JPH01184402A - 光学式変位測定方法および測定装置 - Google Patents
光学式変位測定方法および測定装置Info
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- JPH01184402A JPH01184402A JP63008975A JP897588A JPH01184402A JP H01184402 A JPH01184402 A JP H01184402A JP 63008975 A JP63008975 A JP 63008975A JP 897588 A JP897588 A JP 897588A JP H01184402 A JPH01184402 A JP H01184402A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、光学式の変位測定方法および測定装置に関
し、詳細には波長の１６分の１の分解能を有し、かつ移
動部の変位方向を識別する方法および装置に関するもの
である。
し、詳細には波長の１６分の１の分解能を有し、かつ移
動部の変位方向を識別する方法および装置に関するもの
である。
［従来の技術］
光学式変位測定装置においては、光の干渉現象を利用し
て、波長程度の微小変位を測定することができる。
て、波長程度の微小変位を測定することができる。
第３図（ａ）はトワイマン・グリーン型とよばれる干渉
計による変位測定方法の原理図で、レーザ光源１よりの
レーザビームをビームスプリッタ２により進行方向の測
定ビームｍと、これと直角方向の参照ビームｒに分割す
る。測定ビームは測定対象の移動部７に固定された測定
ミラー４により反射して、ビームスプリッタ２に戻り、
さらに直角方向に反射して下方に進む。一方、参照ビー
ムは固定部に固定された参照ミラー３により反射し。
計による変位測定方法の原理図で、レーザ光源１よりの
レーザビームをビームスプリッタ２により進行方向の測
定ビームｍと、これと直角方向の参照ビームｒに分割す
る。測定ビームは測定対象の移動部７に固定された測定
ミラー４により反射して、ビームスプリッタ２に戻り、
さらに直角方向に反射して下方に進む。一方、参照ビー
ムは固定部に固定された参照ミラー３により反射し。
ビームスプリッタを透過して、前記の測定ビームと合成
され、互いに干渉して干渉縞５を生ずる。
され、互いに干渉して干渉縞５を生ずる。
干渉縞のピッチ間隔δＸはビームの往復により、移動部
の２分の１波長の変位に相当し、すなわち干渉縞の周期
はλ／２である。移動部の移動に伴って移動する干渉縞
を受光器６により検出して干渉縞信号５ａをえて、その
ピークをカウントすれば、変位がλ／２単位で測定でき
る。
の２分の１波長の変位に相当し、すなわち干渉縞の周期
はλ／２である。移動部の移動に伴って移動する干渉縞
を受光器６により検出して干渉縞信号５ａをえて、その
ピークをカウントすれば、変位がλ／２単位で測定でき
る。
以上においては、レーザビームの偏光面は無関係とした
が、直線偏光ビームを使用して構成することができる。
が、直線偏光ビームを使用して構成することができる。
第３図（ｂ）はその１例で、光源１より直ｖ＆偏光のレ
ーザビームは、偏光ビームスプリッタ８により、互いに
直角な偏光面の測定ビームｍと参照ビームｒに分割され
、図（ａ）の場合と同様に合成されて干渉縞を生ずる。
ーザビームは、偏光ビームスプリッタ８により、互いに
直角な偏光面の測定ビームｍと参照ビームｒに分割され
、図（ａ）の場合と同様に合成されて干渉縞を生ずる。
ただしこの場合は、両ビームの開先面が互いに直角であ
るのでこのままでは干渉しない。そこで、λ／４位相板
９により、回転方向が互いに反対の日清光波として干渉
させ、さらに一定の偏光面のみを透過する直線検光子Ｉ
Ｏを通して干渉縞信号をうるちのである。
るのでこのままでは干渉しない。そこで、λ／４位相板
９により、回転方向が互いに反対の日清光波として干渉
させ、さらに一定の偏光面のみを透過する直線検光子Ｉ
Ｏを通して干渉縞信号をうるちのである。
なお、この場合は測定ミラー４を固定し、これに対して
ビームスプリッタ８と参照ミラー３を移動部７に固定し
