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JP2001332100A - Dynamic RAM - Google Patents

Dynamic RAM

Info

Publication number
JP2001332100A
JP2001332100A JP2000149172A JP2000149172A JP2001332100A JP 2001332100 A JP2001332100 A JP 2001332100A JP 2000149172 A JP2000149172 A JP 2000149172A JP 2000149172 A JP2000149172 A JP 2000149172A JP 2001332100 A JP2001332100 A JP 2001332100A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
bit line
word
sense amplifier
memory cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000149172A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Ota
陽 太田
Chiaki Dono
千晶 堂野
Hiroki Fujisawa
宏樹 藤澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi ULSI Systems Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2000149172A priority Critical patent/JP2001332100A/en
Publication of JP2001332100A publication Critical patent/JP2001332100A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成でメモリセルの情報保持特性の評
価を可能としたダイナミック型RAMを提供する。 【解決手段】 ダイナミック型メモリセルがワード線と
ビット線との交点にマトリックス配置されてなるメモリ
アレイと、上記選択されたワード線に接続された複数の
上記メモリセルから一方のビット線に読み出された記憶
情報を他方のビット線のプリチャージ電圧を参照電圧と
して増幅してメモリセルに再書き込みを行なう複数のセ
ンスアンプを持つダイナミック型RAMに、上記両ビッ
ト線のプリチャージ電圧を中心にして同じ極性にされた
書き込み電圧をメモリセルに書き込み、所定時間後に一
方のビット線において評価すべき2つのメモリセルを選
択し、他方のビット線において参照用に1つのメモリセ
ルを選択して上記センスアンプで増幅させるというテス
ト回路を設ける。
(57) [Problem] To provide a dynamic RAM capable of evaluating the information retention characteristics of a memory cell with a simple configuration. SOLUTION: A memory array in which dynamic memory cells are arranged in a matrix at intersections of word lines and bit lines, and a plurality of memory cells connected to the selected word line are read out to one bit line. A dynamic RAM having a plurality of sense amplifiers for amplifying the stored information by using the precharge voltage of the other bit line as a reference voltage and rewriting the memory cell, with the precharge voltage of both bit lines as the center. A write voltage having the same polarity is written into a memory cell, and after a predetermined time, two memory cells to be evaluated are selected on one bit line, and one memory cell is selected on the other bit line for reference, and A test circuit for amplification by an amplifier is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ダイナミック型
RAM(ランダム・アクセス・メモリ)に関し、メモリ
セルの情報保持評価技術に利用して有効な技術に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic RAM (random access memory), and more particularly to a technique which is effective when applied to a technique for holding and evaluating information on memory cells.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイナミック型メモリセルの情報保持特
性の評価方法として、図4に示すような方法が考えられ
る。注目セルに対して、それの参照用として用いられる
ビット線に比較セルを設定し、かかる比較セルに最大信
号量以下で最小信号量以上の記憶電荷を書き込んでおい
て、各々のワード線を同時に選択して注目セルから期待
値どおりの記憶情報が読み出されるか判定するものであ
る。
2. Description of the Related Art As a method for evaluating the information retention characteristics of a dynamic memory cell, a method as shown in FIG. 4 can be considered. For the cell of interest, a comparison cell is set on a bit line used as a reference for the cell of interest, and storage charges of less than the maximum signal amount and more than the minimum signal amount are written in the comparison cell, and each word line is simultaneously connected. This is to determine whether or not the storage information is read from the cell of interest as expected.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記の評価方法では、
上記比較セルに対して上記最大信号量以下で最小信号量
以上の記憶電荷を書き込むために、センスアンプ部にそ
れに対応した電圧を供給する電源切替回路が必要となる
ため、回路規模が大きなるという問題が生じる。
In the above evaluation method,
In order to write a storage charge equal to or less than the maximum signal amount and equal to or greater than the minimum signal amount to the comparison cell, a power supply switching circuit that supplies a voltage corresponding to the sense amplifier unit is required, so that the circuit scale is large. Problems arise.

【0004】この発明の目的は、簡単な構成でメモリセ
ルの情報保持特性の評価を可能としたダイナミック型R
AMを提供することにある。この発明の前記ならびにそ
のほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添
付図面から明らかになるであろう。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a dynamic type R which can evaluate the information retention characteristics of a memory cell with a simple configuration.
To provide AM. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。ダイナミック型メモリセルがワード線
とビット線との交点にマトリックス配置されてなるメモ
リアレイと、上記選択されたワード線に接続された複数
の上記メモリセルから一方のビット線に読み出された記
憶情報を他方のビット線のプリチャージ電圧を参照電圧
として増幅してメモリセルに再書き込みを行なう複数の
センスアンプを持つダイナミック型RAMに、上記両ビ
ット線のプリチャージ電圧を中心にして同じ極性にされ
た書き込み電圧をメモリセルに書き込み、所定時間後に
一方のビット線において評価すべき2つのメモリセルを
選択し、他方のビット線において参照用に1つのメモリ
セルを選択して上記センスアンプで増幅させるというテ
スト回路を設ける。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. A memory array in which dynamic memory cells are arranged in a matrix at intersections of word lines and bit lines, and storage information read to one bit line from the plurality of memory cells connected to the selected word line To a dynamic RAM having a plurality of sense amplifiers for amplifying the precharge voltage of the other bit line as a reference voltage and rewriting the memory cell, and having the same polarity around the precharge voltage of both bit lines. The write voltage is written to the memory cells, and after a predetermined time, two memory cells to be evaluated are selected on one bit line, and one memory cell is selected for reference on the other bit line and amplified by the sense amplifier. Test circuit is provided.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】図5には、この発明が適用される
ダイナミック型RAM(以下、DRAMという)の一実
施例の概略レイアウト図が示されている。同図において
は、この発明が適用されるダイナミック型RAMを構成
する各回路ブロックのうち、その主要部が判るように示
されており、それが公知の半導体集積回路の製造技術に
より、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上にお
いて形成される。
FIG. 5 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a dynamic RAM (hereinafter referred to as DRAM) to which the present invention is applied. In the figure, the main part of each circuit block constituting the dynamic RAM to which the present invention is applied is shown so that it can be understood. Are formed on one semiconductor substrate.

