JPH01317798A - 凹凸模様を転写する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は凹凸模様を転写する方法に関する。

〔従来の技術　　。

及び発明が解決しようとする課題〕 従来、平滑な表面に設けた絵柄に立体感を持たせるため
に、模様自体に厚みを持たせることが行われているが、
模様に厚みを持たせるためには特殊な印刷方法を必要と
する上、シャープな盛り上がりを形成することが困難で
あり、美麗な立体模様を容易に形成できないという問題
があった。

本発明は上記の点に鑑みなされたもので、シャープで美
麗な立体模様を容易に転写形成することができ、且つ意
匠性に優れた凹凸模様の転写が可能な凹凸模様を転写す
る方法を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、 （１）　　下記（ａ）〜（ｅ）の工程を順に行うことを
特徴とする凹凸模様を転写する方法。

（ａ）　　表面が剥離性を有する電離放射線透過性シー
トの剥離性面に転写層が設けられ、且つ上記シートの表
裏いずれかの面若しくは転写層上に電離放射線遮蔽性模
様を有する転写シートを準備する工程。

ω）上記転写シートと被転写基材とを、艶消し剤を含有
する電離放射線硬化性樹脂層を介して重ね合わせる工程
。

（ｃ）　　電離放射線透過性シート側より電離放射線を
照射して電離放射線遮蔽性模様のない部分に相当する電
離放射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。

（ｄ）　　電離放射線透過性シートを剥がして電漏放　
　゛射線硬化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過
性シートに付着させて除去するとともに、転写層が密着
した硬化部を形成する工程。

（ｅ）　　電離放射線透過性シートを剥離した後、更に
電離放射線を照射して被転写基材上に残った未硬化の電
離放射線硬化性樹脂を硬化させる工程。

（２）転写層として、電離放射線硬化性インキよりなる
絵柄層を設ける請求項１記載の凹凸模様を転写する方法
。

（３）転写層として、熱硬化性インキよりなる絵柄層を
設ける請求項１記載の凹凸模様を転写する方法。

（４ン　　転写層として、ｔｌＨ放射線硬化性樹脂又は
熱硬化性樹脂よりなる透明保護層を設ける請求項１又は
２記載の凹凸模様を転写する方法。

を要旨とする。

〔作用〕

本発明によれば、電離放射線遮蔽性模様のある部分では
、被転写基材上の電離放射線硬化性樹脂が硬化せずにＴ
１離放射線透過性シートの剥離によって除去され、電離
放射線遮蔽性模様のない部分では電離放射線硬化性樹脂
が硬化して残り、その結果、凹凸模様形成用の被転写基
材上にシャープで硬化部（凸部）表面に転写層が密着し
た凹凸模様が形成され、特に電離放射線硬化性樹脂層中
に艶消し剤を添加してなるため、所定箇所が艶消し状態
となった凹凸模様が得られるものである。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面に基き説明する。

本発明方法では、まず転写シートを準備する。

第１図は本発明で使用する転写シートの一例を示すもの
で、転写シート１は電離放射線透過性シート２、転写層
３及び電離放射線遮蔽性模様４により構成される。

電離放射線透過性シート２は、電離放射線透過性を有す
るシート又はフィルムよりなり、電離放射線が紫外線の
場合には、例えばポーリエステル、ポリアミド（ナイロ
ン等）、ポリプロピレン、フッ素系樹脂のシート又はフ
ィルム等が挙げられるが、紫外線透過性に影響のある顔
料等を含まないものが好ましいａｍ離放射線が電子線の
場合には、電子線の透過性が高いのであまり制約がなく
、上記した紫外線を透過する性質のあるシート又はフィ
ルムは原則的に使用でき、更に紙等も使用できる。

上記シート２は転写層３を転写可能に支持するため、少
なくとも転写層を支持する側の面は剥離性を有する剥離
性面である必要があり、素材自体が剥離性を有さない場
合にはＩｄｌ’ｆｍ性の樹脂若しくは組成物を塗布する
等して表面！１１９性として使用する。シート２の厚さ
は５〜２００μｍ１好ましくは２５〜１００μｍである
。

転写層３は、被転写基材上に凹凸模様と同時に所望の機
能を持つ層を転写形成するためのものであり、その具体
例としては例えば、着色や模様等を施した絵柄層、形成
される凹凸模様の表面保護を図るための保護層等がある
。転写層は単層構造であっても複層構造であってもよく
、また均一なベタ層として形成しても、或いは部分的な
パターン状に形成してもよい。

転写層としての絵柄層は、電離放射線硬化性インキ、熱
硬化性インキ、通常の印刷用インキ等を用いて公知の印
刷方法にて形成されるが、中でも優れた表面物性を有す
る転写層が得られるという理由から！離放射線硬化性イ
ンキ又は熱硬化性インキにて形成することが好ましい。