て、移動するものであるが、その変位δＸの測定原理は
上記と変わりはない。
ビームスプリッタ８と参照ミラー３を移動部７に固定し
て、移動するものであるが、その変位δＸの測定原理は
上記と変わりはない。
さて、半導体製品においては技術の進歩によりｆＣＣフ
ッのパターンサイズはますます微細化してサブミクロン
の領域に達しており、これに対応した微小移動機構およ
びその移動距離の測定装置が必要とされている。これに
対して上記のトワイマン・グリーン型干渉計による測定
では、例えばレーザ光源として波長が凡そ０．８μｍの
半導体レーザを使用する場合、入／２＝０．４μｍとな
り、分解能が過大で使用できない。また、製品の製造、
検査における移動機構においては変位の方向を知ること
が必要な場合があるが、上記の干渉縞信号のカウントで
は、変位または移動の方向性が判別できない。そこで、
分解能を高め、かつ変位方向を識別できる方法が望まれ
ている。
ッのパターンサイズはますます微細化してサブミクロン
の領域に達しており、これに対応した微小移動機構およ
びその移動距離の測定装置が必要とされている。これに
対して上記のトワイマン・グリーン型干渉計による測定
では、例えばレーザ光源として波長が凡そ０．８μｍの
半導体レーザを使用する場合、入／２＝０．４μｍとな
り、分解能が過大で使用できない。また、製品の製造、
検査における移動機構においては変位の方向を知ること
が必要な場合があるが、上記の干渉縞信号のカウントで
は、変位または移動の方向性が判別できない。そこで、
分解能を高め、かつ変位方向を識別できる方法が望まれ
ている。
し解決しようとする課題］
以上に対する先行技術として、干渉ビームの受光系を工
夫して分解能をλ／８に高め、同時に変位方向を識別で
きる方法が、この発明の発明者により提案され「特願６
２−１９２３４４５号、光学式変位測定方法および測定
装置」として出願されている。
夫して分解能をλ／８に高め、同時に変位方向を識別で
きる方法が、この発明の発明者により提案され「特願６
２−１９２３４４５号、光学式変位測定方法および測定
装置」として出願されている。
第４図（ａ ） 、 ’（ｂ ）は上記特願による変位
測定装置の要部と作用の説明図で、図＜ａ）において直
線偏光の合成ビームはλ／４位相板９により回転偏光と
され、２個の無偏光のビームスプ゛す・ツタ１１により
３分割されてそれぞれ直線検光子１０−１ 、１０−２
．１０−３に入力する。各検、光子は、その偏光面の方
位角を順次π／２づつ変化しておき、これに対する３個
の受光器６の出力する干渉縞信号ｇｌ、Ｅ、、ｉ：、を
差動増幅器！３を通すことにより、λ／２を周期とする
正弦波Ｅ１と余弦波Ｅｂがえられる。信５号処理部１２
にお−いてＥａ、Ｅｂの極性変換点を検出することによ
り°、変位量をλ／８の分解能で測定し、同時に図（ｂ
）に示す両波の極性の性質より変位の方向を識別するも
のである。
測定装置の要部と作用の説明図で、図＜ａ）において直
線偏光の合成ビームはλ／４位相板９により回転偏光と
され、２個の無偏光のビームスプ゛す・ツタ１１により
３分割されてそれぞれ直線検光子１０−１ 、１０−２
．１０−３に入力する。各検、光子は、その偏光面の方
位角を順次π／２づつ変化しておき、これに対する３個
の受光器６の出力する干渉縞信号ｇｌ、Ｅ、、ｉ：、を
差動増幅器！３を通すことにより、λ／２を周期とする
正弦波Ｅ１と余弦波Ｅｂがえられる。信５号処理部１２
にお−いてＥａ、Ｅｂの極性変換点を検出することによ
り°、変位量をλ／８の分解能で測定し、同時に図（ｂ
）に示す両波の極性の性質より変位の方向を識別するも
のである。
しかしながら、上記の特願による変位測定装置の分解能
λ／８では、いまだ不充分な場合がある。
λ／８では、いまだ不充分な場合がある。
すなわち、前記のように波長λが０，８μｍの場合、分
解能は０，１μｍであるが、例えば０．５μｍのパター
ンサイズのＩＣチップの製蓬ないしは検査においては、
その１０分の１の０．０５μｍの精度で移動または検査
を行うことが必要である。そこで、上記特願にかかる方
法をさらに改善して分解能を向上することが望まれてい
る。
