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JPH01144072A - 画像形成装置 - Google Patents

画像形成装置

Info

Publication number
JPH01144072A
JPH01144072A JP30291587A JP30291587A JPH01144072A JP H01144072 A JPH01144072 A JP H01144072A JP 30291587 A JP30291587 A JP 30291587A JP 30291587 A JP30291587 A JP 30291587A JP H01144072 A JPH01144072 A JP H01144072A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoreceptor
image
image forming
forming apparatus
conductive member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30291587A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Yamazaki
晃司 山崎
Shigenori Ueda
重教 植田
Toshiyuki Ebara
俊幸 江原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP30291587A priority Critical patent/JPH01144072A/ja
Publication of JPH01144072A publication Critical patent/JPH01144072A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、像担持体としてアモルファスシリコン感光体
を用いた転写方式の画像形成装置に関する。
〔従来の技術〕
アモルファスシリコン(非晶質シリコン系、以下a−9
iと記す)は優れた光導電材料として注目され、該a−
9iを感光層とする感光体は高速度電子写真装置・レー
ザビームプリンタ (LOP)等に像担持体として組込
む感光体として賞用されている。
即ちa−9i感光体は他の光導電材料(Se・ CdS
・ ZnO等の無機材料やポリビニルカルバゾール・フ
タロシアニン等の有機材料)を感光層とする感光体に比
べて、感光層の表面硬度が高((JIS規格、ビッカー
ス硬さ1000 Kg/am2以上)、耐摩耗性・耐傷
付性Φ耐衝撃性等に格段に優れる、耐熱性・耐温性・耐
コロナイオン性拳電位安定性等にも優れる、光感度もよ
く半導体レーザ(770nm〜800nm)などの長波
長光に高い感度を示し、光感度劣化をほとんど示さない
、毒性も全くない等の種々の特徴があり、それ等の本来
的な緒特性は長期にわたる繰返し使用でも物理的・化学
的な劣化や変性が殆ど認められない長寿命感光体である
而して該a−9i感光体を用いた転写方式の電子写真装
置・ LBP等の画像形成装置は他の感光体を用いたも
のと同様に感光体に対して、感光体面を一様に帯電する
主帯電工程、その帯電面に原稿画像のスリット露光、レ
ーザビーム走査露光等による画像露光をして露光パター
ンに対応した静電潜像を形成する画像露光工程、形成静
電潜像を現像剤(トナー)で現像する現像工程、現像像
を転写材に転写させる転写工程、感光体の反復使用のた
めに、像転写後の感光体面を清浄面化するクリーニング
工程、を基本的に含む画像形成プロセスを適用して画像
形成物(現像像が転写され、像定着処理された転写材)
を出力させる構成になっている。
第4図はその具体例装置の概略構成を示したもので、本
例は像担持体として回転ドラム型のa−Si感感光体音
用いた電子写真複写機である。
a−9i感光体1は中心軸1aを中心に矢示a方向に所
定のプロセススピード(回転周速度)で回転駆動され、
その回転過程で感光体周囲に配設された作像プロセス機
器による下記の作像工程を順次に受けて像形成が実行さ
れる。
■主帯電:主帯電器2によって所定電位の一様帯電を受
ける。
■画像露光:その一様帯電面に不図示の画像露光手段に
より原稿画像のスリット露光3 (LOPの場合は目的
の画像情報のレーザビーム走査書込み露光)がなされ、
N光パターンに対応した静電潜像が次に形成されていく
