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JPH01224991A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH01224991A
JPH01224991A JP63052048A JP5204888A JPH01224991A JP H01224991 A JPH01224991 A JP H01224991A JP 63052048 A JP63052048 A JP 63052048A JP 5204888 A JP5204888 A JP 5204888A JP H01224991 A JPH01224991 A JP H01224991A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
data
line pair
signal
blo
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63052048A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Koichiro Masuko
益子 耕一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP63052048A priority Critical patent/JPH01224991A/en
Publication of JPH01224991A publication Critical patent/JPH01224991A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To invert data at a high speed by activating a register means, holding the information of a bit line pair, detaching the register means from the bit line pair by a switching means, inverting the data held by a driving means, and giving the inverted data to the bit line pair. CONSTITUTION:While register means 14-17 are activated according to an activation signal outputted by an activation signal generating means 2, the register means 14-17 and bit line pairs BLi and -BLi are detached by the switching means, and the inverse data are outputted to the bit line pairs BLi and -BLi based on the data held by the register means 14-17. Thus, it becomes unnecessary to once read the data to an I/O line when the data of the bit line pairs BLi and -BLi are inverted, and the data can be inverted at a high speed.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は半導体メモリ装置に関し、たとえば、1トラ
ンジスタ一1容量方式のダイナミック型半導体メモリセ
ルアレイを含み、各メモリセルから読出された情報の誤
りを検出して訂正するような半導体メモリ装置に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, including a dynamic type semiconductor memory cell array of one transistor and one capacitance type, and is capable of preventing errors in information read from each memory cell. The present invention relates to semiconductor memory devices that detect and correct.

[従来の技術] 第5図は従来のダイナミック型半導体メモリを示すブロ
ック図である。この第5図に示した半導体メモリは、た
とえば特開昭51−74535号公報に示されたもので
ある。
[Prior Art] FIG. 5 is a block diagram showing a conventional dynamic semiconductor memory. The semiconductor memory shown in FIG. 5 is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 74535/1983.

まず、第5図を参照して、従来のダイナミック型半導体
メモリについて説明する。メモリセルMCOr O’r
 MC63r 63は64行、64列のメモリセルアレ
イによって構成されていて、それぞれはNチャネルMO
SトランジスタQと容QCsで形成される1トランジス
タ一1容量方式のダイナミック型である。各メモリセル
MCOr 0〜MC63+63にはワード線Wo−W、
、が接続されていて、各ワード線Wo−w6.は行デコ
ーダ1により、外部から印加された行アドレス信号に応
じて選択される。また、各メモリセルMC,。
First, a conventional dynamic semiconductor memory will be explained with reference to FIG. Memory cell MCOr O'r
The MC63r 63 is composed of a memory cell array of 64 rows and 64 columns, each of which is an N-channel MO
It is a one-transistor-one-capacitor dynamic type formed by an S transistor Q and a capacitor QCs. Each memory cell MCOr 0 to MC63+63 has a word line Wo-W,
, are connected to each word line Wo-w6. is selected by row decoder 1 according to a row address signal applied from the outside. Moreover, each memory cell MC,.

o−MC63,63には列方向にビット線対BLO、B
L、−BL63+  BL6.が接続されている。さら
に、ダミーセルDMo、 o”DM63 。
o-MC63, 63 has bit line pairs BLO, B in the column direction.
L, -BL63+ BL6. is connected. Furthermore, dummy cell DMo, o”DM63.

、には、ダミーワード線DW、、DW、が接続されてい
て、このダミーワード線DWO、DW、によりいずれか
のダミーセルが選択される。
, are connected to dummy word lines DW, , DW, and one of the dummy cells is selected by these dummy word lines DWO, DW.

ビット線対BLo 、BLo−BL63.BL6、には
PチャネルMOSトランジスタ6.8およびNチャネル
MOSトランジスタ7.9を交差接続したセンスアンプ
5AO−5A、、が接続されている。これらのセンスア
ンプSA、−3A6゜に含まれるPチャネルMOSトラ
ンジスタ6.8およびNチャネルMOSトランジスタ7
.9の各ソースには、センス信号発生回路2から発生さ
れた活性化信号SP、SNが与えられる。
Bit line pair BLo, BLo-BL63. Sense amplifiers 5AO-5A, each having a P-channel MOS transistor 6.8 and an N-channel MOS transistor 7.9 cross-connected, are connected to BL6. P-channel MOS transistor 6.8 and N-channel MOS transistor 7 included in these sense amplifiers SA, -3A6°
.. Activation signals SP and SN generated from the sense signal generation circuit 2 are applied to each of the sources 9 .