解能は０，１μｍであるが、例えば０．５μｍのパター
ンサイズのＩＣチップの製蓬ないしは検査においては、
その１０分の１の０．０５μｍの精度で移動または検査
を行うことが必要である。そこで、上記特願にかかる方
法をさらに改善して分解能を向上することが望まれてい
る。
この発明は上述したところに鑑みてなされたもので、ト
ワイマン・グリーン型干渉計による変位測定装置におい
て、干渉ビームを４分割して各干渉ビームにπ／４の位
相差を与えて処理することにより、λ／１６の分解能を
有し、かつ変位の方向が識別できる変位測定方法および
測定装置を提供することを目的とするものである。
ワイマン・グリーン型干渉計による変位測定装置におい
て、干渉ビームを４分割して各干渉ビームにπ／４の位
相差を与えて処理することにより、λ／１６の分解能を
有し、かつ変位の方向が識別できる変位測定方法および
測定装置を提供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
この発明は、直線偏光のレーザビームを偏光ビームスプ
リッタにより、偏光面が互いに直角をなす測定ビームと
参照ビームに分割し、移動部の測定ミラーおよび固定部
の参照ミラーによりそれぞれ反射された測定ビームと参
照ビームとを合成した合成ビームの干渉縞を検出して移
動部の変位を測定する測定方法であって、合成ビームを
λ／４位相板（λ；波長）を通して円偏光の干渉ビーム
に変換したのち、３個の無偏光ビームスプリッタにより
４分割し、分割された各干渉ビームを、偏光面が順次に
π／４づつ異なる方向（方位角）の４個の直線検光子を
それぞれ透過させて受光器で受光する。信号処理部にお
いては、受光器より出力され、順次にπ／４の位相差を
有する’４ｇの干渉縞信号の極性変換点を検出して、移
動部の変位とλ／１６の分解能で測定し、かつ変位方向
を識別するものである。
リッタにより、偏光面が互いに直角をなす測定ビームと
参照ビームに分割し、移動部の測定ミラーおよび固定部
の参照ミラーによりそれぞれ反射された測定ビームと参
照ビームとを合成した合成ビームの干渉縞を検出して移
動部の変位を測定する測定方法であって、合成ビームを
λ／４位相板（λ；波長）を通して円偏光の干渉ビーム
に変換したのち、３個の無偏光ビームスプリッタにより
４分割し、分割された各干渉ビームを、偏光面が順次に
π／４づつ異なる方向（方位角）の４個の直線検光子を
それぞれ透過させて受光器で受光する。信号処理部にお
いては、受光器より出力され、順次にπ／４の位相差を
有する’４ｇの干渉縞信号の極性変換点を検出して、移
動部の変位とλ／１６の分解能で測定し、かつ変位方向
を識別するものである。
次にこの発明による変位測定装置は上記の方法を具体化
したもので、直線偏光のレーザビームを偏光面が互いに
直角をなす測定ビームと参照ビームに分割する偏光ビー
ムスプリッタと、測定ビームに対して移動部１こ設けら
れた測定ミラーと、参照ビームに対して固定部に設けら
れた参照ミラーと、測定ビームと参照ビームの合成ビー
ムを円偏光の干渉ビームに変換するλ／４位相板と、こ
の干渉ビームを４分割する３個の無偏光ビームスプリ
−ツタと、分割された各干渉ビームに対応し、透過する
偏光面の方位角が順次にπ／４づつ異なる４個の直線検
光子と、各検光子に対する受光器と、信号処理部とによ
り構成される。信号処理部においては、各受光器より出
力される、順次にπ／４の位相差を有する４個の干渉縞
信号を入力して、移動部のλ／！６の変位に相当する干
渉縞信号の極性変換点を検出し、併せて移動部のλ／１
６の変位に相当する変位方向を識別するものである。
したもので、直線偏光のレーザビームを偏光面が互いに
直角をなす測定ビームと参照ビームに分割する偏光ビー
ムスプリッタと、測定ビームに対して移動部１こ設けら
れた測定ミラーと、参照ビームに対して固定部に設けら
れた参照ミラーと、測定ビームと参照ビームの合成ビー
ムを円偏光の干渉ビームに変換するλ／４位相板と、こ
の干渉ビームを４分割する３個の無偏光ビームスプリ
−ツタと、分割された各干渉ビームに対応し、透過する
偏光面の方位角が順次にπ／４づつ異なる４個の直線検
光子と、各検光子に対する受光器と、信号処理部とによ