■現像:該静電潜像が現像器4によりトナー像として現
像される。
■転写:不図示の給紙部から転写材Pがシートパス8を
通して感光体lと転写帯電器5との間に供給され、転写
材Pの表面側に感光体1面側のトナー像が順次に転写さ
れていく。
■定着:転写帯電器5の位置を通過した転写材Pは、感
光体1面から分離されて搬送路9から不図示の定着器へ
導入されて像定着を受け。
画像形成物(コピー)として装置外へ排出される。
■クリーニング:転写材分離後の感光体1面はクリーニ
ング器6によって転写残りトナー、その他の付着汚損物
の除去がなされて清浄面化される。
■除電露光:クリーニング器6を通過した感光体1面は
除電露光器7で一様露光を受けて光メモリの消去がなさ
れ、前記クリーニング器6と該除電露光器7で物理的に
も電気的にも均一な清浄面にされた感光体1面が再び繰
返して作像に供される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
(1) a−Si感光体は他の感光体に比べて多くのダ
ングリングボンド(未結合手)を有しており、これが局
在準位となって露光による光生成キャリアの一部を捕捉
してその走行性を低下させ、あるいはキャリアの再結合
確率を低下させる。つまり、光メモリ(光疲労)を生じ
やすい。
そのため画像露光工程や他の例えばブランク露光等の露
光工程で感光体の露光明部に一旦生成されたキャリアの
一部は、感光体の反復使用過程でその感光体面部分が再
び主帯電工程で帯電を受けるときも局在準位に捕捉され
たまま再結合せずに残りやすく(光メモリの保持)、そ
の光メモリのある感光体面に主帯電工程で再帯電の電界
がかかると同時に捕捉キャリアが局在準位から開放され
、その結果光メモリの露光明部対応部分と露光暗部対応
部分(非露光部)との間で感光体表面電位に差が生じ、
その電位差パターン(光メモリパターン)がゴーストと
称される画像むらとなって出力画像にあられれやすい。
そこで従来はクリーニング工程と主帯電工程との間に除
電露光工程を設けて感光体面を均一露光して感光体内部
に潜在するキャリアを光メモリの露光明部対応部分も露
光暗部対応部分も何れも過多にして全体均一なキャリア
状態にすることにより光メモリを消去する手段が一般に
採用されている。
除電露光工程の光量を増やしたり、光波長をa−9i感
光体の分光感度ピーク (おおむね880〜700n■
)にもかずけることにより、より効果的に光メモリ、従
ってゴーストを消去することが可能である。
しかしa−9t感光体は前述したように光メモリを生じ
ゃす〈除電露光工程の光を強くしたり、波長を長くして
a−Si感光体の分光感度ピークにちかずけすぎると、
該除電露光により感光体内部に過多に生成された潜在キ
ャリアが実質的に再結合し終わるまえに感光体面が主帯
電工程に突入して主帯電を受ける状態を生じ、感光体面
の主帯電効率を著しく低下させるといった弊害があった
即ち感光体の主帯電工程はその初期過程はその前工程の
除電露光により感光体内部に過多に生成されて残存する
キャリアの再結会期として費やされてしまい、その後が
主帯電電荷による表面電位上昇期となるといったステッ
プを踏むことになるため、感光体が除電露光を受け、次
いで主帯電工程に進入する直前時において感光体内部に
存在する再結合するには至っていないキャリア量が多い
状態にあれば帯電効率が低下して主帯電工程による感光
体面の最終的な表面電位は低いものとなり、キャリア量
が少ない状態にあれば帯電効率が上昇して表面電位は高
いものとなる。つまり主帯電工程直前時での感光体内部
のキャリア量状態が、主帯電工程による最終的な感光体
表面電位の高低、すなわち帯電能(主帯電効率)に大き
く影響する。
従って、感光体の光メモリ消去のために除電露光を受け
た感光体面は該除電露光により感光体内部に過多に生成
したキャリアがおおむね再結合を終えるに要する一定時
間(おおむね100m sec以上)後に主帯電工程に
進入して主帯電を受けることが帯電効率を上げる上で望
ましいのであるが、例えばプロセススピード(感光体の
面移動駆動速度) 300 ■/sec以上の高速複写
機などでは感光体面が除電露光工程から主帯電工程へ至
るまでの時間を上記100■see以上とることは実際
上困難であり、そのために除電露光工程の露光強度や光
線波長に制約を受け、ある程度のゴーストの発生は割り
切らざるを得ないのが現状であった。
また暗抵抗が他感光体にくらべ低く単位膜厚当りの帯電
