JPH06177013A - 位置検出装置 - Google Patents
位置検出装置Info
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- JPH06177013A JPH06177013A JP4353436A JP35343692A JPH06177013A JP H06177013 A JPH06177013 A JP H06177013A JP 4353436 A JP4353436 A JP 4353436A JP 35343692 A JP35343692 A JP 35343692A JP H06177013 A JPH06177013 A JP H06177013A
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- diffraction grating
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- optical beat
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- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 35
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ヘテロダイン干渉法を利用してレチクルと
ウエハとの位置合わせを行う際、ウエハの位置を従来よ
り高い検出分解能と高い検出安定性で行うことのできる
位置検出装置を得ること。 【構成】 わずかに周波数が異なる分離した２つのコヒ
ーレント光を、分割手段で各々複数の光束に分割し、分
割した複数の光束を照明手段で物体面上の回折格子に互
いに異なる角度で照明し、回折格子からの複数の回折光
を合成手段で合成して得た複数の光ビート信号を検出手
段で検出し、複数の光ビート信号の内、物体の位置と基
準位置との位置ずれに対し互いに位相が逆方向に進む２
つの光ビート信号の位相差を位置検出手段で測定し、位
置検出手段からの信号を利用して物体の位置を検出する
ようにしたこと。
ウエハとの位置合わせを行う際、ウエハの位置を従来よ
り高い検出分解能と高い検出安定性で行うことのできる
位置検出装置を得ること。 【構成】 わずかに周波数が異なる分離した２つのコヒ
ーレント光を、分割手段で各々複数の光束に分割し、分
割した複数の光束を照明手段で物体面上の回折格子に互
いに異なる角度で照明し、回折格子からの複数の回折光
を合成手段で合成して得た複数の光ビート信号を検出手
段で検出し、複数の光ビート信号の内、物体の位置と基
準位置との位置ずれに対し互いに位相が逆方向に進む２
つの光ビート信号の位相差を位置検出手段で測定し、位
置検出手段からの信号を利用して物体の位置を検出する
ようにしたこと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は位置検出装置に関し、例
えば半導体素子製造用の露光装置（ステッパー）におい
てレチクルなどの第１物体面上に形成されている微細な
電子回路パターンをウエハなどの第２物体面上に投影露
光転写する際にレチクルとウエハとの相対的な位置決め
を行う場合に好適な位置検出装置に関するものである。
えば半導体素子製造用の露光装置（ステッパー）におい
てレチクルなどの第１物体面上に形成されている微細な
電子回路パターンをウエハなどの第２物体面上に投影露
光転写する際にレチクルとウエハとの相対的な位置決め
を行う場合に好適な位置検出装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より半導体素子製造用の露光装置に
おいて、レチクルとウエハとの相対的な位置合わせは半
導体素子の高集積化を図るための重要な一要素となって
いる。
おいて、レチクルとウエハとの相対的な位置合わせは半
導体素子の高集積化を図るための重要な一要素となって
いる。
【０００３】特に最近の露光装置における位置合わせに
おいては半導体素子の高集積化のために、例えばサブミ
クロン以下の位置合わせ精度を有するものが要求されて
いる。このような高精度の位置合わせ方法として、従来
より光ヘテロダイン干渉法を利用した方法が種々と提案
されている。
おいては半導体素子の高集積化のために、例えばサブミ
クロン以下の位置合わせ精度を有するものが要求されて
いる。このような高精度の位置合わせ方法として、従来
より光ヘテロダイン干渉法を利用した方法が種々と提案
されている。
【０００４】図４は従来の光ヘテロダイン干渉法を利用
した位置検出装置の説明原理図である。
した位置検出装置の説明原理図である。
【０００５】同図において、周波数（波長）の異なる直
交した偏光の２つの光束を放射するレーザ光源２０１か
らの光束のうち一部の光束をビームスプリッター２０２
で反射させて取り出している。そして互いに偏光面が直
交する周波数（波長）がわずかに異なる２つの光束を偏
光子２１２により偏光面をそろえて干渉させ、光検出器
２０３で該干渉縞の光強度を検出している。そして基準
ビート信号として信号処理制御部２１１に入力してい
る。
交した偏光の２つの光束を放射するレーザ光源２０１か
らの光束のうち一部の光束をビームスプリッター２０２
で反射させて取り出している。そして互いに偏光面が直
交する周波数（波長）がわずかに異なる２つの光束を偏
光子２１２により偏光面をそろえて干渉させ、光検出器
２０３で該干渉縞の光強度を検出している。そして基準
ビート信号として信号処理制御部２１１に入力してい
る。
【０００６】一方、レーザ光源２０１からの光束のう
ち、ビームスプリッター２０２を透過した光束を偏光ビ
ームスプリッター２０４に入射している。偏光ビームス
プリッター２０４により、それぞれが水平成分あるいは
垂直成分のみを有する直線偏光でしかも周波数（波長）
がわずかに異なる２つの光束に分割している。そしてフ
