JP7767098B2 - Film forming device and scaffolding unit - Google Patents
Film forming device and scaffolding unitInfo
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Description
本発明は、成膜装置及び足場ユニットに関する。 The present invention relates to a film forming apparatus and a scaffolding unit.
従来、基板を搬送しながら基板に対して処理を行うインライン式の装置が知られている。特許文献1には、インライン式の基板処理装置において、複数の処理ユニットが上下方向に並んで配置されることが開示されている。 Conventionally, inline-type apparatuses that process substrates while transporting them are known. Patent Document 1 discloses an inline-type substrate processing apparatus in which multiple processing units are arranged vertically side by side.
上記従来技術では、最下段の処理ユニット以外の処理ユニットのメンテナンスは、踏み台等を用意して行う必要がある。このため、踏み台の準備及び撤去に時間を要し、メンテナンス時の作業効率が低下することがある。 With the above-mentioned conventional technology, maintenance of processing units other than the lowest processing unit requires the use of a step stool or similar. This requires time to prepare and remove the step stool, which can reduce work efficiency during maintenance.
本発明は、メンテナンス時の作業効率を向上する技術を提供する。 The present invention provides technology that improves work efficiency during maintenance.
本発明の一側面によれば、
基板を搬送する搬送ユニットと、
成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第1位置と、前記第1位置に対して横方向に変位した第2位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備える、
ことを特徴とする成膜装置が提供される。
According to one aspect of the present invention,
a transport unit for transporting the substrate;
a film formation source unit including a film formation source and movable between a first position below the transport unit and a second position displaced laterally from the first position;
An in-line type film forming apparatus that forms a film on a substrate while transporting the substrate,
a scaffold unit that deploys a scaffold below the transport unit in association with the film formation source unit moving from the first position to the second position;
A film forming apparatus characterized by the above features is provided.
本発明によれば、メンテナンス時の作業効率を向上することができる。 This invention can improve work efficiency during maintenance.
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施形態で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明に必須のものとは限らない。実施形態で説明されている複数の特徴のうち二つ以上の特徴が任意に組み合わされてもよい。また、同一若しくは同様の構成には同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。 The following embodiments are described in detail with reference to the accompanying drawings. Note that the following embodiments do not limit the scope of the claimed invention, and not all combinations of features described in the embodiments are necessarily essential to the invention. Two or more of the features described in the embodiments may be combined in any desired manner. Furthermore, the same reference numbers are used for identical or similar components, and duplicate descriptions will be omitted.
また、各図において、X方向は基板の搬送方向、Y方向は基板の搬送方向に交差する幅方向、Z方向は上下方向を示す。 In each figure, the X direction indicates the substrate transport direction, the Y direction indicates the width direction intersecting the substrate transport direction, and the Z direction indicates the up-down direction.
<第1実施形態>
<成膜装置の概要>
図1は、一実施形態に係る成膜装置1を模式的に示す正面図である。図2は、図1の成膜装置1の側面図である。図3は、図1の成膜装置1の内部構造を模式的に示す図である。
First Embodiment
<Overview of the film formation equipment>
Fig. 1 is a front view schematically showing a film forming apparatus 1 according to an embodiment. Fig. 2 is a side view of the film forming apparatus 1 of Fig. 1. Fig. 3 is a diagram schematically showing the internal structure of the film forming apparatus 1 of Fig. 1.
成膜装置1は、基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置である。成膜装置1は、例えばスマートフォン用の有機EL表示装置の表示パネルの製造に用いられ、複数台並んで配置されてその製造ラインを構成し得る。 The film formation apparatus 1 is an in-line type film formation apparatus that forms a film on a substrate while the substrate is being transported. The film formation apparatus 1 is used, for example, in the manufacture of display panels for organic EL display devices used in smartphones, and multiple units can be arranged side by side to form a production line.
本実施形態では、成膜装置1には基板保持トレイ100に保持された基板が順次搬送され、成膜装置1は搬送されてきた基板に対して有機ELの蒸着を行う。基板は、例えば成膜装置1に搬送されるよりも上流の工程でマスクと重ね合わされた状態で基板保持トレイ100に保持されて成膜装置1に搬送される。したがって、成膜装置1ではマスクにより所定のパターンの蒸着物質の薄膜が基板上に形成される。成膜装置1で蒸着が行われる基板の材質としては、ガラス、樹脂、金属等を適宜選択可能であり、ガラス上にポリイミド等の樹脂層が形成されたものが好適に用いられる。蒸着物質としては、有機材料、無機材料(金属、金属酸化物など)などの物質である。成膜装置1は、例えば表示装置(フラットパネルディスプレイなど)や薄膜太陽電池、有機光電変換素子(有機薄膜撮像素子)等の電子デバイスや、光学部材等を製造する製造装置に適用可能であり、特に、有機ELパネルを製造する製造装置に適用可能である。以下の説明においては成膜装置1が真空蒸着によって基板に成膜を行う例について説明するが、成膜方法の態様はこれに限定はされず、スパッタやCVD等の各種成膜方法を適用可能である。 In this embodiment, substrates held on a substrate holding tray 100 are sequentially transported to the film-forming apparatus 1, which then vaporizes organic electroluminescent (EL) layers onto the transported substrates. The substrates are held on the substrate holding tray 100 and transported to the film-forming apparatus 1, for example, while overlapped with a mask in an upstream process. Therefore, in the film-forming apparatus 1, a thin film of vapor deposition material having a predetermined pattern is formed on the substrate using the mask. The substrate material on which vapor deposition is performed in the film-forming apparatus 1 can be selected from glass, resin, metal, etc., as appropriate. Glass with a resin layer such as polyimide formed on it is preferably used. Vapor deposition materials include organic materials and inorganic materials (metals, metal oxides, etc.). The film-forming apparatus 1 can be used in manufacturing equipment for manufacturing electronic devices such as display devices (e.g., flat panel displays), thin-film solar cells, and organic photoelectric conversion elements (organic thin-film imaging elements), as well as optical components, and is particularly applicable to manufacturing equipment for manufacturing organic EL panels. In the following explanation, an example is described in which the film formation apparatus 1 forms a film on a substrate by vacuum deposition, but the film formation method is not limited to this, and various film formation methods such as sputtering and CVD can also be applied.
成膜装置1は、搬送ユニット2と、蒸着源ユニット3と、防着板6と、移動ユニット7と、フレーム部101とを含む。 The film forming apparatus 1 includes a transport unit 2, a deposition source unit 3, an adhesion prevention plate 6, a moving unit 7, and a frame portion 101.
フレーム部101は、成膜装置1の搬送ユニット2等の構成要素を支持可能に設けられる。図1の例では、フレーム部101は、柱及び梁を含み、搬送ユニット2及び真空ポンプ102を支持している。また、フレーム部101には、作業用のクレーンや作業者がメンテナンスを行うための通路等が設けられてもよい。 The frame portion 101 is configured to be able to support components of the film forming apparatus 1, such as the transfer unit 2. In the example shown in FIG. 1, the frame portion 101 includes pillars and beams, and supports the transfer unit 2 and vacuum pump 102. The frame portion 101 may also be provided with a work crane, an accessway for workers to perform maintenance, and the like.
搬送ユニット2は、基板を搬送する。本実施形態では、搬送ユニット2は、基板を保持した状態の基板保持トレイ100を搬送することにより、基板の搬送を行う。搬送ユニット2は、搬送チャンバ21と、搬送ローラ22と、を含む。 The transport unit 2 transports substrates. In this embodiment, the transport unit 2 transports substrates by transporting the substrate holding tray 100 holding the substrate. The transport unit 2 includes a transport chamber 21 and transport rollers 22.
搬送チャンバ21は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。搬送チャンバ21の内部空間210は、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。本実施形態では、搬送チャンバ21は真空ポンプ102に接続されている。なお、本明細書において「真空」とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた状態、換言すれば減圧状態をいう。 The transfer chamber 21 is a box-shaped chamber capable of maintaining a vacuum inside. The internal space 210 of the transfer chamber 21 is maintained in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. In this embodiment, the transfer chamber 21 is connected to a vacuum pump 102. Note that in this specification, "vacuum" refers to a state filled with gas at a pressure lower than atmospheric pressure, in other words, a reduced pressure state.
搬送チャンバ21には、基板保持トレイ100が搬入される搬入開口211及び基板保持トレイ100が搬出される搬出開口212が形成されている。また、搬送チャンバ21の下部には、内部空間210と蒸着源チャンバ31の内部空間310とを連通するための連通開口213が形成されている。なお、搬入開口211及び搬出開口212には、内部空間210を真空に保持するために不図示のゲートバルブ等が設けられてもよい。 The transfer chamber 21 is formed with a load opening 211 through which the substrate holding tray 100 is loaded and a load opening 212 through which the substrate holding tray 100 is unloaded. Furthermore, a communication opening 213 is formed at the bottom of the transfer chamber 21 to connect the internal space 210 to the internal space 310 of the deposition source chamber 31. The load opening 211 and the load opening 212 may be provided with a gate valve (not shown) or the like to maintain a vacuum in the internal space 210.
搬送ローラ22は、基板を保持した基板保持トレイ100を搬送する。搬送ローラ22は、搬送チャンバ21の内部空間210に設けられる。搬送ローラ22は、例えば金属材料で形成された、回転可能に支持される円筒形状の部材である。搬送ローラ22は、例えば搬送チャンバ21の外部に設けられた不図示の電動モータにより駆動する。 The transport rollers 22 transport the substrate holding trays 100 holding substrates. The transport rollers 22 are provided in the internal space 210 of the transport chamber 21. The transport rollers 22 are rotatably supported cylindrical members made of, for example, a metal material. The transport rollers 22 are driven, for example, by an electric motor (not shown) provided outside the transport chamber 21.