電位がlO〜18(V/ILm)と低く、暗減衰も現状
100〜200V /sec程度と大きいといった問題
がある。これに対して感光層膜厚を増すことが効果的で
あるが、近年高速成膜CVD法として脚光をあびている
マイクロウェーブ法によっても製造コストは膜厚にほぼ
比例するため膜厚は可能な限り薄いことが好ましく、そ
の結実現像器部位での電位コントラストを高く取ること
がむつかしかった。したがって、a−Si感光体を用い
る画像形成装置において現像コントラストを高く取れる
画像形成プロセスが求められていた。
(2)又感光体1の少なくとも主帯電手段としては均−
帯電処理性がよいことから現在はとんどの場合、金メツ
キタングステン線等のワイヤ電極とシールド板を主構成
材とするコロナ放電器(帯電器)を利用している。即ち
該コロナ放電器のワイ中電極に高電圧を印加する事によ
って発生するコロナを被帯電体たる感光体面に作用させ
て感光体面を所望の表面電位に帯電させるものである。
しかしコロナ放電器を用いた帯電処理系においては以下
のような問題点を有している。
1)高電圧印加 感光体上に500〜700vの表面電位を得るためにD
C4〜8KVといった高電圧をワイヤ電極に印加する必
要性があり、電極及び本体へのリークを防止すべくワイ
ヤから電極の距離を大きく維持する等のために放電器自
体が大型化し、又高絶縁被覆ケーブルの使用が不可欠で
ある。
大型放電器は画像形成装置の全体、或は画像形成装置本
体に対して着脱自由に構成した。該放電器を含むプロセ
スカートリッジC(第4図は感光体1・主帯電器2・現
像器4・クリーニング器6・除電露光器7の5器を−ま
とめにしてプロセスカートリッジ化している)の小型化
設計の障害因子の1つとなる。
2)帯電効率が低い ワイヤからの放電電流の大半はシールド電極へ流れ、被
帯電体たる感光体側へ流れるコロナ電流は総放電電流の
数パーセントにすぎない。
3)コロナ放電生成物の発生 コロナ放電によってオゾンの発生があり、更にはその発
生オゾンによりNo!11硝酸などが生成され、装置構
成部品の酸化、感光体表面のコロナ生成物付着汚損によ
る画像ボケ(画像流れ、特にこの現象は高湿環境下にお
いて著しい)が生じ易く、またオゾンの人体への影響を
考慮してオゾン吸収・分解フィルタ及びフィルタへの気
流発生手段であるファンが必要である。
0ワイヤ汚れ 放電効率をあげるために曲率の大きい放電ワイヤ(−数
的には60IL〜100 gの直径のものが用いられる
)が使用されるが、ワイヤ表面に形成される高電界によ
って装置内の微小な塵埃を集塵してワイヤ表面が汚れる
。ワイヤ汚れは放電にムラを生じ易く、それが画像ムラ
となってあられれる。
従ってかなり頻繁にワイヤや放電器内を清掃処理する必
要がある。
5) a−9i感光体は暗減衰が大きいため潜像形成後
すみやかに現像されることが画像コントラスト向上の上
で望ましく、そこで主帯電器2と現像器4は互いにでき
るだけ近接配設するのがよい、しかし実際上は主帯電器
としてのコロナ放電器は集塵作用が強いので、該コロナ
放電器2をトナーのような微粉体を扱う現像器4に近接
配設させることはむしろさける必要があるという二律背
反の問題があった。
本発明は上記に鑑みてa−Si感光体を用いる転写方式
の画像形成装置について前記(1)項に記載したような
a−9i感光体の光メモリや暗減衰に起因する問題、 
(2)項に記載したような感光体の主帯電をコロナ放電
器で行うことに起因する諸問題を解消することを目的と
する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、像担持体としてアモルファスシリコン感光体
を用いた転写方式の画像形成装置において、感光体の繰
返し使用による光メモリを消去する除電露光手段と、除
電露光後の感光体面に形成される静電潜像を現像する現
像手段との間に、静電潜像形成手段として感光体の面移
動方向に順次に、画像露光工程部と、画像露光後の感光
体面に電圧を印加した導電部材を接触させて該感光体面
を、感光体の画像露光明部領域に再結合していない光生
成キャリアが残留している時間内に帯電処理する接触帯
電手段を具備させた、ことを特徴とする画像形成装置を
要旨とする。
〔作 用〕
(a)本発明において静電潜像の形成はa−9i感光体
の光疲労特性を逆利用して?行うもので、前の作像の残
留光メモリが除電露光手段により消去されて該除電露光
により感光体内部全体に過多に生成したキャリアの再結