ビット線対BL、、BLO、BL6.、BL63とI1
0バス線対I10.Iloとの間にはNチャネルMOS
トランジスタ10〜13が接続されている。これらのN
チャネルMOSトランジスタ10〜13のゲートには、
列デコーダ3からY信号線YO−wY63が接続される
。そして、NチャネルMO8)ランジスタ10〜13は
Y信号線yo−my63により、ビット線対BLO、B
L。
Bit line pairs BL, , BLO, BL6 . , BL63 and I1
0 bus line pair I10. N-channel MOS between Ilo
Transistors 10-13 are connected. These N
At the gates of channel MOS transistors 10 to 13,
A Y signal line YO-wY63 is connected from the column decoder 3. Then, the N-channel MO8) transistors 10 to 13 are connected to the bit line pairs BLO and B by the Y signal line yo-my63.
L.

〜B L63 、  B L6aとの間の導通が制御さ
れる。
The conduction between BL63 and BL6a is controlled.

I10バス線対I10.Iloにはデータ出力メインア
ンプ4とデータ人力バッファ5が接続されている。デー
タ出力メインアンプ4は続出サイクルにおいて、I10
バス線対I10.Iloからの情報をデータ出力Doと
して外部に出力する。
I10 bus line pair I10. A data output main amplifier 4 and a data manual buffer 5 are connected to Ilo. The data output main amplifier 4 outputs I10 in successive cycles.
Bus line pair I10. Information from Ilo is output to the outside as data output Do.

データ人力バッファ5は書込サイクルにおいて、外部か
ら与えられたデータ入力DIをレベル変換し、相補信号
としてI10バス線対I10.Iloに与える。
In the write cycle, the data manual buffer 5 converts the level of the externally applied data input DI and converts it into a complementary signal from the I10 bus line pair I10. Give to Ilo.

次に、第5図に示した従来のダイナミック型半導体メモ
リの動作について説明する。読出サイクルにおいて、た
とえばメモリセルMC,、、が選ばれたものとする。そ
のとき、行デコーダ1はワード線Wo とダミーワード
線DW、の電位を上昇させ、予め等電位に充電されてい
たビット線対Br、o、B工0−BL63 、BLI、
3に、記憶容量Csに蓄えられていた電荷が転送される
。たとえば、ビット線BLOにはメモリセルMCo 、
Oの情報電荷が転送され、反転ビット線BL、には基阜
電圧を発生させるべくダミーセルDM、、 、 、の電
荷が転送される。
Next, the operation of the conventional dynamic semiconductor memory shown in FIG. 5 will be explained. Assume that, for example, memory cells MC, . . . are selected in a read cycle. At this time, the row decoder 1 increases the potentials of the word line Wo and the dummy word line DW, and the bit line pairs Br, o, B0-BL63, BLI, which have been charged to the same potential in advance,
3, the charge stored in the storage capacitor Cs is transferred. For example, the bit line BLO includes memory cells MCo,
The information charges of O are transferred, and the charges of dummy cells DM, , , , are transferred to the inverted bit line BL to generate a base voltage.

続いて、センスアンプ活性化信号SNが低レベルとなり
、活性化信号SPが高レベルとなって、センスアンプ5
Ao−8A6.が活性化される。
Subsequently, the sense amplifier activation signal SN becomes low level, the activation signal SP becomes high level, and the sense amplifier 5
Ao-8A6. is activated.

すなわち、ビット線対BLO、BL、 〜BL6.。That is, bit line pairs BLO, BL, ~BL6. .

τ〒6.に転送された情報電荷による信号電圧の微小差
が感知されて増幅される。次に、列デコーダ3が外部か
ら与えられた列アドレス信号に応じてY信号線(今の場
合Yo )を選択し、その電位が上昇してビット線対B
Lo 、BLo上の相補信号の電圧がそれぞれI10バ
ス線対I10.Iloに伝達され、データ出力メインア
ンプ4によって増幅され、データ出力Doとなって外部
に出力される。
τ〒6. A minute difference in signal voltage due to the information charges transferred to the sensor is sensed and amplified. Next, the column decoder 3 selects the Y signal line (Yo in this case) in accordance with the externally applied column address signal, and its potential rises, causing bit line pair B
The voltages of the complementary signals on I10.Lo and BLo are respectively applied to the I10 bus line pair I10. The data is transmitted to Ilo, amplified by the data output main amplifier 4, and outputted to the outside as data output Do.

書込サイクルにおいては、読出サイクルと逆の経路でデ
ータが所望のメモリセルに書込まれる。
In a write cycle, data is written into a desired memory cell through a path opposite to that in the read cycle.

すなわち、チップ外部から印加されたデータ入力信号D
Iがデータ人力バッファ5によってレベル変換され、相
補信号となってI10バス線対■10、Iloに伝達さ
れる。このI10バス線対I10、Iloの相補データ
入力信号は、列デコーダ3によってたとえばYO信号線
が選択され、ビット線対BLo、BLoに転送される。
That is, the data input signal D applied from outside the chip
I is level-converted by the data manual buffer 5, becomes a complementary signal, and is transmitted to the I10 bus line pair 10 and Ilo. The complementary data input signals of the I10 bus line pair I10 and Ilo are transferred to the bit line pair BLo and BLo by selecting, for example, the YO signal line by the column decoder 3.