り構成される。信号処理部においては、各受光器より出
力される、順次にπ／４の位相差を有する４個の干渉縞
信号を入力して、移動部のλ／！６の変位に相当する干
渉縞信号の極性変換点を検出し、併せて移動部のλ／１
６の変位に相当する変位方向を識別するものである。
［作用］
この発明による光学式変位測定方法および測定装置にお
いては、測定ビームと参照ビームをλ／４位相板を通す
ことにより、各ビームは互いに反対方向に回転する２つ
の円偏光ビームとなって干渉する。この２つのビームは
、移動部の変位により互いの位相差が変化するもので、
それらの合成ビームの偏光面は位相差の変化とともに回
転し、移動部のλ／２の変位ごとに１回転する。すなわ
ちλ／２が周期である。この干渉ビームを４分割して、
それぞれを方位角が順次π／４づつ異なる４１１１の直
線検光子を通すときは、位相がπ／４づつ異なる４個の
干渉縞信号かえられる。このような干渉縞信号の各極性
変換点を検出することにより、λ／１６の分解能で変位
が測定され、同時に各干渉縞信号の極性の性質より移動
部の変位方向が識別されるものである。
いては、測定ビームと参照ビームをλ／４位相板を通す
ことにより、各ビームは互いに反対方向に回転する２つ
の円偏光ビームとなって干渉する。この２つのビームは
、移動部の変位により互いの位相差が変化するもので、
それらの合成ビームの偏光面は位相差の変化とともに回
転し、移動部のλ／２の変位ごとに１回転する。すなわ
ちλ／２が周期である。この干渉ビームを４分割して、
それぞれを方位角が順次π／４づつ異なる４１１１の直
線検光子を通すときは、位相がπ／４づつ異なる４個の
干渉縞信号かえられる。このような干渉縞信号の各極性
変換点を検出することにより、λ／１６の分解能で変位
が測定され、同時に各干渉縞信号の極性の性質より移動
部の変位方向が識別されるものである。
［実施例］
第１図（ａ）は、この発明による光学式変位測定方法お
よび測定装置の実施例の構成図である。図において、レ
ーザ光源ｌよりの直線偏光のレーザビームは投光レンズ
１４によりコリメイトされ、偏光ビームスプリッタ８に
より進行方向の測定ビームｍと直角方向の参照ビームｒ
に分割される。
よび測定装置の実施例の構成図である。図において、レ
ーザ光源ｌよりの直線偏光のレーザビームは投光レンズ
１４によりコリメイトされ、偏光ビームスプリッタ８に
より進行方向の測定ビームｍと直角方向の参照ビームｒ
に分割される。
両ビームはそれぞれ測定ミラー４と参照ミラー３により
反射されて、偏光ビームスプリッタにおいて合成される
。この場合、両ビームはλ／４位相板９−１．９−２に
より偏光方向が直角に変換されるので、測定ビームは反
射されて下方に向かい、また参照ビームは直進する０両
波の偏光面が互いに直角であるので、ここでは干渉しな
いが１次のλ／４位相板９−３により互いに反対方向に
回転する回転偏光波となって干渉し合う干渉ビームとな
る。
反射されて、偏光ビームスプリッタにおいて合成される
。この場合、両ビームはλ／４位相板９−１．９−２に
より偏光方向が直角に変換されるので、測定ビームは反
射されて下方に向かい、また参照ビームは直進する０両
波の偏光面が互いに直角であるので、ここでは干渉しな
いが１次のλ／４位相板９−３により互いに反対方向に
回転する回転偏光波となって干渉し合う干渉ビームとな
る。
干渉ビームは、３個の無偏光ビームスプリッタＩｔ−１
，１１−２，１１づにより逐次に４分割されて、それぞ
れは直線検光子１０−１．１０−２，１０づおよび１０
−４によりそれぞれの偏光面の方位角に対する成分が透
過し、受光器６−１．６−２．６−３および６−４より
干渉縞信号Ｅ、、Ｅ、、Ｅ、およびＥ４として移動部の
位置に応じた値が出力される。各検光子の層光面の方位
角は、第１図（ｃ）に示すＡ １ 、 Ａ ２ 、 Ａ
３およびＡ４のように順次にπ／４づつの角度をなし
ているので。
，１１−２，１１づにより逐次に４分割されて、それぞ
れは直線検光子１０−１．１０−２，１０づおよび１０
−４によりそれぞれの偏光面の方位角に対する成分が透
過し、受光器６−１．６−２．６−３および６−４より
干渉縞信号Ｅ、、Ｅ、、Ｅ、およびＥ４として移動部の