【0007】この実施例では、特に制限されないが、メ
モリアレイは、全体として4個に分けられる。半導体チ
ップの長手方向に対して左右に分けられて、中央部分1
4にアドレス入力回路、データ入出力回路及びボンディ
ングパッド列からなる入出力インターフェイス回路及び
昇圧回路や降圧回路を含む電源回路等が設けられる。こ
れら中央部分14の両側のメモリアレイに接する部分に
は、メモリアレイ制御回路(AC)11、メインワード
ドライバ(MWD)12が配置される。上記メモリアレ
イ制御回路11は、サブワード選択線やセンスアンプを
駆動するための制御回路及びメインアンプからなる。上
述のように半導体チップの長手方向に対して左右に2
個、上下に2個ずつに分けられた4個からなる各メモリ
アレイにおいて、長手方向に対して上下中央部にカラム
デコーダ領域(YDC)13が設けられる。
In this embodiment, although not particularly limited, the memory array is divided into four as a whole. The central part 1 is divided into right and left parts with respect to the longitudinal direction of the semiconductor chip.
4 is provided with an input / output interface circuit including an address input circuit, a data input / output circuit, and a bonding pad row, and a power supply circuit including a booster circuit and a step-down circuit. A memory array control circuit (AC) 11 and a main word driver (MWD) 12 are arranged at portions on both sides of the central portion 14 that are in contact with the memory array. The memory array control circuit 11 includes a control circuit for driving a sub-word selection line and a sense amplifier, and a main amplifier. As described above, left and right with respect to the longitudinal direction of the semiconductor chip
A column decoder region (YDC) 13 is provided in the upper and lower central portions in the longitudinal direction in each of the four memory arrays divided into two vertically and two vertically.

【0008】上述のよう各メモリアレイにおいて、メイ
ンワードドライバ12は、それに対応した1つのメモリ
アレイを貫通するように延長されるメインワード線の選
択信号を形成する。上記メインワードドライバ領域12
にサブワード選択用のサブワード選択線のドライバも設
けられ、後述するように上記メインワード線と平行に延
長されてサブワード選択線の選択信号を形成する。カラ
ムデコーダ13は、それに対応した1つのメモリアレイ
を貫通するように延長されるカラム選択線の選択信号を
形成する。
As described above, in each memory array, the main word driver 12 generates a main word line selection signal extending so as to penetrate one corresponding memory array. The main word driver area 12
A sub-word selection line driver for sub-word selection is also provided, and extends in parallel with the main word line to form a sub-word selection line selection signal, as described later. The column decoder 13 forms a selection signal of a column selection line extended so as to penetrate one corresponding memory array.

【0009】上記各メモリアレイは、複数からなるメモ
リセルアレイ(以下、メモリマットと称する)15に分
割される。メモリマット15は、その拡大図に示すよう
に、センスアンプ領域16、サブワードドライバ領域1
7に囲まれて形成される。上記センスアンプ領域16
と、上記サブワードドライバ領域17の交差部は、交差
領域(クロスエリア)18とされる。上記センスアンプ
領域16に設けられるセンスアンプは、CMOS構成の
ラッチ回路により構成される。特に制限されないが、こ
の実施例ではセンスアンプを中心にして左右に延長され
る相補ビット線の信号を増幅するという、いわゆる1交
点方式又はオープンビットライン型とされる。そして、
ビット線の配列に対して交互配置させられる。これによ
り、メモリマットに設けられるビット線が半分に分けら
れて、それを挟む2つのセンスアンプ列に交互に振り分
けられる。
Each of the above memory arrays is divided into a plurality of memory cell arrays (hereinafter, referred to as memory mats) 15. As shown in the enlarged view, the memory mat 15 includes a sense amplifier region 16 and a sub-word driver region 1.
7 and is formed. The sense amplifier region 16
The intersection of the sub-word driver area 17 is an intersection area (cross area) 18. The sense amplifier provided in the sense amplifier region 16 is formed by a CMOS latch circuit. Although not particularly limited, in this embodiment, a so-called one-intersection type or an open bit line type in which a signal of a complementary bit line extending right and left around a sense amplifier is amplified is used. And
The bit lines are arranged alternately with respect to the arrangement. As a result, the bit line provided in the memory mat is divided into halves and alternately divided into two sense amplifier rows sandwiching it.

【0010】拡大図として示された1つのメモリマット
15は、特に制限されないが、サブワード線(ワード
線)が512本と、それと直交する相補ビット線の一方
(又はデータ線)は1024本とされる。上記1つのメ
モリアレイにおいて、上記メモリマット15がビット線
延長方向に正規用にビット線方向に32個と冗長用に2
個設けられる。上記冗長用の2個のメモリマットは、端
メモリマットのメモリセルの数が半分になるので、2つ
の端メモリマットで1つのメモリマットと扱うようにす
るか、あるいは参照用として用いるものであってもよ
い。この場合には、冗長用に1つのメモリマットが割り
当てられる。
One memory mat 15 shown as an enlarged view is not particularly limited, but has 512 sub-word lines (word lines) and 1024 complementary bit lines (or data lines) orthogonal thereto. You. In the one memory array, the memory mats 15 are normally 32 in the bit line direction in the bit line extension direction and 2 in the bit line direction for redundancy.
Are provided. Since the two memory mats for redundancy have half the number of memory cells in the end memory mat, the two end memory mats are treated as one memory mat or used for reference. You may. In this case, one memory mat is allocated for redundancy.