そして、そのときに、たとえばワード線Woが選択され
ていれば、このワード線Wo とビット線対BLo。
At that time, for example, if word line Wo is selected, this word line Wo and bit line pair BLo.

BL、との交点のメモリセルMC,、、に情報が書込ま
れる。
Information is written to the memory cells MC, . . . at the intersections with BL.

[発明が解決しようとする課題] ところで、従来の半導体メモリ装置は、上述のごとく構
成されており、誤り検出、訂正回路は外部に接続される
のが一般的であった。もし、誤り検出、訂正回路を同一
チップ上に内蔵しようとすると、I10バス線対I10
.Iloを介してメモリセルのデータをメモリセルアレ
イ外へ伝達し、そこで誤り検出、訂正を行なうことにな
る。そして、誤り検出、訂正結果を再度110バス線対
I10、Iloを介してメモリセルに書込む必要がある
。このために、誤り検出、訂正に長時間を要するという
欠点がある。また、I10バス線対I10、Iloの数
を増加しないようにすると、−度に訂正できるビット数
が限られてしまう。このために、ビット数を増加しよう
とすると、I10バス線対の数が多くなってしまい、チ
ップ面積が増加するという問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] Conventional semiconductor memory devices are configured as described above, and error detection and correction circuits are generally connected to the outside. If you try to incorporate error detection and correction circuits on the same chip, the I10 bus line pair I10
.. The data of the memory cell is transmitted to the outside of the memory cell array via Ilo, and errors are detected and corrected there. Then, it is necessary to write the error detection and correction results into the memory cells again via the 110 bus line pair I10 and Ilo. For this reason, there is a drawback that error detection and correction requires a long time. Furthermore, if the number of I10 bus line pairs I10 and Ilo is not increased, the number of bits that can be corrected at a time will be limited. For this reason, if an attempt was made to increase the number of bits, the number of I10 bus line pairs would increase, resulting in a problem that the chip area would increase.

それゆえに、この発明の主たる目的は、メモリセルアレ
イと同一チップ上で誤り検出および訂正を実行できる誤
り訂正回路を内蔵したり、データレジスタを内蔵させて
データのクリア機能を付加できるような半導体メモリ装
置を提供することである。
Therefore, the main object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that has a built-in error correction circuit that can perform error detection and correction on the same chip as a memory cell array, and a built-in data register that can add a data clearing function. The goal is to provide the following.

[課題を解決するための具体的な手段]この発明は半導
体メモリ装置であって、行および列からなるマトリクス
状に配列され、それぞれが情報を記憶する複数のメモリ
セルを有するメモリセルアレイと、それぞれが行方向に
整列するメモリセルを接続するための複数のワード線と
、列方向に整列するメモリセルが接続され、それぞれが
折返しビット線対を構成する複数のビット線対と、複数
のビット線対のそれぞれに接続され、当該ビット線対の
電位差を検出して増幅するセンスアンプと、ビット線対
のデータを保持するレジスタ手段と、レジスタ手段とビ
ット線対とを断続するためのスイッチング手段と、ビッ
ト線対のデータを保持しているレジスタ手段の出力を受
け、容量性の入力インピーダンスを有する入力端および
ビット線対が有していたデータと逆のデータをビット線
対に出力する出力端を備えた駆動手段と、スイッチング
手段を非導通にするとともに、駆動手段を活性化するた
めの信号を発生する活性化信号発生手段を備えて構成さ
れる。
[Specific Means for Solving the Problems] The present invention provides a semiconductor memory device including a memory cell array having a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, each memory cell storing information; A plurality of word lines for connecting memory cells arranged in the row direction, a plurality of bit line pairs to which the memory cells arranged in the column direction are connected and each forming a folded bit line pair, and a plurality of bit lines. a sense amplifier that is connected to each of the bit line pairs and detects and amplifies the potential difference between the bit line pairs; register means that holds data on the bit line pairs; and switching means that connects and connects the register means and the bit line pairs. , an input end that receives the output of the register means holding data on the bit line pair, and has a capacitive input impedance, and an output end that outputs data opposite to the data that the bit line pair had to the bit line pair. and an activation signal generating means for rendering the switching means non-conductive and generating a signal for activating the driving means.

[作用] この発明における半導体メモリ装置は、活性化信号に応
じてレジスタ手段が活性化されるとともに、スイッチン
グ手段によりてレジスタ手段とビット線対とが切り離さ
れ、レジスタ手段によって保持されていたデータに基づ
いて逆のデータをビット線対に出力することにより、ビ
ット線対のデータを反転するときにいったんデータをI
10線に読出す必要はなく、データの反転を高速に行な
うことができる。
[Operation] In the semiconductor memory device of the present invention, the register means is activated in response to an activation signal, and the register means and the bit line pair are separated by the switching means, so that the data held by the register means is By outputting reverse data to the bit line pair based on the I
There is no need to read out to 10 lines, and data can be inverted at high speed.