また、本実施形態では、搬送ユニット2の下部には、補強用のリブ23が設けられている。 In addition, in this embodiment, a reinforcing rib 23 is provided at the bottom of the transport unit 2.
蒸着源ユニット3は、基板に対して蒸着物質を放出する蒸着源32(成膜源)を有するユニット(成膜源ユニット)である。本実施形態では、1つの搬送ユニット2に対して3つの蒸着源ユニット3が基板の搬送方向(X方向)に並んで配置されている。しかしながら、蒸着源ユニット3の数は適宜設定可能であり、2つ以下或いは4つ以上であってもよい。また、蒸着源ユニット3は、蒸着処理の実行時には搬送ユニット2の下方に位置し搬送ユニット2の下部に接続する。蒸着源ユニット3は、蒸着源チャンバ31と、蒸着源32と、を含む。 The deposition source unit 3 is a unit (film formation unit) having a deposition source 32 (film formation source) that emits a deposition material onto the substrate. In this embodiment, three deposition source units 3 are arranged side by side in the substrate transport direction (X direction) for one transport unit 2. However, the number of deposition source units 3 can be set appropriately, and may be two or less or four or more. Furthermore, the deposition source unit 3 is located below the transport unit 2 and connected to the lower part of the transport unit 2 during deposition processing. The deposition source unit 3 includes a deposition source chamber 31 and a deposition source 32.
蒸着源チャンバ31は、内部を真空に保持可能な箱型のチャンバである。蒸着源チャンバ31の内部空間310は、搬送チャンバ21の上部に設けられた連通開口311を介して搬送チャンバ21の内部空間210と連通可能である。内部空間310は、稼働時には内部空間210と同様、真空雰囲気か、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気に維持されている。 The deposition source chamber 31 is a box-shaped chamber capable of maintaining a vacuum inside. The internal space 310 of the deposition source chamber 31 can communicate with the internal space 210 of the transfer chamber 21 via a communication opening 311 provided at the top of the transfer chamber 21. During operation, the internal space 310, like the internal space 210, is maintained in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere such as nitrogen gas.
蒸着源32は、搬送ユニット2により搬送される基板に対する成膜のために蒸着物質を放出する。例えば、蒸着源32はY方向に並んで配置された複数のノズル(不図示)を含み、それぞれのノズルから蒸着物質が放出される。また例えば、蒸着源32は蒸着物質を貯留する貯留部及び貯留部に貯留された蒸着物質を加熱するヒータ(いずれも不図示)を含む。貯留部に貯留された蒸着物質がヒータによって加熱されて気化することにより、蒸着源32から蒸着物質が放出される。 The evaporation source 32 emits evaporation material to form a film on the substrate transported by the transport unit 2. For example, the evaporation source 32 includes multiple nozzles (not shown) arranged in a line in the Y direction, and the evaporation material is emitted from each nozzle. For example, the evaporation source 32 also includes a storage section that stores the evaporation material and a heater (neither of which are shown) that heats the evaporation material stored in the storage section. The evaporation material stored in the storage section is heated by the heater and vaporized, causing the evaporation material to be emitted from the evaporation source 32.
また、蒸着源ユニット3は、蒸着源32の不使用時に蒸着源32を遮蔽するシャッタ又は蒸着源32による蒸着物質の蒸発量を監視する蒸発レートモニタ等(いずれも不図示)を含んでもよい。 The deposition source unit 3 may also include a shutter that shields the deposition source 32 when the deposition source 32 is not in use, or an evaporation rate monitor that monitors the amount of evaporation of the deposition material by the deposition source 32 (neither of which is shown).
防着板6は、蒸着源32から放出された蒸着物質が蒸着源チャンバ31又は搬送チャンバ21の内壁等に付着することを防止する。例えば、防着板6は蒸着源チャンバ31に支持される。本実施形態では、防着板6は、蒸着源32を覆うように内部空間310から内部空間210に渡って位置するとともに、上部には開口が形成されている。このような構成により、蒸着物質の一部は開口を介して基板へと付着する一方、残りの蒸着物質は防着板6に付着する。このように、防着板6は、蒸着物質が基板に付着することを許容しつつ、蒸着物質が蒸着源チャンバ31又は搬送チャンバ21の内壁等に付着することを防止する。 The adhesion prevention plate 6 prevents the deposition material emitted from the deposition source 32 from adhering to the inner walls of the deposition source chamber 31 or the transfer chamber 21. For example, the adhesion prevention plate 6 is supported by the deposition source chamber 31. In this embodiment, the adhesion prevention plate 6 is positioned across the internal space 310 and internal space 210 so as to cover the deposition source 32, and has an opening formed at the top. With this configuration, some of the deposition material adheres to the substrate through the opening, while the remaining deposition material adheres to the adhesion prevention plate 6. In this way, the adhesion prevention plate 6 allows the deposition material to adhere to the substrate while preventing the deposition material from adhering to the inner walls of the deposition source chamber 31 or the transfer chamber 21.
なお、本実施形態では、防着板6は、蒸着源チャンバ31に対して上下に相対移動可能に設けられる。より具体的には、防着板6は、上側部分61と下側部分62とを含み、上側部分61が蒸着源チャンバ31に対して上下に相対移動可能に設けられる。これにより、蒸着源ユニット3が移動ユニット7によって横方向に移動する際に搬送ユニット2と防着板6との干渉を回避するために必要な蒸着源ユニット3の下降量を低減することができる。 In this embodiment, the adhesion prevention plate 6 is provided so as to be movable up and down relative to the deposition source chamber 31. More specifically, the adhesion prevention plate 6 includes an upper portion 61 and a lower portion 62, and the upper portion 61 is provided so as to be movable up and down relative to the deposition source chamber 31. This reduces the amount of descent of the deposition source unit 3 required to avoid interference between the transport unit 2 and the adhesion prevention plate 6 when the deposition source unit 3 is moved laterally by the moving unit 7.
なお、搬送チャンバ21又は蒸着源チャンバ31には、防着板6以外にも防着板が設けられてもよい。例えば、搬送チャンバ21の内部の天面又は側面等に防着板が設けられてもよい。 Note that the transfer chamber 21 or the deposition source chamber 31 may be provided with an adhesion prevention plate other than the adhesion prevention plate 6. For example, an adhesion prevention plate may be provided on the ceiling or side surface of the interior of the transfer chamber 21.
移動ユニット7は、蒸着源ユニット3を移動させるユニットである。本実施形態では、移動ユニット7は蒸着源ユニット3の下方に設けられ、蒸着源ユニット3を支持しつつ蒸着源ユニット3を上下方向(Z方向)又は横方向(Y方向)に移動させる。移動ユニット7は、横方向移動部71と昇降部72とを含む。 The moving unit 7 is a unit that moves the deposition source unit 3. In this embodiment, the moving unit 7 is provided below the deposition source unit 3 and moves the deposition source unit 3 in the vertical direction (Z direction) or horizontal direction (Y direction) while supporting the deposition source unit 3. The moving unit 7 includes a horizontal moving section 71 and an elevating section 72.
横方向移動部71は、蒸着源ユニット3を横方向(Y方向)に移動させる。本実施形態では、横方向移動部71は蒸着源ユニット3を基板の搬送方向(X方向)に交差する基板の幅方向(Y方向)に移動させる。横方向移動部71は、床面に設けられたガイド部711と、ガイド部711沿って蒸着源ユニット3を移動させるための駆動部712とを含む。駆動部712としては周知の技術を適宜採用可能であるが、例えば、ガイド部711としてのレール上を走行可能な駆動輪を、モータ等により回転させてもよい。 The lateral movement unit 71 moves the deposition source unit 3 in the lateral direction (Y direction). In this embodiment, the lateral movement unit 71 moves the deposition source unit 3 in the width direction (Y direction) of the substrate, which intersects with the substrate transport direction (X direction). The lateral movement unit 71 includes a guide unit 711 provided on the floor surface and a drive unit 712 for moving the deposition source unit 3 along the guide unit 711. Well-known technology can be used as the drive unit 712, as appropriate. For example, a drive wheel capable of running on a rail as the guide unit 711 may be rotated by a motor or the like.
昇降部72は、蒸着源ユニット3を昇降させる。本実施形態では、昇降部72は、蒸着源ユニット3を上下方向(Z方向)に昇降させる。昇降部72は、蒸着源ユニット3を支持する蒸着源ユニット支持部721と、蒸着源ユニット支持部721を昇降させる駆動部722とを含む。駆動部722としては周知の技術を採用可能であるが、例えば電動シリンダ等により蒸着源ユニット支持部721を昇降させてもよい。 The lifting unit 72 raises and lowers the deposition source unit 3. In this embodiment, the lifting unit 72 raises and lowers the deposition source unit 3 in the vertical direction (Z direction). The lifting unit 72 includes a deposition source unit support 721 that supports the deposition source unit 3, and a drive unit 722 that raises and lowers the deposition source unit support 721. Well-known technology can be used for the drive unit 722, but the deposition source unit support 721 may also be raised and lowered by, for example, an electric cylinder or the like.
本実施形態では、搬送ユニット2のメンテナンスを行う場合に、移動ユニット7が蒸着源ユニット3を搬送ユニット2の下方の位置から横方向に移動させることにより、作業者が搬送チャンバ21の下部から搬送チャンバ21の内部にアクセスすることが可能となる。このとき、移動ユニット7は、昇降部72により蒸着源ユニット3を下方に移動させてから横方向移動部71により蒸着源ユニット3を横方向に移動させる。この動作については後述の足場ユニット4の動作説明とともに後述する(図6)。 In this embodiment, when performing maintenance on the transfer unit 2, the moving unit 7 moves the deposition source unit 3 laterally from a position below the transfer unit 2, allowing an operator to access the interior of the transfer chamber 21 from below. At this time, the moving unit 7 moves the deposition source unit 3 downward using the lifting unit 72, and then moves the deposition source unit 3 laterally using the lateral movement unit 71. This operation will be described later together with the operation of the scaffolding unit 4 (Figure 6).
