JPH01114801A - 赤外線吸収性組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、近赤外線吸収性組成物に関する。さらに詳し
くは、可視光の透過上はとんど損うことなく波長t 0
0 nm以上の遠赤色光ないし近赤外光を吸収する光学
フィルター用として有用な赤外線吸収性組成物に関する
。
くは、可視光の透過上はとんど損うことなく波長t 0
0 nm以上の遠赤色光ないし近赤外光を吸収する光学
フィルター用として有用な赤外線吸収性組成物に関する
。
「従来の技術」
t o o nm以上の波長の遠赤色光ないし近赤外光
を選択的に吸収する組成物には各稿の用途が考えられ、
従前より強く要望されていたが、今まで適当なものが得
られなかった。従来の赤外線吸収性組成物の主要な用途
を1次に1例挙げて説明する。
を選択的に吸収する組成物には各稿の用途が考えられ、
従前より強く要望されていたが、今まで適当なものが得
られなかった。従来の赤外線吸収性組成物の主要な用途
を1次に1例挙げて説明する。
■ 赤外感光性の感光材料用セーフライトフィルター
近年ハロゲン化銀感光材料(以下「感材」という)とし
て、波長700nm以上の遠赤色光ないし近赤外光に感
光性を有するものが多数開発されて来ている。これには
白黒あるいはカラーを問わず、また通常型はもちろんイ
ンスタント型あるいは熱現像型のものも含めハロゲン化
銀感材に赤外感光性を具備せしめ、資源調査などに供す
る擬似カラー写真としたり、あるいはまた、赤外域に発
行するダイオードを使って恭光しうるようKしたものが
ある。
て、波長700nm以上の遠赤色光ないし近赤外光に感
光性を有するものが多数開発されて来ている。これには
白黒あるいはカラーを問わず、また通常型はもちろんイ
ンスタント型あるいは熱現像型のものも含めハロゲン化
銀感材に赤外感光性を具備せしめ、資源調査などに供す
る擬似カラー写真としたり、あるいはまた、赤外域に発
行するダイオードを使って恭光しうるようKしたものが
ある。
このような赤外感光性の感材に対しては従来パンクロ用
のセーフライトフィルターが用いられている。
のセーフライトフィルターが用いられている。
■ 植物の生育の制御
種子の発芽、茎の伸長1葉の展開、花芽の塊茎の形成な
ど、#物体の生長と分化に関するいわゆる形態形成が光
によって影響されることは古くから知られており、光形
態形成作用として研究されている。
ど、#物体の生長と分化に関するいわゆる形態形成が光
によって影響されることは古くから知られており、光形
態形成作用として研究されている。
700 nm以上の波長の光を選択的に吸収するプラス
チックフィルムが得られれば1例えば、特定の時期に作
動を近赤外線吸収フィルムで被覆し。
チックフィルムが得られれば1例えば、特定の時期に作
動を近赤外線吸収フィルムで被覆し。
波長700 nm以上の光を遮断することによって出穂
時期を遅らせたp、成長を制御する効果が期待される(
稲田勝美「植物の化学調節」第6巻。
時期を遅らせたp、成長を制御する効果が期待される(
稲田勝美「植物の化学調節」第6巻。
第1号(lり71年)参照)。
■ 熱線の遮断
太陽の輻射エネルギーのうち波長♂oonm以上の近赤
外および赤外領域の光は物体に吸収されて熱エネルギー
に転化する。しかも、そのエネルギー分布の大部分は波
長♂00−2000 nmの近赤外部に集中している。
外および赤外領域の光は物体に吸収されて熱エネルギー
に転化する。しかも、そのエネルギー分布の大部分は波
長♂00−2000 nmの近赤外部に集中している。
従って、近赤外線を選択的に吸収するフィルムは太陽熱
の遮断に極めて有効であり、可視光を十分にとり入れな
がら、室内の温度の上昇を制御することができる。これ
は。
の遮断に極めて有効であり、可視光を十分にとり入れな
がら、室内の温度の上昇を制御することができる。これ
は。
園芸用温室の他、住宅、事務所1店舗、自動車あるいは
航空機等の窓にも応用できる。
航空機等の窓にも応用できる。
従来、熱線の遮断用としてはプラスチックフィルムの表
面にごく薄い金属層を蒸着したものあるいは、ガラス中
に無機化合物、たとえばFeOを分散させたものが使用
されている。 。
面にごく薄い金属層を蒸着したものあるいは、ガラス中
に無機化合物、たとえばFeOを分散させたものが使用
されている。 。
■ 人間の目の組織に有害な赤外線カットフィルター
太陽光中に含着れる赤外線または溶接の際に放射される
光線中などに含まれる赤外線は1人間の目の紗織に対し
て、有害な効果を有する。赤外線カットフィルターの主
要な用途の一つは、このような有害な赤外線を含む光線
から人間の目を保護する眼鏡として用いることである。
光線中などに含まれる赤外線は1人間の目の紗織に対し
て、有害な効果を有する。赤外線カットフィルターの主
要な用途の一つは、このような有害な赤外線を含む光線
から人間の目を保護する眼鏡として用いることである。
たとえば、サングラス、溶接者用保護眼鏡などである。
■ 半導体受光素子の赤外線カットフィルターカメラな
どの自動露出計に用いられている光検出装置の受光素子
としては、現存、主にシリコンフォトダイオード(以下
、SPDという)が使用されている。例えば、特開昭4
/−//70≠には比視感度曲線と、SPI’)の各波
長に対する出力の相対値(分光感度)のグラフが示され
ている。
どの自動露出計に用いられている光検出装置の受光素子
としては、現存、主にシリコンフォトダイオード(以下
、SPDという)が使用されている。例えば、特開昭4
/−//70≠には比視感度曲線と、SPI’)の各波
長に対する出力の相対値(分光感度)のグラフが示され
ている。
露出計用として5PDt−使用するためには人間の目に
は感じない赤外領域の光をカットし、特開昭A/−//
70弘の第μ図に示したSPDの分光感度曲線を比視感
度曲線に相似させるようにする必要がある。特に波長7
00〜/1100nの光に対しては、SPDの出力が大
きく、かつこの領域の光は目に感じないので露出計の誤
動作の一因となる。そのために可視部では吸収が少なく
。
は感じない赤外領域の光をカットし、特開昭A/−//
70弘の第μ図に示したSPDの分光感度曲線を比視感
度曲線に相似させるようにする必要がある。特に波長7
00〜/1100nの光に対しては、SPDの出力が大
きく、かつこの領域の光は目に感じないので露出計の誤
動作の一因となる。そのために可視部では吸収が少なく
。
7oo〜/ / 00 nmの赤外部を全域にわたって
吸収する赤外線吸収プラスチックフィルムを用いること
ができれば、可視領域の光透過率が大きく。
吸収する赤外線吸収プラスチックフィルムを用いること
ができれば、可視領域の光透過率が大きく。
5PT)の出力が大きくなり−従って露出計の性能を著
しく向上し得ることが明らかである。
しく向上し得ることが明らかである。
従来、この種の光検出装置としては、無機の赤外線吸収
剤を用いたガラスの赤外線カットフィルターが5PT)
の前面にとり付けられ、実用に供されていた。
剤を用いたガラスの赤外線カットフィルターが5PT)
の前面にとり付けられ、実用に供されていた。
[発明が解決しようとする問題点]
1−かし従来の一般的な有機染料系の赤外線吸収剤は耐
光性、耐熱性が小さく実用上膚足すべきものはほとんど
なかった。
光性、耐熱性が小さく実用上膚足すべきものはほとんど
なかった。
また上記の各用途に関し使用されるフィルター材も以下
のような欠点を有していた。
のような欠点を有していた。
まず、前記の用途■の従来のパンクロ用のセーフライト
フィルターは視感度の高い線色光を部分的に透過させる
のみならず、赤外光を多量に透過させるための光カブリ
を生じさせ、赤外感光性の感材に対するセーフライトと
しての目的を十分に達成することができなかった。
フィルターは視感度の高い線色光を部分的に透過させる
のみならず、赤外光を多量に透過させるための光カブリ