上記電離放射線硬化性インキとして、未硬化の状態では
常温で固体であり且つ熱可塑性であるｔｌｌ放射線硬化
性樹脂を使用することができ、該樹脂は、ラジカル重合
性不飽和基を有する熱可塑性樹脂であり、次の２種類の
ものがある。

（１）　ガラス転移温度が０〜２５０　’Ｃのポリマー
中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。

更に具体的には、ポリマーとしては以下の化合物■〜■
を重合もしくは共重合させたものに対し、後述する方法
（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入し
たものを用いることができる。

■　水酸基を有する単量体二Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプ
ロビルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキ
シプロピルアクリレートなど。

■　カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。

■　エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレ
ートなど。

■　アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニル
エチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸
アリルなど。

■　アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタク
リアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。

■　スルフォン基を有する単量体：２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルフォン酸など。

■　イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエ
ンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレー
トの１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活
性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。

■　さらに、上記の重合体または共重合体のガラス転移
点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために
、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のよ
うな単量体とを共重合させることもできる。このような
共重合可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリ
レート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エ
チルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリ
レート、Ｌ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリ
レート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、２
−エチルへキシルメタクリレートなどが挙げられる。

次いで上述のようにして得られた重合体又は共重合体を
、以下に述べる方法（イ）〜（ニ）によってラジカル重
合性不飽和基を導入することにより、本発明に係わる材
料を得ることができる。

（イ）　水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。

（ロ）　カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。

（ハ）　エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。

（ニ）　水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を存する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させる
。

上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合
禁止側を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい
。

（２）　融点が常温（２０°Ｃ）〜２５０℃でありラジ
カル重合性不飽和基を有する化合物、具体的にはステア
リルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリア
クリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジア
クリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート
、スピログリコールジアクリレート、スピログリコール
ジメタクリレートなどが挙げられる。

また本発明においては、前記（１）、（２）を混合して
用いることもでき、更にそれらに対してラジカル重合性
不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重合
性不飽和単量体は、紫外線または電子線照射の際、架ｊ
ａ密度を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前
述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタ
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールへキサアクリレート、ペンタエリスリ
トールへキサメタクリレート、エチレングリコールジグ
リシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコール
ジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジア
クリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルビト
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、ソルビトー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレートなどを用いる
ことができ、前述した共重合体混合物の固形分１００重
量部に対して０．１〜１００重量部で用いることが好ま
しい。

上記のものは電子線により充分に硬化可能であるが、紫
外線照射で硬化させる場合には増感剤としてベンゾキノ
ン、ベンゾイン、ヘンジインメチルエーテルなどのベン
ゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビア
チル類などの紫外線照射によりラジカルを発生するもの
も用いることができる。

また熱硬化性インキとしては、アルキッド樹脂、ブチル
化アミノアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、フタル酸系
樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン樹脂
、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリシロキサン系等が挙
げられる。

転写層としての保護層は、電離放射線硬化性樹脂、熱硬
化性樹脂等にて絵柄層と同様の印刷手段等にて形成され
る。保護層は透明性のものであっても、着色したもので
あってもよいが、透明性のものが好ましい、上記電離放
射線硬化性樹脂は後述する電離放射線硬化性樹脂層に使
用されるものと同様のものを用いることができる。また
熱硬化性樹脂としてはアルキッド樹脂、ブチル化アミノ
アルデヒド樹脂、フェノール樹脂、フクル酸系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン樹脂、不飽和
ポリエステル系樹脂、ポリシロキサン系樹脂等が挙げら
れる。

転写層３が熱硬化性タイプの材質又は電離放射線硬化性
タイプの材質により構成された場合、その硬化時期は、
熱硬化性タイプの材質からなる転写層の場合は転写前に
加熱硬化させることが好ましく、電離放射線硬化性クイ
ズの材質からなる転写層の場合は転写時に電離放射線硬
化性樹脂層の硬化と同時に行うことが好ましいが、特に
これらの時期に限定されない。

電離放射線遮蔽模様４は、転写シートの上面側から電離
放射線を照射した際に電離放射線を遮蔽し、後述する電
離放射線硬化性樹脂層を部分的に硬化させ、盛り上げる
ためのマスクパターンの役割を果たすものである。その
意味で電離放射線遮蔽性模様４を設ける位置は、第１図
中、電離放射線透過性シート２の上面又は下面、或いは
転写層３の下面の何れかの位置である。