位置に応じた値が出力される。各検光子の層光面の方位
角は、第１図（ｃ）に示すＡ １ 、 Ａ ２ 、 Ａ
３およびＡ４のように順次にπ／４づつの角度をなし
ているので。
各干渉縞信号の位相差もこれに従って、π／４をなす。
上記においては、３個の無偏光ビームスプリッタｌｌ−
１，１１−２，１１４を縦続に接続したものであるが、
これらを第１図（ｂ）のように接続することもできる。
１，１１−２，１１４を縦続に接続したものであるが、
これらを第１図（ｂ）のように接続することもできる。
すなわち無偏光ビームスプリッタ１１−！で分割した一
方をさらに１１−２で分割し、他方を１１づで分割して
、４分割する。この場合は、分割された各ビームの強度
が等しいので受光器などのレベル調整がやや容易となる
。
方をさらに１１−２で分割し、他方を１１づで分割して
、４分割する。この場合は、分割された各ビームの強度
が等しいので受光器などのレベル調整がやや容易となる
。
第２図（ａ）、（ｂ）は上記の干渉縞信号Ｅｌ〜Ｅ４よ
り、移動部の変位を検出する方法を示すもので、各干渉
縞信号波は図のように、π１４の位相差でオーバーラツ
プして、それらの極性変換点の間隔は周期２πの８分の
１であり、これがλ／１６に相当し、１周期は８区間と
なる。いま、移動部が変位すると干渉ビームが回転する
ので、各干渉縞信号Ｅ１〜Ｅ４の極性が図（ｂ）に示す
ように区間Ｉ〜■に対応して変化する。信号処理部１２
においてこの極性変換点を検出することにより、λ／１
６の分解能で変位を測定することができる。また、区間
■〜■では、各干渉縞信号の極性の配列には同一のもの
がなく順次サイクリックに変化し、極性の移行に方向性
があるので、信号処理部でこの移行を検知して変位方向
を識別するものである。
り、移動部の変位を検出する方法を示すもので、各干渉
縞信号波は図のように、π１４の位相差でオーバーラツ
プして、それらの極性変換点の間隔は周期２πの８分の
１であり、これがλ／１６に相当し、１周期は８区間と
なる。いま、移動部が変位すると干渉ビームが回転する
ので、各干渉縞信号Ｅ１〜Ｅ４の極性が図（ｂ）に示す
ように区間Ｉ〜■に対応して変化する。信号処理部１２
においてこの極性変換点を検出することにより、λ／１
６の分解能で変位を測定することができる。また、区間
■〜■では、各干渉縞信号の極性の配列には同一のもの
がなく順次サイクリックに変化し、極性の移行に方向性
があるので、信号処理部でこの移行を検知して変位方向
を識別するものである。
［発明の効果］
以上の説明により明らかなように、この発明による光学
式変位測定方法および測定装置においては、トワイマン
・グリーン型干渉計によりえられる干渉ビームより、位
相の異なる４個の干渉縞信号をつくり、その極性変換点
を検出することにより、λ／１６の分解能で移動部の変
位が測定される。
式変位測定方法および測定装置においては、トワイマン
・グリーン型干渉計によりえられる干渉ビームより、位
相の異なる４個の干渉縞信号をつくり、その極性変換点
を検出することにより、λ／１６の分解能で移動部の変
位が測定される。
例えば波長０．８μｍのレーザビームを使用する場合、
分解能は０，０５μｍとなり、サブミクロンオーダーの
半導体ＩＣパターンの製造、検査に充分適用できるもの
である。また、各干渉縞信号の極性配列の移行より、変
位方向を識別することができるので、方向性を必要とす
る場合に有効であり、半導体など微小加工技術分野に寄
与するところには大きいものがある。
分解能は０，０５μｍとなり、サブミクロンオーダーの
半導体ＩＣパターンの製造、検査に充分適用できるもの
である。また、各干渉縞信号の極性配列の移行より、変
位方向を識別することができるので、方向性を必要とす
る場合に有効であり、半導体など微小加工技術分野に寄
与するところには大きいものがある。
第１図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）は、この発明による光学
式変位測定方法および測定装置の実施例における構成図
と、直線検光子の方位角の図、第２＠（ａ）、（ｂ）は