を生じさせ、赤外感光性の感材に対するセーフライトと
しての目的を十分に達成することができなかった。
また前記用途■に用いられた金属層を蒸着【7たプラス
チックフィルムまたはFeOを分散させたガラスは赤外
部だけでなく、可視部の光も強く吸収するため、内部の
照度が低下し、特に農業用としては日照量の絶対的不足
を招くため不適当であった。
チックフィルムまたはFeOを分散させたガラスは赤外
部だけでなく、可視部の光も強く吸収するため、内部の
照度が低下し、特に農業用としては日照量の絶対的不足
を招くため不適当であった。
さらに前記用途■に用いられた無機物質の赤外線吸収剤
を用いたガラスの赤外線カットフィルターは、熱と光に
対しては比較的堅牢であるが、可視領域の光透過率が低
く、そのためにSPDの感度を上げることによって対処
されていた。SPDの感度を上げることはリーク電流の
増大につながり、光検出装置と[2ての誤動作の原因と
なり、信頼性の点から大きな問題となる。また赤外線カ
ットフィルターが無機物であるということは、光検出装
置の製造部からみて柔軟性に欠け、製造工程の改善もむ
つか(2いのが実状である。さらに、無機物の赤外線カ
ットフィルターは製造コストが高く、光検出装置として
のコストを大幅にあげてしまうという欠点がある。
を用いたガラスの赤外線カットフィルターは、熱と光に
対しては比較的堅牢であるが、可視領域の光透過率が低
く、そのためにSPDの感度を上げることによって対処
されていた。SPDの感度を上げることはリーク電流の
増大につながり、光検出装置と[2ての誤動作の原因と
なり、信頼性の点から大きな問題となる。また赤外線カ
ットフィルターが無機物であるということは、光検出装
置の製造部からみて柔軟性に欠け、製造工程の改善もむ
つか(2いのが実状である。さらに、無機物の赤外線カ
ットフィルターは製造コストが高く、光検出装置として
のコストを大幅にあげてしまうという欠点がある。
このように、従来の無機物のカットフィルターを用いた
光検出装置では、その分光感度は比視感度曲線に近いも
のの光検出装置としての動作性能の低下、製造コストの
上昇、製造工程の改善という観点から著しい欠点を有し
ていた。
光検出装置では、その分光感度は比視感度曲線に近いも
のの光検出装置としての動作性能の低下、製造コストの
上昇、製造工程の改善という観点から著しい欠点を有し
ていた。
また錯体を赤外線吸収剤とする近赤外線吸収プラスチッ
クフィルムは、赤外線吸収剤の有機溶媒への溶解度が不
足し、これが薄層のプラスチックフィルムを作成する際
に大きな欠点となっていた。
クフィルムは、赤外線吸収剤の有機溶媒への溶解度が不
足し、これが薄層のプラスチックフィルムを作成する際
に大きな欠点となっていた。
すなわち、先に述べた如き用途は例えばSPD用フィル
ターとしては、極めて薄いフィルムで赤外線の吸収効率
の良いフィルムが望まれるが、そのためには、樹脂中に
多量の赤外線吸収剤が分散されねばならず、有機溶媒に
対する溶解度の小さい赤外線吸収剤はその目的を満足さ
せることができなかった。
ターとしては、極めて薄いフィルムで赤外線の吸収効率
の良いフィルムが望まれるが、そのためには、樹脂中に
多量の赤外線吸収剤が分散されねばならず、有機溶媒に
対する溶解度の小さい赤外線吸収剤はその目的を満足さ
せることができなかった。
さらKまた。従来の金属錯体を赤外線吸収剤とする近赤
外線吸収プラスチックフィルムは、極大吸収波長が短く
、特に近年用途が拡大しつつある半導体レーザーの受光
素子への用途などには不適当であった。
外線吸収プラスチックフィルムは、極大吸収波長が短く
、特に近年用途が拡大しつつある半導体レーザーの受光
素子への用途などには不適当であった。
したがって本発明の目的は第一に、長波長側に。
特に波長りoonm以上に吸収極大をもつ赤外線吸収剤
を提供することである。第二に、有機溶媒への溶解度が
高くかつフィルム形成性バインダーとの相溶性のよい近
赤外線吸収剤を提供することである。
を提供することである。第二に、有機溶媒への溶解度が
高くかつフィルム形成性バインダーとの相溶性のよい近
赤外線吸収剤を提供することである。
本発明者らは、上記の目的を達成するため種々研究を重
ねた結果1本発明を完成するに至った。
ねた結果1本発明を完成するに至った。
「問題点を解決するための手段」
前記諸口的は、下言己一般式で衣わされる金属錯体から
選ばれた少なくとも1種を含有することを特徴とする赤
外線吸収性組成物によって達成された。
選ばれた少なくとも1種を含有することを特徴とする赤
外線吸収性組成物によって達成された。
式中、11〜R4は、それぞれ水素原子、ハロケン原子
、シアン基、水酸基、直接も(7くはコ価明糸I書のt
了l四(シラ乙j−皿更なし)の連結基を介、して、間
接的にベンゼン環上の炭素原子に結合するアルキル基、
アリール基、シクロアルキル基、複素環基を示し、これ
らは同じでも異っていてもよ(、またR1−R4のうち
、隣り合った二つの置換基は結合して環?形成してもよ
い。また、二つのRは互いに結合して環?形成してもよ
い。
、シアン基、水酸基、直接も(7くはコ価明糸I書のt
了l四(シラ乙j−皿更なし)の連結基を介、して、間
接的にベンゼン環上の炭素原子に結合するアルキル基、
アリール基、シクロアルキル基、複素環基を示し、これ
らは同じでも異っていてもよ(、またR1−R4のうち
、隣り合った二つの置換基は結合して環?形成してもよ
い。また、二つのRは互いに結合して環?形成してもよ
い。
rt5、rt は水素原子、アルキル基、アルキルチ
オ基、アリール基、アリールチオ基、複素環チオ基、シ
アノ基を示し、こちらは、それぞれ同じでも異っていて
もよ(、Rと1(は結合して環を形成していてもよい。
オ基、アリール基、アリールチオ基、複素環チオ基、シ
アノ基を示し、こちらは、それぞれ同じでも異っていて
もよ(、Rと1(は結合して環を形成していてもよい。
本発明馨さらに詳細に説明する。
前記一般式で表わされる化合物においてR1〜R4で表
わされるハロゲン原子は弗素原子、塩素原子〜臭素原子
、沃素原子を包含する。R1〜R4、rt5、rt
で表わされるアルキル基は好ましくは、炭素数/ないし
2Q、のアルキル基を示し、直鎖アルキル基、分岐アル
キル基のいずれであってもよ(、また、置換、無置換の
いずれであってもよい。
わされるハロゲン原子は弗素原子、塩素原子〜臭素原子
、沃素原子を包含する。R1〜R4、rt5、rt
で表わされるアルキル基は好ましくは、炭素数/ないし
2Q、のアルキル基を示し、直鎖アルキル基、分岐アル
キル基のいずれであってもよ(、また、置換、無置換の
いずれであってもよい。
R−R,RS Rで表わされるアリール基は、好ましく
は炭素数が6ないし/弘のアリール基であり、置換、無
置換のいづれであってもよい。
は炭素数が6ないし/弘のアリール基であり、置換、無
置換のいづれであってもよい。
R1〜R4で表わされる複素環基は、好ましくは!員環
または6員環であり、rWt換、無置換のいずれであっ
てもよい。
または6員環であり、rWt換、無置換のいずれであっ
てもよい。
R1〜UL4で表わされるシクロアルキル基は好ましく
はj員環基または6員環基であり、置換、無置換のいず
れであってもよい。
はj員環基または6員環基であり、置換、無置換のいず
れであってもよい。
R1−R4のうち、隣り合った置換基が互いに結合して
形成される環は好ましくは、6員環であり、より好まし
くはベンゼン環であり、このベンゼン環は置換、無置換
のいずれであってもよ(、また、縮合したものであって
もよい。
形成される環は好ましくは、6員環であり、より好まし
くはベンゼン環であり、このベンゼン環は置換、無置換
のいずれであってもよ(、また、縮合したものであって
もよい。
二つのR4が互いに結合して形成される環は好ましくは
、6員環であり、より好ましくはベンゼン環であり、こ
のベンゼン環は置換、無置換のいずれであってもよく、
また、縮合したものであってもよい。