[発明の実施例] 第1図はこの発明の一実施例の具体的なブロック図であ
り、第2図は第1図に示した誤り検出回路の一例を示す
電気回路図である。
[Embodiment of the Invention] FIG. 1 is a specific block diagram of an embodiment of the invention, and FIG. 2 is an electrical circuit diagram showing an example of the error detection circuit shown in FIG. 1.

まず、第1図および第2図を参照して、この発明の一実
施例の構成について説明する。なお、第1図に示した誤
り訂正回路を有する半導体メモリ装置は、以下の点を除
いて前述の第5図に示したブロック図と同様にして構成
されている。
First, the configuration of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The semiconductor memory device having the error correction circuit shown in FIG. 1 is constructed in the same manner as the block diagram shown in FIG. 5 above, except for the following points.

ビット線対BLo 、BLO−BL6.、BL。Bit line pair BLo, BLO-BL6. , B.L.

、はNチャネルMO8)ランジスタ41〜44を介して
反転増幅器14〜17の入力に接続されるとともに、誤
り検出回路30に接続されている。
, are connected to the inputs of the inverting amplifiers 14 to 17 via N-channel MO8 transistors 41 to 44, and are also connected to the error detection circuit 30.

これらのNチャネルMOSトランジスタ41〜44は高
レベルで導通してビット線対BLo、BLO””BL6
3 、BL61と反転増幅器14〜17および誤り検出
回路30とを接続し、低レベルでこれらを切り離すもの
である。反転増幅器14はNチャネルMOSトランジス
タ18とPチャネルMOSトランジスタ19とを含み、
これらのトランジスタ18.19のゲートは反転増幅器
14の入力端を構成し、トランジスタ42のソースに接
続される。トランジスタ18.19のドレインは共通接
続されてトランジスタ41のソースに接続され、トラン
ジスタ18のソースにはRN信号が与えられ、トランジ
スタ19のソースにはRP信号が与えられる。
These N-channel MOS transistors 41 to 44 are conductive at a high level and bit line pairs BLo, BLO""BL6
3. The BL 61 is connected to the inverting amplifiers 14 to 17 and the error detection circuit 30, and is disconnected at a low level. Inverting amplifier 14 includes an N-channel MOS transistor 18 and a P-channel MOS transistor 19,
The gates of these transistors 18 , 19 constitute the input end of the inverting amplifier 14 and are connected to the source of the transistor 42 . The drains of transistors 18 and 19 are commonly connected to the source of transistor 41, the source of transistor 18 is provided with the RN signal, and the source of transistor 19 is provided with the RP signal.

同様にして、反転増幅器15.16および17は、それ
ぞれトランジスタ20ないし25を含み、前述の反転増
幅器14と同様にして構成される。
Similarly, inverting amplifiers 15, 16 and 17 each include transistors 20 to 25 and are constructed in the same manner as inverting amplifier 14 described above.

さらに、前述のトランジスタ41ないし44の導通を制
御するとともに、反転増幅器14〜17を制御するため
に、制御回路40が設けられている。制御回路40はそ
れぞれ縦続接続された奇数個のインバータ31〜33と
、NANDゲート34とインバータ35とそれぞれが縦
続接続された奇数個のインバータ36.37を含む。そ
して、センス信号発生回路2からインバータ31に活性
化信号SPが与えられると、インバータ31の出力から
RP倍信号出力され、インバータ32の出力からRN信
号が出力される。これらのRP倍信号RN信号は反転増
幅器14〜17に与えられる。
Further, a control circuit 40 is provided to control the conduction of the transistors 41 to 44 described above and to control the inverting amplifiers 14 to 17. The control circuit 40 includes an odd number of inverters 31 to 33 connected in cascade, a NAND gate 34, an inverter 35, and an odd number of inverters 36 and 37, each connected in cascade. When the activation signal SP is applied from the sense signal generation circuit 2 to the inverter 31, the RP multiplied signal is output from the output of the inverter 31, and the RN signal is output from the output of the inverter 32. These RP multiplied signals RN signals are given to inverting amplifiers 14-17.

また、インバータ35の出力からDT倍信号出力され、
トランジスタ41ないし44のゲートに与えられる。ま
た、インバータ33,36および37を介して誤り検出
回路30に制御信号が与えられ、誤り検出回路30はこ
の制御信号が与えられたタイミングにおいて、誤り検出
信号SYo、5Y63を出力する。
Further, a DT times signal is output from the output of the inverter 35,
Applied to the gates of transistors 41-44. Further, a control signal is applied to the error detection circuit 30 via the inverters 33, 36 and 37, and the error detection circuit 30 outputs the error detection signal SYo, 5Y63 at the timing when this control signal is applied.