【0011】上記メモリマット15は、センスアンプ1
6を中心として一対の相補ビット線が設けられるので、
ビット線の延長方向でみると、ビット線は上記メモリマ
ット15によって実質的に16分割される。また、上記
メモリマット15は、ワード線の延長方向に4個設けら
れる。これにより、ワード線の延長方向でみると、サブ
ワード線は、上記メモリマット15によって4分割され
る。
The memory mat 15 includes a sense amplifier 1
Since a pair of complementary bit lines are provided with the center at 6,
When viewed in the extending direction of the bit line, the bit line is substantially divided into 16 by the memory mat 15. The four memory mats 15 are provided in the direction in which the word lines extend. As a result, the sub-word lines are divided into four by the memory mats 15 in the extending direction of the word lines.

【0012】1つのメモリマット15において、上記端
メモリマットを除いてビット線が1024本設けられる
ので、ワード線方向には約4K分のメモリセルが接続さ
れ、サブワード線が512本設けられるので、ビット線
方向には512×32=16K分のメモリセルが接続さ
れる。これにより、1つのメモリアレイには、4K×1
6K=64Mビットのような記憶容量を持ち、4つのメ
モリアレイによりメモリチップ10の全体では4×64
M=256Mビットのような記憶容量を持つようにされ
る。
Since 1024 bit lines are provided in one memory mat 15 except for the end memory mat, about 4K memory cells are connected in the word line direction and 512 sub-word lines are provided. Memory cells of 512 × 32 = 16K are connected in the bit line direction. Thus, one memory array has 4K × 1
It has a storage capacity such as 6K = 64 Mbits, and 4 × 64 in the entire memory chip 10 by four memory arrays.
It has a storage capacity such as M = 256 Mbits.

【0013】図6には、この発明が適用されるDRAM
のメモリマットを説明するための一実施例の構成図が示
されている。図6(a)は、前記図5のような階層ワー
ド線方式のDRAMに設けられる2つのメモリマットM
AT0,MAT1に対応した回路が示され、図6(b)
は、それに対応したレイアウトが示されている。図6
(a)において、ビット線BLとサブワード線WLの全
ての交点にMOSFETとセル容量CSからなるメモリ
セルMCが接続されている。ビット線BLはセンスアン
プSA、ワード線WLにはサブワードドライバSWDが
接続される。
FIG. 6 shows a DRAM to which the present invention is applied.
1 is a block diagram of one embodiment for explaining the memory mat of FIG. FIG. 6A shows two memory mats M provided in a hierarchical word line type DRAM as shown in FIG.
Circuits corresponding to AT0 and MAT1 are shown in FIG.
Indicates a layout corresponding to the symbol. FIG.
In (a), a memory cell MC including a MOSFET and a cell capacitor CS is connected to all intersections of a bit line BL and a sub-word line WL. The bit line BL is connected to a sense amplifier SA, and the word line WL is connected to a sub-word driver SWD.

【0014】この実施例では、メインワード線の数を減
らすために、言い換えるならば、メインワード線の配線
ピッチを緩やかにするために、特に制限されないが、後
述するように1つのメインワード線に対して、相補ビッ
ト線方向に4本からなるサブワード線を配置させる。前
記図1のようにメインワード線方向には2本に分割さ
れ、及び相補ビット線方向に対して上記4本ずつが割り
当てられたサブワード線の中から1本のサブワード線を
選択するために、サブワード選択ドライバが配置され
る。このサブワード選択ドライバは、上記サブワードド
ライバの配列方向(サブワードドライバ列SWDA)に
延長される4本のサブワード選択線の中から1つを選択
する選択信号を形成する。メインワード線MWLは、図
示しないがサブワード線WLと平行に延長される。カラ
ム選択線YSは図示しないがそれと直交するようビット
BLの延長方向と平行に配置される。
In this embodiment, in order to reduce the number of main word lines, in other words, to reduce the wiring pitch of the main word lines, there is no particular limitation. On the other hand, four sub-word lines are arranged in the direction of the complementary bit lines. As shown in FIG. 1, in order to select one sub-word line from the sub-word lines divided into two in the main word line direction and the four sub-word lines allocated to the complementary bit line direction, A sub-word selection driver is provided. The sub-word selection driver generates a selection signal for selecting one of the four sub-word selection lines extending in the arrangement direction of the sub-word drivers (sub-word driver row SWDA). Although not shown, the main word line MWL extends in parallel with the sub word line WL. Although not shown, the column selection line YS is arranged parallel to the extension direction of the bit BL so as to be orthogonal to the column selection line YS.

【0015】上記2つのメモリマットMAT0とMAT
1の間に設けられたセンスアンプ列SAAのセンスアン
プSAは、上記2つのメモリマットMAT0とMAT1
の両側に延長するような相補ビット線に接続される。こ
れらのセンスアンプSAは、上記センスアンプ列SAA
において、特に制限されないが、2つのビット線毎に1
つのセンスアンプSAが配置される。したがって、上記
メモリマットMAT0とMAT1の間に設けられたセン
スアンプ列SAAには、前記のようにビット線BLが1
024本ある場合には、その半分の512個のセンスア
ンプSAが設けられる。
The above two memory mats MAT0 and MAT
1, the sense amplifiers SA of the sense amplifier array SAA provided between the two memory mats MAT0 and MAT1
Are connected to complementary bit lines extending to both sides of the bit line. These sense amplifiers SA correspond to the sense amplifier row SAA.
Is not particularly limited, but one for every two bit lines
Two sense amplifiers SA are arranged. Therefore, the sense amplifier array SAA provided between the memory mats MAT0 and MAT1 has one bit line BL as described above.
If there are 024, half of them, 512 sense amplifiers SA are provided.