、第１図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）における干渉縞信号の
波形図と、移動部の変位による干渉縞信号の極性の移行
表の図、第３図（ａ）、（ｂ）はトワイマン・グリーン
型干渉計と直線偏光波を使用する従来の変位測定装置の
構成図、第４１ｆｆ（ａ）、（ｂ）はこの発明の発明者
により特許された先行技術による光学式変位測定方法お
よび測定装置の構成図と干渉縞信号の極性の移行表の図
である。 １・・・レーザ光源、 ２・・・ビームスプリッタ
、３・・・参照ミラー、 ４・・・測定ミラー、
５・・・干渉ビーム、 ５ａ・・・干渉縞信号。 ６・・・受光器、 ７・・・移動部、８・・・
偏光ビームスプリッタ、９・・・λ７４位相板、１０・
・・直線検光子、＋１・・・無偏光ビームスプリッタ、
１２・・・信号処理装置、 １３・・・差動増幅器。
式変位測定方法および測定装置の実施例における構成図
と、直線検光子の方位角の図、第２＠（ａ）、（ｂ）は
、第１図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）における干渉縞信号の
波形図と、移動部の変位による干渉縞信号の極性の移行
表の図、第３図（ａ）、（ｂ）はトワイマン・グリーン
型干渉計と直線偏光波を使用する従来の変位測定装置の
構成図、第４１ｆｆ（ａ）、（ｂ）はこの発明の発明者
により特許された先行技術による光学式変位測定方法お
よび測定装置の構成図と干渉縞信号の極性の移行表の図
である。 １・・・レーザ光源、 ２・・・ビームスプリッタ
、３・・・参照ミラー、 ４・・・測定ミラー、
５・・・干渉ビーム、 ５ａ・・・干渉縞信号。 ６・・・受光器、 ７・・・移動部、８・・・
偏光ビームスプリッタ、９・・・λ７４位相板、１０・
・・直線検光子、＋１・・・無偏光ビームスプリッタ、
１２・・・信号処理装置、 １３・・・差動増幅器。
Claims (2)
- （１）偏光ビームスプリッタにより直線偏光のレーザビ
ームを、偏光面が互いに直角をなす測定ビームと参照ビ
ームに分割し、移動部の測定ミラーおよび固定部の参照
ミラーによりそれぞれ反射された測定ビームと参照ビー
ムとを合成した合成ビームの干渉縞を検出して上記移動
部の変位を測定する測定方法において、上記合成ビーム
をλ／４（λ：波長）位相板を通して円偏光の干渉ビー
ムに変換したのち、３個の無偏光ビームスプリッタによ
り４分割し、該分割された各干渉ビームを、偏光面が順
次にπ／４づつ異なる方位角とする４個の直線検光子を
それぞれ透過させ、該透過した各干渉ビームに対する受
光器より出力され、順次にπ／４の位相差を有する４個
の干渉縞信号の極性変換点を検出することにより、上記
移動部の変位をλ／１６の分解能で測定し、かつ変位方
向を識別することを特徴とする、光学式変位測定方法。 - （２）直線偏光のレーザビームを、偏光面が互いに直角
をなす測定ビームと参照ビームに分割する偏光ビームス
プリッタと、該測定ビームに対して移動部に設けられた
測定ミラーと、該参照ビームに対して固定部に設けられ
た参照ミラーと、該測定ミラーおよび該参照ミラーでそ
れぞれ反射した測定ビームと参照ビームとを上記偏光ス
プリッタで合成し、該合成ビームを円偏光の干渉ビーム
に変換するλ／４（λ：波長）位相板と、該干渉ビーム
を４分割する３個の無偏光ビームスプリッタと、該分割
された各干渉ビームに対応し、透過する偏光面の方位角
が順次にπ／４づつ異なる４個の直線検光子と、該４個
の検光子に対する４個の受光器と、該受光器より出力さ
れ、上記移動部のλ／２の変位を周期２πとして順次に
π／４づつの位相差を有する４個の干渉縞信号を入力し
て、上記移動部のλ／１６の変位に相当する該干渉縞信
号の極性変換点を検出し、かつ上記移動部の変位方向を
識別する信号処理部とにより構成されたことを特徴とす