合がほぼ完了した状態の感光体面に対して、従来の主帯
電工程・画像露光工程とは逆に、先ず画像露光工程、次
いで主帯電工程を適用する。
即ち画像露光により露光明部領域に対応する感光体内に
は光キャリアが生成する。
その露光明部の光生成キャリアが再結合を完了しない間
(光疲労残留時)に該感光体面を帯電処理すると、光疲
労の残留している露光明部に対応する感光体面部分の該
帯電による表面電位上昇は僅かであるのに対して、露光
暗部に対応する感光体面部分の該帯電による表面電位は
大きく上昇し、これにより感光体面には画像露光パター
ンに対応した高コントラストの静電潜像が形成される。
(b)而して本発明において上記の主帯電処理は接触(
又は直接)帯電手段により行う。
接触帯電は、被帯電体面に電圧を印加した導電部材を当
接させることにより被帯電体面に電荷を直接注入して被
帯電体面を所望の電位に帯電処理する手法であり、それ
自体は公知である0例えば感光体面に電圧を印加したブ
ラシを当接させて帯電する方法(特開昭58−1043
48号、同57−87951号)、複数個の電圧印加接
触子を接触させる帯電法(特開昭58−139158号
)、オゾン量低減と同時に感光体表面を摺擦研磨して積
極的に画像ボケを解消しながら帯電する方法(特開昭5
8−150975号)、ソノ他特開昭57−17828
7号、同58−104351号、同58−40588号
、特願昭82−43843号、特願昭62−44490
号があり、特に本発明に関しては特願昭82−4384
3号に開示されたa−9i感光体に最も適した方式の長
所を活用している。
接触帯電法は被帯電体面に所望の帯電電位を得る為に導
電部材に印加する電圧は、帯電能の低いa−Si感光体
の場合においても、コロナ放電器を用いて同様の帯電電
位をうるために印加しなければならない電圧の数分の1
或はそれ以下の低い電圧で足り電力効率が良い(例えば
、コロナ放電による帯電では800〜2000 g A
 / DC+ 6〜8 KVを要していたものが50〜
150 ILA/ DC+0.5〜1.5 KVテ足り
る)、オゾンの発生が極少量である等の有利性が認めら
れる。又コロナ放電器よりも小型で実装スペースは小さ
くてすみ、集塵性も小さい。
従ってコロナ放電器を利用する場合におけるような前記
問題点(2)−1)〜5)項の如き問題は回避される。
(c)集塵性は小さいので導電部材を現像器に対して近
接配置することが可能であり、その導電部材の感光体面
移動方向上流側の直前位置を画像露光工程部とすること
により、該画像露光工程部次いで接触帯電手段により形
成された静電潜像が実質的に形成直後のほとんど減衰の
ない状態で導電部材直後に位置する現像器にて直ちに現
像されて高い現像コントラストが得られる。
〔実施例〕
第1図は本発明に従う画像形成装置の一例の概略構成を
示したもので、本例の装置も前述第4図の従来装置と同
様に回転ドラム型のa−S i感光体を用いた電子写真
複写機であり、共通する構成機器・部材には共通の符号
を付して再度の説明を省略する。
本例の画像形成装置においては前記〔作用〕の(a)項
で説明したように、除電露光手段としての除電露光器7
により前の作像の残留光メモリが消去された感光体1の
面に対して先ず画像露光手段による画像露光3Aが行わ
れ、次いでその画像露光処理面に対して接触帯電手段2
Aによる主帯電がなされて感光体1面に画像露光パター
ンに対応した静電潜像が形成される。これは前述第4図
の従来装置の主帯電2・画像露光3の順とは逆の関係に
ある。
21Φ22は接触帯電手段を構成する導電部材と該導電
部材に対する電圧印加トランスである。
導電部材21は感光体1面に適度の押圧力をもって接触
させて配置され、該部材21の位置を通過する感光体1
面を接触帯電処理する横長の部材である。本例の画像形
成装置においては該i型部材21を金属板−導電性ゴム
板等のブレード状導電部材とし、該ブレード状導電部材
21を現像器4の感光体面移動方向上流側において現像
器4の現像ローラ(もしくはスリーブ)4Aに近接させ
、現像器4と同一の支持体に支持させて配設することに
より、該ブレード状導電部材21の感光体面接触位置か
ら現像器4の現像ローラ4Aが感光体面に対向する現像
部Aまでの感光体面移勤行程長を短いものに設定すると
共に、該ブレード状導電部材21を現像器4の現像剤飛
散防止部材に兼用させである。接触帯電手段2Aにおけ
る導電部材21はコロナ放電器とは違い集塵作用が小さ