【0016】そして、メモリマットMAT0において、
残りの512本のビット線は、メモリマットMAT1と
は反対側のセンスアンプ列SAAに設けられたセンスア
ンプSAに接続される。メモリマットMAT1におい
て、残り512本のビット線は、メモリマットMAT0
とは反対側に設けられたセンスアンプ列SAAに設けら
れるセンスアンプSAに接続される。このようなセンス
アンプSAのビット線方向の両側の分散配置によって、
2本分のビット線に対して1つのセンスアンプをその両
端に交互に分散して形成すればよいから、センスアンプ
SAとビット線BLのピッチを合わせて高密度にメモリ
マット及びセンスアンプ列を形成することができる。
Then, in the memory mat MAT0,
The remaining 512 bit lines are connected to the sense amplifiers SA provided in the sense amplifier row SAA on the opposite side of the memory mat MAT1. In the memory mat MAT1, the remaining 512 bit lines are connected to the memory mat MAT0.
Are connected to a sense amplifier SA provided in a sense amplifier row SAA provided on the opposite side to the above. With such a distributed arrangement on both sides of the sense amplifier SA in the bit line direction,
Since it is sufficient to form one sense amplifier alternately at both ends for two bit lines, the memory mat and the sense amplifier row can be densely arranged by adjusting the pitch of the sense amplifier SA and the bit line BL. Can be formed.

【0017】このことは、サブワードドライバSWDに
おいても同様である。メモリマットMAT0に設けられ
た512本のサブワード線WLは、256本ずつに分け
られてメモリマットMAT0の両側に配置されたサブワ
ードドライバ列SWDAの256個のサブワードドライ
バSWDに接続される。この実施例では、2本のサブワ
ード線WLを1組として、2個ずつのサブワードドライ
バSWDが分散配置される。つまり、ビット線との接続
部を共通とする2つのメモリセルに対応したサブワード
線を1組として、2つのサブワードドライバがメモリマ
ットMAT0の一端側(図の上側)に配置され、それと
隣接する上記同様の2本のサブワード線を1組として、
2つのサブワードトライバがメモリマットMAT0の他
端側(図の下側)に配置される。
The same applies to the sub-word driver SWD. The 512 sub-word lines WL provided in the memory mat MAT0 are divided into 256 lines and connected to the 256 sub-word drivers SWD of the sub-word driver row SWDA arranged on both sides of the memory mat MAT0. In this embodiment, two sub-word lines WL are set as one set, and two sub-word drivers SWD are distributed and arranged. That is, two sub-word drivers are arranged on one end side (upper side in the drawing) of the memory mat MAT0, with one set of sub-word lines corresponding to two memory cells having a common connection portion with the bit line, and adjacent thereto. Assuming a similar set of two sub-word lines as one set,
Two sub-word drivers are arranged on the other end side (lower side in the figure) of memory mat MAT0.

【0018】上記サブワードドライバSWDは、図示し
ないが、それが形成されるサブワードドライバ列SWD
Aを挟んで両側に設けられるメモリマットのサブワード
線の選択信号を形成する。これにより、メモリセルの配
列ピッチに合わせて形成されたサブワード線に対応し
て、サブワードドライバSWDを効率よく分散配置させ
るとともに、サブワード線WLの選択動作を高速に行な
うようにすることができる。
Although not shown, the sub-word driver SWD is a sub-word driver array SWD in which the sub-word driver SWD is formed.
A selection signal for a sub-word line of a memory mat provided on both sides of A is formed. This makes it possible to efficiently disperse and arrange the sub-word drivers SWD corresponding to the sub-word lines formed in accordance with the arrangement pitch of the memory cells, and to perform the selecting operation of the sub-word lines WL at a high speed.

【0019】上記のようなサブワードドライバ列SWD
Aとセンスアンプ列SAAで囲まれるてなるメモリセル
アレイ(又はメモリマット)MAT0,MAT1等のビ
ット線BLとサブワード線WLの各交点にメモリセルM
Cが形成される。上記各メモリセルMCが形成されるメ
モリマットMAT0において、図6(b)のように、記
憶キャパシタCSの上部電極(プレート電極)PLはメ
モリマットMAT0,MAT1内の全てのメモリセルM
Cで共通に形成されて平面状の電極とされる。かかるプ
レート電極PLへの給電は、ビット線BLの延長方向に
配線された電源配線VPLTより接続部PLCTを介し
て、サブワードドライバ列SWDAとメモリマットMA
T0,MAT1との境界で行うようにされる。同図にお
いて、蓄積ノードSNは記憶キャパシタCSの下部電極
であり、アドレス選択MOSFETとの接続部を示す。
The above-described sub-word driver row SWD
A and a memory cell array (or memory mat) MAT0, MAT1 or the like surrounded by a sense amplifier array SAA at each intersection of a bit line BL and a sub-word line WL.
C is formed. In the memory mat MAT0 in which the memory cells MC are formed, as shown in FIG. 6B, the upper electrode (plate electrode) PL of the storage capacitor CS is connected to all the memory cells MAT0 and MAT1 in the memory mats MAT0 and MAT1.
C is formed in common to form a planar electrode. The power supply to the plate electrode PL is performed by connecting the sub-word driver row SWDA and the memory mat MA via a connection part PLCT from a power supply wiring VPLT wired in the extending direction of the bit line BL.
It is performed at the boundary between T0 and MAT1. In the figure, a storage node SN is a lower electrode of a storage capacitor CS, and indicates a connection portion with an address selection MOSFET.