さらに、ビット線BLo と反転ビット線BL。Further, a bit line BLo and an inverted bit line BL.

との間には駆動回路60が設けられ、ビット線BL63
と反転ビット線BL6.と間には駆動回路70が設けら
れている。駆動回路60は誤り検出回路30が誤りを検
出したことに応じて出力する誤り検出信号SYoに応じ
て、反転増幅器14゜15に保持されていたデータに基
づいて、ビット線対BLo、BL、の情報を反転するも
のである。
A drive circuit 60 is provided between the bit line BL63 and the bit line BL63.
and inverted bit line BL6. A drive circuit 70 is provided between and. The drive circuit 60 detects the bit line pair BLo, BL based on the data held in the inverting amplifiers 14 and 15 in response to the error detection signal SYo output in response to the detection of an error by the error detection circuit 30. It inverts information.

このために、駆動回路60はNチャネルMOSトランジ
スタ61〜64とPチャネルMO5)ランジスタロ5,
66を含む。
For this purpose, the drive circuit 60 includes N-channel MOS transistors 61 to 64 and P-channel MOS transistors 5),
66 included.

トランジスタ61と65のドレインはビット線BLoに
接続され、トランジスタ62と66のソースは反転ビッ
ト線BLoに接続され、トランジスタ61のソースとト
ランジスタ62のドレインはトランジスタ63のソース
に接続され、トランジスタ63のドレインは接地ライン
(G N D)に接続される。トランジスタ65のソー
スとトランジスタ66のドレインはトランジスタ64の
ソースに接続され、トランジスタ64のドレインは電源
ライン(Vc)に接続される。トラジスタ63゜64の
それぞれのゲートには、誤り検出回路30から誤り検出
信号SYoが与えられる。さらに、トランジスタ61と
65のゲートはトランジスタ41のソースに接続され、
トランジスタ62と66のゲートはトランジスタ62の
ソースに接続される。
The drains of transistors 61 and 65 are connected to bit line BLo, the sources of transistors 62 and 66 are connected to inverted bit line BLo, the source of transistor 61 and the drain of transistor 62 are connected to the source of transistor 63, and the sources of transistors 62 and 66 are connected to bit line BLo. The drain is connected to a ground line (GND). The source of the transistor 65 and the drain of the transistor 66 are connected to the source of the transistor 64, and the drain of the transistor 64 is connected to the power supply line (Vc). An error detection signal SYo is applied from the error detection circuit 30 to each gate of the transistors 63 and 64. Further, the gates of transistors 61 and 65 are connected to the source of transistor 41,
The gates of transistors 62 and 66 are connected to the source of transistor 62.

駆動回路70も駆動回路60と同様にして構成され、N
チャネルMOSトランジスタ71〜74とPチャネルM
OSトランジスタ75.76を含み、誤り検出回路30
から誤り検出信号SY6゜が与えられる。
The drive circuit 70 is also configured in the same manner as the drive circuit 60, and has N
Channel MOS transistors 71 to 74 and P channel M
Including OS transistors 75 and 76, error detection circuit 30
An error detection signal SY6° is given from

次に、第2図を参照して、誤り検出回路30の構成につ
いて説明する。誤り検出回路30はシンドローム発生回
路301とレジスタ303とシンドロームデコーダ30
4とANDゲート305とによって構成されている。シ
ンドローム発生回路301は排他的論理和回路302を
複数組合わせて構成されており、このシンドローム発生
回路301には、各ビット線対を介して各メモリセルか
ら読出された情報が与えられる。なお、この第2図に示
したシンドローム発生回路301は、図面を簡略化する
ためにビット線対を1本の線で表わしている。
Next, the configuration of the error detection circuit 30 will be explained with reference to FIG. The error detection circuit 30 includes a syndrome generation circuit 301, a register 303, and a syndrome decoder 30.
4 and an AND gate 305. Syndrome generation circuit 301 is configured by combining a plurality of exclusive OR circuits 302, and information read from each memory cell is applied to syndrome generation circuit 301 via each bit line pair. In the syndrome generation circuit 301 shown in FIG. 2, a bit line pair is represented by one line to simplify the drawing.

シンドローム発生回路301で算出されたシンドローム
の各行の要素の信号SYIはレジスタ303によって保
持される。このレジスタ303によって信号SY、 と
相補の信号SY、が発生され、これらの信号sY、、s
Y、はシンドロームデコーダ304に与えられ、シンド
ロームデコーダ304の出力がANDゲート305に与
えられ、ANDゲート305から誤り検出信号syo 
−5y6、が出力される。なお、このように構成された
誤り検出回路30は従来から公知の技術であるため、こ
れ以上の詳細な説明を省略する。
The signal SYI of the element of each row of the syndrome calculated by the syndrome generation circuit 301 is held by the register 303. This register 303 generates signals SY, complementary to signals SY, and these signals sY, , s
Y, is given to the syndrome decoder 304, the output of the syndrome decoder 304 is given to the AND gate 305, and the error detection signal syo
-5y6 is output. Note that since the error detection circuit 30 configured in this manner is a conventionally known technology, further detailed explanation will be omitted.