この遮蔽性模様４を形成する材料としては、電離放射線
が紫外線であるときは、紫外線を反射して遮蔽する物質
、例えば酸化チタン、硫酸カリウム、炭酸カルシウム等
の充填剤、または粒径が０゜３〜ｌＯｕｍ程度で隠蔽力
の大きい顔料を含有するインキ、紫外線を吸収する物質
、例えばベンゾフェノール系、サリチレート系、ベンゾ
トリアゾール系、アクリロニトリル系等の紫外線吸収剤
、光吸収性の顔料、カーボンブラックまたは無機物とと
もにクエンチャ−（例えば金属錯塩系もしくはヒンダー
ドアミン系等）を含有するインキ等が挙げられる。また
電離放射線が電子線であるときは、上記したインキや他
の顔料系のものを含有するインキが挙げられる。電離放
射線遮蔽性模様４はこれらのインキを用いて通常の印刷
法により形成することができる。

次に、上記の如き構成からなる転写シートを、第２図に
示すように別に準備した艶消し剤を含有する電離放射線
硬化性樹脂層６を塗布して設けた凹凸模様形成用の被転
写基材７の上に重ねて、転写シートの転写層３が設けら
れた側の面と電離放射線硬化性樹脂層６とを接触させ、
密着させる（第３図）、電離放射線硬化性樹脂層６は、
上記の如く予め被転写基材７側のみに設ける場合の他、
特に図示しないが転写シート１側に塗布して設けても、
転写シート１と被転写基材７の両方に塗布して設けても
よい、　本発明におけるＩＩ離放射線硬化性樹脂Ｆ５６
は、電離放射線硬化性樹脂に艶消し剤を添加した構成か
らなるものである。上記硬化性樹脂は構造中にラジカル
重合性の二重結合を有するポリマー、オリゴマー、モノ
マー等を主成分とし、光重合開始剤や増感剤、そのほか
必要に応じて非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックス
その他の添加剤を含有するもので、種々のグレードのも
のが市場から容５に入手でき、本発明に使用できる。ま
た、上記艶消し剤としては従来公知のものでよく、例え
ばシリカ、炭酸カルシウム、沈降性硫酸バリウム等の無
機物、ポリエチレン粒子、テフロン粉末等の有機物等が
挙げられる。この艶消し荊の添加量は樹脂１００重量部
に対して１〜２０重量部である。樹脂Ｎ６はグラビアコ
ート、ロールコート、フローコートもしくはスプレーコ
ート等の公知の方法により形成することができる。樹脂
層６の厚さは３μｍ−１ｍｍ、特に３０〜２００μｍが
好ましい。

被転写基材７としては、どのようなものでもよいが、例
えば■ステンレス鋼、鋼、アルミニウム、もしくは銅等
の金属の板または成形品、■ガラス、大理石、陶磁器、
石膏ボード、石綿セメント仮、珪（ｉｔカルシウム板、
ＧＲＣ（ガラス繊維強化セメント）等の無機質の仮また
は成形品、■ポリエステル、メラミン、ポリ塩化ビニル
、ジアリルフタレート等の有機ポリマーの板、成形品、
あるいはこれらのシート、フィルム、■木、合板、パー
チクルボード等の木質の板または成形品、等が例示され
る。これら被転写基材７には目止め処理やプライマー処
理等の下地処理、接着性向上のための処理等を行っても
よい。

転写シート１と被転写基材７とを艶消し剤を含有する電
離放射線硬化性樹脂層６を介して重ね合わせて両者を密
着させた後、転写シートの基材である電離放射線透過性
シート２側より電離放射線８を照射する（第３図）、電
離放射線８の代表的なものは紫外線と電子線であるが、
その他のものも利用できる。

電離放射線８の照射により、電離放射線遮蔽性模様４の
ない部分では電離放射線硬化性樹脂Ｎ６は硬化して、被
転写基材７と硬化した電子放射線硬化性樹脂層６が硬化
して一体化し、一方、電離放射線遮蔽性模様４のある部
分では電離放射線硬化性樹脂層６は未硬化のままに置か
れる。

また、転写層３を電離放射線硬化性タイプの材質にて形
成した場合、上記照射により同時に硬化させることがで
き、この場合、電離放射線遮蔽性模様４のない部分に相
当する転写層部分が硬化される。

電離放射線８の照射後に電離放射線透過性シート２を剥
離すると、上記の硬化して一体化した部分は被転写基材
７側に転写されて残り、電離放射線硬化性樹脂Ｎ６の未
硬化部分では、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が電離放
射線透過性シート２に付着した状態でシート２の剥離と
ともに除去され、結果として、少量の未硬化の電離放射
線硬化性樹脂が残留した凹部９と、硬化した電離放射線
硬化性樹脂よりなり且つ表面に転写層３が密着した硬化
部（凸部）１０とが形成される。

本発明の方法ではシート２を剥離後、更に電離放射線を
照射して凹部９に残留する未硬化の電離放射線硬化性樹
脂を硬化せしめ、以て、凹凸模様が転写形成された被転
写体１１が得られる。得られた凹凸模様はその凹部９表
面が艶消し状態となって表出する。