なお、本実施形態では、移動ユニット7は、複数の蒸着源ユニット3に対してそれぞれ設けられる。したがって、本実施形態の成膜装置1は、複数の蒸着源ユニット3をそれぞれ独立に移動させることができる。なお、複数の移動ユニット7を同期させて、複数の蒸着源ユニット3をまとめて移動させてもよい。また、蒸着源ユニット3よりも少ない数の移動ユニット7が設けられ、1つの移動ユニット7で複数の蒸着源ユニット3を移動させてもよい。 In this embodiment, a moving unit 7 is provided for each of the multiple deposition source units 3. Therefore, the film forming apparatus 1 of this embodiment can move each of the multiple deposition source units 3 independently. The multiple moving units 7 may be synchronized to move the multiple deposition source units 3 together. Alternatively, there may be provided fewer moving units 7 than the deposition source units 3, and one moving unit 7 may move the multiple deposition source units 3.
なお、説明は省略するが、成膜装置1は、搬送ユニット2、蒸着源ユニット3又は移動ユニット7等の動作を制御する制御装置等を含みうる。 Although not described further, the film forming apparatus 1 may include a control device that controls the operation of the transport unit 2, deposition source unit 3, or moving unit 7, etc.
<足場ユニットの構成>
P図4は、足場ユニット4の構成を示す斜視図であり、足場41が展開された状態を示している。また、図5は、足場ユニット4を成膜装置1の正面からみた図であり、足場41が展開された状態を示している。足場ユニット4は、足場41と、昇降部42と、手すり部43と、接続部44と、固定部45とを含む。なお、図5では、昇降部42及び手すり部43は省略されている。
<Configuration of scaffolding unit>
Figure 4 is a perspective view showing the configuration of the scaffolding unit 4, showing the scaffolding 41 in an unfolded state. Figure 5 is a view of the scaffolding unit 4 as seen from the front of the film forming apparatus 1, showing the scaffolding 41 in an unfolded state. The scaffolding unit 4 includes the scaffolding 41, a lifting section 42, a handrail section 43, a connecting section 44, and a fixing section 45. Note that the lifting section 42 and the handrail section 43 are omitted from Figure 5.
足場41は、搬送ユニット2のメンテナンス等に用いられ、踏み台或いはステップ等と呼ばれることもある。足場41は、柱部411と、梁部412と、床板部413とを含む。 The scaffolding 41 is used for maintenance of the transport unit 2, and is sometimes called a platform or step. The scaffolding 41 includes a column portion 411, a beam portion 412, and a floorboard portion 413.
柱部411は、梁部412を支持する。1つの柱部411は、2本の柱部材4111と、2本の柱部材4111を回動可能に連結するとともに床面に接する連結部4112とを含む。本実施形態では、合計で4つの柱部411が設けられている。また、柱部材4111は、連結部4112と接続する端部と反対側の端部において、梁部412の梁部材4121又は梁部材4122と回動可能に接続する。 The pillar portions 411 support the beam portions 412. One pillar portion 411 includes two pillar members 4111 and a connecting portion 4112 that rotatably connects the two pillar members 4111 and contacts the floor surface. In this embodiment, a total of four pillar portions 411 are provided. Furthermore, the pillar member 4111 is rotatably connected to the beam member 4121 or beam member 4122 of the beam portion 412 at the end opposite the end connected to the connecting portion 4112.
梁部412は床板部413を支持する。梁部412は、長さの異なる梁部材4121及び梁部材4122と、梁部材同士を接続する接続部材4123と、を含む。梁部412は、X方向に離間した2つの部分で構成され、各部分は、2本の梁部材4121と2本の梁部材4122と3つの接続部材4123とにより互いに接続してY方向に延びるように設けられている。また、接続部材4123は、梁部材4121、4122を回動可能に支持している。このように梁部412は複数の梁部材が回動可能に設けられるので、折りたたみ可能である。 The beam portion 412 supports the floorboard portion 413. The beam portion 412 includes beam members 4121 and 4122 of different lengths, and a connecting member 4123 that connects the beam members. The beam portion 412 is composed of two sections spaced apart in the X direction, and each section is connected to each other by two beam members 4121, two beam members 4122, and three connecting members 4123 and extends in the Y direction. The connecting member 4123 also rotatably supports the beam members 4121 and 4122. In this way, the beam portion 412 is foldable because multiple beam members are rotatably arranged.
床板部413は、搬送ユニット2のメンテナンス時等に、作業者が移動可能な領域を形成する。床板部413は、作業者の搬送ユニット2へのアクセスを容易にするために、成膜装置1が設置される平面から所定の高さに配置される。床板部413は、Y方向に並んで設けられる複数の板状部材4131~4135を含む。板状部材4131~4135は、X方向の両端において、梁部材4121、梁部材4122、又は接続部材4123にそれぞれ支持される。そのため、床板部413は、梁部412が折りたたまれるのに伴って折りたたまれる。 The floor plate portion 413 forms an area where an operator can move around, for example, during maintenance of the transport unit 2. The floor plate portion 413 is positioned at a predetermined height from the plane on which the film forming apparatus 1 is installed, to facilitate operator access to the transport unit 2. The floor plate portion 413 includes multiple plate-shaped members 4131 to 4135 arranged side by side in the Y direction. The plate-shaped members 4131 to 4135 are supported at both ends in the X direction by beam member 4121, beam member 4122, or connecting member 4123, respectively. Therefore, the floor plate portion 413 is folded when the beam portion 412 is folded.
昇降部42は、展開された足場41の床板部413へ作業者が昇降するためのものである。本実施形態では、昇降部42は、梯子である。しかしながら、昇降部42は階段、ステップ等であってもよい。また、昇降部42は、例えば梁部412に回動可能に支持される。 The lifting section 42 allows a worker to ascend and descend to the floorboard section 413 of the deployed scaffolding 41. In this embodiment, the lifting section 42 is a ladder. However, the lifting section 42 may also be a staircase, steps, etc. Furthermore, the lifting section 42 is rotatably supported on the beam section 412, for example.
手すり部43は、展開された足場41の床板部413に対して起立する複数の手すり431~433を含む。手すり431は板状部材4131に、手すり432は板状部材4133に、手すり433は板状部材4135に、それぞれ回動可能に設けられる。足場41が折りたたまれる際には、手すり431~433は床板部413に倒された状態で床板部413とともに折りたたまれる。 The handrail section 43 includes multiple handrails 431-433 that stand upright relative to the floorboard section 413 of the unfolded scaffolding 41. Handrail 431 is rotatably attached to plate-shaped member 4131, handrail 432 is rotatably attached to plate-shaped member 4133, and handrail 433 is rotatably attached to plate-shaped member 4135. When the scaffolding 41 is folded, the handrails 431-433 are folded down onto the floorboard section 413 and folded together with the floorboard section 413.
本実施形態では、接続部44は、梁部412と移動ユニット7とを接続することで、移動ユニット7を介して足場41と蒸着源ユニット3と接続する。なお、接続部44は、足場41と蒸着源ユニット3とを直接的に接続してもよい。 In this embodiment, the connection portion 44 connects the beam portion 412 to the moving unit 7, thereby connecting the scaffolding 41 to the deposition source unit 3 via the moving unit 7. Note that the connection portion 44 may also directly connect the scaffolding 41 to the deposition source unit 3.
固定部45は、足場41を所定の位置で固定的に支持する。本実施形態では、固定部45は、Y方向で蒸着源ユニット3に最も離れて設けられる梁部材4121の蒸着源ユニット3から遠い側の端部を支持する。固定部45は、フレーム部101又は搬送ユニット2など、蒸着源ユニット3の移動に追従しない構成要素に支持され得る。なお、ここでは、固定部45自体は固定的に設けられているが、固定部45は、梁部材4121を回動、又はスライド可能に支持してもよい。 The fixing portion 45 supports the scaffolding 41 in a fixed position. In this embodiment, the fixing portion 45 supports the end of the beam member 4121 located farthest from the deposition source unit 3 in the Y direction, on the side farthest from the deposition source unit 3. The fixing portion 45 may be supported by a component that does not follow the movement of the deposition source unit 3, such as the frame portion 101 or the transport unit 2. Note that although the fixing portion 45 itself is fixed here, the fixing portion 45 may also support the beam member 4121 so that it can rotate or slide.
本実施形態では、足場ユニット4が、3つの蒸着源ユニット3に対してそれぞれ設けられる。つまり、成膜装置1は3つの足場ユニット4を含む。 In this embodiment, a scaffolding unit 4 is provided for each of the three deposition source units 3. In other words, the film forming apparatus 1 includes three scaffolding units 4.
ところで、本実施形態では、搬送ユニット2の搬送チャンバ21内のメンテナンスを行う場合には、作業者は、蒸着源ユニット3を横方向に移動させ、露出した連通開口213を介して内部空間210にアクセスすることができる。他方、搬送ユニット2は蒸着源ユニット3の上方に設けられているため、作業者は床面に立った状態で搬送ユニット2のメンテナンスを行えない場合がある。このような場合に作業者が踏み台等の準備及び撤去に時間を要すると、メンテナンス時の作業効率が低下することがある。そこで、本実施形態では、以下で説明するように、蒸着源ユニット3が横方向に移動するのに連動して搬送ユニット2の下方に足場が展開される。 In this embodiment, when performing maintenance inside the transfer chamber 21 of the transfer unit 2, the worker can move the deposition source unit 3 laterally and access the internal space 210 through the exposed communication opening 213. However, because the transfer unit 2 is located above the deposition source unit 3, the worker may not be able to perform maintenance on the transfer unit 2 while standing on the floor. In such cases, if the worker needs time to prepare and remove a step stool or the like, work efficiency during maintenance may decrease. Therefore, in this embodiment, as described below, a platform is deployed below the transfer unit 2 in conjunction with the lateral movement of the deposition source unit 3.