第3図はこの発明の一実施例の動作を説明するためのタ
イミング図である。
FIG. 3 is a timing diagram for explaining the operation of one embodiment of the present invention.

次に、第1図ないし第3図を参照して、この発明の一実
施例の動作について説明する。第3図に示したタイミン
グ図は、i番目のワード線WIが選択されたときに、j
番目のビット線対BLi。
Next, the operation of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. The timing diagram shown in FIG. 3 shows that when the i-th word line WI is selected, j
th bit line pair BLi.

BL、に誤りが検出された場合を示す、チップ内部から
印加された行アドレス信号に応じて、行デコーダ1で選
択されたワード線W、およびダミーワード線Dw、(k
−0,1)の電位が第3図(a)、  (b)に示すよ
うに上昇し、各ビット線対にメモリセルの情報電荷が読
出され、第3図(c)に示すように電位変化が生じる。
The word line W selected by the row decoder 1 and the dummy word line Dw, (k
-0, 1) rises as shown in FIGS. 3(a) and 3(b), the information charge of the memory cell is read out to each bit line pair, and the potential rises as shown in FIG. 3(c). Change occurs.

次に、センス信号発生回路2が第3図(d)に示すよう
に低レベルの信号SNを出力するとともに、第3図(e
)に示すように高レベルの信号SPを出力する。これら
の信号に応じて、センスアンプSAが活性化され、ビッ
ト線対上の電圧が増幅される。
Next, the sense signal generation circuit 2 outputs a low level signal SN as shown in FIG.
) outputs a high level signal SP. In response to these signals, sense amplifier SA is activated and the voltage on the bit line pair is amplified.

一方、信号SPはインバータ31ないし33で遅延され
、第3図(g)に示すように、インバータ31の出力で
ある信号RPおよび第3図(h)に示すようにインバー
タ32の出力である信号RNによって反転増幅器14〜
17が活性化される。
On the other hand, the signal SP is delayed by inverters 31 to 33, and as shown in FIG. 3(g), a signal RP is the output of the inverter 31, and a signal RP is the output of the inverter 32 as shown in FIG. 3(h). Inverting amplifier 14~ by RN
17 is activated.

それによって、反転増幅器14〜17はそれぞれビット
線対BLO,百了0 、  BLG 3 、  BLl
i’3の情報を保持する。さらに、信号SPと遅延され
た信号SPとがNANDゲート34に与えられてパルス
化され、そのパルス信号がインバータ35によって反転
されて第3図(f)に示すようなりT信号がトランジス
タ41〜44に与えられる。
Thereby, the inverting amplifiers 14 to 17 are connected to the bit line pairs BLO, BLG3, BLl, respectively.
Holds the information of i'3. Furthermore, the signal SP and the delayed signal SP are applied to the NAND gate 34 to be pulsed, and the pulse signal is inverted by the inverter 35, so that the T signal is transmitted to the transistors 41 to 44 as shown in FIG. 3(f). given to.

それによって、トランジスタ41〜44が導通し、ビッ
ト線対BL、、BL、−BL6.、BL6゜の情報が反
転増幅器14〜17に転送され、電位状態が確定する。
As a result, transistors 41 to 44 become conductive, and bit line pairs BL, BL, -BL6 . , BL6° is transferred to the inverting amplifiers 14 to 17, and the potential state is determined.

さらに、DT倍信号電位が低レベルとなり、トランジス
タ41〜44が非導通となって、ビット線対BL、、B
L、−BL6.、BL6.と反転増幅器14〜17が電
気的に分離される。次に、誤り検出回路30は反転増幅
器14〜17に転送されたビット線対BL、、BLo 
、BL63.百LG3のデータの検査を行なう。ここで
、たとえばビット線対BLo、BL、のデータが誤って
いる場合、誤り検出回路30は誤り検出信号SY。
Further, the DT double signal potential becomes low level, transistors 41 to 44 become non-conductive, and bit line pairs BL, , B
L, -BL6. , BL6. and inverting amplifiers 14-17 are electrically isolated. Next, the error detection circuit 30 detects bit line pairs BL, , BLo transferred to the inverting amplifiers 14 to 17.
, BL63. Inspect the data of 100 LG3. Here, for example, if the data on the bit line pair BLo, BL is incorrect, the error detection circuit 30 outputs an error detection signal SY.

