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JP7709899B2 - Method for manufacturing sample-loading plate - Google Patents

Method for manufacturing sample-loading plate

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JP7709899B2
JP7709899B2 JP2021192948A JP2021192948A JP7709899B2 JP 7709899 B2 JP7709899 B2 JP 7709899B2 JP 2021192948 A JP2021192948 A JP 2021192948A JP 2021192948 A JP2021192948 A JP 2021192948A JP 7709899 B2 JP7709899 B2 JP 7709899B2
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hydrophilic
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well
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晋一郎 高野
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Citizen Watch Co Ltd
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Description

本発明は、試料を積載する試料積載プレート及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a sample loading plate for loading samples and a method for manufacturing the same.

病原菌や細菌を迅速かつ正確に診断することが可能な質量分析のイオン化法の一つとして、マトリックス支援レーザ脱離イオン化(MALDI=Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization)法が知られている。 Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization (MALDI) is known as one of the mass spectrometry ionization methods that can rapidly and accurately diagnose pathogens and bacteria.

MALDI法は、レーザ光を吸収しにくい、またはレーザ光で損傷を受けやすい分析対象物を分析するために、レーザ光を吸収しやすくかつイオン化しやすい物質(マトリックス)に試料をあらかじめ混合しておき、これにレーザ光を照射することで試料をイオン化する方法である。 The MALDI method is a method for analyzing analytes that do not easily absorb laser light or are easily damaged by laser light. The sample is mixed in advance with a substance (matrix) that easily absorbs laser light and is easily ionized, and the sample is ionized by irradiating it with laser light.

MALDI法による質量分析装置では、一般に、被分析物とマトリックスをあらかじめ混合し、溶媒により液状化したもの(以下「試料」と呼ぶ)を積載するターゲットプレートと呼ばれる金属製のプレート(以下、「試料積載プレート」と呼ぶ)を装置内に配置し、試料積載プレート上に積載した試料に対してレーザ光を所定時間照射して試料を脱離イオン化する。このとき、金属製の試料積載プレートには電圧が印加され、脱離イオン化した試料に電界が与えられることによって脱離イオン化した試料を加速用の電極に向けて飛行しやすくしている。 In mass spectrometry using the MALDI method, a metal plate called a target plate (hereafter referred to as the "sample loading plate") is generally placed inside the device on which the analyte and matrix are mixed in advance and liquefied with a solvent (hereafter referred to as the "sample"). The sample loaded on the sample loading plate is irradiated with laser light for a predetermined period of time to desorb and ionize the sample. At this time, a voltage is applied to the metal sample loading plate, and an electric field is applied to the desorbed and ionized sample, making it easier for the desorbed and ionized sample to fly toward the acceleration electrode.

試料積載プレートは、試料を積載するための試料載置領域を複数備えており、測定する複数の試料を所定の試料積載部に滴下させ乾燥化(結晶化)させた状態で質量分析装置内に配置し、試料積載プレートを移動させることにより複数の試料にレーザを照射するようになっている。 The sample loading plate has multiple sample placement areas for loading samples, and multiple samples to be measured are dropped onto the designated sample loading areas, dried (crystallized), and then placed inside the mass spectrometer. The sample loading plate is then moved so that the laser can be irradiated onto the multiple samples.

例えば特許文献1には、試料積載プレート上の試料積載部に対応する表面を親水性に改質した親水性改質層とすることで滴下した試料を試料積載部に保持する技術が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a technique for retaining a dropped sample on a sample loading section by modifying the surface of the sample loading section on a sample loading plate to be hydrophilic, forming a hydrophilic modified layer.