、6員環であり、より好ましくはベンゼン環であり、こ
のベンゼン環は置換、無置換のいずれであってもよく、
また、縮合したものであってもよい。
[(〜R、rL 1Rで表わされる直鎖もしくは分岐
のアルキル基としては、たとえば、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
、オクタデシル7sすどをあげることができる。
のアルキル基としては、たとえば、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基
、オクタデシル7sすどをあげることができる。
R1−R4、R5、R6で表わされるアリール基として
は、たとえば、フェニル基、ナフチル基など乞あげるこ
とができる。
は、たとえば、フェニル基、ナフチル基など乞あげるこ
とができる。
R1〜Rで表わされる複素環基は、ペテロ原子として、
環中に少くとも1個の窒素原子、酸素原子もしくはイオ
ウ原子を含むjないし6員の複素環基であり、たとえば
、フリル基、ヒドロフリル基、チエニル基、ピラゾリル
基、ピロリジル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラ
ゾリル基、キノリP基、インドリル基、オキサシリル基
、チアゾリル基なと乞あげることができる。
環中に少くとも1個の窒素原子、酸素原子もしくはイオ
ウ原子を含むjないし6員の複素環基であり、たとえば
、フリル基、ヒドロフリル基、チエニル基、ピラゾリル
基、ピロリジル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラ
ゾリル基、キノリP基、インドリル基、オキサシリル基
、チアゾリル基なと乞あげることができる。
R1〜Rで表わされるシクロアルキル基としては、たと
えば、シクロペンチル基、ンクロヘキンル基、シクロへ
キセニル基、シクロへキサジェニル基などをあげること
ができる。
えば、シクロペンチル基、ンクロヘキンル基、シクロへ
キセニル基、シクロへキサジェニル基などをあげること
ができる。
R1〜Rのうち、隣り合った置換基が互いに結合して形
成される6員環としてに、たとえばベンゼン環、ナフタ
レン環、インベンゾチオフェン環、インベンゾフラン環
、イソインドリン環などをあげることができる。
成される6員環としてに、たとえばベンゼン環、ナフタ
レン環、インベンゾチオフェン環、インベンゾフラン環
、イソインドリン環などをあげることができる。
上記のR1−R4で表わされるアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基あるいは複素環基はコ価の連結基、
たとえばオキシ基(−〇−1、チオ基(−8−)、アミ
ノ基、オキシカルボニル基、カルボニル基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、カルボニルアミノ基、スルホ
ニル基またはカルボニルオキ7基などを介して、ベンゼ
ン環上の炭素原子に結合していてもよい。
キル基、アリール基あるいは複素環基はコ価の連結基、
たとえばオキシ基(−〇−1、チオ基(−8−)、アミ
ノ基、オキシカルボニル基、カルボニル基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、カルボニルアミノ基、スルホ
ニル基またはカルボニルオキ7基などを介して、ベンゼ
ン環上の炭素原子に結合していてもよい。
R1〜Rで表わされるアルキル基が上記の2価の連結基
を介してベンゼン環上の炭素原子に結合している例とし
ては、アルコキシ基(たとえば、メトキ7基、エトキシ
基、ブトキシ基、プロポキン基、n−デシルオキシ基、
n−ドデンルオキシ基、または、n−ヘキサデシルオキ
シ基など)、アルコキシカルボニル基(たとえばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、n−デシルオキシカルボニル基またはn−ヘ
キサデシルオキ7カルボニル基など)、アシル基(たと
えば、アセチル基、バレリル基、ステアロイル基、ベン
ゾイル基またはトルオイル基など)、アシルオキシ基(
たとえば、アセトキシ基またはヘキサデシルカルボニル
オキシ基すと]、アルキルアミノ基(たとえば、n−ブ
チルアミノ基、N、N−ジエチルアミノ基またはN、N
−ジデシルアミノ基など]、アルキルスルファモイル基
(たとえば、ブチルスルファモイル基、N、N−ジエチ
ルスルファモイル基またはn−ドデシルスルファモイル
基など)、2ルホニルアミノ基(たとえば、メチルスル
ホニルアミノ基、またはブチ、ルスルホニルアミノ基な
ど)スルホニル基(たとえば、メシル基、またはエタン
スルホニル基など)、またはアシルアミノ基(たとえば
、アセチルアミノ基、バレリルアミノ基、バルミトイル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基またはトルオイルアミノ
基など)などをあげることができる。
を介してベンゼン環上の炭素原子に結合している例とし
ては、アルコキシ基(たとえば、メトキ7基、エトキシ
基、ブトキシ基、プロポキン基、n−デシルオキシ基、
n−ドデンルオキシ基、または、n−ヘキサデシルオキ
シ基など)、アルコキシカルボニル基(たとえばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、n−デシルオキシカルボニル基またはn−ヘ
キサデシルオキ7カルボニル基など)、アシル基(たと
えば、アセチル基、バレリル基、ステアロイル基、ベン
ゾイル基またはトルオイル基など)、アシルオキシ基(
たとえば、アセトキシ基またはヘキサデシルカルボニル
オキシ基すと]、アルキルアミノ基(たとえば、n−ブ
チルアミノ基、N、N−ジエチルアミノ基またはN、N
−ジデシルアミノ基など]、アルキルスルファモイル基
(たとえば、ブチルスルファモイル基、N、N−ジエチ
ルスルファモイル基またはn−ドデシルスルファモイル
基など)、2ルホニルアミノ基(たとえば、メチルスル
ホニルアミノ基、またはブチ、ルスルホニルアミノ基な
ど)スルホニル基(たとえば、メシル基、またはエタン
スルホニル基など)、またはアシルアミノ基(たとえば
、アセチルアミノ基、バレリルアミノ基、バルミトイル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基またはトルオイルアミノ
基など)などをあげることができる。
R1〜Rで表わされるシクロアルキル基が上記の2価の
連結基を介して本発明の化合物の環上の炭素原子に結合
している例としては、シクロヘキシルオキシ基、シクロ
ヘキシルカルボニル基、シクロへキシルオキシカルボニ
ル基、シクロへキシルアミノ基、シクロへキセニルカル
ボニル基またはシクロヘキセニルオキシ基などをあげる
ことができる。
連結基を介して本発明の化合物の環上の炭素原子に結合
している例としては、シクロヘキシルオキシ基、シクロ
ヘキシルカルボニル基、シクロへキシルオキシカルボニ
ル基、シクロへキシルアミノ基、シクロへキセニルカル
ボニル基またはシクロヘキセニルオキシ基などをあげる
ことができる。
It’〜Rで表わされるアリール基が上記の2価の連結
基を介して本発明の化合物の環上の炭素原子に結合して
いる例としては、アリーロキシ基(たとえば、フェノキ
シ基またはナフトイル基など)、アリーロキシカルボニ
ル基(たとえば、フェノキシカルボニル基またはナフト
キシカルボニル基など)、アシル基(たとえばベンゾイ
ル基またはナフトイル基なとン、アニリノ基(たとえば
フェニルアミノ基、N−メチルアニリノ基またはN−ア
セチルアニリノ基など)、アシルオキシ基(たとえば、
ベンゾイルオキシ基または、トルオイルオキシ基など)
、アリールカルバモイル基(たとえば、フェニルカルバ
モイル基など)、アリールスルファモイル基(たとエバ
フェニルスルファモイル基など)、アリールスルホニル
アミノ基(フェニルスルホニルアミノk、p ) !