を“H″にする。すると、ビット線BL、−”H’レベ
ルであり、反転ビット線BLO−“L”レベルの場合に
は、a点は“H”レベルであり、b点は“L″レベルあ
るため、トランジスタ61゜63.64.66が導通し
、トランジスタ62゜65が非導通となるので、ビット
線BLOがトランジスタ61.63を介して接地電位に
接続され、反転ビット線BLOがトランジスタ64.6
6を介して電源電位Vcに接続される。それによって、
ビット線BLoが“L”レベルとなり、反転ビット線B
LOが“H”レベルとなってビット線対BLo、BLO
のデータが訂正される。
Set to “H”. Then, when the bit line BL is at the -"H" level and the inverted bit line BLO is at the "L" level, the point a is at the "H" level and the point b is at the "L" level, so the transistor 61 Since ゜63, 64, 66 are conductive and transistors 62゜65 are non-conductive, bit line BLO is connected to ground potential via transistor 61.63, and inverted bit line BLO is connected to transistor 64.6.
6 to the power supply potential Vc. Thereby,
The bit line BLo becomes “L” level, and the inverted bit line B
LO becomes “H” level and the bit line pair BLo, BLO
data will be corrected.

一方、ビット線BLO−“L″レベルあり、反転ビット
線BL、−“H″レベル場合には、a点はL”レベルと
なり、b点は“Hルーベルとなるので、トランジスタ6
2.63,64.65が導通し、トランジスタ61.6
6が非導通状態となるので、同様にしてビット線BL、
が“Hルーベルとなり、反転ビット線BL、が“L”レ
ベルとなって、ビット線対BL、、BLOのデータが訂
正される。
On the other hand, when the bit line BLO is at the "L" level and the inverted bit line BL is at the -"H" level, the point a becomes the "L" level and the point b becomes the "H" level, so the transistor 6
2.63, 64.65 conduct, transistor 61.6
Since bit lines BL and 6 become non-conductive, bit lines BL and
becomes "H" level, the inverted bit line BL becomes "L" level, and the data on the bit line pair BL, , BLO is corrected.

その他のビット線対に関しては、誤り検出回路30の誤
り検出信号sy6.が“L°レベルであるため、トラン
ジスタ73.74が非導通状態のままであり、ビット線
対BL63.BL6.のデータは変化しない。
Regarding other bit line pairs, error detection signals sy6. is at the "L° level," transistors 73 and 74 remain non-conductive, and the data on bit line pair BL63.BL6. does not change.

上述のごとく、この実施例によれば、誤り検出回路30
が誤りを検出したことに応じて、誤り検出信号SYoを
H”にすれば、直ちにビット線対BLO,BL、のデー
タを反転することができるので、データの訂正を高速に
行なえるという利点がある。
As mentioned above, according to this embodiment, the error detection circuit 30
If the error detection signal SY0 is set to H'' in response to the detection of an error, the data on the bit line pair BLO, BL can be immediately inverted, which has the advantage that data can be corrected at high speed. be.

第4図はこの発明の他の実施例を示すブロック図である
。この第4図に示した実施例は、前述の第1図に示した
駆動回路60.70のそれぞれに含まれるPチャネルM
OSトランジスタ65,66.75.76に代えて、N
チャネルMOSトランジスタ67.68,77.78を
設け、それぞれのゲートを交差接続して構成したもので
あり、この第4図に示した実施例においても、第1図に
示した実施例と同様の効果を達成することができる。な
お、この第4図に示した実施例において、駆動回路60
.70のそれぞれに含まれるNチャネルMOS)ランジ
スタロ1,62,71.72をPチャネルMOSトラン
ジスタで構成し、接地ラインと電源ラインを逆にしても
第1図と同様の動作を行なうことができる。
FIG. 4 is a block diagram showing another embodiment of the invention. The embodiment shown in FIG. 4 is based on the P channel M included in each of the drive circuits 60 and 70 shown in FIG.
In place of the OS transistors 65, 66, 75, 76, N
Channel MOS transistors 67, 68 and 77, 78 are provided, and their gates are cross-connected, and the embodiment shown in FIG. 4 is similar to the embodiment shown in FIG. 1. effect can be achieved. Note that in the embodiment shown in FIG. 4, the drive circuit 60
.. Even if the N-channel MOS transistors 1, 62, 71, and 72 included in each of the transistors 70 are constructed of P-channel MOS transistors, and the ground line and power supply line are reversed, the same operation as in FIG. 1 can be performed.

また、第1図および第4図に示した実施例においては、
反転増幅器14〜17の出力はトランジスタのゲートに
しか入力せず、ビット線対の反転はトランジスタ65〜
6’8.75〜78を介して行なうようにしたので、反
転増幅器14〜17の出力インピーダンスが小さくても
よい。したがって、ビット線対BL、、BL、、BL6
.、BL6、から反転増幅器14〜17へのデータ転送
を容易に行なうことができる。また、データの反転は低
インピーダンスのトランジスタ65〜68゜75〜78
を介して行なうことができるので、高速にデータの反転
が行なえる。
Furthermore, in the embodiment shown in FIGS. 1 and 4,
The outputs of the inverting amplifiers 14 to 17 are input only to the gates of the transistors, and the bit line pairs are inverted by the transistors 65 to 17.
6'8.75 to 78, the output impedance of the inverting amplifiers 14 to 17 may be small. Therefore, bit line pairs BL, BL, BL6
.. , BL6, to the inverting amplifiers 14-17 can be easily performed. In addition, the data is inverted using a low impedance transistor 65~68°75~78
Data can be inverted at high speed.