<足場ユニットの動作説明>
図6は、蒸着源ユニット3及び足場ユニット4の動作を説明する図である。また、図7(A)は、展開動作前の足場ユニット4を成膜装置1の正面からみた図であり、図6の状態ST1及び状態ST2における足場ユニット4を示している。また、図7(B)は、展開動作中の足場ユニット4を成膜装置1の正面からみた図であり、図6の状態ST3における足場ユニット4を示している。なお、図7(A)及び図7(B)では、昇降部42及び手すり部43は省略されている。
<Explanation of the operation of the scaffolding unit>
Fig. 6 is a diagram illustrating the operation of the deposition source unit 3 and the scaffolding unit 4. Fig. 7(A) is a diagram of the scaffolding unit 4 before the unfolding operation as viewed from the front of the film forming apparatus 1, showing the scaffolding unit 4 in states ST1 and ST2 of Fig. 6. Fig. 7(B) is a diagram of the scaffolding unit 4 during the unfolding operation as viewed from the front of the film forming apparatus 1, showing the scaffolding unit 4 in state ST3 of Fig. 6. Note that the lifting section 42 and the handrail section 43 are omitted in Figs. 7(A) and 7(B).
状態ST1は、蒸着源ユニット3が搬送ユニット2と接続する接続位置POS1に位置している状態である。状態ST1は成膜装置1が基板に対する蒸着を行う際の状態である。状態ST1では、蒸着源ユニット3が搬送ユニット2の下方に位置し、搬送ユニット2の下部と蒸着源ユニット3の上部とが接続している。 In state ST1, the deposition source unit 3 is located at the connection position POS1 where it connects with the transport unit 2. State ST1 is the state in which the film formation apparatus 1 performs deposition on a substrate. In state ST1, the deposition source unit 3 is located below the transport unit 2, and the lower part of the transport unit 2 is connected to the upper part of the deposition source unit 3.
状態ST2は、蒸着源ユニット3が接続位置POS1からその下方の接続解除位置POS2に移動した状態である。蒸着源ユニット3は、移動ユニット7の昇降部72により接続位置POS1から接続解除位置POS2にーZ方向に移動する。 State ST2 is a state in which the deposition source unit 3 has moved from the connected position POS1 to the disconnected position POS2 below it. The deposition source unit 3 is moved in the -Z direction from the connected position POS1 to the disconnected position POS2 by the lifting part 72 of the moving unit 7.
なお、状態ST1又は状態ST2では、足場ユニット4は折りたたまれた状態である。これらの状態では、柱部材4111、梁部材4121及び梁部材4122がZ方向に延び、接続部材4123がY方向に延びるように配置される。また、床板部413は、梁部412に沿って折りたたまれている。これにより、足場ユニット4は、全体としてY方向にコンパクトに構成される。 In addition, in state ST1 or state ST2, the scaffolding unit 4 is in a folded state. In these states, the column members 4111, beam members 4121, and beam members 4122 extend in the Z direction, and the connecting members 4123 are arranged to extend in the Y direction. In addition, the floor board portion 413 is folded along the beam portion 412. This allows the scaffolding unit 4 as a whole to be configured compactly in the Y direction.
状態ST3は、蒸着源ユニット3のメンテナンス位置への移動途中の状態である。足場ユニット4の足場41は、一方の端部が固定部45に所定の位置で支持された状態で、接続部44に接続する他方の端部が蒸着源ユニット3の移動に連動して横方向(図面右方向、-Y方向)に移動することで、折りたたまれた状態から展開されていく。 State ST3 is the state in which the deposition source unit 3 is in the middle of moving to the maintenance position. One end of the scaffold 41 of the scaffold unit 4 is supported at a predetermined position by the fixing part 45, and the other end connected to the connecting part 44 moves laterally (to the right in the drawing, in the -Y direction) in conjunction with the movement of the deposition source unit 3, thereby unfolding from the folded state.
状態ST4は、蒸着源ユニット3の横方向への移動が完了した状態である。状態ST4において、蒸着源ユニット3は、搬送ユニット2又は蒸着源ユニット3のメンテンスが実行されるメンテナンス位置POS3に位置している。蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3に位置した状態では、足場41は搬送ユニット2の下方に展開された状態となる。 State ST4 is the state in which the lateral movement of the deposition source unit 3 is complete. In state ST4, the deposition source unit 3 is located at the maintenance position POS3, where maintenance of the transport unit 2 or the deposition source unit 3 is performed. When the deposition source unit 3 is located at the maintenance position POS3, the scaffolding 41 is deployed below the transport unit 2.
図8は、搬送ユニット2及び足場ユニット4の位置関係を模式的に示す平面図である。本実施形態では、蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3に位置する場合(図8の中央の蒸着源ユニット3参照)、展開された足場41が、搬送ユニット2の連通開口213の下方に位置するように展開される。換言すれば、展開された足場41は、搬送ユニット2の下方において、連通開口213に対向するように配置される。さらに言えば、蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3にある場合に、足場41は、平面視で搬送ユニット2の連通開口213と上下方向(Z方向)に重なるように配置されている。足場41が連通開口213の下方に配置されることにより、作業者は、足場に乗った状態で内部空間210により容易にアクセスすることができる。また、蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3に位置する場合に、連通開口213のY方向の全域に渡って、平面視で足場41が連通開口213と重なるように配置されてもよい。これにより、作業者は、内部空間210の略全体により容易にアクセスすることができる。 Figure 8 is a plan view schematically showing the positional relationship between the transport unit 2 and the scaffold unit 4. In this embodiment, when the deposition source unit 3 is located at the maintenance position POS3 (see the deposition source unit 3 in the center of Figure 8), the deployed scaffold 41 is deployed so as to be located below the communication opening 213 of the transport unit 2. In other words, the deployed scaffold 41 is positioned below the transport unit 2 so as to face the communication opening 213. Furthermore, when the deposition source unit 3 is located at the maintenance position POS3, the scaffold 41 is positioned so as to overlap the communication opening 213 of the transport unit 2 in the vertical direction (Z direction) in a planar view. By positioning the scaffold 41 below the communication opening 213, a worker can more easily access the internal space 210 while standing on the scaffold. Furthermore, when the deposition source unit 3 is located at the maintenance position POS3, the scaffold 41 may be positioned so as to overlap the communication opening 213 in a planar view over the entire Y-direction of the communication opening 213. This allows workers to more easily access almost the entire interior space 210.
以上説明したように、本実施形態によれば、足場ユニット4は、蒸着源ユニット3が接続解除位置POS2からメンテナンス位置POS3へと移動するのに連動して、搬送ユニット2の下方に足場41を展開する。これにより、搬送ユニット2のメンテナンスを行う場合に搬送ユニット2へのアクセスが容易になるとともに、踏み台等の準備及び撤去が必要なくなるので、メンテナンス時の作業効率を向上することができる。 As described above, according to this embodiment, the scaffolding unit 4 deploys the scaffolding 41 below the transport unit 2 in conjunction with the movement of the deposition source unit 3 from the disconnection position POS2 to the maintenance position POS3. This facilitates access to the transport unit 2 when performing maintenance on the transport unit 2, and eliminates the need to prepare and remove a step stool or the like, thereby improving work efficiency during maintenance.
<第2実施形態>
図9は、第2実施形態に係る足場ユニット9を成膜装置1の正面からみた図であり、足場91が展開された状態を示している。第2実施形態では、梁部及び床板部の態様が第1実施形態と異なる。以下、第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。
Second Embodiment
9 is a view of the scaffolding unit 9 according to the second embodiment as seen from the front of the film forming apparatus 1, showing the state in which the scaffolding 91 is deployed. In the second embodiment, the configuration of the beams and floorboards differs from that of the first embodiment. Hereinafter, the same components as those in the first embodiment will be assigned the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.
本実施形態では、足場91は、柱部411と梁部912と床板部913とを含む。床板部913を支持する梁部912は、梁部材9121、梁部材9122及び接続部材9123を含む。ここで、梁部材9121及び梁部材9122は、足場91が展開された状態で、蒸着源ユニット3の移動方向であるY方向に対して斜めに設けられている。より具体的には、X方向から見て、梁部材9121及び梁部材9122が延びる方向は、Y方向成分及びZ方向成分を含む。 In this embodiment, the scaffolding 91 includes a column portion 411, a beam portion 912, and a floor plate portion 913. The beam portion 912, which supports the floor plate portion 913, includes a beam member 9121, a beam member 9122, and a connecting member 9123. Here, when the scaffolding 91 is deployed, the beam members 9121 and 9122 are arranged obliquely with respect to the Y direction, which is the movement direction of the deposition source unit 3. More specifically, when viewed from the X direction, the extension direction of the beam members 9121 and 9122 includes a Y direction component and a Z direction component.
このような構成により、メンテナンス位置POS3において、蒸着源ユニット3の移動方向に対して梁部材9121及び梁部材9122の軸方向が斜めになるため、蒸着源ユニット3が横方向に移動した際に梁部材9121及び梁部材9122が回動しやすくなる。よって、本実施形態によれば、展開された足場91を容易に折りたたむことができる。 With this configuration, the axial direction of the beam members 9121 and 9122 is inclined relative to the movement direction of the deposition source unit 3 at the maintenance position POS3, making it easier for the beam members 9121 and 9122 to rotate when the deposition source unit 3 moves laterally. Therefore, according to this embodiment, the deployed platform 91 can be easily folded.