Jルスルホニルアミノ基など)、アリールスルホニル基
(ベンゼンスルホニル基、トシル基など)、またはアシ
ルアミノ基(たとえばベンゾイルアミノ基など)をあげ
ることができる。
基を介して本発明の化合物の環上の炭素原子に結合して
いる例としては、アリーロキシ基(たとえば、フェノキ
シ基またはナフトイル基など)、アリーロキシカルボニ
ル基(たとえば、フェノキシカルボニル基またはナフト
キシカルボニル基など)、アシル基(たとえばベンゾイ
ル基またはナフトイル基なとン、アニリノ基(たとえば
フェニルアミノ基、N−メチルアニリノ基またはN−ア
セチルアニリノ基など)、アシルオキシ基(たとえば、
ベンゾイルオキシ基または、トルオイルオキシ基など)
、アリールカルバモイル基(たとえば、フェニルカルバ
モイル基など)、アリールスルファモイル基(たとエバ
フェニルスルファモイル基など)、アリールスルホニル
アミノ基(フェニルスルホニルアミノk、p ) !
Jルスルホニルアミノ基など)、アリールスルホニル基
(ベンゼンスルホニル基、トシル基など)、またはアシ
ルアミノ基(たとえばベンゾイルアミノ基など)をあげ
ることができる。
[R5、Rで表わされるアルキルチオ基は直鎖アルキル
チオ基、分岐アルキルチオ基のいづれであってもよく、
また、置換、無置換のいづれであってもよい。
チオ基、分岐アルキルチオ基のいづれであってもよく、
また、置換、無置換のいづれであってもよい。
R5、Rで表わされるアルキルチオ基は好ましくは炭素
数が/ないし20のアルキルチオ基であり、たとえばメ
チルチオ基、エチルチ第4、n−ブチルチオ基、n−デ
シルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基などをあげること
ができる。
数が/ないし20のアルキルチオ基であり、たとえばメ
チルチオ基、エチルチ第4、n−ブチルチオ基、n−デ
シルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基などをあげること
ができる。
Ft、Rで表わされるアリールチオ基は好ましくは炭素
数が6ないし/弘のアリールチオ基であり、置換、無置
換のいづれであってもよい。このアリール基としては、
たとえば、フェニルチオ基、l−ナフチルチオ基なとt
あげることができる。
数が6ないし/弘のアリールチオ基であり、置換、無置
換のいづれであってもよい。このアリール基としては、
たとえば、フェニルチオ基、l−ナフチルチオ基なとt
あげることができる。
R,Rで表わされる複素環チオ基の複素環基は、ヘテロ
原子として、環中に少(とも1個の窒素原子、酸素原子
もしくはイオウ原子を含む!ないし6員の複素環基であ
り、たとえば、フリル基、ヒドロフリル基、チエニル基
、ピラゾリル基、ピロリジル基、ピリジル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、キノリル基、インドリル基、オ
キサシリル基、チアゾリル基などをあげることができる
。
原子として、環中に少(とも1個の窒素原子、酸素原子
もしくはイオウ原子を含む!ないし6員の複素環基であ
り、たとえば、フリル基、ヒドロフリル基、チエニル基
、ピラゾリル基、ピロリジル基、ピリジル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、キノリル基、インドリル基、オ
キサシリル基、チアゾリル基などをあげることができる
。
R5とR6は互いに結合して環を形成していてもよいが
、この場合、好ましくは、j員環または6員環がよく、
環の構成元素は炭素以外の元素(たとえばO,N1Sな
ど]を含んでいてもよい。
、この場合、好ましくは、j員環または6員環がよく、
環の構成元素は炭素以外の元素(たとえばO,N1Sな
ど]を含んでいてもよい。
上記のR−Rで表わされるアルキル基、アリール基、複
素環基、シクロアルキル基、隣り合う置換基が互いに結
合して形成される6員環、゛二つのRが互いに結合して
形成される6員環、R1R6で表わされるアルキル基、
アルキルチオ基、アリール基、アリールチオ基、複素環
チオ基または、R5とR6が互いに結合して形成される
環は、ハロゲン原子(たとえば塩素原子、臭素原子また
は弗素原子など)、シアノ基、水酸基、オキソ基、チオ
キソ基、直鎖もしくは分岐のアルキル基(たとえば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基
、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基ま
たはメトキシエトキシエチル基カと)、アリール基(た
とえば)工二ル基、トリル基、カフチル基、クロロフェ
ニル基、メトキシフェニル基またはアセチルフェニル基
など)、アルコキシ基(たとえば、メトキシ基、エトキ
ン基、ブトキシ基、プロポキシ基またはメトキシエトキ
シ基など)、アリーロキシ基(たとえばフェノキシ基、
トリロキシ基、ナフトイル基またはメトキシフェノキシ
基など)、アルコキシカルボニル基(たとえば、メトキ
シカルボニル基、ブトキシカルボニル基またはフェノキ
シメトキシカルボニル基など]、アリーロキシカルボニ
ル基(たとえば、フェノキ7カルボニル基、トリロキシ
カルボニル基またはメトキシフェノキシカルボニル基な
ど)、アシル基(たとえばホルミル基、アセチル基、バ
レリル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、トルオイル
基、ナフトイル基またij、p−メトキシベンゾイル基
など)、アシルオキシ基(たとえば、アセトキシ基また
はベンゾイルオキ7基など)、アシルアミノ基(たとえ
ば、アセトアミド基、ベンズアミド基、またはメトキン
アセトアミド基など)、アニリノ基(たとえば、フェニ
ルアミノ基、N−メチルアニリノ基、N−フェニルアミ
ノ基、またはN−アセチルアニリノ基など)、アルキル
アミノ基(たとえば、n−ブチルア互)基、N、N−ジ
エチルアミノ基、μmメトキシ−n−ブチルアミノ基な
ど)、カルバモイル基(たとえば、n−ブチルカルバモ
イル基、N。
素環基、シクロアルキル基、隣り合う置換基が互いに結
合して形成される6員環、゛二つのRが互いに結合して
形成される6員環、R1R6で表わされるアルキル基、
アルキルチオ基、アリール基、アリールチオ基、複素環
チオ基または、R5とR6が互いに結合して形成される
環は、ハロゲン原子(たとえば塩素原子、臭素原子また
は弗素原子など)、シアノ基、水酸基、オキソ基、チオ
キソ基、直鎖もしくは分岐のアルキル基(たとえば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基
、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基ま
たはメトキシエトキシエチル基カと)、アリール基(た
とえば)工二ル基、トリル基、カフチル基、クロロフェ
ニル基、メトキシフェニル基またはアセチルフェニル基
など)、アルコキシ基(たとえば、メトキシ基、エトキ
ン基、ブトキシ基、プロポキシ基またはメトキシエトキ
シ基など)、アリーロキシ基(たとえばフェノキシ基、
トリロキシ基、ナフトイル基またはメトキシフェノキシ
基など)、アルコキシカルボニル基(たとえば、メトキ
シカルボニル基、ブトキシカルボニル基またはフェノキ
シメトキシカルボニル基など]、アリーロキシカルボニ
ル基(たとえば、フェノキ7カルボニル基、トリロキシ
カルボニル基またはメトキシフェノキシカルボニル基な
ど)、アシル基(たとえばホルミル基、アセチル基、バ
レリル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、トルオイル
基、ナフトイル基またij、p−メトキシベンゾイル基
など)、アシルオキシ基(たとえば、アセトキシ基また