【0020】この実施例では、図6(b)のように、セ
ンスアンプ列SAAの両側に存在するメモリマットMA
T0、MAT1にそれぞれ形成される上記のようなプレ
ート電極PL0とPL1を、プレート層自体を用いた配
線PLSAで互いに接続する。しかも、この配線PLS
Aをセンスアンプ例SAAを貫通させるよう多数設け
て、2つのプレート電極PL0とPL1の間の抵抗を大
幅に下げるようにするものである。これによって、上記
メモリマットMAT0とMAT1の相補ビット線BL間
に選択されたメモリセルMCから読み出された微小信号
をセンスアンプSAによって増幅する際にプレート電極
PL0とPL1に生ずる互いに逆相になるノイズを高速
に打ち消すことが可能になり、プレート電極PL0とP
L1に生ずるノイズを大幅に低減することが可能にな
る。
In this embodiment, as shown in FIG. 6B, the memory mats MA on both sides of the sense amplifier array SAA are provided.
The above-described plate electrodes PL0 and PL1 formed on T0 and MAT1, respectively, are connected to each other by a wiring PLSA using the plate layer itself. Moreover, this wiring PLS
A is provided so as to penetrate the sense amplifier SAA so that the resistance between the two plate electrodes PL0 and PL1 is greatly reduced. Thereby, when the small signal read from the memory cell MC selected between the complementary bit lines BL of the memory mats MAT0 and MAT1 is amplified by the sense amplifier SA, the phases are opposite to each other, which are generated on the plate electrodes PL0 and PL1. Noise can be canceled at high speed, and the plate electrodes PL0 and P0
Noise generated in L1 can be greatly reduced.

【0021】図示しないが、端マットでは半分のビット
線しかセンスアンプに接続されないから、ビット線のピ
ッチに余裕がある。そこで、端マットのビット線はその
長さを半分にして、センスアンプ部で2つに分岐し、あ
るいは遠い端部で折り返すようにして1つのワード線に
2つのメモリセルが接続されるようにすることができ
る。このような端マットを冗長用に用いた場合には、メ
モリセルの情報保持特性が2倍になるので冗長メモリセ
ルにおいて情報保持不良が発生する確率が大幅に低減さ
せて信頼性の高い冗長メモリセルを構成することができ
る。この冗長メモリセルは、後述するようなメモリセル
の情報保持特性の評価においても有効に利用することが
できる。
Although not shown, only half of the bit lines are connected to the sense amplifiers in the end mat, so there is room for the bit line pitch. Therefore, the bit line of the end mat is halved in length and branched into two in the sense amplifier section, or folded at the far end so that two memory cells are connected to one word line. can do. When such an end mat is used for redundancy, the information retention characteristic of the memory cell is doubled, so that the probability of occurrence of information retention failure in the redundant memory cell is greatly reduced, and a highly reliable redundant memory is provided. A cell can be configured. This redundant memory cell can be effectively used in the evaluation of the information retention characteristics of the memory cell as described later.

【0022】図1には、この発明に係るDRAMにおけ
るメモリセルの情報保持特性の評価方法の一実施例を説
明するための概略回路図が示されている。この実施例で
は、端マットが有効理由される。同図において、センス
アンプの左側に配置されるビット線は、上記のようにメ
モリアレイの左側に配置される端マットとされる。それ
故、ビット線は、その長さが半分になるように中間部で
折り返して構成される。この構成では、1つのワード線
と上記折り返しビット線との交差部が2つになるため、
ワード線選択によりビット線においては2つのメモリセ
ルが同時に選択される。
FIG. 1 is a schematic circuit diagram for explaining one embodiment of a method for evaluating the information holding characteristic of a memory cell in a DRAM according to the present invention. In this embodiment, the end mat is valid. In the figure, the bit line arranged on the left side of the sense amplifier is an end mat arranged on the left side of the memory array as described above. Therefore, the bit line is formed by folding back at the middle part so that its length becomes half. In this configuration, the number of intersections between one word line and the folded bit line is two,
Two memory cells are simultaneously selected on a bit line by word line selection.

【0023】上記センスアンプの右側に設けらるビット
線は、通常のメモリマットを構成するようなビット線と
され、センスアンプ部から直線的に延長される。それ
故、かかる通常メモリマットに設けられるワード線との
ビット線との交点は1つとなり、ワード線選択によりビ
ット線においては1つのメモリセルのみが選択されるこ
とになる。
The bit line provided on the right side of the sense amplifier is a bit line forming a normal memory mat, and is linearly extended from the sense amplifier. Therefore, the number of intersections between the word line and the bit line provided in the normal memory mat is one, and only one memory cell is selected in the bit line by the word line selection.

【0024】この実施例のDRAMでは、テスト動作の
ときに上記端マットに設けられるビット線の注目セルに
はVDLのようなハイレベル(又は回路の接地電位VS
Sのようなロウレベル)を書き込み、通常マットに設け
られるビット線の比較セルにも上記注目セルと同じくV
DLのようなハイレベル(又はVSSのようなロウレベ
ル)を書き込む。
In the DRAM of this embodiment, the attention cell of the bit line provided in the end mat at the time of the test operation has a high level such as VDL (or the ground potential VS of the circuit).
S (low level like S) is written, and the bit line comparison cell normally provided in the mat is also V
A high level such as DL (or a low level such as VSS) is written.

【0025】情報保持特性を評価するための一定時間経
過後に、上記端マット及び通常マットに対応したワード
線を同時に選択状態にする。これにより、センスアンプ
に接続される一対のビット線には、注目セルと比較セル
からの記憶電荷に対応した読み出し信号が得られる。セ
ンスアンプ起動信号によりMOSFETQ1とQ2をオ
ン状態にして動作電圧VDLとVSSをセンスアンプに
供給することにより、センスアンプを活性化させる。セ
ンスアンプは、上記2つのビット線の電位差に対応した
増幅信号を形成するので、それを出力させることにより
注目セルの情報保持能力を判定する。
After a lapse of a predetermined time for evaluating the information holding characteristic, the word lines corresponding to the end mat and the normal mat are simultaneously selected. As a result, a read signal corresponding to the storage charge from the target cell and the comparison cell is obtained on the pair of bit lines connected to the sense amplifier. The sense amplifier is activated by turning on the MOSFETs Q1 and Q2 by the sense amplifier start signal and supplying the operating voltages VDL and VSS to the sense amplifier. Since the sense amplifier forms an amplified signal corresponding to the potential difference between the two bit lines, the sense amplifier outputs the amplified signal to determine the information holding ability of the cell of interest.