ーリエ変換レンズ２０６を介し、所望の入射角で位置検
出用のウエハ（不図示）上に形成された反射型の回折格
子２０７に入射している。回折格子２０７から得られた
回折光をフーリエ変換レンズ２０６とミラー２０８を介
し、更に互いに直交する周波数がわずかに異なる２つの
光束を偏光子２０９により偏光面をそろえて干渉させ、
光検出器２１０により該干渉縞の光強度を検出してい
る。そして光ビート信号として信号処理制御部２１１に
入力している。
ち、ビームスプリッター２０２を透過した光束を偏光ビ
ームスプリッター２０４に入射している。偏光ビームス
プリッター２０４により、それぞれが水平成分あるいは
垂直成分のみを有する直線偏光でしかも周波数（波長）
がわずかに異なる２つの光束に分割している。そしてフ
ーリエ変換レンズ２０６を介し、所望の入射角で位置検
出用のウエハ（不図示）上に形成された反射型の回折格
子２０７に入射している。回折格子２０７から得られた
回折光をフーリエ変換レンズ２０６とミラー２０８を介
し、更に互いに直交する周波数がわずかに異なる２つの
光束を偏光子２０９により偏光面をそろえて干渉させ、
光検出器２１０により該干渉縞の光強度を検出してい
る。そして光ビート信号として信号処理制御部２１１に
入力している。
【０００７】信号処理制御部２１１では基準ビート信号
と光ビート信号との位相差を検出し、これによりウエハ
位置と基準位置とのずれ量を検出している。
と光ビート信号との位相差を検出し、これによりウエハ
位置と基準位置とのずれ量を検出している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】図４に示す位置検出装
置では、基準ビート信号と光ビート信号との位相差を検
出して、ウエハ位置と基準位置とのずれ量を算出してい
る。このときの位相差をΘ（ラジアン）、ウエハ面上に
形成された回折格子２０７のピッチをＰ（μｍ）、検出
される回折光の次数をｎ（±ｎ次光）、ウエハ位置と基
準位置とのずれ量をΔｘ（μｍ）とすると、 Θ＝（４πｎ／Ｐ）Δｘ ・・・・・（ａ） となる。
置では、基準ビート信号と光ビート信号との位相差を検
出して、ウエハ位置と基準位置とのずれ量を算出してい
る。このときの位相差をΘ（ラジアン）、ウエハ面上に
形成された回折格子２０７のピッチをＰ（μｍ）、検出
される回折光の次数をｎ（±ｎ次光）、ウエハ位置と基
準位置とのずれ量をΔｘ（μｍ）とすると、 Θ＝（４πｎ／Ｐ）Δｘ ・・・・・（ａ） となる。
【０００９】このとき（ａ）式より明かのように、信号
処理制御部２１１の位相差Θの検知分解能が一定である
場合、検出する回折光の次数ｎが高いほど、またウエハ
面上に形成された回折格子のピッチＰが狭いほど、ウエ
ハ位置と基準位置と位置ずれ量Δｘの検出分解能は高く
なる。しかしながら、回折光の次数ｎを高くすると回折
光の光強度が小さくなり、信号処理過程でのＳ／Ｎが劣
化してくる。また回折格子のピッチＰはそれを形成する
プロセスで制約され余り狭くできない。このため従来の
位置検出装置での検出分解能には限界があった。
処理制御部２１１の位相差Θの検知分解能が一定である
場合、検出する回折光の次数ｎが高いほど、またウエハ
面上に形成された回折格子のピッチＰが狭いほど、ウエ
ハ位置と基準位置と位置ずれ量Δｘの検出分解能は高く
なる。しかしながら、回折光の次数ｎを高くすると回折
光の光強度が小さくなり、信号処理過程でのＳ／Ｎが劣
化してくる。また回折格子のピッチＰはそれを形成する
プロセスで制約され余り狭くできない。このため従来の
位置検出装置での検出分解能には限界があった。
【００１０】この他、従来の位置検出装置では回折格子
に異なる角度で入射される２つの光束のそれぞれの光路
が異なるため、ウエハ位置と基準位置との位置ずれ量に
よって生じる位相差を光路中の変動要因（例えば空気の
揺らぎ）によって発生する位相の変動が付加され、位置
ずれ量Δｘの検出安定性が劣化してくるという問題点が
あった。
に異なる角度で入射される２つの光束のそれぞれの光路
が異なるため、ウエハ位置と基準位置との位置ずれ量に
よって生じる位相差を光路中の変動要因（例えば空気の
揺らぎ）によって発生する位相の変動が付加され、位置
ずれ量Δｘの検出安定性が劣化してくるという問題点が
あった。
【００１１】本発明は光ヘテロダイン干渉法を利用して
ウエハ等の物体の基準位置からのずれ量を検出する際、
複数の光ビート信号を得てこのうちウエハ位置と基準位
置との位置ずれに対して位相が逆方向に進む２つの光ビ
ート信号の位相差を検出することにより高い検出分解能
を有し、かつ検出安定性の良い位置検出装置の提供を目
的とする。
ウエハ等の物体の基準位置からのずれ量を検出する際、
複数の光ビート信号を得てこのうちウエハ位置と基準位
置との位置ずれに対して位相が逆方向に進む２つの光ビ
ート信号の位相差を検出することにより高い検出分解能
を有し、かつ検出安定性の良い位置検出装置の提供を目
的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の位置検出装置
は、わずかに周波数が異なる分離した２つのコヒーレン
ト光を、各々複数の光束に分割する分割手段と、分割さ
れた複数の光束を回折格子が形成された物体に互いに異
なる角度で照明する照明手段と、前記回折格子からの複
数の回折光を取り出し光学的に合成する複数の合成手段
と合成された回折光の光ビート信号を検出する複数の検
出手段と、前記複数の光ビート信号の内、該物体の位置
と基準位置との位置ずれに対し互いに位相が逆方向に進
む２つの光ビート信号を得て、該２つの光ビート信号の
位相差を測定する位置検出手段とを有し、該位置検出手
段からの信号を利用して該物体の位置を検出するように
したことを特徴としている。
は、わずかに周波数が異なる分離した２つのコヒーレン
ト光を、各々複数の光束に分割する分割手段と、分割さ
れた複数の光束を回折格子が形成された物体に互いに異