はベンゾイルオキ7基など)、アシルアミノ基(たとえ
ば、アセトアミド基、ベンズアミド基、またはメトキン
アセトアミド基など)、アニリノ基(たとえば、フェニ
ルアミノ基、N−メチルアニリノ基、N−フェニルアミ
ノ基、またはN−アセチルアニリノ基など)、アルキル
アミノ基(たとえば、n−ブチルア互)基、N、N−ジ
エチルアミノ基、μmメトキシ−n−ブチルアミノ基な
ど)、カルバモイル基(たとえば、n−ブチルカルバモ
イル基、N。
N−ジエチルカルバモイル基、n−ブチルスルファモイ
ル基、N、N−ジエチルスルファモイル基、n−ドデシ
ルスルファモイル基、またはN−(e−メトキシ−〇−
ブチル)スルファモイル基7’j ト)。
ル基、N、N−ジエチルスルファモイル基、n−ドデシ
ルスルファモイル基、またはN−(e−メトキシ−〇−
ブチル)スルファモイル基7’j ト)。
スルホニルアミノ基(たとえば、メチルスルホニル7ば
)基、フェニルスルホニルアミノ基、またはメトキシメ
チルスルホニルアミノ基など)、またはスルホニル基(
たとえば、メシル基、トシル基またはメトキシメタンス
ルホニル基などjなどでIt換されていてもよい。
)基、フェニルスルホニルアミノ基、またはメトキシメ
チルスルホニルアミノ基など)、またはスルホニル基(
たとえば、メシル基、トシル基またはメトキシメタンス
ルホニル基などjなどでIt換されていてもよい。
前記一般式で表わされる(ジピリジル)(シスー/、λ
−エチレンジチオラド)ニッケル誘導体の製造は、一般
に、次のようにして行うことができる。
−エチレンジチオラド)ニッケル誘導体の製造は、一般
に、次のようにして行うことができる。
無水メタノールにシスー/lλ−エチレンジチオール肪
導体又は、そのアルカリ金属塩を溶かす。
導体又は、そのアルカリ金属塩を溶かす。
(前駆体から調製する場合もある)この溶液に、(外ピ
リジル)(ジ・・口)ニッケル(n)誘導体錯体を粉末
又はメタノール溶液で加えて、かくはんし、生成した沈
殿をろ過する。この沈−をジクロロメタンなどの有機溶
媒で抽出し、濃縮して、ゆつ(リメタノール奢加えると
求める錯体の結晶が得られる。
リジル)(ジ・・口)ニッケル(n)誘導体錯体を粉末
又はメタノール溶液で加えて、かくはんし、生成した沈
殿をろ過する。この沈−をジクロロメタンなどの有機溶
媒で抽出し、濃縮して、ゆつ(リメタノール奢加えると
求める錯体の結晶が得られる。
前記一般式で表わされる化合物のうち好ましいものを例
示すれば第1表の通りであるが、本発明は、これらの例
示化合物に限定されるものではないことはもちろんであ
る。第1表には本発明の化合物について置換基のみを具
体的に示す。これらの例示化合物に限定されるものでは
ないことはもちろんである。
示すれば第1表の通りであるが、本発明は、これらの例
示化合物に限定されるものではないことはもちろんであ
る。第1表には本発明の化合物について置換基のみを具
体的に示す。これらの例示化合物に限定されるものでは
ないことはもちろんである。
(it)
(1す
(ハ)
(lot)
(1G4)
(113J
(116J
(123J
(/2り)
(/30)
(/Jコ)
本発明に用いる出発物質である各種(ジピリジル)(ジ
ハロ)ニッケル誘導体はJ、Inorg。
ハロ)ニッケル誘導体はJ、Inorg。
Nucl、Chem、29 #14<7(/PA7)
に記載の方法によって合成することができる。
に記載の方法によって合成することができる。
また1本発明の化合物については1例えば特願昭61−
λ7///4c号明細;書の実施例/〜≠において記載
された方法で合成することができる。
λ7///4c号明細;書の実施例/〜≠において記載
された方法で合成することができる。
これらの化合物のいくつかの吸収極大(’max)とモ
ル吸光係数(’max −1−mol−” ・an−”
単位)及び融点(分解点)Vi下記@1表の通りであ
る。
ル吸光係数(’max −1−mol−” ・an−”
単位)及び融点(分解点)Vi下記@1表の通りであ
る。
本発明の赤外線吸収性組成物は前記一般式で表わされる
化合物を、適宜に結合剤中に含有させてなる組成物であ
る。結合剤としては、#に制限はなく、赤外線吸収性を
発揮させるものであれば有機、無機の区別なく用いるこ
とができる。そのような結合剤としては、プラスチック
のような高分子材料、ガラスのよう危無機材料などが挙
げられる。
化合物を、適宜に結合剤中に含有させてなる組成物であ
る。結合剤としては、#に制限はなく、赤外線吸収性を
発揮させるものであれば有機、無機の区別なく用いるこ
とができる。そのような結合剤としては、プラスチック
のような高分子材料、ガラスのよう危無機材料などが挙
げられる。
好ましくは、結合剤としては、透明性および機械的性質
の優れたフィルムを形成する結合剤が用いられる。この
ようなフィルム形成性結合剤の例としては1例えばポリ
エチレンテレフタレートで代表されるポリエステル類、
セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、
セルロースアセテートブチレートなどのセルロースエス
テル類。
の優れたフィルムを形成する結合剤が用いられる。この
ようなフィルム形成性結合剤の例としては1例えばポリ
エチレンテレフタレートで代表されるポリエステル類、
セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、
セルロースアセテートブチレートなどのセルロースエス
テル類。
ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン。
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレンなどの
ポリビニル化合物、ポリメチルメタクリレートなどのア
クリル系付加重合体、ポリ炭酸エステルから成るポリカ
ーボネート、フェノール樹脂。
ポリビニル化合物、ポリメチルメタクリレートなどのア
クリル系付加重合体、ポリ炭酸エステルから成るポリカ
ーボネート、フェノール樹脂。
ウレタン系樹脂またはゼラチンなどの親水性バインダー
など公知のフィルム形成性結合剤を挙げることができる
。
など公知のフィルム形成性結合剤を挙げることができる
。
上述のプラスチック材料に前記一般式の化合物を添加、
保持させそフィルムを形成する方法としては第一にフィ
ルム作成時にプラスチック中に配合する方法がある。す
なわち、前記一般式の化合物管各種の添加剤と共にポリ
マー粉末もしく社イレットに混合し、溶融してTダイ法
またはインフレーション法で押出すか、あるいはカレン
ダー法でフィルム化すれば前記化合物が均一に分散した
フィルムが得られる。また流延法でポリマー溶液からフ
ィルムを製造する場合は該溶液中に前記−般式の化合物
を含有させればよい。
保持させそフィルムを形成する方法としては第一にフィ
ルム作成時にプラスチック中に配合する方法がある。す
なわち、前記一般式の化合物管各種の添加剤と共にポリ
マー粉末もしく社イレットに混合し、溶融してTダイ法
またはインフレーション法で押出すか、あるいはカレン
ダー法でフィルム化すれば前記化合物が均一に分散した
フィルムが得られる。また流延法でポリマー溶液からフ
ィルムを製造する場合は該溶液中に前記−般式の化合物
を含有させればよい。
第二には適当な方法で製造された各種のプラスチックフ
ィルムまたはガラス板上の表面に前記−般式の化合物を
含むポリマー溶液ま九は分散液を塗布するととKよって
赤外線吸収層を形成する方法がある。塗布液に用いるバ
インダーポリマーととしては、前記一般式の化合物をで
きるだけよく溶解し、しかも支持体となるプラスチック
フィルムまたはガラス板との接着性のすぐれたものが選
ばれる。ポリメチルメタクリレート、セルロースアセテ
ートブチレート、ポリカーボネートなどがこの目的に適
している。接着性を向上させるために支持体フィルムに