[発明の効果コ 以上のように、この発明によれば、活性化信号に応じて
レジスタ手段を活性化してビット線対の情報を保持する
とともに、スイッチング手段によってレジスタ手段をビ
ット線対から切り離し、駆動手段によりレジスタ手段に
保持されているデータを反転してビット線対に与えるよ
うにしたので、ビット線対のデータを反転するときに一
旦データをI10線に読出す必要はなく、データの反転
を高速に行なうことができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the register means is activated in response to an activation signal to hold information on the bit line pair, and the register means is separated from the bit line pair by the switching means. Since the data held in the register means is inverted by the driving means and applied to the bit line pair, there is no need to read the data to the I10 line once when inverting the data on the bit line pair. can be done quickly.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例の全体の構成を示すブロッ
ク図である。第2図は第1図に示した誤り検出回路の具
体的な電気回路図である。第3図はこの発明の一実施例
の動作を説明するためのタイミング図である。第4図は
この発明の他の実施健を示す詳細なブロック図である。 第5図は従来の半導体メモリを示すブロック図である。 図において、1は行デコーダ、2はセンス信号発生回路
、3は列デコーダ、4はデータ出力メインアンプ、5は
データ人力バッファ、10〜13゜18〜20.22〜
25.41〜44.61〜64.71〜74,77.7
8はNチャネルMOSトランジスタ、14〜17は反転
増幅器、19゜25.65,66.75.76はPチャ
ネルMOSトランジスタ、30は誤り検出回路、31〜
33.35〜37はインバータ、34はNANDゲート
、40は制御回路、MCI、) はメモリセル、Wlは
ワード線、BLt 、BLtはビット線、SAIはセン
スアンプ、Ilo、IloはI10線を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a specific electrical circuit diagram of the error detection circuit shown in FIG. 1. FIG. 3 is a timing diagram for explaining the operation of one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a detailed block diagram showing another implementation of the invention. FIG. 5 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory. In the figure, 1 is a row decoder, 2 is a sense signal generation circuit, 3 is a column decoder, 4 is a data output main amplifier, and 5 is a data manual buffer.
25.41~44.61~64.71~74,77.7
8 is an N-channel MOS transistor, 14-17 are inverting amplifiers, 19°25.65, 66.75.76 are P-channel MOS transistors, 30 is an error detection circuit, 31-
33. 35 to 37 are inverters, 34 is a NAND gate, 40 is a control circuit, MCI, ) is a memory cell, Wl is a word line, BLt, BLt is a bit line, SAI is a sense amplifier, Ilo and Ilo are I10 lines. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 行および列からなるマトリクス状に配列され、それぞれ
が情報を記憶する複数のメモリセルを有するメモリセル
アレイ、 それぞれが前記行方向に整列するメモリセルを接続する
ための複数のワード線、 前記列方向に整列するメモリセルが接続され、それぞれ
が折返しビット線対を構成する複数のビット線対、 前記複数のビット線対のそれぞれに接続され、当該ビッ
ト線対の電位差を検出して増幅するセンスアンプ、 前記ビット線対のデータを保持するレジスタ手段、 前記レジスタ手段と前記ビット線対とを断続するための
スイッチング手段、 前記ビット線対のデータを保持したレジスタ手段の出力
を受ける容量性の入力インピーダンスを有する入力端と
、該ビット線対が有していたデータとは逆のデータを前
記ビット線対に出力する出力端とを含む駆動手段、およ
び 前記スイッチング手段を非導通にするとともに前記駆動
手段を活性化するための信号を発生する活性化信号発生
手段を備えた、半導体メモリ装置。
[Scope of Claims] A memory cell array having a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, each of which stores information, each of which has a plurality of words for connecting the memory cells arranged in the row direction. a plurality of bit line pairs each forming a folded bit line pair, each connected to each of the plurality of bit line pairs, and detecting a potential difference between the bit line pairs; a sense amplifier for amplifying the data on the bit line pair; register means for holding the data on the bit line pair; switching means for connecting and disconnecting the register means and the bit line pair; a driving means including an input end having a capacitive input impedance and an output end for outputting data opposite to data possessed by the bit line pair to the bit line pair; and the switching means are rendered non-conductive. and activation signal generating means for generating a signal for activating the driving means.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001332100A (en) * 2000-05-22 2001-11-30 Hitachi Ltd Dynamic RAM
JP2007042176A (en) * 2005-08-01 2007-02-15 Hitachi Ltd Semiconductor memory device

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