特開2021-57148号公報JP 2021-57148 A

試料積載プレートは、試料積載プレートの試料積載部に液状の試料を搭載した状態で乾燥化等のため搬送される。その際、試料積載プレートは水平に保持されず傾斜したり搬送に伴う振動が印加されたりすることがある。試料積載プレートでは、この試料積載プレートの傾斜や振動の印加により試料積載部に保持されるべき試料が試料積載部から零れ落ちることや試料積載部以外の領域に試料が濡れ広がることがあり、その場合、試料の分析も適切に行うことができない。このような問題に対し従来から試料積載部を親水性とすることが試みられているが、例えばMALDI法等による質量分析では試料に対しレーザ光が照射されるため試料積載部の材質にも制約があり、試料積載部に試料を保持し得るのに十分な親水性を確保することに課題があった。 The sample loading plate is transported for drying or the like with a liquid sample loaded on the sample loading section of the sample loading plate. During this process, the sample loading plate may not be held horizontally but may be tilted or vibrations may be applied during transport. In the case of the sample loading plate, the tilting or vibrations of the sample loading plate may cause the sample that should be held on the sample loading section to fall off the sample loading section or the sample to spread wetly to areas other than the sample loading section, making it impossible to properly analyze the sample. In response to this problem, attempts have been made to make the sample loading section hydrophilic, but for example, in mass spectrometry using the MALDI method or the like, laser light is irradiated onto the sample, which places restrictions on the material of the sample loading section, and there have been problems in ensuring sufficient hydrophilicity to hold the sample on the sample loading section.

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、試料積載部に試料を適切に保持することが可能な試料積載プレート及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of the above problems, and aims to provide a sample loading plate capable of properly holding a sample on the sample loading section, and a method for manufacturing the same.

基板上に親水性表面を有する試料積載部を備えた試料積載プレートにおいて、前記親水性表面より親水性の高い親水部材が前記親水性表面に部分的に埋設されている試料積載プレートとする。前記親水性表面は、前記試料積載部周囲の前記基板の表面より表面粗さの大きい粗面としてもよい。前記試料積載部は前記基板の一部はブラスト加工することで形成され、前記親水部材は前記ブラスト加工における投射材であってもよい。前記試料積載部は、底面部と側面部を備えたウェルであってもよい。前記試料積載部の周囲における前記基板表面に撥水膜を備えた構成としてもよい。
また、基板上に親水性表面を有する試料積載部を備えた試料積載プレートの製造方法において、前記親水性表面に前記親水性表面より親水性の高い親水部材を投射して前記試料積載部を形成するブラスト加工工程を備え、前記ブラスト加工工程は、前記親水性表面に前記親水部材を埋設する工程である試料積載プレートの製造方法とする。前記ブラスト加工工程は、前記親水性表面の表面粗さを粗面化する工程であってもよい。前記ブラスト加工工程の前または後に、前記基板の表面に撥水膜を形成する撥水膜形成工程を備えていてもよい。
The sample loading plate is provided with a sample loading section having a hydrophilic surface on a substrate, and a hydrophilic member having a higher hydrophilicity than the hydrophilic surface is partially embedded in the hydrophilic surface. The hydrophilic surface may be a rough surface having a rougher surface than the surface of the substrate surrounding the sample loading section. The sample loading section is formed by blasting a part of the substrate, and the hydrophilic member may be a projecting material used in the blasting. The sample loading section may be a well having a bottom portion and a side portion. The surface of the substrate surrounding the sample loading section may be provided with a water-repellent film.
In addition, a method for manufacturing a sample-loading plate having a sample-loading section on a substrate with a hydrophilic surface includes a blasting process step of projecting a hydrophilic member having a higher hydrophilicity than the hydrophilic surface onto the hydrophilic surface to form the sample-loading section, the blasting process step being a process of embedding the hydrophilic member in the hydrophilic surface. The blasting process step may be a process of roughening the surface roughness of the hydrophilic surface. The method may include a water-repellent film forming process of forming a water-repellent film on the surface of the substrate before or after the blasting process.

本発明の試料積載プレート及びその製造方法によれば、試料積載部に搭載される試料を適切に保持できる試料積載プレートを提供することが可能となる。 The sample loading plate and manufacturing method of the present invention make it possible to provide a sample loading plate that can properly hold the sample loaded on the sample loading section.

本発明の試料積載プレートの一実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a sample loading plate of the present invention. 本発明における試料積載プレートの試料載置部に試料を載置した状態を説明する断面模式図である。2 is a schematic cross-sectional view illustrating a state in which a sample is placed on a sample placement portion of the sample loading plate in the present invention. FIG. 本発明の試料積載プレートの製造方法を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing a method for producing a sample-loading plate according to the present invention. 本発明の別の実施例による試料積載プレートを示す図である。FIG. 13 shows a sample loading plate according to another embodiment of the present invention. 本発明の別の実施例による試料積載プレートの製造方法を示す模式図である。5A to 5C are schematic diagrams showing a method for manufacturing a sample loading plate according to another embodiment of the present invention.