また、本実施形態では、板状部材9131~9135は、床板部913の床面が略水平になるような形状を有している。さらに言えば、Y方向に対して斜めに延びる梁部材9121又は梁部材9122に支持される板状部材9131、板状部材9133及び板状部材9135は、床板部913の床面を構成する面が水平面になるように形成される。それとともに、板状部材9131、板状部材9133及び板状部材9135は、梁部材9121又は梁部材9122に支持に支持される面が、梁部材9121又は梁部材9122の伸びる方向に対応した斜面となるように形成される。これにより、足場91の床面を水平に維持しつつ、足場91を容易に折りたたむことができる。 In addition, in this embodiment, the plate-like members 9131 to 9135 are shaped so that the floor surface of the floorboard portion 913 is approximately horizontal. Furthermore, the plate-like members 9131, 9133, and 9135, which are supported by the beam members 9121 or 9122 extending diagonally with respect to the Y direction, are formed so that the surfaces that form the floor surface of the floorboard portion 913 are horizontal. At the same time, the plate-like members 9131, 9133, and 9135 are formed so that the surfaces supported by the beam members 9121 or 9122 are inclined in the direction in which the beam members 9121 or 9122 extend. This allows the scaffolding 91 to be easily folded while maintaining the floor surface of the scaffolding 91 horizontal.
<他の実施形態>
第1実施形態では手すり部43が足場ユニット4に設けられているが、搬送ユニット2の下部に手すりが設けられてもよい。図10は、一実施形態に成膜装置1の側面図である。この例では、手すり931が搬送ユニット2のリブ23から下方に延びるように設けられている。このような手すり931が、搬送ユニット2の下部にY方向に渡って設けられてもよい。
<Other Embodiments>
In the first embodiment, the handrail portion 43 is provided on the scaffolding unit 4, but a handrail may also be provided on the lower part of the transport unit 2. Fig. 10 is a side view of the film forming apparatus 1 in one embodiment. In this example, a handrail 931 is provided so as to extend downward from the rib 23 of the transport unit 2. Such a handrail 931 may also be provided across the lower part of the transport unit 2 in the Y direction.
また、手すりが設置される位置や個数等は適宜変更可能である。例えば、図4の例では、手すり部43は、床板部413に対してX方向の一方の側にのみ設けられているが、床板部413に対してX方向の両側に設けられてもよい。或いは、足場41がX方向に複数並んで設けられる場合、X方向の両外側の足場41の両外側の端部にのみ手すり部43が設けられてもよい。 The locations and number of handrails can also be changed as appropriate. For example, in the example shown in Figure 4, the handrail section 43 is provided on only one side of the floorboard section 413 in the X direction, but it may also be provided on both sides of the floorboard section 413 in the X direction. Alternatively, if multiple scaffoldings 41 are provided side by side in the X direction, the handrail sections 43 may only be provided on the outer ends of the scaffoldings 41 on both outer sides in the X direction.
また、接続部44は、足場41と蒸着源ユニット3との接続を解除可能に設けられてもよい。これにより、足場41が必要な場合のみ足場41を展開することができる。 Furthermore, the connection portion 44 may be provided so that the connection between the scaffolding 41 and the deposition source unit 3 can be released. This allows the scaffolding 41 to be deployed only when it is needed.
また、足場41の構成は適宜変更である。上記実施形態では2本の柱部材4111が連結部4112により連結されていたが、柱部材4111がそれぞれ独立に床面に接地して梁部412を支持してもよい。 The configuration of the scaffolding 41 can also be modified as appropriate. In the above embodiment, two pillar members 4111 were connected by a connecting portion 4112, but each pillar member 4111 may be independently grounded to the floor surface and support the beam portion 412.
また、成膜装置1は、蒸着源ユニット3の傾きに関する値を検出するセンサを備えていてもよい。そして、成膜装置1は、このセンサにより検出された蒸着源ユニット3の傾きに関する値が所定条件を満たさない場合に蒸着源ユニット3の昇降動作、すなわち、接続位置POS1ー接続解除位置POS2間の移動動作を停止してもよい。 The film formation apparatus 1 may also be equipped with a sensor that detects a value related to the tilt of the deposition source unit 3. If the value related to the tilt of the deposition source unit 3 detected by this sensor does not satisfy a predetermined condition, the film formation apparatus 1 may stop the lifting and lowering operation of the deposition source unit 3, i.e., the movement between the connection position POS1 and the disconnection position POS2.
例えば、センサは、振り子式又はフロート式の傾斜センサのように蒸着源ユニット3の傾きを直接的に検出するものであってもよいし、加速度センサのように傾きを間接的に検出するものであってもよい。また例えば、センサは、両側の駆動部722の駆動負荷に関する値(例えば駆動電流値)又は両側の蒸着源ユニット支持部721にかかる蒸着源ユニット3の荷重等、蒸着源ユニット3に傾きが生じていることを把握することのできる値を検出するものであってもよい。 For example, the sensor may be a pendulum-type or float-type tilt sensor that directly detects the tilt of the deposition source unit 3, or an acceleration sensor that indirectly detects the tilt. Furthermore, for example, the sensor may be a sensor that detects a value that can determine whether the deposition source unit 3 is tilted, such as a value related to the drive load of the drive units 722 on both sides (e.g., drive current value) or the load of the deposition source unit 3 acting on the deposition source unit support units 721 on both sides.
また例えば、成膜装置1は、センサにより検出した蒸着源ユニット3の傾きが閾値以上である場合に、蒸着源ユニット3の昇降動作を停止してもよい。或いは、成膜装置1は、両側の駆動部722の駆動電流値や、蒸着源ユニット支持部721にかかる蒸着源ユニット3の荷重の差が閾値以上である場合に、蒸着源ユニット3の昇降動作を停止してもよい。 For example, the film forming apparatus 1 may stop raising and lowering the deposition source unit 3 when the tilt of the deposition source unit 3 detected by the sensor is equal to or greater than a threshold value. Alternatively, the film forming apparatus 1 may stop raising and lowering the deposition source unit 3 when the difference in the drive current values of the drive units 722 on both sides or the load of the deposition source unit 3 applied to the deposition source unit support unit 721 is equal to or greater than a threshold value.
<第3実施形態>
図11は、第3実施形態に係る成膜装置13を模式的に示す正面図である。また、図12は、図11の成膜装置13の平面図であって、中央の蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3に位置した状態を示している。本実施形態は、成膜装置13が取り出しユニット5を含んでいる点で第1実施形態と異なる。以下、第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。
Third Embodiment
Fig. 11 is a front view schematically illustrating a film formation apparatus 13 according to a third embodiment. Fig. 12 is a plan view of the film formation apparatus 13 of Fig. 11, illustrating a state in which the central evaporation source unit 3 is positioned at a maintenance position POS3. This embodiment differs from the first embodiment in that the film formation apparatus 13 includes a take-out unit 5. Hereinafter, the same components as those in the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and their description may be omitted.
取り出しユニット5は、メンテナンス位置POS3に位置する蒸着源ユニット3の上方から所定の部品を取り出す。所定の部品としては、例えば、蒸着源ユニット3の蒸着源チャンバ31に収容されている蒸着源チャンバ31及び防着板6等が挙げられる。取り出しユニット5は、蒸着源ユニット3の上方を移動可能なようにフレーム部101に支持される。取り出しユニット5は、保持部51と、鉛直移動部52と、水平移動部53とを含む。 The removal unit 5 removes a predetermined component from above the deposition source unit 3 located at the maintenance position POS3. Examples of the predetermined component include the deposition source chamber 31 and the adhesion prevention plate 6 housed in the deposition source chamber 31 of the deposition source unit 3. The removal unit 5 is supported by the frame 101 so that it can move above the deposition source unit 3. The removal unit 5 includes a holder 51, a vertical movement unit 52, and a horizontal movement unit 53.
保持部51は、所定の部品を保持する。例えば、保持部51は、その先端部分が水平方向等の所定の方向に移動することで所定の部品を把持してもよい。或いは、保持部51には、玉掛け用のワイヤを引っ掛けるためのフックが設けられており、所定の部品をワイヤで吊ることにより保持してもよい。なお、保持部51については、大きさの異なるものに対応可能なように、折りたたみ可能に構成されてもよい。 The holding unit 51 holds a predetermined component. For example, the holding unit 51 may grasp a predetermined component by moving its tip in a predetermined direction, such as horizontally. Alternatively, the holding unit 51 may be provided with a hook for catching a sling wire, and the predetermined component may be held by hanging it from the wire. The holding unit 51 may also be configured to be foldable so that it can accommodate components of different sizes.
鉛直移動部52は、保持部51を鉛直方向に移動する。鉛直移動部52としては公知の技術を適宜採用可能であるが、例えば、ボールねじ機構を有する電動シリンダや空圧式のバランスシリンダ等が用いられてもよい。 The vertical movement unit 52 moves the holding unit 51 in the vertical direction. Any known technology can be used as the vertical movement unit 52, but for example, an electric cylinder with a ball screw mechanism or a pneumatic balance cylinder may also be used.