なる角度で照明する照明手段と、前記回折格子からの複
数の回折光を取り出し光学的に合成する複数の合成手段
と合成された回折光の光ビート信号を検出する複数の検
出手段と、前記複数の光ビート信号の内、該物体の位置
と基準位置との位置ずれに対し互いに位相が逆方向に進
む２つの光ビート信号を得て、該２つの光ビート信号の
位相差を測定する位置検出手段とを有し、該位置検出手
段からの信号を利用して該物体の位置を検出するように
したことを特徴としている。
【００１３】特に、（イ）前記分割手段は半透鏡を有す
る光学素子より成り、前記光学素子に入射される光束の
位置の変更により分割された複数の光束が物体を照明す
る角度を調整していること、（ロ）前記光学素子がケス
タープリズムであること、（ハ）前記わずかに周波数が
異なる２つのコヒーレント光は、単一波長を発するレー
ザ光源からの光束を分割しそれぞれに異なる周波数偏位
量を与えたものであること、（ニ）前記分割された複数
の光束はＬ１（λ1 ），Ｌ２（λ1 ），Ｌ３（λ2），
Ｌ４（λ2 ）｛λ1 ，λ2 波長｝の４つの光束であり、
各光束の前記物体を照明する角度が Ｌ１（λ1 ）の入射角 ：Θ1 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0
／Ｐ）−Θ0 Ｌ２（λ1 ）の入射角 ：Θ2 ＝−Θ1 Ｌ３（λ2 ）の入射角 ：Θ3 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0
／Ｐ）＋Θ0 Ｌ４（λ2 ）の入射角 ：Θ4 ＝−Θ3 ただし λ1 λ2 ≒ λ0 Ｐ ： 回折格子のピッチ Ｎ ： 正の整数 であり、前記２つの光ビート信号が±Θ0 方向に回折さ
れる光の光ビート信号であること、（ホ）前記２つのコ
ヒーレント光は、偏光方向が互いに直交する光を発する
コヒーレント光源から放出されたものであり、前記分割
手段で分割された光束はＬ１（λ1 ，λ2 ），Ｌ２（λ
1 ，λ2 ）｛λ1 ，λ2 波長｝の２つの光束で、かつ同
じ波長同志の偏光方向を直交させる合成手段を有してお
り、各光束の前記物体を照明する角度が Ｌ１（λ1 ，λ2 ）の入射角 ：Θ1 ＝−ｓｉｎ
-1（Ｎλ0 ／Ｐ） Ｌ２（λ1 ，λ2 ）の入射角 ：Θ2 ＝−Θ1 ただし λ1 λ2 ≒ λ0 Ｐ ： 回折格子のピッチ Ｎ ： 正の整数 であり、前記２つの光ビート信号が０度方向に回折され
る光を偏光成分別に分割された光の光ビート信号である
こと等を特徴としている。
る光学素子より成り、前記光学素子に入射される光束の
位置の変更により分割された複数の光束が物体を照明す
る角度を調整していること、（ロ）前記光学素子がケス
タープリズムであること、（ハ）前記わずかに周波数が
異なる２つのコヒーレント光は、単一波長を発するレー
ザ光源からの光束を分割しそれぞれに異なる周波数偏位
量を与えたものであること、（ニ）前記分割された複数
の光束はＬ１（λ1 ），Ｌ２（λ1 ），Ｌ３（λ2），
Ｌ４（λ2 ）｛λ1 ，λ2 波長｝の４つの光束であり、
各光束の前記物体を照明する角度が Ｌ１（λ1 ）の入射角 ：Θ1 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0
／Ｐ）−Θ0 Ｌ２（λ1 ）の入射角 ：Θ2 ＝−Θ1 Ｌ３（λ2 ）の入射角 ：Θ3 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0
／Ｐ）＋Θ0 Ｌ４（λ2 ）の入射角 ：Θ4 ＝−Θ3 ただし λ1 λ2 ≒ λ0 Ｐ ： 回折格子のピッチ Ｎ ： 正の整数 であり、前記２つの光ビート信号が±Θ0 方向に回折さ
れる光の光ビート信号であること、（ホ）前記２つのコ
ヒーレント光は、偏光方向が互いに直交する光を発する
コヒーレント光源から放出されたものであり、前記分割
手段で分割された光束はＬ１（λ1 ，λ2 ），Ｌ２（λ
1 ，λ2 ）｛λ1 ，λ2 波長｝の２つの光束で、かつ同
じ波長同志の偏光方向を直交させる合成手段を有してお
り、各光束の前記物体を照明する角度が Ｌ１（λ1 ，λ2 ）の入射角 ：Θ1 ＝−ｓｉｎ
-1（Ｎλ0 ／Ｐ） Ｌ２（λ1 ，λ2 ）の入射角 ：Θ2 ＝−Θ1 ただし λ1 λ2 ≒ λ0 Ｐ ： 回折格子のピッチ Ｎ ： 正の整数 であり、前記２つの光ビート信号が０度方向に回折され
る光を偏光成分別に分割された光の光ビート信号である
こと等を特徴としている。
【００１４】
【実施例】図１は本発明の位置検出装置を半導体素子製
造用の投影露光装置（ステッパー）に適用したときの実
施例１の要部概略図、図２は本発明の位置検出装置の実
施例１の位置検出原理の説明図である。
造用の投影露光装置（ステッパー）に適用したときの実
施例１の要部概略図、図２は本発明の位置検出装置の実
施例１の位置検出原理の説明図である。
【００１５】図１においては照明装置（不図示）からの
波長λの露光光により照明されたレチクル１０１面上の
電子回路パターンを投影レンズ１０２によりＸＹステー
ジ１０４上に載置したウエハ１０３上に縮小投影し露光
転写している。
波長λの露光光により照明されたレチクル１０１面上の
電子回路パターンを投影レンズ１０２によりＸＹステー
ジ１０４上に載置したウエハ１０３上に縮小投影し露光
転写している。
【００１６】そしてこのときのレチクル１０１とウエハ
１０３との位置合わせは次のようにして行っている。ウ
エハ１０３上には互いに方向が直交している２つの回折
格子１０８ａ，１０８ｂが形成されている。その１つの
回折格子１０８ａは本発明に係る位置検出装置１０５Ａ
から出射される光束によって、位置検出系用の補償光学
系１０６Ａ及び投影レンズ１０２を介し照明されてい
る。そして回折格子１０８ａからの回折光は照明と逆に
投影レンズ１０２及び位置検出系用の補償光学系１０６
Ａを介し、位置検出装置１０５Ａに取り込まれ現在の基
準位置とウエハ位置とのＸ軸方向の関係を検出してい
る。