以下に本発明を実施するための形態を、図面を用いて説明する。また図面においては各構成をわかりやすくするために実際の形状や実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。図1は、本発明の試料積載プレートの一実施例を示す図であり、(a)は試料積載プレートの平面図であり、(b)は(a)のA-Aの断面図である。 Below, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the scale and number of each structure may differ from the actual shape and structure in order to make each component easier to understand. Figure 1 shows one embodiment of a sample-loading plate of the present invention, where (a) is a plan view of the sample-loading plate and (b) is a cross-sectional view taken along line A-A in (a).

図1に示す試料積載プレート10は、基板1に底面部6aと側面部6bを有するウェル6を複数備える。ウェル6は被分析対象を含む試料を基板1上に保持するための試料積載部であり、ウェル6の底面部6a及び側面部6bの表面には、親水性の性質を持つ親水部材5が部分的に埋設されている。基板1は、親水性かつ導電体を有する部材、例えば、ステンレスまたはアルミニウムまたはアルミニウム合金などの金属からなり、外形約120mm×80mm程度の略長方形の平板であり、厚みは約2mmである。基板1に形成されたウェル6は、直径0.8mm、深さ0.1mmである。基板1のウェル6を除く部分の表面の算術平均粗さRaは0.1μm、ウェル6の底面部6aの算術平均粗さRaは2.0μm、側面部6bの算術平均粗さRaは2.5μmであり、ウェル6はウェル6を除く部位と比較し粗面となっており、ウェル6の側面部6bは底面部6aより粗面となっている。また、親水部材5は、基板1より親水性の高い、例えば、粒径が約27~74μmの二酸化ケイ素や酸化アルミニウム、酸化チタンの粒子からなり、その外表面の一部が外部に露出した状態でウェル6に埋設されている。 The sample-loading plate 10 shown in Figure 1 comprises a plurality of wells 6 having a bottom portion 6a and a side portion 6b on a substrate 1. The wells 6 are sample-loading portions for holding samples containing an analyte on the substrate 1, and a hydrophilic material 5 having hydrophilic properties is partially embedded in the surfaces of the bottom portion 6a and the side portion 6b of the wells 6. The substrate 1 is made of a hydrophilic and conductive material, for example, a metal such as stainless steel, aluminum, or an aluminum alloy, and is a roughly rectangular flat plate with an outer dimension of about 120 mm x 80 mm and a thickness of about 2 mm. The wells 6 formed in the substrate 1 are 0.8 mm in diameter and 0.1 mm deep. The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the substrate 1 excluding the well 6 is 0.1 μm, the arithmetic mean roughness Ra of the bottom surface 6a of the well 6 is 2.0 μm, and the arithmetic mean roughness Ra of the side surface 6b is 2.5 μm, so that the well 6 has a rougher surface than the rest of the substrate 1, and the side surface 6b of the well 6 is rougher than the bottom surface 6a. The hydrophilic member 5 is made of particles of silicon dioxide, aluminum oxide, or titanium oxide with a particle size of, for example, about 27 to 74 μm, which is more hydrophilic than the substrate 1, and is embedded in the well 6 with part of its outer surface exposed to the outside.

図2は、試料積載プレート10に試料を積載した状態を示す断面図である。試料積載部であるウェル6に滴下された試料30は、重力及び表面張力により放射状に濡れ広がり、試料30とウェル6やその周辺の基板1表面との間の表面自由エネルギーの均衡がとれたところで濡れ広がりがとまる。ここで本実施例の試料積載プレート10では、ウェル6の底面部6a及び側面部6bがウェル6周囲の基板1表面より粗い面を有し、基板1のウェル6周囲より親水性が高いため、試料30をウェル6に保持する効果(アンカー効果)が高い。さらに本実施例では、ウェル6の底面部6a及び側面部6bに親水部材5がその表面の一部が外部に露出するように埋設されている。親水部材5は基板1の表面(及びウェル6の表面)よりも親水性の高い部材であり、さらにそれをウェル6に埋設することで、親水部材5を埋設していない場合と比較して試料積載部の表面露出面積が増加し、ウェル6が粗面であることと加えてより高いアンカー効果を実現している。また、親水部材5に光触媒である酸化チタン等を採用することで、長期的に安定した親水性を得る(アンカー効果を得る)ことも可能である。 Figure 2 is a cross-sectional view showing the state in which a sample is loaded on the sample loading plate 10. The sample 30 dropped into the well 6, which is the sample loading portion, spreads radially due to gravity and surface tension, and the spreading stops when the surface free energy between the sample 30 and the well 6 and the surface of the substrate 1 around it is balanced. Here, in the sample loading plate 10 of this embodiment, the bottom surface 6a and side surface 6b of the well 6 have a rougher surface than the surface of the substrate 1 around the well 6, and are more hydrophilic than the surroundings of the well 6 of the substrate 1, so that the effect of holding the sample 30 in the well 6 (anchor effect) is high. Furthermore, in this embodiment, a hydrophilic member 5 is embedded in the bottom surface 6a and side surface 6b of the well 6 so that a part of its surface is exposed to the outside. The hydrophilic member 5 is a member that is more hydrophilic than the surface of the substrate 1 (and the surface of the well 6), and by embedding it in the well 6, the surface exposed area of the sample loading portion is increased compared to when the hydrophilic member 5 is not embedded, and in addition to the well 6 being rough, a higher anchor effect is achieved. In addition, by using a photocatalyst such as titanium oxide for the hydrophilic member 5, it is possible to obtain stable hydrophilicity over the long term (anchor effect).