く、又小型で実装スペースが小さくすむので上記のよう
に現像器4に対して近接配置した構成をとることが可能
である。
又感光体1面に対する画像露光工程部3Aは上記のよう
に現像器4に近接配置した導電部材21の感光体面移動
方向上流側において導電部材に近接させた位置に設定し
て、該画像露光工程部3Aから導電部材2の感光体面接
触位置までの感光体面移動行程長を短くしである。その
代り、クリーニング器6寄りに配設した除電露光器7に
よる除電露光工程部から画像露光工程部3Aまでの感光
体面移動行程長は長くなり、その間には従来装置のよう
に主帯電手段としてのコロナ放電器は存在しない。
このように主帯電手段としてのコロナ放電器が存在しな
いこと、その代りの接触帯電手段の導電部材21は小型
で実装スペースが小さくすみ、且つ上記のように現像器
4に対して近接配置することができることから、画像形
成装置もしくはプロセスカートリッジCを小型化・低廉
化設計することが可能となる。
第2図の実線曲線は本例装置について、回転駆動される
a−Si感光体(φ30層鴎1プロセススピード52m
m/5ea)の面が除電露光7→画像露光3A(788
n+wの半導体レーザ、34W/ am2) →導電部
材21による接触帯電(印加電圧Dc+ AC,DC成
分+〇、9 KV、 AC成分1400Hz・1800
Vpp) −”現像器4の現像部Aの各工程を順次に受
けていく過程における表面電位推移を示したグラフであ
る。
破線曲線は対比例として第4図の従来装置について上記
と同じ径・プロセススピードの感光体lの面が除電露光
7→コロナ放電器2による主帯電(印加電圧+7.5 
KV)→画像露光3(上記と同じ)→現像器4の各工程
を順次に受けていく過程における表面電位推移を示した
グラフである。
本例装置において、感光体1は除電露光7を受けて内部
に過多の光生成キャリアが生じることにより前の作像の
光メモリの消去がなされる。その過多の光生成キャリア
は除電露光工程部7から画像工程部3Aまでの感光体面
移動過程長が長いので、除電露光を受けた感光体1面が
画像露光工程部へ至るまでの間に上記の光生成キャリア
の再結合がほぼ完了することになる。
キャリアの再結合がほぼ完了した該感光体重の面に対し
て画像露光3Aがなされることにより画像露光明部領域
に対応する感光体内には光キャリアが生成する。
該画像露光3Aを受けた感光体1面は次いで導電部材2
1で接触帯電を受ける。この場合画像露光工程部3Aか
ら導電部材21までの感光体面移動行程長は短いので、
画像露光3Aを受けた感光体1面は画像露光明部領域に
対応する感光体内部に生じている光キャリアが再結合を
完了しないうち(光疲労残留時)に導電部材21による
接触帯電を受ける。このとき画像露光明部領域の感光体
部分は、残留光キャリアの影響を受けて該キャリアの掃
き出しに帯電電流を必要とするために該感光体部分の面
の帯電による表面電位VLはその上昇が小さい、しかし
画像露光暗部領域の感光体部分は残留光キャリアの影響
はないので該感光体部分の面の帯電による表面電位VD
は大きく上昇する。而して上記の明部表面電位VLと暗
部表面電位VDの差により感光体1面に画像露光パター
ンに対応した高コントラストの静電WI像が形成される
感光体の潜像形成面は次いで現像器4の現像部Aで現像
を受ける。この場合導電部材21による接触帯電位置か
ら現像器4の現像部Aまでの感光体面移動行程長は短い
ので、潜像はその電位コントラストが感光体の暗減衰で
大幅に減少しないうちに現像を受けることになり高い現
像コントラスが得られ高品位の画像が出力される。
即ち現像部Aにおける潜像の電位コントラストvcIは
約400V (V o −i−550V、 V L :
145V)であった、又画像露光3AをEIIOn■と
68on麿のLEDアレイで夫々行った場合の現像部A
における潜像電位コントラストは夫々Vc、中365v
(VD中555V、 VL−、190V) 、 VO2
+ 245V (V o 中555V、 V L中31
0V) テあった。
一方従来装置においては(破線曲線)、感光体1は除電
露光7を受けることにより前の作像の光メモリの消去作
用を受け、次いでコロナ放電器2による主帯電を受けて
感光体面の各部の表面電位が上昇していく、シかし除電
露光7を受けた感光体1面が次の主帯電2を受は始める
までの時間が短いので感光体面は除電露光で生じた光キ
ャリアの再結合が完了しないうちに主帯電2を受は始め