適当な下塗りをあらかじめ施してもよい。
ィルムまたはガラス板上の表面に前記−般式の化合物を
含むポリマー溶液ま九は分散液を塗布するととKよって
赤外線吸収層を形成する方法がある。塗布液に用いるバ
インダーポリマーととしては、前記一般式の化合物をで
きるだけよく溶解し、しかも支持体となるプラスチック
フィルムまたはガラス板との接着性のすぐれたものが選
ばれる。ポリメチルメタクリレート、セルロースアセテ
ートブチレート、ポリカーボネートなどがこの目的に適
している。接着性を向上させるために支持体フィルムに
適当な下塗りをあらかじめ施してもよい。
第三の方法としては、赤外線をカットされるべき素子の
光入射窓枠中に前記一般式の化合物と重合性モノマーを
混合し、適当な重合開始剤を加え。
光入射窓枠中に前記一般式の化合物と重合性モノマーを
混合し、適当な重合開始剤を加え。
熱または光を加えて重合させ、生成したポリマーで窓枠
にフィルターを形成せしめる方法がある。
にフィルターを形成せしめる方法がある。
この方法では、素子全体をエチレン性不飽和壓重合性モ
ノマーまたはエポキシ樹脂などの重付加性組成物から生
成するプラスチックスで包埋することもできる。
ノマーまたはエポキシ樹脂などの重付加性組成物から生
成するプラスチックスで包埋することもできる。
第四の方法は1本発明に係る前記一般式の化合物を適当
な支持体上に蒸着する方法である。この方法ではさらに
保護層として適当なフィルム形成性結合剤層を支持体よ
り遠い位置に設けてもよい。
な支持体上に蒸着する方法である。この方法ではさらに
保護層として適当なフィルム形成性結合剤層を支持体よ
り遠い位置に設けてもよい。
本発明に係る近赤外線吸収剤をカラー固体撮影素子に利
用する方法を述べれば■複素の所定分光特性を有するス
トライプ状あるいはモザイク状の色分離フィルター層を
形成後、該フィルター層上に設ける表面保護層に赤外線
吸収剤を含有せしめたり、この吸収剤を蒸着したり、■
色分離フィルター層内に可視光吸収性の染料などと本発
明の赤外線吸収剤を併用してもよく、あるいはまた■多
層構成の色分111フイルター内に設けられた透明な中
間層あるいは表面+l′PIt層内疋この赤外吸収剤を
含有せしめる態様もまた可能である。本発明の赤外線吸
収性組成物より得られた光学フィルターは。
用する方法を述べれば■複素の所定分光特性を有するス
トライプ状あるいはモザイク状の色分離フィルター層を
形成後、該フィルター層上に設ける表面保護層に赤外線
吸収剤を含有せしめたり、この吸収剤を蒸着したり、■
色分離フィルター層内に可視光吸収性の染料などと本発
明の赤外線吸収剤を併用してもよく、あるいはまた■多
層構成の色分111フイルター内に設けられた透明な中
間層あるいは表面+l′PIt層内疋この赤外吸収剤を
含有せしめる態様もまた可能である。本発明の赤外線吸
収性組成物より得られた光学フィルターは。
特開昭17−11107号、同!タータ3/7号および
同!ター30!02号に記載された如き色分離フィルタ
ーに組合せて使用すると特に有効である。
同!ター30!02号に記載された如き色分離フィルタ
ーに組合せて使用すると特に有効である。
本発明の赤外線吸収性組成物中には前記一般式で表わさ
れる化合物をコ雅以上併用してもよい。
れる化合物をコ雅以上併用してもよい。
また有機もしくは金属錯体系の公知の近赤外線吸収剤と
併用することもできる。%に吸収極大の異なった吸収剤
と併用すると、吸収波長域を広げることができる。
併用することもできる。%に吸収極大の異なった吸収剤
と併用すると、吸収波長域を広げることができる。
本発明の赤外線吸収性組成物においては、耐光性をさら
に改良するため、紫外線吸収剤の添加が有効で、レゾル
シンモノベンゾエート、サリチル酸メチルなどの置換ま
たは無置換安息香酸エステル類、コーオキシー3−メト
キシケイ皮酸フチルなどのケイ皮酸エステル類、λ、弘
−ジオキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、ジ
ベンザルアセトンなどのα、β−不飽和ケトン、j、7
−シオキシクマリンなどのクマリン類、/、μ−ジメチ
ル−7−オキシカルボスチリルなどのカルボスチリル類
、コーフェニルベンゾイミダゾール、λ−(2−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾールなどのアゾール類な
どが使用される。
に改良するため、紫外線吸収剤の添加が有効で、レゾル
シンモノベンゾエート、サリチル酸メチルなどの置換ま
たは無置換安息香酸エステル類、コーオキシー3−メト
キシケイ皮酸フチルなどのケイ皮酸エステル類、λ、弘
−ジオキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、ジ
ベンザルアセトンなどのα、β−不飽和ケトン、j、7
−シオキシクマリンなどのクマリン類、/、μ−ジメチ
ル−7−オキシカルボスチリルなどのカルボスチリル類
、コーフェニルベンゾイミダゾール、λ−(2−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾールなどのアゾール類な
どが使用される。
また本発明の赤外線吸収性組成物を用いてコーティング
法で作成したフィルムの場合は、コーティング層の保護
、流滴性の付与などの目的でコーティング層の表面に薄
いプラスチックフィルムを貼り合せたり塗設したりする
ことができる。例えば0.0よU厚のポリ塩化ビニルフ
ィルムを重ねて/λO〜/1IO0Cに加熱圧着すると
積層状のフィルムが得られる。
法で作成したフィルムの場合は、コーティング層の保護
、流滴性の付与などの目的でコーティング層の表面に薄
いプラスチックフィルムを貼り合せたり塗設したりする
ことができる。例えば0.0よU厚のポリ塩化ビニルフ
ィルムを重ねて/λO〜/1IO0Cに加熱圧着すると
積層状のフィルムが得られる。
本発明の赤外線吸収性組成物において、@記−般式で表
わされる化合物を結合剤1100部当り重量で0./、
30部、好1しくはO0j〜lO部含有させる。本発明
の赤外線吸収性組成物より得られる光学フィルターはそ
の機能上遮断すべき波長域の透過率が所期の目的を達成
しうる桿度に低ければよく1本発明の組成物を用いるに
は、透過率の谷の波長A 00 nm以上において一1
o4以下、好ましくは2.0幅以下、特に好ましくは0
゜/優以下の透過率となるように、結合剤当りの添加量
およびフィルターの厚みを調節することが肝要である。
わされる化合物を結合剤1100部当り重量で0./、
30部、好1しくはO0j〜lO部含有させる。本発明
の赤外線吸収性組成物より得られる光学フィルターはそ
の機能上遮断すべき波長域の透過率が所期の目的を達成
しうる桿度に低ければよく1本発明の組成物を用いるに
は、透過率の谷の波長A 00 nm以上において一1
o4以下、好ましくは2.0幅以下、特に好ましくは0
゜/優以下の透過率となるように、結合剤当りの添加量
およびフィルターの厚みを調節することが肝要である。
実用的な厚さは0.002mmないし、O9!詣である
が、用途に応じこの範囲外の厚さのフィルターにも設計
可能である。
が、用途に応じこの範囲外の厚さのフィルターにも設計
可能である。
「発明の効果」
本発明によれば、吸収極大波長が約A 00 nm以上
である近赤外線吸収性組成物をイ:Fることができる。
である近赤外線吸収性組成物をイ:Fることができる。
また−熱および光に対する堅牢性の優れる光学フィルタ
ーを得ることができ、低コストの光学フィルターとする
ことができる。
ーを得ることができ、低コストの光学フィルターとする
ことができる。
さらに本発明の赤外線吸収性組成物においては。
金属錯体からなる赤外線吸収剤の錯イオンに対するカチ
オン種を適宜選択し1組合わせることにより溶剤に対す
る溶解性を調節できるので各種の結合剤を幅広く採用で
きるという利点を有する。