１０３との位置合わせは次のようにして行っている。ウ
エハ１０３上には互いに方向が直交している２つの回折
格子１０８ａ，１０８ｂが形成されている。その１つの
回折格子１０８ａは本発明に係る位置検出装置１０５Ａ
から出射される光束によって、位置検出系用の補償光学
系１０６Ａ及び投影レンズ１０２を介し照明されてい
る。そして回折格子１０８ａからの回折光は照明と逆に
投影レンズ１０２及び位置検出系用の補償光学系１０６
Ａを介し、位置検出装置１０５Ａに取り込まれ現在の基
準位置とウエハ位置とのＸ軸方向の関係を検出してい
る。
【００１７】同様にもう一方の回折格子１０８ｂも、も
う１つの位置検出装置１０５Ｂによって現在の基準位置
とウエハ位置とのＹ軸方向の関係を検出している。尚、
各位置検出装置１０５Ａ，１０５Ｂによって決まる基準
位置とレチクル１０１の位置は前もって測定されてい
る。
う１つの位置検出装置１０５Ｂによって現在の基準位置
とウエハ位置とのＹ軸方向の関係を検出している。尚、
各位置検出装置１０５Ａ，１０５Ｂによって決まる基準
位置とレチクル１０１の位置は前もって測定されてい
る。
【００１８】以上の位置に関する情報は位置合わせ制御
装置１０７に送られ、位置合わせ制御装置１０７はレチ
クル１０１に対する所望のウエハ位置を算出し、ＸＹス
テージ１０４を所望の位置に駆動させる。そしてレチク
ル１０１面上の電子回路パターンをウエハ１０３上に縮
小投影し露光転写している。
装置１０７に送られ、位置合わせ制御装置１０７はレチ
クル１０１に対する所望のウエハ位置を算出し、ＸＹス
テージ１０４を所望の位置に駆動させる。そしてレチク
ル１０１面上の電子回路パターンをウエハ１０３上に縮
小投影し露光転写している。
【００１９】次に、本発明の位置検出装置に関する原理
を図２を用いて説明する。
を図２を用いて説明する。
【００２０】図２において、１はレーザ光源（周波数ν
0 ，波長λ0 ）でその波長λ0 は露光波長λとは異なっ
ている。レーザ光源１から発せられた光束Ｌ0 はビーム
スプリッター２によって２つの光束に分割され、１つの
光束は音響光学変調器４に、もう一方の光束はミラー３
を介して音響光学変調器５に入射される。音響光学変調
器４，５では、周波数ν0 の光を周波数偏移させる。ま
た音響光学変調器４，５ではその偏移量がわずかに異な
り、光束Ｌ1 の周波数はν1 （波長λ1 ）、光束Ｌ2 の
周波数はν2 （波長λ2 ）になっている。
0 ，波長λ0 ）でその波長λ0 は露光波長λとは異なっ
ている。レーザ光源１から発せられた光束Ｌ0 はビーム
スプリッター２によって２つの光束に分割され、１つの
光束は音響光学変調器４に、もう一方の光束はミラー３
を介して音響光学変調器５に入射される。音響光学変調
器４，５では、周波数ν0 の光を周波数偏移させる。ま
た音響光学変調器４，５ではその偏移量がわずかに異な
り、光束Ｌ1 の周波数はν1 （波長λ1 ）、光束Ｌ2 の
周波数はν2 （波長λ2 ）になっている。
【００２１】光束Ｌ1 ，光束Ｌ2 は分割手段としてのケ
スタープリズム６に入射され、各光束はハーフミラー６
ａで２分割され、反射面６ｂ，６ｃとを利用して計４つ
の光束Ｌ11，Ｌ12，Ｌ21，Ｌ22としてかつ各光束が互い
に平行になって射出させている。この４つの光束は照明
手段としてのフーリエ変換レンズ７（図１では位置検出
系用の補償光学系１０６と投影レンズ１０２でその機能
を果たしている。）に入射し、ウエハ（不図示）に形成
された反射型の回折格子（ピッチＰ）８を照明する。
スタープリズム６に入射され、各光束はハーフミラー６
ａで２分割され、反射面６ｂ，６ｃとを利用して計４つ
の光束Ｌ11，Ｌ12，Ｌ21，Ｌ22としてかつ各光束が互い
に平行になって射出させている。この４つの光束は照明
手段としてのフーリエ変換レンズ７（図１では位置検出
系用の補償光学系１０６と投影レンズ１０２でその機能
を果たしている。）に入射し、ウエハ（不図示）に形成
された反射型の回折格子（ピッチＰ）８を照明する。
【００２２】このときウエハを照明する４つの光束の入
射角は下記のように設定している。（角度はフーリエ変
換レンズ７の光軸７ａに対するもので、時計回りをプラ
スとする）。
射角は下記のように設定している。（角度はフーリエ変
換レンズ７の光軸７ａに対するもので、時計回りをプラ
スとする）。
【００２３】光束Ｌ11の入射角 ：Θ11 ＝−ｓｉｎ-1
（λ0 ／Ｐ）−Θ0 光束Ｌ12の入射角 ：Θ12 ＝−Θ11 光束Ｌ21の入射角 ：Θ21 ＝−ｓｉｎ-1（λ0 ／Ｐ）
＋Θ0 光束Ｌ22の入射角 ：Θ22 ＝−Θ21 このような入射角のとき、回折格子８からの回折光は次
のようになる。光束Ｌ11の＋１次光と光束Ｌ22の−１次
光は同じ−Θ0 方向に回折され、光束Ｌ21の＋１次光と
光束Ｌ12の−１次光は同じΘ0 方向に回折される。
（λ0 ／Ｐ）−Θ0 光束Ｌ12の入射角 ：Θ12 ＝−Θ11 光束Ｌ21の入射角 ：Θ21 ＝−ｓｉｎ-1（λ0 ／Ｐ）
＋Θ0 光束Ｌ22の入射角 ：Θ22 ＝−Θ21 このような入射角のとき、回折格子８からの回折光は次
のようになる。光束Ｌ11の＋１次光と光束Ｌ22の−１次
光は同じ−Θ0 方向に回折され、光束Ｌ21の＋１次光と
光束Ｌ12の−１次光は同じΘ0 方向に回折される。
【００２４】そして各回折光の複素振幅は、位置検出装
置によって決まる基準位置とウエハ位置（回折格子の中
心）とのずれ量をΔｘとすると、 光束Ｌ11の＋１次光：Ｅ11＝Ａ11ＥＸＰ［ｉ（２πν1
ｔ＋δ0 ＋δ1 ）］ 光束Ｌ22の−１次光：Ｅ22＝Ａ22ＥＸＰ［ｉ（２πν2
ｔ＋δ0 ＋δ2 ）］ 光束Ｌ21の＋１次光：Ｅ21＝Ａ21ＥＸＰ［ｉ（２πν2
ｔ＋δ0 ＋δ2 ）］ 光束Ｌ12の−１次光：Ｅ12＝Ａ12ＥＸＰ［ｉ（２πν1
ｔ＋δ0 ＋δ1 ）］
置によって決まる基準位置とウエハ位置（回折格子の中
心）とのずれ量をΔｘとすると、 光束Ｌ11の＋１次光：Ｅ11＝Ａ11ＥＸＰ［ｉ（２πν1