て感光体表面の帯電効率は低下する。
次いでその主帯電2を受けた感光体1面に画像露光3が
なされることにより画像露光明部領域の感光体部分の面
の表面電位VLが低下する。この明部表面電位V’Lと
画像露光暗部領域の感光体部分の面の表面電位(暗部表
面電位)Voの差により感光体1面に画像露光パターン
に対応した静電潜像が形成される。
その潜像面は次いで現像器4の現像部Aで現像を受ける
。この場合画像露光工程部から現像部Aまでの感光体面
移動行程長が比較的長いので、感光体面が画像露光工程
部3から現像部Aへ面移動する間に感光体の表面電位は
明部及び暗部とも減衰を続けて現像部Aでの潜像電位コ
ントラストVc、は約350v程度となり、同一帯電付
与能力においては本例装置の場合のVc、中 400V
よりも低い。
a−Si感光体1としてはそれ自体公知の任意のものが
使用される0本発明においては感光層の光疲労を積極的
に利用するために、比較的光疲労の大きい感光体が選ば
れる。製造条件として、放電パワー圧力、基板温度、ガ
ス流量等を調整することにより所望の感光体が得られる
。 a−9t感光体は、電荷注入阻止層等におけるドー
ピング主に応じてプラス帯電やマイナス帯電も可能であ
り、本発明の効果についても同様であることは言うまで
もない。
画像露光用の光源としては、ハロゲンランプ、半導体レ
ーザ、  LEDアレイなど任意の光源が使用されるが
、本発明が■感光層疲労を積極的に利用することから光
キャリアの再結合確率が低いこと、即ちキャリア発生密
度が比較的低いこと、■無電界状態で発生した光キャリ
アの拡散を防止するため全層にわたって光キャリアを発
生させることが望ましいことから、光学的バンドギャッ
プ1.5〜1.9 eV、誘電率10.0〜13.0程
度のa−9i感光体において光の侵入量(光量が1%に
減衰するまでの距離)が大きい波長を用いることが望ま
しい。下表に波長と侵入量、キャリア発生密度比を示す
上記の表と前記実施例から138On+s以上の波長に
おいてより高いコントラストをうろことが可能であり、
望ましい。
ブレード状導電部材21としては、a−9i感光体1の
表面硬度が高いことから、ステンレス、しんちゅう、銅
等の金属材料が適宜使用される。また組み立て精度に自
由度を与える導電性ゴムも好ましく、例えばシリコンゴ
ム、ポリウレタンゴム、ツー、素樹脂ゴム等に、導電性
カーボン粉、金属粉などを混合し表面材の材質をゴム硬
度15〜80度、電気抵抗値105〜106Ωの導電性
ゴム材として形成することが望ましい、この電気抵抗値
はゴムブレードを金属導体面に実使用と同じニップ・角
度で当接させ、これにOC+tにVを印加して測定した
抵抗値である。
また、特願昭82−43843号に開示されているよう
に接触帯電においてはDC+AC電圧の方が帯電ムラが
無く良好な帯電特性を得ることができる。特にAC成分
については1200Hzを越えるあたりから帯電ムラが
減少し、800Vppをこえると帯電効率が向上した0
本発明の実施例にように使用現像器4が現像剤を回転円
筒状現像剤担持体(スリーブ)4A上にトリポを付与し
て形成し接触・非接触で感光体上に転移させる現像方式
において、通常DC成分(かぶりとりバイアス)を50
〜300 V、 AC成分を1200〜1800Hz、
 800〜1800V ppとAC成分はほぼ同−であ
りかつ帯電電流量もおおむね100gAと小さいためD
C成分の抵抗分割等によって容易にトランス22の共通
化が行えるため装置の小型化とコストダウンが可能とな
る。
感光体1の接触帯電条件は上述のようにDC成分を 5
00〜1500V 、 AC成分を1200〜1800
Hz、 800〜1800V PPの間で現像バイアス
とマツチングの良い値、例えばAC成分を1400Hz
、18QOVppトLl)C成分を抵抗により帯電用の
900■と現像用の250Vに分割するのがよい。
画像露光3Aから導電部材21による接触帯電までの時
間は短いほど好ましく(例えば0.05〜1秒程度)、
画像形成装置のプロセススピード・感光体直径φによっ
て適宜決定される。
なお、同様の方式は特願昭81−272012号に開示
されているが、該方式が主帯電器内で露光する方式であ
るためレーザと異なるハロゲンランプ−LEDアレイな
どの光源を用い原稿からの直接反射光をレンズ光学系に
よって導く場合、乱反射などの影響で効率が悪化するの
にたいして本方式は帯電器外直前で露光するため有利な
方式である。
