチル基又はシリル保護基を表わし
、そしてR_1、R_2及びR_3が互いに独立して水
素原子、メチル基、−CHO基、 −COCH_3基又はシリル保護基を表わし、そしてX
、R_4及びR_5は請求項1において定義されたもの
と同じ意味を表わす請求項1記載の式 I で表わされる
化合物。 - (3)式中、A−B−Cが次式: a)▲数式、化学式、表等があります▼又はb)▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1とR_2は互いに独立して水素原子、メ
チル基、−CHO基、−COCH_3基、−COCH_
2OCH_3基又は−COCH_2NH_2基を表わし
、そしてXとYは請求項1において定義されたものと同
じ意味を表わす〕のいずれかを表わす請求項1記載の式
I で表わされる化合物。 - (4)式中、Xが水素原子を表わす請求項5記載の化合
物。 - (5)式中、A−B−Cが次式: a)▲数式、化学式、表等があります▼又はb)▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中、Xは水素原子を表わし、そしてY、R_1及び
R_2は互いに独立して水素原子、メチル基、−CHO
基、−COCH_3基又はシリル保護基を表わす〕のい
ずれかを表わす請求項1記載の化合物。 - (6)式中、Yが水素原子、メチル基、−CHO基、−
COCH_3基又はシリル保護基を表わし、そしてR_
1とR_2が同一であり且つ水素原子、メチル基又はホ
ルミル基を表わす請求項5記載の化合物。 - (7)9,10−エポキシ−ソラフェンA、9,10−
ジヒドロキシ−ソラフェンA、 5,9,10−トリホルミル−ソラフェン A、 5,9,10−トリアセチル−ソラフェン A、 9,10−エポキシ−ソラフェンA5− アセテート、 から選ばれた請求項2記載の化合物。 - (8)5−メトキシ−9,10−エポキシ−ソラフェン
A、 5−メトキシ−9,10−ジヒドロキシ− ソラフェンA、 5,9,10−トリメトキシ−ソラフェン A、 9,10−エポキシ−ソラフェンA5− ホルメート、 9,10−ビス(メトキシアセトキシ)− ソラフェンA5−メトキシアセテート、及 び 9,10−ビス(アミノアセトキシ)−ソ ラフェンA5−アミノアセテート、 から選ばれた請求項1記載の化合物。 - (9)所望により且つ順序にかかわらず、 a)9,10−位に対するカルベン付加、二酸化セレン
酸化、四酸化オスミウム酸化又はエポキシ化、所望によ
り更に形成されたエポキシドの開環、及び/又は、所望
により、 b)3−OH基のメチル化、及び/又は、所望により、 c)5−OH基の及び/又は、所望により、8−、9−
又は10−位に新たに形成されたOH基のホルミル化、
アセチル化、メトキシアセチル化、アミノアセチル化、
メチル化、ベンジル化又はシリル化、を特徴とする次式
: ▲数式、化学式、表等があります▼ソラフェンA で表わされるソラフェン(Soraphen)Aからの
請求項1記載の式 I で表わされる化合物の製造方法。 - (10)5−OH基のホルミル化、アセチル化、メチル
化、ベンジル化又はシリル化を反応工程c)で行う、請
求項9記載の方法。 - (11)適する担体物質と一緒に、請求項1記載の式
I で表わされる化合物を少なくとも一つの有効化合物と
して含む、植物の病気を抑制し且つ防止するための薬剤
。 - (12)請求項2又は7記載の化合物を有効化合物とし
て含む、請求項11記載の薬剤。 - (13)請求項3ないし6のうちのいずれか1項記載の
又は請求項8記載の化合物を有効化合物として含む、請
求項11記載の薬剤。 - (14)植物の病気を抑制するための又は病気の感染を
防止するための請求項1記載の式 I で表わされる化合
物の使用方法。 - (15)請求項2記載の化合物の請求項14記載の使用
方法。 - (16)請求項1記載の式 I で表わされる化合物を植
物体、植物体の一部又はそれらの成育地に使用する、植
物の病気を抑制又は防止するための方法。 - (17)請求項2記載の化合物を使用する、請求項16
記載の方法。
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