オン種を適宜選択し1組合わせることにより溶剤に対す
る溶解性を調節できるので各種の結合剤を幅広く採用で
きるという利点を有する。
本発明の赤外線吸収性組成物より得られる光学フィルタ
ーは赤外線吸収材料として、前記の、赤外感光性の感材
用セーフライトフィルター、41!物の生育の制御、熱
線の遮断1人間の目の組織に有害な赤外線カットフィル
ター、半導体受光素子カラー固体撮隊素子の赤外線カッ
トフィルター用。
ーは赤外線吸収材料として、前記の、赤外感光性の感材
用セーフライトフィルター、41!物の生育の制御、熱
線の遮断1人間の目の組織に有害な赤外線カットフィル
ター、半導体受光素子カラー固体撮隊素子の赤外線カッ
トフィルター用。
電気と同時に光学的機能をもった素子τ−緒に同一基板
上に組込んだオプトエレクトロ二ツク集積回路での赤外
光カットフィルター用の外、各種の用途に用いることが
できる。
上に組込んだオプトエレクトロ二ツク集積回路での赤外
光カットフィルター用の外、各種の用途に用いることが
できる。
さらにまた1本発明に係る組成物は、光学フィルター以
外にもその赤外線吸収特性に基づいた応用が可能である
。例えば赤外線吸収性塗料に利用でき、また特開昭16
−131161号に記載のインクジェットプリンター用
インクに添加すると。
外にもその赤外線吸収特性に基づいた応用が可能である
。例えば赤外線吸収性塗料に利用でき、また特開昭16
−131161号に記載のインクジェットプリンター用
インクに添加すると。
近赤外光による読取効率を向上することができ。
特開昭j7−/10り0号に記載されたレーザー光記録
/読取媒体にも応用できる。また本発明の組成物は吸収
した近赤外光を熱に変換する性質を有し、赤外線/熱交
換剤としても利用できる。典型例を挙げると、/)特開
昭77−/≠oyz号または同17−/弘02を号に記
載されたようなレーザー感熱記録体に添加して、赤外域
レーザーを照射し発生する熱でひき起こされる混合発色
反応を高めることができる。2)レーザー光に基づく熱
の作用により溶解性が変化するような1例えば特開昭3
7−≠02!6号に記載したレジスト材料に含有させる
ことができる。3)特開昭!乙−/弘jJ4A、2号に
記載されたような、熱乾燥性または熱硬化性の組成物に
本発明の化合物を含有せしめると反応を促進させること
ができる。
/読取媒体にも応用できる。また本発明の組成物は吸収
した近赤外光を熱に変換する性質を有し、赤外線/熱交
換剤としても利用できる。典型例を挙げると、/)特開
昭77−/≠oyz号または同17−/弘02を号に記
載されたようなレーザー感熱記録体に添加して、赤外域
レーザーを照射し発生する熱でひき起こされる混合発色
反応を高めることができる。2)レーザー光に基づく熱
の作用により溶解性が変化するような1例えば特開昭3
7−≠02!6号に記載したレジスト材料に含有させる
ことができる。3)特開昭!乙−/弘jJ4A、2号に
記載されたような、熱乾燥性または熱硬化性の組成物に
本発明の化合物を含有せしめると反応を促進させること
ができる。
上記の記載は本発明に係る化合物の使用用途を制限する
ものではないのはもちろんである。
ものではないのはもちろんである。
「実施例」
次に本発明を実施例に基づき、更に詳細に説明する。
実施例/
例示化合物(2)を用い赤外線吸収性組成物を調製し光
学フィルターを作成し7た。すなわち、下に部(重量部
)で示した組成で各成分を混合しよく攪拌してから、ろ
過後、金践の支持体上に流延法により塗布して製膜後剥
離し、目的とする光学フィルターを得た。乾燥膜厚を0
.02ないし0.3鶏の間で変化させた数種の光学フィ
ルターを得た。
学フィルターを作成し7た。すなわち、下に部(重量部
)で示した組成で各成分を混合しよく攪拌してから、ろ
過後、金践の支持体上に流延法により塗布して製膜後剥
離し、目的とする光学フィルターを得た。乾燥膜厚を0
.02ないし0.3鶏の間で変化させた数種の光学フィ
ルターを得た。
いずれも約6/□HmK吸収極大を持つ近赤外用光学フ
ィルターであった。なお、メチレンクロリドを溶媒とし
た例示化合物(2)の電子スペクトルを第1図に示す。
ィルターであった。なお、メチレンクロリドを溶媒とし
た例示化合物(2)の電子スペクトルを第1図に示す。
TAC(三酢酸セルロース) /70部TPP
()リフェニルホスフエ イト) 10部メチレンクロリ
ド zoo部メタノール
/1,0部例示化合物(2)2部 実施例λ 例示化合物(t6)を用い赤外線吸収性組成物を調製し
光学フィルターを作成した。すなわち、下に部(重量部
を意味する)で示した組成で各成分を混合しよく攪拌し
てから、ろ過後、金属の支持体上に流延法により塗布し
て製膜後剥離し、目的とする光学フィルターを得た。こ
のようにして得られた光学フィルター(乾燥後の厚さt
oミクロン)の光学濃度は約り70nmK吸収極大を持
つフィルターであった。
()リフェニルホスフエ イト) 10部メチレンクロリ
ド zoo部メタノール
/1,0部例示化合物(2)2部 実施例λ 例示化合物(t6)を用い赤外線吸収性組成物を調製し
光学フィルターを作成した。すなわち、下に部(重量部
を意味する)で示した組成で各成分を混合しよく攪拌し
てから、ろ過後、金属の支持体上に流延法により塗布し
て製膜後剥離し、目的とする光学フィルターを得た。こ
のようにして得られた光学フィルター(乾燥後の厚さt
oミクロン)の光学濃度は約り70nmK吸収極大を持
つフィルターであった。
同様に第1表に示される他の化合物についても光学フィ
ルターを作製したところ、第1表に示す極大波長付近に
吸収極大を持つ光学フィルターφS得られた。なお、メ
チレンクロライドを溶媒とした例示化合物(r6)の電
子スペクトルを第2図に示す。
ルターを作製したところ、第1表に示す極大波長付近に
吸収極大を持つ光学フィルターφS得られた。なお、メ
チレンクロライドを溶媒とした例示化合物(r6)の電
子スペクトルを第2図に示す。
TACC三酢酸セルロース〕 /70部TPP(
)リフェニルホスフエ イト) 10部メチレンクロ
リド 100部メタノール
/60部例示化合物(、ra )
4!部実施例3 実施例2と同様にして、紫外線吸収剤を含有する厚さ1
7,15’l11の光学フィルターを作成した。
)リフェニルホスフエ イト) 10部メチレンクロ
リド 100部メタノール
/60部例示化合物(、ra )
4!部実施例3 実施例2と同様にして、紫外線吸収剤を含有する厚さ1
7,15’l11の光学フィルターを作成した。
流延組成物の組成は下記に示した。
TAC(三酢酸セルロース) 770部TPP(
)リフェニルホス7エ イト) 10部メチレンクロ
リド 100部メタノール
tto部例示化合物(r6)
2部コー(!−ターシャリーゾチル −2−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール 0.2部本発明に係
る金属錯体に紫外線吸収剤を併用すると、フィルターの
耐光性が著しく向上する。このようなフィルターの耐光
性を1例示化合物(、ra )と紫外線吸収剤コー(j
−i−ブチルーコーヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール(化合物(U))とを重量比でlO:/の比率で
併用した場合のフィルターの光照射下の光学濃度の経時
変化で下記の表に示した。
)リフェニルホス7エ イト) 10部メチレンクロ
リド 100部メタノール
tto部例示化合物(r6)
2部コー(!−ターシャリーゾチル −2−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール 0.2部本発明に係
る金属錯体に紫外線吸収剤を併用すると、フィルターの
耐光性が著しく向上する。このようなフィルターの耐光
性を1例示化合物(、ra )と紫外線吸収剤コー(j