水平移動部53は、保持部51を水平方向に移動する。詳細には、水平移動部53は、鉛直移動部52を水平方向に移動することにより、保持部51を水平方向に移動する。例えば、水平移動部53は、鉛直移動部52をX方向に移動するX方向移動部531と、鉛直移動部52をY方向に移動するY方向移動部532とを含む。本実施形態では、Y方向移動部532が鉛直移動部52をY方向に移動し、X方向移動部531がY方向移動部532をX方向に移動する。X方向移動部531及びY方向移動部532としては公知の技術を適宜採用可能であるが、例えばラックピニオン機構及びそのピニオンを回転させる電動モータを含んで構成されてもよい。また、滑車式の機構を用いて、駆動源は持たずX方向及びY方向のうちの少なくとも一方の移動は作業者による人力で行っても良い。 The horizontal movement unit 53 moves the holding unit 51 in the horizontal direction. More specifically, the horizontal movement unit 53 moves the vertical movement unit 52 in the horizontal direction, thereby moving the holding unit 51 in the horizontal direction. For example, the horizontal movement unit 53 includes an X-direction movement unit 531 that moves the vertical movement unit 52 in the X direction, and a Y-direction movement unit 532 that moves the vertical movement unit 52 in the Y direction. In this embodiment, the Y-direction movement unit 532 moves the vertical movement unit 52 in the Y direction, and the X-direction movement unit 531 moves the Y-direction movement unit 532 in the X direction. The X-direction movement unit 531 and the Y-direction movement unit 532 can be formed using known technology as appropriate, but may also include, for example, a rack-and-pinion mechanism and an electric motor that rotates the pinion. Alternatively, a pulley-type mechanism may be used, and movement in at least one of the X and Y directions may be performed manually by an operator without a drive source.
例えば、取り出しユニット5は、メンテナンス位置POS3に位置する蒸着源ユニット3から所定の部品を取り出すと、取り出した部品を不図示のメンテナンス用の台等に載置する。これにより、メンテナンス対象の部品が蒸着源チャンバ31内にある場合よりも作業者によるメンテナンスが行いやすくなる。 For example, when the removal unit 5 removes a specified part from the deposition source unit 3 located at the maintenance position POS3, it places the removed part on a maintenance table or the like (not shown). This makes it easier for an operator to perform maintenance than if the part to be maintained is inside the deposition source chamber 31.
なお、取り出しユニット5が複数設けられる構成も採用可能である。この場合、両外側の蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3に引き出されている場合に、各蒸着源ユニット3からの部品の取り出しを並行して行うことができる。また、取り出しユニット5が複数設けられる場合、例えばX方向移動部531のレール部分等が共用となっていてもよい。 It is also possible to employ a configuration in which multiple removal units 5 are provided. In this case, when both outer deposition source units 3 are pulled out to the maintenance position POS3, parts can be removed from each deposition source unit 3 in parallel. Furthermore, when multiple removal units 5 are provided, the rail portion of the X-direction moving part 531, for example, may be shared.
<第4実施形態>
図13は、第4実施形態に係る成膜装置14を模式的に示す正面図である。本実施形態では、足場ユニットの構成が第1実施形態と異なる。以下、第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略する場合がある。また、同様の構成要素が複数設けられる場合、図面の見易さを考慮して一部の構成要素の符号を省略することがある。
Fourth Embodiment
13 is a front view schematically showing a film forming apparatus 14 according to a fourth embodiment. In this embodiment, the configuration of the scaffolding unit is different from that of the first embodiment. Hereinafter, the same components as those in the first embodiment will be assigned the same reference numerals, and the description thereof may be omitted. Furthermore, when multiple similar components are provided, the reference numerals of some of the components may be omitted in consideration of the ease of viewing the drawings.
図14は、足場ユニット8の概略を示す斜視図である。また、図15は、足場ユニット8の構成を示す図であって、複数の載置部82、昇降部84及びそれらの周辺構成を示す図である。足場ユニット8は、足場としての複数の床板部材81と、複数の載置部82と、一対のレール部材83と、昇降部84と接続部85を含む。 Figure 14 is a perspective view showing an outline of the scaffolding unit 8. Figure 15 is a diagram showing the configuration of the scaffolding unit 8, including multiple placement sections 82, a lifting section 84, and their surrounding configuration. The scaffolding unit 8 includes multiple floorboard members 81 as scaffolding, multiple placement sections 82, a pair of rail members 83, a lifting section 84, and a connection section 85.
複数の床板部材81a~81h(以下、床板部材81と総称する)は、蒸着源ユニット3が接続位置POS1又は接続解除位置POS2にある状態では上下方向に並んで配置される(図13、図15参照)。また、複数の床板部材81は、蒸着源ユニット3がメンテナンス位置POS3にある状態では横方向に並んで配置される(図14参照)。 The multiple floor plate members 81a to 81h (hereinafter collectively referred to as floor plate members 81) are arranged vertically side by side when the deposition source unit 3 is in the connection position POS1 or the disconnection position POS2 (see Figures 13 and 15). Furthermore, the multiple floor plate members 81 are arranged horizontally side by side when the deposition source unit 3 is in the maintenance position POS3 (see Figure 14).
図16は、床板部材81の構成を示す図であって、床板部材81を裏側からみた斜視図である。複数の床板部材81の各々は、天壁811と、側壁812と、位置決め部813と、位置決め部814と、延長部815と、を含む。天壁811は、作業者の足場を形成する部分である。側壁812は、床板部材81のX方向の側面を形成する。側壁812は、他の部分に対してX方向内側に設けられる壁部812aを含む。位置決め部813は、複数の載置部82に対する位置決めを行う。位置決め部814は、一対のレール部材83に対する位置決めを行う。本実施形態では、位置決め部813は壁部812aからX方向内側に突出する突出部であり、位置決め部814は壁部812aからX方向外側に突出する突出部である。 Figure 16 shows the configuration of the floorboard member 81 and is an oblique view of the floorboard member 81 viewed from the back. Each of the multiple floorboard members 81 includes a top wall 811, a side wall 812, a positioning portion 813, a positioning portion 814, and an extension portion 815. The top wall 811 forms a foothold for the worker. The side wall 812 forms the side surface of the floorboard member 81 in the X direction. The side wall 812 includes a wall portion 812a that is provided on the inside in the X direction relative to the other portions. The positioning portion 813 determines positioning relative to the multiple mounting portions 82. The positioning portion 814 determines positioning relative to the pair of rail members 83. In this embodiment, the positioning portion 813 is a protrusion that protrudes inward in the X direction from the wall portion 812a, and the positioning portion 814 is a protrusion that protrudes outward in the X direction from the wall portion 812a.
複数の載置部82a~82h(以下、載置部82と総称する)は、複数の床板部材81a~81hをそれぞれ載置可能に構成される。複数の載置部82は、床板部材81が載置される板部材821と、床板部材81の位置決め部813に対応した位置に設けられる位置決め部822(図18参照)とを含む。本実施形態では、位置決め部822は、板部材821に設けられたブロックに、位置決め部813を受容する凹部が形成されることで構成される。本実施形態では、位置決め部822は、床板部材81が載置されたときの位置決め部813の位置に対応するように、各載置部82にX方向に離間して2つずつ設けられる。なお、各載置部82について、板部材821は、X方向に離間して複数枚設けられてもよいし、1枚で構成されてもよい。 The multiple placement sections 82a-82h (hereinafter collectively referred to as placement sections 82) are configured to be able to place multiple floor plate members 81a-81h on them, respectively. Each placement section 82 includes a plate member 821 on which the floor plate member 81 is placed, and a positioning section 822 (see FIG. 18) provided at a position corresponding to the positioning section 813 of the floor plate member 81. In this embodiment, the positioning section 822 is configured by forming a recess in a block provided on the plate member 821 that receives the positioning section 813. In this embodiment, two positioning sections 822 are provided on each placement section 82, spaced apart in the X direction, so that they correspond to the positions of the positioning sections 813 when the floor plate member 81 is placed on it. Note that each placement section 82 may include multiple plate members 821 spaced apart in the X direction, or may consist of a single plate member.
一対のレール部材83は、横方向に並んで配置された複数の床板部材81を支持する。本実施形態では、一対のレール部材83は、成膜装置14のリブ23やフレーム部101等に接続部831を介して支持される。他の態様として、一対のレール部材83は、リブ23やフレーム部101に直接支持されてもよいし、床面に配置された支持部等に支持されてもよい。図17は、レール部材83の構成を示す斜視図である。一対のレール部材83には、床板部材81の位置決めを行う位置決め部833が設けられる。位置決め部833は、一対のレール部材83のそれぞれに所定の間隔で設けられる。位置決め部833は、レール部材83に設けられたブロックに、床板部材81の位置決め部814を受容する凹部が形成されることで構成される。また、一対のレール部材83の下側には、後述するレール側ラック845が設けられる。 The pair of rail members 83 supports a plurality of floor plate members 81 arranged side by side in the horizontal direction. In this embodiment, the pair of rail members 83 are supported via connection portions 831 on the ribs 23, frame portion 101, or the like of the film forming apparatus 14. In another embodiment, the pair of rail members 83 may be supported directly on the ribs 23 or frame portion 101, or on a support portion or the like arranged on the floor surface. Figure 17 is a perspective view showing the configuration of the rail members 83. The pair of rail members 83 are provided with positioning portions 833 that position the floor plate members 81. The positioning portions 833 are provided at a predetermined interval on each of the pair of rail members 83. The positioning portions 833 are configured by forming recesses in blocks provided on the rail members 83 that receive the positioning portions 814 of the floor plate members 81. In addition, a rail-side rack 845, described below, is provided below the pair of rail members 83.
再び図15を参照する。昇降部84は、複数の載置部82を昇降させる。昇降部84は、支持部841と、歯車842と、歯車843と、歯車844と、レール側ラック845と、支持部側ラック846とを含む。支持部841は、昇降方向(本実施形態では鉛直方向)に延び、複数の載置部82を支持する。 Referring again to Figure 15, the lifting unit 84 raises and lowers the multiple placement units 82. The lifting unit 84 includes a support unit 841, a gear 842, a gear 843, a gear 844, a rail-side rack 845, and a support-side rack 846. The support unit 841 extends in the lifting direction (vertical direction in this embodiment) and supports the multiple placement units 82.