【0026】図2には、この発明に係るDRAMにおけ
るメモリセルの情報保持特性の評価方法の他の一実施例
を説明するための概略回路図が示されている。この実施
例では、特に制限されないが、通常マットのメモリセル
の評価に向けられている。同図において、センスアンプ
の左右側に配置されるビット線は、センスアンプ部から
それぞれ直線的に延長される。それ故、かかる通常メモ
リマットに設けられるワード線とのビット線との交点は
1つとなり、ワード線選択によりビット線においては1
つのメモリセルのみが選択されることになる。
FIG. 2 is a schematic circuit diagram for explaining another embodiment of the method for evaluating the information holding characteristic of a memory cell in a DRAM according to the present invention. In this embodiment, although not particularly limited, it is directed to evaluation of a memory cell of a normal mat. In the figure, the bit lines arranged on the left and right sides of the sense amplifier extend linearly from the sense amplifier. Therefore, the number of intersections between the word line and the bit line provided in the normal memory mat is one, and one bit line is selected by the word line selection.
Only one memory cell will be selected.

【0027】この実施例のDRAMでは、テスト動作の
ときに上記例えば左側のメモリセルの評価を行なう場合
には、左側のビット線の2つの注目セルにはVDLのよ
うなハイレベル(又は回路の接地電位VSSのようなロ
ウレベル)を書き込み、右側マットに設けられるビット
線の比較セルにも上記注目セルと同じくVDLのような
ハイレベル(又はVSSのようなロウレベル)を書き込
む。
In the DRAM of this embodiment, when the above-mentioned memory cell on the left side, for example, is evaluated during a test operation, two cells of interest on the left bit line are set to a high level such as VDL (or a circuit of the circuit). A low level such as the ground potential VSS is written, and a high level such as VDL (or a low level such as VSS) is written in the comparison cell of the bit line provided in the right mat as in the case of the target cell.

【0028】情報保持特性を評価するための一定時間経
過後に、上記両マットに対応したワード線を同時に選択
状態にする。この場合、左側マットでは2つのワード線
を同時に選択する。センスアンプに接続される一対のビ
ット線には、2つの注目セルと1つの比較セルからの記
憶電荷に対応した読み出し信号が得られる。センスアン
プ起動信号によりMOSFETQ1とQ2をオン状態に
して動作電圧VDLとVSSをセンスアンプに供給する
ことにより、センスアンプを活性化させる。センスアン
プは、上記2つのビット線の電位差に対応した増幅信号
を形成するので、それを出力させることにより注目セル
の情報保持能力を判定する。
After a lapse of a predetermined time for evaluating the information holding characteristics, the word lines corresponding to the two mats are simultaneously selected. In this case, two word lines are simultaneously selected in the left mat. A pair of bit lines connected to the sense amplifier can obtain read signals corresponding to storage charges from two target cells and one comparison cell. The sense amplifier is activated by turning on the MOSFETs Q1 and Q2 by the sense amplifier start signal and supplying the operating voltages VDL and VSS to the sense amplifier. Since the sense amplifier forms an amplified signal corresponding to the potential difference between the two bit lines, the sense amplifier outputs the amplified signal to determine the information holding ability of the cell of interest.

【0029】図3には、前記図1及び図2のDRAMに
おけるメモリセルの情報保持特性を評価の原理を説明す
るための波形図が示されいてる。メモリセルの情報保持
特性が通常(正常)であるとき、注目セル側のビット線
に読み出される信号量は、ビット線のプリチャージ電圧
に対して2倍のように大きくい電圧Vsigmaxとされる。
一方、比較セル側のビット線に読み出される信号量は、
ビット線のプリチャージ電圧に対して1個のメモリセル
分の電圧Vsigrefのようにされる。したかって、前記の
ように両ビット線のワード線を同時に選択すると、差動
のセンスアンプに与えられる入力信号Vsig =Vsigmax
−Vsigrefとなり、注目セルと同じデータが出力され
る。これにより、上記注目セルは所望の情報保持特性を
持つものと判定される。
FIG. 3 is a waveform chart for explaining the principle of evaluating the information holding characteristic of the memory cell in the DRAM shown in FIGS. 1 and 2. When the information holding characteristic of the memory cell is normal (normal), the signal amount read to the bit line on the cell of interest is set to a voltage Vsigmax that is twice as large as the precharge voltage of the bit line.
On the other hand, the signal amount read to the bit line on the comparison cell side is:
The precharge voltage of the bit line is set to a voltage Vsigref for one memory cell. Therefore, when the word lines of both bit lines are simultaneously selected as described above, the input signal Vsig = Vsigmax applied to the differential sense amplifier
−Vsigref, and the same data as the target cell is output. As a result, it is determined that the cell of interest has desired information holding characteristics.