ｔ＋δ0 ＋δ1 ）］ 光束Ｌ22の−１次光：Ｅ22＝Ａ22ＥＸＰ［ｉ（２πν2
ｔ＋δ0 ＋δ2 ）］ 光束Ｌ21の＋１次光：Ｅ21＝Ａ21ＥＸＰ［ｉ（２πν2
ｔ＋δ0 ＋δ2 ）］ 光束Ｌ12の−１次光：Ｅ12＝Ａ12ＥＸＰ［ｉ（２πν1
ｔ＋δ0 ＋δ1 ）］
【００２５】
【外１】 となる。
【００２６】−Θ0 方向の２つの回折光はミラー９Ａを
介し、検出手段としての光強度検出器１０Ａで合成され
次式のような光強度Ｉ1 が検出される。 Ｉ1 ＝｜Ｅ11＋Ｅ22｜2 ＝ Ａ11 2 ＋Ａ22 2 ＋２Ａ11Ａ22ｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）＋２δ0 ＋δ1 −δ2 ］ ・・・・・（１） 同様にΘ0 方向の２つの回折光もミラー９Ｂを介して検
出手段としての光強度検出器１０Ｂで合成され次式のよ
うな光強度Ｉ2 が検出される。 Ｉ2 ＝｜Ｅ21＋Ｅ12｜2 ＝ Ａ21 2 ＋Ａ12 2 ＋２Ａ21Ａ12ｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）−２δ0 ＋δ1 −δ2 ］ ・・・・・（２） 尚、ここでフーリエ変換レンズ７とミラー９（９Ａ，９
Ｂ）は合成手段を構成している。
介し、検出手段としての光強度検出器１０Ａで合成され
次式のような光強度Ｉ1 が検出される。 Ｉ1 ＝｜Ｅ11＋Ｅ22｜2 ＝ Ａ11 2 ＋Ａ22 2 ＋２Ａ11Ａ22ｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）＋２δ0 ＋δ1 −δ2 ］ ・・・・・（１） 同様にΘ0 方向の２つの回折光もミラー９Ｂを介して検
出手段としての光強度検出器１０Ｂで合成され次式のよ
うな光強度Ｉ2 が検出される。 Ｉ2 ＝｜Ｅ21＋Ｅ12｜2 ＝ Ａ21 2 ＋Ａ12 2 ＋２Ａ21Ａ12ｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）−２δ0 ＋δ1 −δ2 ］ ・・・・・（２） 尚、ここでフーリエ変換レンズ７とミラー９（９Ａ，９
Ｂ）は合成手段を構成している。
【００２７】（１），（２）式における第３項が光ビー
ト信号と呼ばれるものであり、周波数（ν1 −ν2 ）の
交流信号が得られる。回折格子８がΔｘ移動すると、
（１）式では光ビート信号の位相が２δ0 ＝４πΔｘ／
Ｐ（ラジアン）遅れる。逆に（２）式では光ビート信号
の位相が２δ0 ＝４πΔｘ／Ｐ（ラジアン）進む。
ト信号と呼ばれるものであり、周波数（ν1 −ν2 ）の
交流信号が得られる。回折格子８がΔｘ移動すると、
（１）式では光ビート信号の位相が２δ0 ＝４πΔｘ／
Ｐ（ラジアン）遅れる。逆に（２）式では光ビート信号
の位相が２δ0 ＝４πΔｘ／Ｐ（ラジアン）進む。
【００２８】この２つの光ビート信号は位置算出手段１
１に送られる。位置算出手段１１ではその中にある位相
検波器に１つの光ビート信号は信号として、もう１つの
光ビート信号は参照信号として入力される。そして次式
のような２つの光ビート信号の位相差Φが測定される。
１に送られる。位置算出手段１１ではその中にある位相
検波器に１つの光ビート信号は信号として、もう１つの
光ビート信号は参照信号として入力される。そして次式
のような２つの光ビート信号の位相差Φが測定される。
【００２９】 Φ＝（２δ0 ＋δ1 −δ2 ）−（−２δ0 ＋δ1 −δ2 ） ＝４δ0 ＝８πΔｘ／Ｐ ・・・・・（３） 測定された位相差より、位置ずれ量Δｘを算出し、その
情報が図１の位置合わせ制御装置１０７に送られる。
情報が図１の位置合わせ制御装置１０７に送られる。
【００３０】この位置検出装置では、（３）式から分か
るように同じ位置ずれ量に対し従来での位相差４πΔｘ
／Ｐに比べ２倍の位相変化がある。すなわち、従来に比
べ２倍の位置検出分解能がある。また従来測定される位
相に付加されていた位相ノイズδ1 ，δ2 も相殺され安
定した検出が可能となる。
るように同じ位置ずれ量に対し従来での位相差４πΔｘ
／Ｐに比べ２倍の位相変化がある。すなわち、従来に比
べ２倍の位置検出分解能がある。また従来測定される位
相に付加されていた位相ノイズδ1 ，δ2 も相殺され安
定した検出が可能となる。
【００３１】実施例１では回折光路８からの回折光のう
ち±１次光を利用していたが、ウエハ上の回折格子８は
その上にレジストが塗布されているため、時として±１
次光の光強度が低く、その他の±Ｎ次光が高い場合があ
るため、±Ｎ次光を利用しても構わない。
ち±１次光を利用していたが、ウエハ上の回折格子８は
その上にレジストが塗布されているため、時として±１
次光の光強度が低く、その他の±Ｎ次光が高い場合があ
るため、±Ｎ次光を利用しても構わない。
【００３２】±Ｎ次光を利用したい場合は、ケスタープ
リズム７に入射する光束Ｌ1 ，Ｌ2の入射位置を変更
し、下記のようにウエハを照明する４つの光束の入射角
を設定すれば良い。
リズム７に入射する光束Ｌ1 ，Ｌ2の入射位置を変更
し、下記のようにウエハを照明する４つの光束の入射角
を設定すれば良い。
【００３３】光束Ｌ11の入射角 ：Θ11 ＝−ｓｉｎ-1
（Ｎλ0 ／Ｐ）−Θ0 光束Ｌ12の入射角 ：Θ12 ＝−Θ11 光束Ｌ21の入射角 ：Θ21 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0 ／
Ｐ）＋Θ0 光束Ｌ22の入射角 ：Θ22 ＝−Θ21 ただし、このときは同じ位置ずれに対し、実施例１に比
べＮ倍の位相変化が起こる。またピッチＰが異なる回折
格子で位置検出を行いたい場合も、ケスタープリズム７
に入射する光束Ｌ1 ，Ｌ2 の入射位置を変更すれば良
い。
（Ｎλ0 ／Ｐ）−Θ0 光束Ｌ12の入射角 ：Θ12 ＝−Θ11 光束Ｌ21の入射角 ：Θ21 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0 ／