歯車842は、蒸着源ユニット3が接続解除位置POS2とメンテナンス位置POS3との間を移動する際に、その歯部842aがレール側ラック845の歯部845a(図18参照)と噛み合うことで回転する。すなわち、蒸着源ユニット3が横方向へ移動すると、レール側ラック845に対して歯車842が横方向に移動するので、歯車842が回転する。 When the deposition source unit 3 moves between the disconnection position POS2 and the maintenance position POS3, the gear 842 rotates by meshing its teeth 842a with the teeth 845a (see Figure 18) of the rail-side rack 845. In other words, when the deposition source unit 3 moves laterally, the gear 842 moves laterally relative to the rail-side rack 845, causing the gear 842 to rotate.
歯車843は、歯車842の回転を歯車844に伝達する。本実施形態では、歯車842及び歯車843によりゼネバ機構が構成される。すなわち、歯車842に設けられる凸部842bが歯車843の溝部843aに入り込んでいるときは歯車842の回転が歯車843に伝達され、そうでないときは伝達されない。これにより、歯車842の回転が間欠的に歯車843へ伝達される。また、歯車843の回転は、その歯部843bが歯車844の歯部844aと噛み合うことで歯車844に伝達される。換言すると、歯車842の回転は、歯車843を介して歯車844に伝達される。 Gear 843 transmits the rotation of gear 842 to gear 844. In this embodiment, gears 842 and 843 form a Geneva mechanism. That is, when convex portion 842b on gear 842 fits into groove portion 843a on gear 843, the rotation of gear 842 is transmitted to gear 843; otherwise, it is not transmitted. This allows the rotation of gear 842 to be intermittently transmitted to gear 843. Furthermore, the rotation of gear 843 is transmitted to gear 844 when its teeth 843b mesh with teeth 844a of gear 844. In other words, the rotation of gear 842 is transmitted to gear 844 via gear 843.
また、歯車844は、その歯部844aが支持部側ラック846の歯部846aと噛み合うことで支持部側ラック846に回転駆動力を伝達する。支持部側ラック846は、歯車844の回転を直線運動に変換する。支持部側ラック846が歯車844の回転により昇降方向(鉛直方向)に移動することにより、支持部側ラック846が設けられる支持部841が昇降する。そして、支持部841に支持される複数の載置部82が昇降する。 The gear 844 transmits a rotational driving force to the support unit side rack 846 by meshing its teeth 844a with the teeth 846a of the support unit side rack 846. The support unit side rack 846 converts the rotation of the gear 844 into linear motion. The support unit side rack 846 moves in the vertical direction due to the rotation of the gear 844, causing the support unit 841 on which the support unit side rack 846 is mounted to rise and fall. This in turn causes the multiple placement units 82 supported by the support unit 841 to rise and fall.
接続部85は、足場ユニット8の移動ユニット7との接続部分である。足場ユニット8が接続部85により移動ユニット7と接続することにより、蒸着源ユニット3の横方向への移動に伴い足場ユニット8の複数の載置部82等が横方向に移動する。 The connection portion 85 is the connection portion of the scaffolding unit 8 with the moving unit 7. By connecting the scaffolding unit 8 to the moving unit 7 via the connection portion 85, the multiple mounting portions 82 of the scaffolding unit 8 move laterally in conjunction with the lateral movement of the deposition source unit 3.
図18は、載置部82からレール部材83への床板部材81の受け渡し動作を説明する動作説明図である。なお、図面の見易さを考慮して、X方向で図面の手前側に配置されるレール部材83及びレール側ラック845を破線で示している。 Figure 18 is an explanatory diagram illustrating the transfer of the floor plate member 81 from the placement section 82 to the rail member 83. For ease of viewing, the rail member 83 and rail-side rack 845, which are positioned on the front side of the drawing in the X direction, are shown with dashed lines.
本実施形態では、複数の床板部材81は、蒸着源ユニット3が接続位置POS1又は接続解除位置POS2に位置する状態で上下方向に並んで配置されている。そして、複数の床板部材81は、蒸着源ユニット3が接続解除位置POS2からメンテナンス位置POS3へ移動するのに連動して横方向に並ぶように展開される。詳細には、蒸着源ユニット3が接続解除位置POS2からメンテナンス位置POS3へ移動するのに連動して、複数の載置部82から一対のレール部材83に複数の床板部材81が順次受け渡されることにより、複数の床板部材81が横方向に並べられる。図18は複数の載置部82のうち一番上の載置部82aに載置された床板部材81aが、一対のレール部材83に受け渡される際の動作を説明するものである。しかしながら、他の載置部82b~82hが床板部材81b~81hを一対のレール部材83に受け渡す際の動作も同様である。 In this embodiment, the multiple floor plate members 81 are arranged vertically with the deposition source unit 3 positioned at the connection position POS1 or the disconnection position POS2. The multiple floor plate members 81 are deployed so as to be aligned horizontally in conjunction with the movement of the deposition source unit 3 from the disconnection position POS2 to the maintenance position POS3. Specifically, the multiple floor plate members 81 are sequentially transferred from the multiple placement units 82 to the pair of rail members 83 in conjunction with the movement of the deposition source unit 3 from the disconnection position POS2 to the maintenance position POS3, thereby aligning the multiple floor plate members 81 horizontally. Figure 18 illustrates the operation when the floor plate member 81a placed on the top placement unit 82a of the multiple placement units 82 is transferred to the pair of rail members 83. However, the same operation is performed when the other placement units 82b to 82h transfer the floor plate members 81b to 81h to the pair of rail members 83.
状態ST101は、上から2つ目の載置部82bから一対のレール部材83に床板部材81bが受け渡された後、蒸着源ユニット3が所定距離横方向に移動した状態である。状態ST101では、複数の載置部82は、歯車842の歯部842aとレール側ラック845の歯部845aとの噛合により、蒸着源ユニット3の移動に伴い横方向に移動している。一方で、状態ST101では、凸部842bが溝部843aに入り込んでいないため、昇降部84による昇降動作は行われていない。すなわち、載置部82は、水平方向に移動している。 In state ST101, the deposition source unit 3 moves laterally a predetermined distance after the floor plate member 81b has been transferred from the second-highest mounting portion 82b to the pair of rail members 83. In state ST101, the multiple mounting portions 82 move laterally in conjunction with the movement of the deposition source unit 3 due to the engagement of the teeth 842a of the gear 842 with the teeth 845a of the rail-side rack 845. On the other hand, in state ST101, the convex portions 842b are not inserted into the grooves 843a, so no lifting or lowering operation is performed by the lifting portion 84. In other words, the mounting portion 82 moves horizontally.
状態ST102は、状態ST101から蒸着源ユニット3が所定距離だけレール部材83に対して横方向に移動した状態である。状態ST102では、複数の載置部82は、蒸着源ユニット3の移動に伴い横方向に移動しながら昇降部84により下方に移動している。すなわち、凸部842bが溝部843aに入り込むことで、歯車842の回転が歯車843、歯車844を介して支持部側ラック846に伝達されて載置部82が下方に移動している。例えば、床板部材81bと床板部材81aとの接触が避けられる程度に載置部82の水平方向への移動が行われたところで載置部82を下方に移動し始めるように、歯車842の回転の間欠的な伝達が行われる。 State ST102 is a state in which the deposition source unit 3 has moved laterally relative to the rail member 83 by a predetermined distance from state ST101. In state ST102, the multiple mounting sections 82 are moved downward by the lifting section 84 while moving laterally in conjunction with the movement of the deposition source unit 3. That is, as the convex portion 842b fits into the groove portion 843a, the rotation of the gear 842 is transmitted to the support section side rack 846 via gears 843 and 844, causing the mounting sections 82 to move downward. For example, the rotation of the gear 842 is transmitted intermittently so that the mounting sections 82 begin to move downward once the mounting sections 82 have moved horizontally enough to avoid contact between the floor plate members 81b and 81a.
状態ST103は、床板部材81aが載置部82aから一対のレール部材83に受け渡された後の状態である。状態ST103では、複数の載置部82は、蒸着源ユニット3の移動に伴い横方向に移動している。状態ST102から状態ST103に遷移するまでの間、載置部82aは、横方向かつ下方に移動している。そして、載置部82aの床板部材81aを載置する載置面が、一対のレール部材83の床板部材81aの支持面の上側から下側へと移動するところで、床板部材81aがレール部材83へと受け渡される。すなわち、載置部82aは、一対のレール部材83の上側から下側へと移動する際に載置している床板部材81aをレール部材83に受け渡す。 State ST103 is the state after the floor plate member 81a has been handed over from the mounting portion 82a to the pair of rail members 83. In state ST103, the multiple mounting portions 82 move laterally in conjunction with the movement of the deposition source unit 3. During the transition from state ST102 to state ST103, the mounting portions 82a move laterally and downward. Then, when the mounting surface on which the floor plate member 81a of the mounting portion 82a is placed moves from above to below the support surface of the floor plate member 81a of the pair of rail members 83, the floor plate member 81a is handed over to the rail members 83. In other words, the mounting portion 82a hands over the floor plate member 81a it is placed on to the rail members 83 as it moves from above to below the pair of rail members 83.
以上説明したように、本実施形態では、蒸着源ユニット3が接続解除位置POS2からメンテナンス位置POS3に移動するのに連動して、搬送ユニット2の下方に足場が展開される。 As described above, in this embodiment, the scaffolding is deployed below the transport unit 2 in conjunction with the evaporation source unit 3 moving from the disconnection position POS2 to the maintenance position POS3.
なお、足場ユニット8は、展開された状態の足場としての床板部材81に昇降可能な梯子、階段、ステップ等の昇降部を有していてもよい。 The scaffolding unit 8 may also have a lifting section such as a ladder, staircase, or step that can ascend and descend to the floorboard member 81 serving as the scaffolding in the unfolded state.