【0030】メモリセルの情報保持特性が不良(Cs損
失セル)であるとき、注目セル側のビット線に読み出さ
れる信号量は、記憶キャパシタCsの容量値不足あるい
はリーク電流が大きいために、ビット線のプリチャージ
電圧に対してハイレベルの読み出し信号がえられるが2
倍以下の小さい電圧Vsigminとされる。一方、比較セル
側のビット線に読み出される信号量は、ビット線のプリ
チャージ電圧に対して1個のメモリセル分の電圧Vsigr
efのようにされる。したかって、前記のように両ビット
線のワード線を同時に選択すると、差動のセンスアンプ
に与えられる入力信号−Vsig =Vsigmax−Vsigrefと
なり、注目セルと反対のデータが出力される。これによ
り、上記注目セルは不良セルと判定される。
When the information retention characteristic of the memory cell is defective (Cs loss cell), the amount of signal read out to the bit line on the cell of interest depends on the shortage of the capacitance value of the storage capacitor Cs or the large leak current. A high level read signal is obtained for the precharge voltage of
The voltage Vsigmin is less than twice as small. On the other hand, the signal amount read to the bit line on the comparison cell side is equal to the voltage Vsigr for one memory cell with respect to the precharge voltage of the bit line.
Like ef. Therefore, when the word lines of both bit lines are simultaneously selected as described above, the input signal applied to the differential sense amplifier becomes -Vsig = Vsigmax-Vsigref, and data opposite to the cell of interest is output. As a result, the cell of interest is determined to be a defective cell.

【0031】この実施例のメモリセルの評価方法は、セ
ンスアンプ部にテスト用の電源配線及び切替スイッチを
設けることが不要となり、回路の簡素化が可能になる。
上記センスアンプを活性化させる駆動回路は、上記高密
度に配列されるメモリアレイ部に組み込む必要があり、
上記駆動回路が形成される箇所には、センスアンプ部に
設けられカラムスイッチを介してビット線に接続される
ローカル入出力線と、メイン入出力線とを選択する選択
回路、及びかかるローカルビット線やメイン入出力線の
プリチャージやイコライズ回路、前記のような階層ワー
ド線方式ではサブワードドライバの動作に必要な選択信
号を増幅する回路を設ける必要があり、素子形成エリア
に余裕がないので、上記のような電源配線や切替回路を
削減できることはメモリアレイ部の高密度配置において
メリットは大きい。
In the method of evaluating a memory cell according to this embodiment, it is not necessary to provide a power supply wiring for a test and a changeover switch in the sense amplifier section, and the circuit can be simplified.
The drive circuit for activating the sense amplifier needs to be incorporated in the memory array section arranged at high density.
A selection circuit for selecting a main input / output line and a local input / output line connected to a bit line via a column switch provided in a sense amplifier portion at a place where the drive circuit is formed, and the local bit line In the hierarchical word line method as described above, it is necessary to provide a circuit for amplifying a selection signal necessary for the operation of the sub-word driver, and there is no room in the element formation area. Reducing the number of power supply wirings and switching circuits as described above has a great advantage in the high-density arrangement of the memory array section.

【0032】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。 (1) ダイナミック型メモリセルがワード線とビット
線との交点にマトリックス配置されてなるメモリアレイ
と、上記選択されたワード線に接続された複数の上記メ
モリセルから一方のビット線に読み出された記憶情報を
他方のビット線のプリチャージ電圧を参照電圧として増
幅してメモリセルに再書き込みを行なう複数のセンスア
ンプを持つダイナミック型RAMに、上記両ビット線の
プリチャージ電圧を中心にして同じ極性にされた書き込
み電圧をメモリセルに書き込み、所定時間後に一方のビ
ット線において評価すべき2つのメモリセルを選択し、
他方のビット線において参照用に1つのメモリセルを選
択して上記センスアンプで増幅させるというテスト回路
を設けることにより、簡単な構成でメモリセルの情報保
持特性の評価が可能になるという効果が得られる。
The functions and effects obtained from the above embodiment are as follows. (1) A memory array in which dynamic memory cells are arranged in a matrix at intersections of word lines and bit lines, and a plurality of memory cells connected to the selected word line are read to one bit line. A dynamic RAM having a plurality of sense amplifiers for amplifying the stored information using the precharge voltage of the other bit line as a reference voltage and rewriting the memory cell with the same precharge voltage is used with the precharge voltage of both bit lines as the center. Writing the polarized write voltage into the memory cells, selecting two memory cells to be evaluated on one bit line after a predetermined time,
By providing a test circuit for selecting one memory cell for reference on the other bit line and amplifying it with the sense amplifier, it is possible to evaluate the information retention characteristics of the memory cell with a simple configuration. Can be

【0033】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上記
メモリセルの評価を行なうテスト回路は、DRAMの開
発品に適用することの他、量産品に対しても適用するこ
とができる。ワード線は、前記のような階層ワード線方
式の他にメタル層との2層構造等で構成するものであっ
てもよい。ダイナミック型RAMの入出力インターフェ
イスは、DDR SDRAMやSDRAM等種々のもの
に適合するようにするものであってもよいし、ダイナミ
ック型RAMはデジタル集積回路に内蔵されるものであ
ってもよい。この発明は、1交点方式の他に一対のビッ
ト線を平行に延長させるといういわゆる2交点又は折り
返しビット線方式のダイナミック型RAMにも利用する
ことができる。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, the test circuit for evaluating the memory cell described above can be applied not only to a developed DRAM product but also to a mass-produced DRAM product. The word line may have a two-layer structure with a metal layer in addition to the hierarchical word line method as described above. The input / output interface of the dynamic RAM may be adapted to various types such as DDR SDRAM and SDRAM, or the dynamic RAM may be built in a digital integrated circuit. The present invention can also be applied to a so-called two-intersection or folded bit line type dynamic RAM in which a pair of bit lines are extended in parallel in addition to the one-intersection method.

