JPH01138300A - フラツクス洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い、従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１　、１
．２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタンＣ
以下Ｒ１１３という）が広く使われている。Ｒ１１３は
不燃性、非弾性で毒性が低く、安定性も優れている。し
かも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵
さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般
にフラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチ
ック、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこ
の点からもＲ１１３が有利であった。

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくＲ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン（
以下Ｒ１２３という）又は１．２−ジクロロ−１，１−
ジフルオロエタン（以下Ｒ１３２ｂという）の１種と１
．１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｒ１４１ｂ
という）との共沸組成物を有効成分として含有するフラ
ックス洗浄剤を提供するものである。

本発明のフラックス洗浄剤の有効成分であるＲ１２３／
Ｒ１４１ｂ＝約８７／３３の共沸組成物又はＲ１３２ｂ
／Ｒ１４１ｂ−約１５．５／８４．５の共沸組成物（共
沸割合は重量％）は、適度な溶解力がある等、従来のＲ
１１３と同様な利点を有する優れた溶剤である。

これら２種の共沸組成物はそれぞれ単独で又はこれらの
混合物として用いることができる。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的、こ応して
その他の各種成分を含有させることができる０例えば、
溶解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、
ケトン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれ
る少なくとも１種を含有させることができる。これらの
有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５０
重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましく
は２０〜３０重量％である。本発明の共沸組成物と有機
溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、その共
沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ンペンタン、ｎ−ヘキサン、インヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２，３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソ、ヘプタン、３−メチルヘ
キサン、２．４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２
−メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへ
ブタン、２．２−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチル
ヘキサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３
−エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、
２．３．３−　）ジメチルペンタン、２，３．４−　ト
リメチルペンタン、２，２．３−）ジメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、２，２．５−）ジメチルヘキサ
ン、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン
、１−ヘキセン、１−オクテン、ｌ−ノネン、１−デセ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン
、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジ
ペンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナ
フタレン等から選ばれるものである。より好ましくは、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、　５ｅｃ−ブチル
アルコール、イソブチルアルコール、ｔａｒｔ−ブチル
アルコール、ペンチルアルコール、　５ｅｃ−アミルア
ルコール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル
−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ
−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、
ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチ
ル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール
、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２
−へブタノール、３−ヘプタツール、１−オクタツール
、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、
ｌ−ノナノール、３，５．５−　トリメチル−１−ヘキ
サノール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−
ドデカメール、アリルアルコール、プロパルギルアルコ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−
メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノ
ール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシク
ロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノール
、２．８−ジメチル−４−ヘプタツール、トリメチルノ
ニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシ
ルアルコール笠から選ばれるものである。より好ましく
はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等
である。

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の−数式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−
ヘキサノン、メチル−ｎ−プチルケトン、メチルブチル
ケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチ
ルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホ
ロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケトン
、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンタンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、　１．２−ジクロ
ロエタン、　　１，１．１−トリクロルエタン、１，１
．２−）ジクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロ
ルエタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペン
タクロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、ｌ、２−
ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロル
エチレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩
化メチレン、１．１．ｉトリクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。

［実施例］ 実施例１〜６ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（タムラ
Ｆ−Ａ　Ｉ−４、■タムラ製作所製）を塗布し、２００
℃の電気炉で２分間焼成後フラックス洗浄剤に１分間浸
漬した。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１表 （）内は混合比［電縫％］ Ｏ：良好に除去できる　Δ：少量残存 ×：かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
   タン又は１，２−ジクロロ−１，１−ジフルオロエタン
   の１種と１，１−ジクロロ−１−フルオロエタンとの共
   沸組成物を有効成分として含有するフラックス洗浄剤。
2. （２）フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
   ル類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれる少な
   くとも１種が含まれている特許請求の範囲第１項記載の
   フラックス洗浄剤。