第3図は接触帯電手段としてのブレード状導電部材21
を感光体lに対してトレーリング方向に構成し現像剤(
トナー)飛散防止に対する効果を高めた例である。この
ような構成にすることによってブレード状導電部材21
の外側エツジを使用するため現像剤の飛散付着によるブ
レード21の感光体への密着不良などが効果的に防止さ
れる。現像剤として絶縁性トナーを用いることによりブ
レード接触部への介在による密着不良の場合を除きブレ
ード21に飛散トナーが付着しても帯電機能に何等変化
は生じなかった。ブレード21と感光体lの間へのトナ
ー塊付着の防止として該ブレードをレシプロさせる方式
も適宜とられる。
〔発明の効果〕
以上のように本発明に依れば、a−Si感光体を用いる
転写方式の画像形成装置について、 a−Si感光体の
光メモリや暗減衰に起因する問題、感光体の主帯電をコ
ロナ放電器で行うことに起因する問題が解消され、常に
高品位画像を安定に出力されることができ、且つ小型・
廉価な画像形成装置を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に従う一実施例画像形成装置の概略構成
図、第2図は感光体の表面電位推移グラフ、第3図は他
の例の要部図、第4図は従来の画像形成装置例の概略構
成図である。 lは回転ドラム型のa−9i感光体、2は主帯電用のコ
ロナ放電器、2Aは接触帯電手段、21は導電部材、2
2は電圧印加トランス、3・3Aは画像露光もしくは画
像露光工程部、4は現像器、5は転写用帯電器、6はク
リーニング器、7は除電露光器。 第2図 第3図 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、像担持体としてアモルファスシリコン感光体を用い
    た転写方式の画像形成装置において、感光体の繰返し使
    用による光メモリを消去する除電露光手段と、除電露光
    後の感光体面に形成される静電潜像を現像する現像手段
    との間に、静電潜像形成手段として感光体の面移動方向
    に順次に、画像露光工程部と、画像露光後の感光体面に
    電圧を印加した導電部材を接触させて該感光体面を、感
    光体の画像露光明部領域に再結合していない光生成キャ
    リアが残留している時間内に帯電処理する接触帯電手段
    を具備させた、 ことを特徴とする画像形成装置。 2、接触帯電手段について感光体面に接触させた導電部
    材はブレード状部材である、特許請求の範囲第1項に記
    載の画像形成装置。 3、ブレード状の導電部材は金属板である、特許請求の
    範囲第2項に記載の画像形成装置。 4、ブレード状の導電部材は、感光体と当接する表面材
    がゴム硬度15〜80度、電気抵抗値10^5〜10^
    6Ωの導電性ゴム材である、特許請求の範囲第2項に記
    載の画像形成装置。 5、導電部材に対する印加電圧は直流成分と交流成分の
    重畳電圧である、特許請求の範囲第1項、第2項、第3
    項、又は第4項に記載の画像形成装置。 6、導電部材に対する印加電圧は現像バイアスと同一の
    トランスから供給される、特許請求の範囲第5項に記載
    の画像形成装置。 7、導電部材は現像器と同一の支持体上に支持され、現
    像剤の飛散防止部材を兼ねる、特許請求の範囲第1項に
    記載の画像形成装置。 8、現像器に用いられている現像剤が絶縁性トナーであ
    る、特許請求の範囲第7項に記載の画像形成装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5464721A (en) * 1992-09-02 1995-11-07 Fuji Xerox Co., Ltd. Amorphous silicon photoreceptor and electrophotographic process using the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5464721A (en) * 1992-09-02 1995-11-07 Fuji Xerox Co., Ltd. Amorphous silicon photoreceptor and electrophotographic process using the same

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