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JPH01217916A - ウエハ周辺露光機構 - Google Patents

ウエハ周辺露光機構

Info

Publication number
JPH01217916A
JPH01217916A JP63042156A JP4215688A JPH01217916A JP H01217916 A JPH01217916 A JP H01217916A JP 63042156 A JP63042156 A JP 63042156A JP 4215688 A JP4215688 A JP 4215688A JP H01217916 A JPH01217916 A JP H01217916A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
exposure
light
lens
linear movement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63042156A
Other languages
English (en)
Inventor
Manabu Matsuo
学 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Canon Marketing Japan Inc
Original Assignee
Canon Inc
Canon Marketing Japan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc, Canon Marketing Japan Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP63042156A priority Critical patent/JPH01217916A/ja
Publication of JPH01217916A publication Critical patent/JPH01217916A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造フォトプロセスにおいて、ウェハ
外周縁部のフォトレジストを露光、現像してウェハ周辺
のフォトレジストを除去するためのウェハ周辺露光機構
に関する。
[従来の技術] 従来のウェハ河辺のフォトレジスト除去を行なう露光装
置は紫外光をウェハ外周部に直径数m/mに集光して照
射しながらウェハを回転させウェハ外周部を3〜6Il
l/ffiの幅で露光し、現像工程において、ウェハ外
周露光部のフォトレジスト除去を行なっていた。この露
光工程においてウェハのオリエンテーションフラット部
も同様にウェハ外周より一定の幅で露光する必要がある
。このため従来は、−旦りエへの回転を止めてオリエン
テーションフラットに沿って露光機構を平行移動させる
ことにより該オリエンテーションフラットを露光し、そ
の後再びウェハを回転させてウェハの円形外周に沿って
露光を行なっていた。
[発明が解決しようとする問題点] 前記従来の露光装置においては、ウェハのオリエンテー
ションフラットを露光機構の平行移動方向に整合させな
ければならず、このための位置合せ機構を必要とし、ま
た露光機構の平行移動手段を必要とするため機構が複雑
となりコストも増大するという欠点があフた。
[発明の目的] 本発明は前記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、オリエンテーションフラット部の位−置合せ機構を
用いることなく簡単な構造でオリエンテーションフラッ
ト部を含むウニ八周辺部の露光を可能とし、コストの低
減を図ったウニ八周辺露光機構の提供を目的とする。
[実施例] 第1図は本発明の実施例でオリエンテーションフラット
(図示しない)を有するウェハ1はウェハ台2に搭載さ
れ真空吸着により固定される。ウェハ台2は回転装置3
により回転する。紫外光は光ファイバ4により光源(図
示しない)より導かれレンズ5を介してウェハ1の外周
部を照射する。このとき照射光量を光量センサ6で検知
し、検知光量に応じて駆動アンプ7を通して直線運動源
8を駆動する。この光量センサ6はレンズ5を介してウ
ニ八周辺部を露光する光のうちウェハ1から外れた部分
の光量を検知する。直線運動源8に直線運動軸受9が連
結される。この直線運動軸受9上に支柱10が設けられ
、この支柱10に前記レンズ5が備わる。直線運動軸受
9はレンズ5をウェハ台の回転半径方向(法線方向)に
沿って直線移動させる。
ウェハ台2に吸着固定されたウェハ1は回転装置3によ
り回転しレンズ5よりの紫外光で露光される。このとき
照射光を光量センサ6で受ける。
検知光量があらかじめ設定された光量より多い場合はレ
ンズ5をウェハ中心方向へ移動させ、逆に少ない場合は
レンズ5をウェハ外周方向へ移動させるように駆動アン
プ7および直線運動源8を設定しておく。
第2図に本発明の別の実施例を示す、この実施例は露光
手段であるレンズの移動を電気的手段を用いずに機械的
手段を用いて行なったものである。すなわち、第1図中
の光量センサ6、駆動アンプ7、直線運動源8に代えて
第2図に示すようにガイドローラ11および引きバネ1
2を備えている。
ガイドローラ11は直線運動軸受9上に設けた支柱10
に固定され、レンズ5に対し所定の位置を保ったままレ
ンズ5とともにウェハ台2上のウェハ1の半径方向に沿
って移動可能である。直線運動軸受9は引きバネ12に
より常にウェハ台2の回転中心方向に付勢される。
ウェハ1の回転時にガイドローラ11が引きバネ12に
よりウェハ1の外周側面に当接し、ウェハ1の回転に伴
ない常にウェハ1の外周より一定寸法部を照射するため
、ウェハを回転したままオリエンテーションフラット部
の露光が可能となる。またウェハ1をウェハ台2に吸着
させる場合にウェハ1とウェハ台2の中心合せに高精度
を必要としない。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明に係るウニ八周辺露光機構
においては、ウェハ端部の露光量または端部自体を検出
し、その検出結果に応じて照射レンズをウェハの法線方
向に移動させることにより、特にオリエンテーションフ
ラット位置合せ機構等を設けることなくウェハのオリエ
ンテーションフラット部を一定寸法幅で露光することが
可能となり、機構が簡素化し装置の平面寸法が減少して
装置小型化が図られるとともに露光制御も容易に行なう
ことができ、コストの低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の構成図、第2図は本発明の別
の実施例の構成図である。 1:ウェハ、 2:ウェハ台、 3:回転装置、 4:光ファイバ、 5:レンズ、 6:光量センナ、 8:直線運動源、 9:直線運動軸受、 11ニガイドローラ、 12:引きバネ。 特許出願人  キャノン株式会社