る、光学式変位測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63008975A JPH01184402A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 光学式変位測定方法および測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63008975A JPH01184402A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 光学式変位測定方法および測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01184402A true JPH01184402A (ja) | 1989-07-24 |
Family
ID=11707687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63008975A Pending JPH01184402A (ja) | 1988-01-18 | 1988-01-18 | 光学式変位測定方法および測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01184402A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0476404A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Ind Technol Res Inst | レーザ干渉測長器 |
| KR100371640B1 (ko) * | 2000-09-21 | 2003-02-11 | 강선모 | 측정 대역폭 및 분해능을 향상시킨 편광 간섭계 광파장측정 방법 및 시스템 |
| JP2006322910A (ja) * | 2005-06-16 | 2006-11-30 | Yamatake Corp | 反射形レーザ測長器 |
| JP2007225341A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Lasertec Corp | 干渉計、及び形状の測定方法 |
| JP2009115596A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Mitsutoyo Corp | 干渉計 |
| WO2012134291A1 (en) * | 2011-03-30 | 2012-10-04 | Mapper Lithography Ip B.V. | Interferometer module |
| JP2013029458A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Mitsutoyo Corp | 変位量測定装置、及びオフセット補正方法 |
-
1988
- 1988-01-18 JP JP63008975A patent/JPH01184402A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0476404A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Ind Technol Res Inst | レーザ干渉測長器 |
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| CN102735170A (zh) * | 2011-03-30 | 2012-10-17 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 具有差分干涉仪模块的光刻系统 |
| JP2014515186A (ja) * | 2011-03-30 | 2014-06-26 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 微分干渉計モジュールを備えたリソグラフィシステム |
| JP2013029458A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Mitsutoyo Corp | 変位量測定装置、及びオフセット補正方法 |
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