【0034】[0034]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。ダイナミック型メモリセルがワード線
とビット線との交点にマトリックス配置されてなるメモ
リアレイと、上記選択されたワード線に接続された複数
の上記メモリセルから一方のビット線に読み出された記
憶情報を他方のビット線のプリチャージ電圧を参照電圧
として増幅してメモリセルに再書き込みを行なう複数の
センスアンプを持つダイナミック型RAMに、上記両ビ
ット線のプリチャージ電圧を中心にして同じ極性にされ
た書き込み電圧をメモリセルに書き込み、所定時間後に
一方のビット線において評価すべき2つのメモリセルを
選択し、他方のビット線において参照用に1つのメモリ
セルを選択して上記センスアンプで増幅させるというテ
スト回路を設けることにより、簡単な構成でメモリセル
の情報保持特性の評価が可能になる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. A memory array in which dynamic memory cells are arranged in a matrix at intersections of word lines and bit lines, and storage information read to one bit line from the plurality of memory cells connected to the selected word line To a dynamic RAM having a plurality of sense amplifiers for amplifying the precharge voltage of the other bit line as a reference voltage and rewriting the memory cell, and having the same polarity around the precharge voltage of both bit lines. The write voltage is written to the memory cells, and after a predetermined time, two memory cells to be evaluated are selected on one bit line, and one memory cell is selected for reference on the other bit line and amplified by the sense amplifier. Of the test circuit, it is possible to evaluate the information retention characteristics of the memory cell with a simple configuration

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係るDRAMにおけるメモリセルの
情報保持特性の評価方法の一実施例を説明するための概
略回路図である。
FIG. 1 is a schematic circuit diagram for explaining an embodiment of a method for evaluating information retention characteristics of a memory cell in a DRAM according to the present invention.

【図2】この発明に係るDRAMにおけるメモリセルの
情報保持特性の評価方法の他の一実施例を説明するため
の概略回路図である。
FIG. 2 is a schematic circuit diagram for explaining another embodiment of the method for evaluating the information retention characteristics of a memory cell in a DRAM according to the present invention.

【図3】図1及び図2のDRAMにおけるメモリセルの
情報保持特性を評価の原理を説明するための波形図であ
る。
FIG. 3 is a waveform chart for explaining the principle of evaluating the information holding characteristic of a memory cell in the DRAM of FIGS. 1 and 2;

【図4】この発明に先立って検討されたDRAMにおけ
るメモリセルの情報保持特性の評価方法を説明するため
の概略回路図である。
FIG. 4 is a schematic circuit diagram for explaining a method of evaluating information retention characteristics of a memory cell in a DRAM studied prior to the present invention.

【図5】この発明が適用されるDRAMの一実施例を示
す概略レイアウト図である。
FIG. 5 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a DRAM to which the present invention is applied;

【図6】この発明が適用されるDRAMのメモリマット
を説明するための一実施例の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of one embodiment for explaining a memory mat of a DRAM to which the present invention is applied;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Q1〜Q2…MOSFET、10…メモリチップ、11
…アレイ制御回路、12…メインワードドライバ、13
…カラムデコーダ、15…メモリマット(メモリマッ
ト)、16…センスアンプ、17…サブワードドライ
バ、18…交差領域、SAA…センスアンプ列、SWD
A…サブワードドライバ列、MAT1,MAT2…メモ
リマット(メモリマット)、SA…センスアンプ、SW
D…サブワードドライバ、PL0,PL1…プレート電
極、PLSA…配線、MWL…メインワード線、WL…
サブワード線、BL…ビット線。
Q1 to Q2: MOSFET, 10: memory chip, 11
... Array control circuit, 12 ... Main word driver, 13
... column decoder, 15 ... memory mat (memory mat), 16 ... sense amplifier, 17 ... sub-word driver, 18 ... intersection area, SAA ... sense amplifier row, SWD
A: Sub-word driver row, MAT1, MAT2: Memory mat (memory mat), SA: Sense amplifier, SW
D: Sub-word driver, PL0, PL1: Plate electrode, PLSA: Wiring, MWL: Main word line, WL:
Sub word line, BL ... bit line.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堂野 千晶 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 藤澤 宏樹 東京都青梅市新町六丁目16番地の3 株式 会社日立製作所デバイス開発センタ内 Fターム(参考) 2G032 AA07 AC02 AE07 AE08 AG04 AH02 AK11 5B024 AA15 BA01 BA11 CA07 EA01 5L106 AA01 DD12 GG07  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Chiaki Dono 5-2-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Within the Semiconductor Group, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Hiroki Fujisawa 6-chome, Shinmachi, Ome-shi, Tokyo F-term (reference) in Hitachi, Ltd. Device Development Center at 16 2 3G032 AA07 AC02 AE07 AE08 AG04 AH02 AK11 5B024 AA15 BA01 BA11 CA07 EA01 5L106 AA01 DD12 GG07

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ダイナミック型メモリセルがワード線と
ビット線との交点にマトリックス配置されてなるメモリ
アレイと、 上記選択されたワード線に接続された複数の上記メモリ
セルから一方のビット線に読み出された記憶情報を他方
のビット線のプリチャージ電圧を参照電圧として増幅し
てメモリセルに再書き込みを行なう複数のセンスアンプ
と、 上記メモリセルの保持特性の評価を行なうテスト回路と
を備え、 上記テスト回路は、上記両ビット線のプリチャージ電圧
を中心にして同じ極性にされた書き込み電圧をメモリセ
ルに書き込み、所定時間後に一方のビット線において評
価すべき2つのメモリセルを選択し、他方のビット線に
おいて参照用に1つのメモリセルを選択して上記センス
アンプで増幅してなることを特徴とするダイナミック型
RAM。
1. A memory array in which dynamic memory cells are arranged in a matrix at intersections of word lines and bit lines, and a plurality of memory cells connected to the selected word line are read to one bit line. A plurality of sense amplifiers for amplifying the output storage information using the precharge voltage of the other bit line as a reference voltage and rewriting the memory cells, and a test circuit for evaluating the retention characteristics of the memory cells, The test circuit writes a write voltage having the same polarity around the precharge voltage of both bit lines to a memory cell, selects two memory cells to be evaluated on one bit line after a predetermined time, and selects the other memory cell. Characterized in that one memory cell is selected for reference on a bit line and amplified by the sense amplifier. Rack type RAM.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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