尚、本発明では転写層に艶消し剤を添加せしめてもよい
。

以下、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。

実施例 厚さ３８μｍのポリエステルフィルム（東し■製）を基
材シートとし、この片面に２液型ウレタン透明インキ（
諸星インキ■裂）をグラビア印刷法にて乾燥後の厚みが
３μｍとなるようにベタ状に塗布して保護層を形成した
後、この保護層上にウレタン系パールインキ（諸星イン
キｅ勾製）グラビア印刷法にて乾燥後の厚みが２μｍと
なるようにベタ状に塗布し、さらに、ウレタン系着色イ
ンキで砂日柄をグラビア印刷法にて塗布して絵柄層を形
成した０次いで、絵柄層上にウレタン系の紫外線遮蔽性
インキ（諸星インキ■製）を版深８０μｍのグラビア版
を用いて印刷して遮蔽性模様を形成し、転写シートを作
成した。

一方、片面にアルカリ止めシーラー処理を施した珪酸カ
ルシウム板の処理面に、艶消し剤を樹脂１００重量部に
対して５重量部添加してなる紫外線硬化性塗料（日本ペ
イント■製）を厚みが１００μｍとなるようにフローコ
ートした。

次いで、上記転写シートを、紫外線硬化性塗料を塗布し
た珪酸カルシウム板面に遮蔽性模様がある側の面が接す
るように重ね合わせ、転写シートの基材シート側から出
力８０ｗ／ｃｍのオゾンレス型紫外線ランプを５灯設置
した照射装置中を２０ｍ／分の速度で通過させながら照
射し、照射後、基材シートを剥離した。

シート剥離後、前記したと同じ紫外線照射装置にて紫外
線照射を行って硬化させ、凹凸模様を有する珪酸カルシ
ウム板を得た。

得られた凹凸模様はシャープなものであった。

また凸部は透明保護層を有する絵柄層が転写されて艶を
有し、一方、凹部は艶消し状態となり、総合的には絵柄
、凹凸、艶消し部が同調した意匠性に優れた立体模様で
あり、表面物性も優れたものであった。

〔発明の効果〕　゛ 以上説明したように、本発明方法によればシャープで外
観美麗な凹凸模様を容易に形成することができる。

また、電離放射線硬化性樹脂層に艶消し剤を含有させて
なるため、凹部等の所定箇所が艶消し状態となった優れ
た意匠を現出する凹凸模様を転写形成することができる
。

更に、凹凸模様において艶有り部分と艶消し部分とを組
み合わせることができ、この場合は特に凹凸形状と同調
したグロス−マット効果を付与した凹凸模様を得ること
ができる。

また本発明によれば、熱硬化性若しくは電離放射線硬化
性タイプの材質にて転写層を構成したり或いはそれらの
同材質からなる保護層を設けることにより、表面物性に
優れた転写層を形成することができる。

【図面の簡単な説明】 第１図〜第４図は本発明方法の各工程を示す縦断面図で
ある。 ■・　・転写シート ２・・１５離放射線透過性シート ３・・転写層 ７・・被転写基材　　８・・電離放射線１０・・硬化部 一６′ ＝

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記（ａ）〜（ｅ）の工程を順に行うことを特徴
   とする凹凸模様を転写する方法。（ａ）表面が剥離性を
   有する電離放射線透過性シートの剥離性面に転写層が設
   けられ、且つ上記シートの表裏いずれかの面若しくは転
   写層上に電離放射線遮蔽性模様を有する転写シートを準
   備する工程。 （ｂ）上記転写シートと被転写基材とを、艶消し剤を含
   有する電離放射線硬化性樹脂層を介して重ね合わせる工
   程。 （ｃ）電離放射線透過性シート側より電離放射線を照射
   して電離放射線遮蔽性模様のない部分に相当する電離放
   射線硬化性樹脂層を硬化させる工程。 （ｄ）電離放射線透過性シートを剥がして電離放射線硬
   化性樹脂層の未硬化部の樹脂の一部を該透過性シートに
   付着させて除去するとともに、転写層が密着した硬化部
   を形成する工程。 （ｅ）電離放射線透通性シートを剥離した後、更に電離
   放射線を照射して被転写基材上に残った未硬化の電離放
   射線硬化性樹脂を硬化させる工程。
2. （２）転写層として、電離放射線硬化性インキよりなる
   絵柄層を設ける請求項１記載の凹凸模様を転写する方法
   。
3. （３）転写層として、熱硬化性インキよりなる絵柄層を
   設ける請求項１記載の凹凸模様を転写する方法。
4. （４）転写層として、電離放射線硬化性樹脂又は熱硬化
   性樹脂よりなる透明保護層を設ける請求項１又は２記載
   の凹凸模様を転写する方法。