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)オリエンテーションフラットを有するウェハを搭
    載してこれを固定保持するウェハ台と、該ウェハ台を回
    転させるための回転装置と、該ウェハの外周部に光を照
    射するための露光手段と、該露光手段を前記ウェハ台の
    回転半径方向に沿って直線移動させるための直線運動手
    段と、前記露光手段によるウェハ上への照射光量に応じ
    て該直線運動手段を駆動するための露光制御手段とを具
    備したことを特徴とするウェハ周辺露光機構。
  2. (2)前記露光手段は、光ファイバを介して光源に接続
    されたレンズと、該レンズをウェハ外周縁部上方に支持
    する支柱からなり、該支柱は前記直線運動手段に固定さ
    れたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のウェ
    ハ周辺露光機構。
  3. (3)前記露光制御手段は、前記レンズを介してウェハ
    外周部を露光する光のうちウェハから外れた部分の光量
    を検知するための光量センサおよび該光量センサの出力
    に応じて前記直線運動手段を駆動する電気回路からなる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載のウェハ周
    辺露光機構。
  4. (4)前記露光制御手段は、前記ウェハ台上に搭載され
    たウェハの外周側面に当接するガイドローラと、前記直
    線運動手段を常にウェハ台の回転中心方向に向けて付勢
    するスプリング手段からなり、前記ガイドローラは前記
    直線運動手段に対し固定されたことを特徴とする特許請
    求の範囲第2項記載のウェハ周辺露光機構。
JP63042156A 1988-02-26 1988-02-26 ウエハ周辺露光機構 Pending JPH01217916A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63042156A JPH01217916A (ja) 1988-02-26 1988-02-26 ウエハ周辺露光機構

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63042156A JPH01217916A (ja) 1988-02-26 1988-02-26 ウエハ周辺露光機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01217916A true JPH01217916A (ja) 1989-08-31

Family

ID=12628084

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63042156A Pending JPH01217916A (ja) 1988-02-26 1988-02-26 ウエハ周辺露光機構

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JP (1) JPH01217916A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03108315A (ja) * 1989-09-21 1991-05-08 Ushio Inc ウエハ周辺露光方法
JPH03108316A (ja) * 1989-09-21 1991-05-08 Ushio Inc ウエハ周辺露光方法
JP2012220896A (ja) * 2011-04-13 2012-11-12 Tokyo Electron Ltd 周辺露光方法及び周辺露光装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03108315A (ja) * 1989-09-21 1991-05-08 Ushio Inc ウエハ周辺露光方法
JPH03108316A (ja) * 1989-09-21 1991-05-08 Ushio Inc ウエハ周辺露光方法
JP2012220896A (ja) * 2011-04-13 2012-11-12 Tokyo Electron Ltd 周辺露光方法及び周辺露光装置

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