−i−ブチルーコーヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール(化合物(U))とを重量比でlO:/の比率で
併用した場合のフィルターの光照射下の光学濃度の経時
変化で下記の表に示した。
上記表より分かるように1本発明に係る化合物と紫外線
吸収剤を併用すると光学フィルター材の耐光堅牢性を飛
躍的に改良することができた。
吸収剤を併用すると光学フィルター材の耐光堅牢性を飛
躍的に改良することができた。
第1図及び第2図に、それぞれ本発明の例示化合物(2
)及び(t6)の電子スペクトルを示す。 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第1図 ′LJL(n m) 第2図 板長(nm) 手続補正口 (方式) %式% 1、事件の表示 昭和62年特許願第272025号 2、発明の名称 赤外線吸収性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称(
520)富士写真フィルム株式会社3!I!格先 東京
都港区西麻布2丁目261!30%富士写真フィルム株
式会社 東京本社 電WA(406)2537 4、補正命令の日付 昭和63年1月26日(発進口)
6、補正の内容 明細書の第11頁から第22頁までを別紙の通り補正す
る。(内容に変更なし)
)及び(t6)の電子スペクトルを示す。 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第1図 ′LJL(n m) 第2図 板長(nm) 手続補正口 (方式) %式% 1、事件の表示 昭和62年特許願第272025号 2、発明の名称 赤外線吸収性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称(
520)富士写真フィルム株式会社3!I!格先 東京
都港区西麻布2丁目261!30%富士写真フィルム株
式会社 東京本社 電WA(406)2537 4、補正命令の日付 昭和63年1月26日(発進口)
6、補正の内容 明細書の第11頁から第22頁までを別紙の通り補正す
る。(内容に変更なし)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式で表わされる化合物から選ばれた少なくとも
1種を含有することを特徴とする赤外線吸収性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1〜R^4は、それぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、水酸基、直接もしくは2価の連結基
を介して、間接的にベンゼン環上の炭素原子に結合する
アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、複素環基
を示し、これらは、同じでも異つていてもよく、また、
R^1〜R^4のうち、隣り合つた二つの置換基は結合
して環を形成してもよい。また、二つのR^4は互いに
結合して環を形成してもよい。 R^5、R^6は、水素原子、アルキル基、アルキルチ
オ基、アリール基、アリールチオ基、複素環チオ基、シ
アノ基を示し、これらは、それぞれ同じでも異つていて
もよく、R^5とR^6は結合して環を形成していても
よい。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62272025A JPH01114801A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 赤外線吸収性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62272025A JPH01114801A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 赤外線吸収性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01114801A true JPH01114801A (ja) | 1989-05-08 |
Family
ID=17508079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62272025A Pending JPH01114801A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | 赤外線吸収性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01114801A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07173358A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱線遮蔽樹脂板 |
WO2012086332A1 (ja) * | 2010-12-20 | 2012-06-28 | 株式会社Adeka | 近赤外線吸収性合成樹脂組成物 |
JP2016162946A (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-05 | Jsr株式会社 | 固体撮像装置 |
US9966402B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-05-08 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device |
US10854661B2 (en) | 2015-01-21 | 2020-12-01 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device, infrared-absorbing composition, and flattened-film-forming curable composition |
-
1987
- 1987-10-28 JP JP62272025A patent/JPH01114801A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07173358A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱線遮蔽樹脂板 |
WO2012086332A1 (ja) * | 2010-12-20 | 2012-06-28 | 株式会社Adeka | 近赤外線吸収性合成樹脂組成物 |
CN103228735A (zh) * | 2010-12-20 | 2013-07-31 | 株式会社艾迪科 | 近红外线吸收性合成树脂组合物 |
US9966402B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-05-08 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device |
US10854661B2 (en) | 2015-01-21 | 2020-12-01 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device, infrared-absorbing composition, and flattened-film-forming curable composition |
JP2016162946A (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-05 | Jsr株式会社 | 固体撮像装置 |
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