Ｐ）＋Θ0 光束Ｌ22の入射角 ：Θ22 ＝−Θ21 ただし、このときは同じ位置ずれに対し、実施例１に比
べＮ倍の位相変化が起こる。またピッチＰが異なる回折
格子で位置検出を行いたい場合も、ケスタープリズム７
に入射する光束Ｌ1 ，Ｌ2 の入射位置を変更すれば良
い。
【００３４】図３は本発明の実施例２の位置検出原理の
説明図である。
説明図である。
【００３５】実施例１では分離したわずかに周波数が異
なる２つの光束Ｌ1 ，Ｌ2 を用いたが、本実施例では分
離はしていないが互いに偏光が直交し周波数がわずかに
異なる２つの光束を用いている。
なる２つの光束Ｌ1 ，Ｌ2 を用いたが、本実施例では分
離はしていないが互いに偏光が直交し周波数がわずかに
異なる２つの光束を用いている。
【００３６】尚、光学系の要部概略図は図２の実施例１
と略同じである。
と略同じである。
【００３７】図３において、３１はゼーマンレーザであ
りわずかに異なった２つの周波数ν1 ，ν2 （２つの波
長λ1 ，λ2 ）で、偏光が直交する２つのレーザ光を発
している。。ゼーマンレーザ３１から発した光はケスタ
ープリズム６に入射しハーフミラー面６ａで分割され、
２つの光束Ｌ1 ，Ｌ2 になってかつ各光束が互いに平行
になって出ていく。その直後、一方の光束Ｌ1 は１／２
波長板３２を通過し、偏光方向を９０度回転させてい
る。すると各光束Ｌ1 ，Ｌ2 の偏光成分別の複素振幅は
次式のようになる。
りわずかに異なった２つの周波数ν1 ，ν2 （２つの波
長λ1 ，λ2 ）で、偏光が直交する２つのレーザ光を発
している。。ゼーマンレーザ３１から発した光はケスタ
ープリズム６に入射しハーフミラー面６ａで分割され、
２つの光束Ｌ1 ，Ｌ2 になってかつ各光束が互いに平行
になって出ていく。その直後、一方の光束Ｌ1 は１／２
波長板３２を通過し、偏光方向を９０度回転させてい
る。すると各光束Ｌ1 ，Ｌ2 の偏光成分別の複素振幅は
次式のようになる。
【００３８】光束Ｌ1 の水平成分Ｌ1p：Ｅ1p＝Ａ1pＥＸ
Ｐ［ｉ（２πν1 ｔ）］ 光束Ｌ1 の垂直成分Ｌ1s：Ｅ1s＝Ａ1sＥＸＰ［ｉ（２π
ν2 ｔ）］ 光束Ｌ2 の水平成分Ｌ2p：Ｅ2p＝Ａ2pＥＸＰ［ｉ（２π
ν2 ｔ）］ 光束Ｌ2 の垂直成分Ｌ2s：Ｅ2s＝Ａ2sＥＸＰ［ｉ（２π
ν1 ｔ）］ ２つの光束Ｌ1 ，Ｌ2 はフーリエ変換レンズ７に入射
し、ウエハに形成された反射型の回折格子８（ピッチ
Ｐ）を照明する。
Ｐ［ｉ（２πν1 ｔ）］ 光束Ｌ1 の垂直成分Ｌ1s：Ｅ1s＝Ａ1sＥＸＰ［ｉ（２π
ν2 ｔ）］ 光束Ｌ2 の水平成分Ｌ2p：Ｅ2p＝Ａ2pＥＸＰ［ｉ（２π
ν2 ｔ）］ 光束Ｌ2 の垂直成分Ｌ2s：Ｅ2s＝Ａ2sＥＸＰ［ｉ（２π
ν1 ｔ）］ ２つの光束Ｌ1 ，Ｌ2 はフーリエ変換レンズ７に入射
し、ウエハに形成された反射型の回折格子８（ピッチ
Ｐ）を照明する。
【００３９】このとき、ウエハを照明する２つの光束Ｌ
1 ，Ｌ2 の入射角は下記のように設定している。
1 ，Ｌ2 の入射角は下記のように設定している。
【００４０】 光束Ｌ1 の入射角 ： Θ31＝−ｓｉｎ-1（λ0 ／Ｐ） 光束Ｌ2 の入射角 ： Θ32＝−Θ31 このような入射角のとき、回折格子８からの回折光は次
にようになる。
にようになる。
【００４１】光束Ｌ1 の＋１次光及び光束Ｌ2 の−１次
光はフーリエ変換レンズ７の光軸７ａに対して０度方向
に回折される。そして、各回折光の偏光成分別の複素振
幅は、位置検出装置によって決まる基準位置とウエハ位
置（回折格子の中心）とのずれ量をΔｘとすると、 光束Ｌ1pの＋１次光： Ｅ1p＝Ａ1pＥＸＰ［ｉ（２πν
1 ｔ＋δ0 ）］ 光束Ｌ1sの＋１次光： Ｅ1s＝Ａ1sＥＸＰ［ｉ（２πν
2 ｔ＋δ0 ）］ 光束Ｌ2pの−１次光： Ｅ2p＝Ａ2pＥＸＰ［ｉ（２πν
2 ｔ−δ0 ）］ 光束Ｌ2sの−１次光： Ｅ2s＝Ａ2sＥＸＰ［ｉ（２πν
1 ｔ−δ0 ）］ （ただし、δ0 ＝２πΔｘ／Ｐ） となる。
光はフーリエ変換レンズ７の光軸７ａに対して０度方向
に回折される。そして、各回折光の偏光成分別の複素振
幅は、位置検出装置によって決まる基準位置とウエハ位
置（回折格子の中心）とのずれ量をΔｘとすると、 光束Ｌ1pの＋１次光： Ｅ1p＝Ａ1pＥＸＰ［ｉ（２πν
1 ｔ＋δ0 ）］ 光束Ｌ1sの＋１次光： Ｅ1s＝Ａ1sＥＸＰ［ｉ（２πν
2 ｔ＋δ0 ）］ 光束Ｌ2pの−１次光： Ｅ2p＝Ａ2pＥＸＰ［ｉ（２πν
2 ｔ−δ0 ）］ 光束Ｌ2sの−１次光： Ｅ2s＝Ａ2sＥＸＰ［ｉ（２πν
1 ｔ−δ0 ）］ （ただし、δ0 ＝２πΔｘ／Ｐ） となる。
【００４２】これらの回折光はミラー３３を介し、偏光
ビームスプリッター３４によって偏光成分別に透過・反
射し分割される。
ビームスプリッター３４によって偏光成分別に透過・反
射し分割される。
【００４３】透過した水平成分である光束Ｌ1pの＋１次
光と光束Ｌ2pの−１次光は、光強度検出器３５Ａで合成
され次式のような光強度Ｉ1 が検出される。 Ｉ1 ＝｜Ｅ1p＋Ｅ2p｜2 ＝Ａ1p 2 ＋Ａ2p 2 ＋２Ａ1pＡ2pｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）＋２δ0 ］ ・・・・・（４） 同様に透過した水平成分である光束Ｌ1sの＋１次光と光
束Ｌ2sの−１次光も、光強度検出器３５Ｂで合成され次
式のような光強度Ｉ2 が検出される。 Ｉ2 ＝｜Ｅ1s＋Ｅ2s｜2 ＝Ａ1s 2 ＋Ａ2s 2 ＋２Ａ1sＡ2sｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）＋２δ0 ］ ・・・・・（５） 実施例１と同様に、（４），（５）式における第３項が
光ビート信号と呼ばれるものであり、周波数（ν1 −ν
2 ）の交流信号が得られる。回折格子８がΔｘ移動する
と、（４）式では光ビート信号の位相が２δ0 ＝４πΔ
ｘ／Ｐ（ラジアン）遅れる。逆に（５）式では光ビート