発明は上記の実施形態に制限されるものではなく、発明の要旨の範囲内で、種々の変形・変更が可能である。 The invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and variations are possible within the scope of the invention.
1 成膜装置、2 搬送ユニット、3 蒸着源ユニット、4 足場ユニット、41 足場 1. Film deposition device, 2. Transfer unit, 3. Vapor deposition source unit, 4. Scaffolding unit, 41. Scaffolding
Claims (19)
成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第1位置と、前記第1位置に対して横方向に変位した第2位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備える、
ことを特徴とする成膜装置。 a transport unit for transporting the substrate;
a film formation source unit including a film formation source and movable between a first position below the transport unit and a second position displaced laterally from the first position;
An in-line type film forming apparatus that forms a film on a substrate while transporting the substrate,
a scaffold unit that deploys a scaffold below the transport unit in association with the film formation source unit moving from the first position to the second position;
A film forming apparatus characterized by:
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へと移動するのに連動して、折りたたまれた前記床板部が展開される、
ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 The scaffolding unit includes a foldable floorboard portion as the scaffolding,
The folded floor plate portion is unfolded in conjunction with the film formation source unit moving from the first position to the second position.
2. The film forming apparatus according to claim 1.
前記床板部を支持する前記足場としての梁と、
前記梁と前記成膜源ユニットとを接続する接続部と、を含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の成膜装置。 The scaffolding unit comprises:
A beam serving as the scaffolding for supporting the floorboard portion;
a connection portion that connects the beam and the film formation source unit,
3. The film forming apparatus according to claim 2.
前記足場ユニットは、前記複数の前記成膜源ユニットに対してそれぞれ設けられる、
ことを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の成膜装置。 a plurality of the film formation source units are arranged side by side in a substrate transport direction so as to be independently movable,
the scaffolding units are provided for the plurality of film formation source units, respectively;
8. The film forming apparatus according to claim 1, wherein the film forming apparatus is a film forming apparatus.
展開された前記足場は、前記搬送ユニットの下方において、前記連通開口と対向するように配置される、
ことを特徴とする請求項1~8のいずれか1項に記載の成膜装置。 the transport unit includes a communication opening for communicating an internal space of the transport unit with an internal space of the film formation source unit,
The deployed scaffold is disposed below the transport unit so as to face the communication opening.
9. The film forming apparatus according to claim 1, wherein the film forming apparatus is a film forming apparatus having a film forming surface.
前記成膜装置は、
基板を搬送する搬送ユニットと、
成膜物質を放出する成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第1位置と、前記第1位置に対して横方向に変位した第2位置との間を移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
前記足場ユニットは、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へと移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する、
ことを特徴とする足場ユニット。 A scaffolding unit used in an in-line film forming apparatus that forms a film on a substrate while transporting the substrate,
The film forming apparatus includes:
a transport unit for transporting the substrate;
a film-forming source unit including a film-forming source that emits a film-forming substance and that is movable between a first position below the transport unit and a second position that is displaced laterally relative to the first position;
The scaffolding unit comprises:
deploying a scaffold below the transport unit in conjunction with the film formation source unit moving from the first position to the second position;
A scaffolding unit characterized by:
成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第1位置と、前記第1位置に対して横方向に変位した第2位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備え、
前記足場ユニットは、複数の床板部材を含み、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して、前記第1位置において上下方向に並んだ前記複数の床板部材が横方向に並んで配置され、
前記第2位置に位置する前記成膜源ユニットの上方から所定の部品を取り出す取り出しユニットをさらに備える、
ことを特徴とする成膜装置。 a transport unit for transporting the substrate;
a film formation source unit including a film formation source and movable between a first position below the transport unit and a second position displaced laterally from the first position;
An in-line type film forming apparatus that forms a film on a substrate while transporting the substrate,
a scaffold unit that deploys a scaffold below the transport unit in conjunction with the film formation source unit moving from the first position to the second position;
The scaffolding unit includes a plurality of floorboard members,
In conjunction with the movement of the film formation source unit from the first position to the second position, the plurality of floor plate members that were aligned in the vertical direction at the first position are aligned in the horizontal direction,
a removal unit configured to remove a predetermined component from above the film formation source unit located at the second position;
A film forming apparatus characterized by:
前記所定の部品を保持する保持部と、
前記保持部を鉛直方向に移動する鉛直移動部と、
前記保持部を水平方向に移動する水平移動部と、
を含む、
ことを特徴とする請求項11に記載の成膜装置。 The take-out unit comprises:
a holding portion for holding the predetermined component;
a vertical movement unit that moves the holding unit in a vertical direction;
a horizontal movement unit that moves the holding unit in a horizontal direction;
Including,
12. The film forming apparatus according to claim 11.
成膜源を含み、前記搬送ユニットの下方の第1位置と、前記第1位置に対して横方向に変位した第2位置とに移動可能な成膜源ユニットと、を備え、
基板を搬送しながら基板に対して成膜を行うインライン式の成膜装置であって、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して、前記搬送ユニットの下方に足場を展開する足場ユニットを備え、
前記足場ユニットは、前記足場として複数の床板部材を含み、
前記複数の床板部材は、
前記成膜源ユニットが前記第1位置に位置する状態で上下方向に並んで配置され、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して横方向に並ぶように展開される、
ことを特徴とする成膜装置。 a transport unit for transporting the substrate;
a film formation source unit including a film formation source and movable between a first position below the transport unit and a second position displaced laterally from the first position;
An in-line type film forming apparatus that forms a film on a substrate while transporting the substrate,
a scaffold unit that deploys a scaffold below the transport unit in conjunction with the film formation source unit moving from the first position to the second position;
The scaffolding unit includes a plurality of floorboard members as the scaffolding,
The plurality of floorboard members are
the film formation source units are arranged vertically side by side in the first position,
The film formation source units are deployed so as to be aligned in a horizontal direction in conjunction with the movement of the film formation source units from the first position to the second position.
A film forming apparatus characterized by:
上下方向に並んで設けられ、前記複数の床板部材をそれぞれ載置可能な複数の載置部と、
横方向に並んで配置された前記複数の床板部材を支持する一対のレール部材と、を含み、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動するのに連動して、前記複数の載置部から前記一対のレール部材に前記複数の床板部材が順次受け渡されることにより、前記複数の床板部材が横方向に並べられる、
ことを特徴とする請求項13に記載の成膜装置。 The scaffolding unit comprises:
a plurality of placement sections arranged side by side in the vertical direction and capable of placing the plurality of floorboard members thereon;
a pair of rail members supporting the plurality of floorboard members arranged side by side in the horizontal direction,
In conjunction with the movement of the film formation source unit from the first position to the second position, the plurality of floor plate members are sequentially transferred from the plurality of mounting portions to the pair of rail members, thereby arranging the plurality of floor plate members in a horizontal direction.
14. The film forming apparatus according to claim 13.
上下方向に並んで設けられ、前記複数の床板部材をそれぞれ載置可能な複数の載置部と、
横方向に並んで配置された前記複数の床板部材を支持する一対のレール部材と、
前記足場ユニットは、前記複数の載置部を昇降させる昇降部と、を含み、
前記複数の載置部は、前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動する際に、前記成膜源ユニットとともに横方向に移動しながら前記昇降部により下方にも移動し、
前記複数の載置部の各々は、前記一対のレール部材の上側から下側へと移動する際に載置している前記複数の床板部材の各々を前記レール部材に受け渡す、
ことを特徴とする請求項13に記載の成膜装置。 The scaffolding unit comprises:
a plurality of placement sections arranged side by side in the vertical direction and capable of placing the plurality of floorboard members thereon;
a pair of rail members supporting the plurality of floorboard members arranged side by side in the horizontal direction;
The scaffolding unit includes a lifting unit that lifts and lowers the plurality of mounting units,
when the film formation source unit moves from the first position to the second position, the plurality of mounting units move laterally together with the film formation source unit and also move downward by the lifting unit;
Each of the plurality of placement sections transfers each of the plurality of floor panel members placed thereon to the rail members when moving from the upper side to the lower side of the pair of rail members.
14. The film forming apparatus according to claim 13.
ことを特徴とする請求項15に記載の成膜装置。 the lifting unit intermittently lowers the plurality of floor plate members when the film formation source unit moves from the first position to the second position.
16. The film forming apparatus according to claim 15.
前記一対のレール部材に設けられた第1ラックと、
前記成膜源ユニットが前記第1位置から前記第2位置へ移動する際に、前記第1ラックと噛み合い回転する第1歯車と、
前記第1歯車の回転が伝達される第2歯車と、
昇降方向に延び、前記複数の載置部を支持する支持部と、
前記支持部に設けられ、前記第2歯車と噛み合うことで前記支持部を昇降方向に移動する第2ラックと、を含む、
ことを特徴とする請求項15~16のいずれか1項に記載の成膜装置。 The lifting unit is
a first rack provided on the pair of rail members;
a first gear that rotates in mesh with the first rack when the film formation source unit moves from the first position to the second position;
a second gear to which rotation of the first gear is transmitted;
a support portion extending in the lifting direction and supporting the plurality of placement portions;
a second rack provided on the support portion and meshing with the second gear to move the support portion in an up-and-down direction,
17. The film forming apparatus according to claim 15, wherein the film forming apparatus is a film forming apparatus.
ことを特徴とする請求項17に記載の成膜装置。 the lifting unit intermittently transmits rotation of the first gear to the second gear by a Geneva mechanism;
18. The film forming apparatus according to claim 17.
ことを特徴とする請求項14~18のいずれか1項に記載の成膜装置。 Each of the plurality of floor plate members includes a first positioning portion for positioning with respect to the plurality of placement portions and a second positioning portion for positioning with respect to the pair of rail members.
The film forming apparatus according to any one of claims 14 to 18.
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