信号の位相が２δ0 ＝４πΔｘ／Ｐ（ラジアン）進む。
光と光束Ｌ2pの−１次光は、光強度検出器３５Ａで合成
され次式のような光強度Ｉ1 が検出される。 Ｉ1 ＝｜Ｅ1p＋Ｅ2p｜2 ＝Ａ1p 2 ＋Ａ2p 2 ＋２Ａ1pＡ2pｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）＋２δ0 ］ ・・・・・（４） 同様に透過した水平成分である光束Ｌ1sの＋１次光と光
束Ｌ2sの−１次光も、光強度検出器３５Ｂで合成され次
式のような光強度Ｉ2 が検出される。 Ｉ2 ＝｜Ｅ1s＋Ｅ2s｜2 ＝Ａ1s 2 ＋Ａ2s 2 ＋２Ａ1sＡ2sｃｏｓ［２π（ν1 −ν2 ）＋２δ0 ］ ・・・・・（５） 実施例１と同様に、（４），（５）式における第３項が
光ビート信号と呼ばれるものであり、周波数（ν1 −ν
2 ）の交流信号が得られる。回折格子８がΔｘ移動する
と、（４）式では光ビート信号の位相が２δ0 ＝４πΔ
ｘ／Ｐ（ラジアン）遅れる。逆に（５）式では光ビート
信号の位相が２δ0 ＝４πΔｘ／Ｐ（ラジアン）進む。
【００４４】この２つの光ビート信号は位置算出手段１
１に送られる。位置算出手段１１ではその中にある位相
検波器に１つの光ビート信号は信号として、もう１つの
回折ビート信号は参照信号として入力される。そして次
式のような２つの光ビート信号の位相差Φが測定され
る。
１に送られる。位置算出手段１１ではその中にある位相
検波器に１つの光ビート信号は信号として、もう１つの
回折ビート信号は参照信号として入力される。そして次
式のような２つの光ビート信号の位相差Φが測定され
る。
【００４５】 Φ＝（２δ0 ）−（−２δ0 ） ＝４δ0 ＝８πΔｘ／Ｐ ・・・・・（６） 測定された位相差Φより、位置ずれ量Δｘを算出し、そ
の情報が図１の位置合わせ制御装置１０７に送られる。
の情報が図１の位置合わせ制御装置１０７に送られる。
【００４６】この位置検出装置では、（６）式から分か
るように、同じ位置ずれ量Δｘに対し従来での位相差４
πΔｘ／Ｐに比べ２倍の位相変化がある。すなわち、従
来に比べ２倍の位置検出分解能がある。また従来測定さ
れる位相に付加されていた位相ノイズも波長による光路
の違いがないため安定した位置検出が可能となる。
るように、同じ位置ずれ量Δｘに対し従来での位相差４
πΔｘ／Ｐに比べ２倍の位相変化がある。すなわち、従
来に比べ２倍の位置検出分解能がある。また従来測定さ
れる位相に付加されていた位相ノイズも波長による光路
の違いがないため安定した位置検出が可能となる。
【００４７】前述の実施例１と同様に、高次の回折光を
利用する場合、異なるピッチの回折格子を使用したい場
合、ケスタープリズム６に入射するレーザ光の入射位置
を変更すれば良い。
利用する場合、異なるピッチの回折格子を使用したい場
合、ケスタープリズム６に入射するレーザ光の入射位置
を変更すれば良い。
【００４８】
【発明の効果】本発明によれば以上のように光ヘテロダ
イン干渉法を利用してウエハ等の物体の基準位置からの
ずれ量を検出する際、複数の光ビート信号を得て、この
うちウエハ位置と基準位置との位置ずれに対して位相が
逆方向に進む２つの光ビート信号の位相差を検出するこ
とにより高い検出分解能を有し、かつ検出安定性の良い
位置検出装置を達成することができる。
イン干渉法を利用してウエハ等の物体の基準位置からの
ずれ量を検出する際、複数の光ビート信号を得て、この
うちウエハ位置と基準位置との位置ずれに対して位相が
逆方向に進む２つの光ビート信号の位相差を検出するこ
とにより高い検出分解能を有し、かつ検出安定性の良い
位置検出装置を達成することができる。
【図１】 本発明の位置検出装置を半導体素子製造用の
投影露光装置に適用したときの実施例１の要部概略図
投影露光装置に適用したときの実施例１の要部概略図
【図２】 本発明の位置検出装置の実施例１の位置検出
原理の説明図
原理の説明図
【図３】 本発明の位置検出装置の実施例２の位置検出
原理の説明図
原理の説明図
【図４】 従来の光ヘテロダイン干渉法を用いた位置検
出装置の検出原理の説明図
出装置の検出原理の説明図
１ レーザ光源 ２ ビームスプリッター ３ ミラー ４，５ 音響光学変調器 ６ 光分割手段 ７ 照明手段（フーリエ変換レンズ） ８ 回折格子 ９（９Ａ，９Ｂ） 合成手段（ミラー） １０（１０Ａ，１０Ｂ） 検出手段 １１ 位置検出手段 １０１ レチクル １０２ 投影レンズ １０３ ウエハ １０４ ＸＹステージ １０５ 位置検出装置 １０６ 補償光学系 １０７ 位置合わせ制御装置
Claims (6)
- 【請求項１】 わずかに周波数が異なる分離した２つの
コヒーレント光を、各々複数の光束に分割する分割手段
と、分割された複数の光束を回折格子が形成された物体
に互いに異なる角度で照明する照明手段と、前記回折格
子からの複数の回折光を取り出し光学的に合成する複数
の合成手段と合成された回折光の光ビート信号を検出す
る複数の検出手段と、前記複数の光ビート信号の内、該
物体の位置と基準位置との位置ずれに対し互いに位相が
逆方向に進む２つの光ビート信号を得て、該２つの光ビ
ート信号の位相差を測定する位置検出手段とを有し、該
位置検出手段からの信号を利用して該物体の位置を検出
するようにしたことを特徴とする位置検出装置。 - 【請求項２】 前記分割手段は半透鏡を有する光学素子
より成り、前記光学素子に入射される光束の位置の変更
により分割された複数の光束が物体を照明する角度を調
整していることを特徴とする請求項１の位置検出装置。 - 【請求項３】 前記光学素子がケスタープリズムである
ことを特徴とする請求項２の位置検出装置。 - 【請求項４】 前記わずかに周波数が異なる２つのコヒ
ーレント光は、単一波長を発するレーザ光源からの光束
を分割しそれぞれに異なる周波数偏位量を与えたもので
あることを特徴とする請求項１，又は２，又は３の位置
検出装置。 - 【請求項５】 前記分割された複数の光束はＬ１（λ
1 ），Ｌ２（λ1 ），Ｌ３（λ2 ），Ｌ４（λ2 ）｛λ
1 ，λ2 波長｝の４つの光束であり、各光束の前記物体
を照明する角度が Ｌ１（λ1 ）の入射角 ：Θ1 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0
／Ｐ）−Θ0 Ｌ２（λ1 ）の入射角 ：Θ2 ＝−Θ1 Ｌ３（λ2 ）の入射角 ：Θ3 ＝−ｓｉｎ-1（Ｎλ0
／Ｐ）＋Θ0 Ｌ４（λ2 ）の入射角 ：Θ4 ＝−Θ3 ただし λ1 λ2 ≒ λ0 Ｐ ： 回折格子のピッチ Ｎ ： 正の整数 であり、前記２つの光ビート信号が±Θ0 方向に回折さ
れる光の光ビート信号であることを特徴とする請求項４
の位置検出装置。 - 【請求項６】 前記２つのコヒーレント光は、偏光方向
が互いに直交する光を発するコヒーレント光源から放出
されたものであり、 前記分割手段で分割された光束はＬ１（λ1 ，λ2 ），
Ｌ２（λ1 ，λ2 ）｛λ1 ，λ2 波長｝の２つの光束
で、かつ同じ波長同志の偏光方向を直交させる合成手段
を有しており、 各光束の前記物体を照明する角度が Ｌ１（λ1 ，λ2 ）の入射角 ：Θ1 ＝−ｓｉｎ
-1（Ｎλ0 ／Ｐ） Ｌ２（λ1 ，λ2 ）の入射角 ：Θ2 ＝−Θ1 ただし λ1 λ2 ≒ λ0 Ｐ ： 回折格子のピッチ Ｎ ： 正の整数 であり、 前記２つの光ビート信号が０度方向に回折される光を偏
光成分別に分割された光の光ビート信号であることを特
徴とする請求項１，又は２，又は３の位置検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4353436A JPH06177013A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 位置検出装置 |
| US08/160,208 US5448357A (en) | 1992-12-10 | 1993-12-02 | Position detecting system for detecting a position of an object by detecting beat signals produced through interference of diffraction light |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4353436A JPH06177013A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 位置検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06177013A true JPH06177013A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18430834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4353436A Pending JPH06177013A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 位置検出装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5448357A (ja) |
| JP (1) | JPH06177013A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014201950A1 (zh) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | 清华大学 | 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2078732A1 (en) * | 1991-09-27 | 1993-03-28 | Koichi Sentoku | Displacement measuring device and displacement measuring method |
| FR2721723B1 (fr) * | 1994-06-27 | 1996-09-20 | Cinema Magnetique Comm | Installation d'entraînement et de positionnement d'un film, en particulier en cours de gravure par faisceau laser. |
| US5982489A (en) * | 1996-01-29 | 1999-11-09 | Nikon Corporation | Method and apparatus for measuring depth of a depression in a pattern by light interference from crossed light beams |
| US5867794A (en) * | 1996-09-20 | 1999-02-02 | Ericsson Inc. | Audio-output for a portable radio telephone utilizing a vehicle's AM/FM radio |
| JPH10214779A (ja) * | 1997-01-31 | 1998-08-11 | Canon Inc | 電子ビーム露光方法及び該方法を用いたデバイス製造方法 |
| US6407815B2 (en) * | 1998-07-02 | 2002-06-18 | Sony Precision Technology Inc. | Optical displacement measurement system |
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