次に試料積載プレート10の製造方法について図面を用いて説明する。図3は試料積載プレート10の製造方法を示す模式図である。図1に示す試料積載プレート10は以下の工程により製造される。 Next, the manufacturing method of the sample-loading plate 10 will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a schematic diagram showing the manufacturing method of the sample-loading plate 10. The sample-loading plate 10 shown in FIG. 1 is manufactured by the following steps.

[基板準備工程:図3(a)]
先ず、基板1を準備する。本実施例における基板1は外形約120mm×80mm、厚み約2mmの基板である。基板1は、例えば、ステンレスまたはアルミニウムまたはアルミニウム合金などが好ましい。
[Substrate preparation process: FIG. 3(a)]
First, prepare the substrate 1. In this embodiment, the substrate 1 has an outer dimension of about 120 mm×80 mm and a thickness of about 2 mm. The substrate 1 is preferably made of, for example, stainless steel, aluminum, or an aluminum alloy.

[ブラスト加工工程:図3(b)]
次に、ブラスト加工により基板1に試料積載部であるウェル6を形成する(加工後の状態は図3(c)参照)。この工程では、ブラスト加工装置のノズル4より、親水部材5を基板1に投射してウェル6を形成するとともにウェル6の表面を粗面化し、さらにウェル6の底面部6a及び側面部6bに親水部材5を埋設する。ウェル6は、ノズル4より投射される親水部材5により基板1が削られることで形成される。親水部材5の基板1への投射は、ノズル4より投射された親水部材5の一部がウェル6の底面部6a及び側面部6bの表面に埋め込まれウェル6表面に残留するように、投射速度や投射距離、投射角度等が決定される。また本実施例では、親水部材5を基板1に対して傾斜させ投射している。そのため、底面部6aに埋設している親水部材5よりも側面部6bに埋設している親水部材5の方が多くなっており、その結果、側面部6bの親水性は底面部6aの親水性よりも高くなっている。このようにブラスト加工に形成されたウェル6は、底面部6a及び側面部6bの表面粗さが基板1の表面粗さより大きな粗面となっており、親水部材5を傾斜させ投射したことで底面6aより側面6bの方が粗面となっている。なおこの工程では、ウェル6の形成と同時に親水部材5をウェル6に埋設しており、それぞれを別工程として行った場合より効率的に試料積載部の形成が可能である。なお、本工程では、基板1のウェル6に対応する位置に開口部を有するマスクを配置してノズル4より親水部材5を投射してもよい。このようにすることでより精度が高い加工が可能となる。
[Blast processing step: Figure 3(b)]
Next, a well 6, which is a sample loading portion, is formed in the substrate 1 by blasting (see FIG. 3(c) for the state after processing). In this process, a hydrophilic member 5 is projected from a nozzle 4 of a blasting device onto the substrate 1 to form a well 6, roughen the surface of the well 6, and embed the hydrophilic member 5 in the bottom portion 6a and side portion 6b of the well 6. The well 6 is formed by scraping the substrate 1 with the hydrophilic member 5 projected from the nozzle 4. The projection speed, projection distance, projection angle, etc. of the hydrophilic member 5 onto the substrate 1 are determined so that a part of the hydrophilic member 5 projected from the nozzle 4 is embedded in the surface of the bottom portion 6a and side portion 6b of the well 6 and remains on the surface of the well 6. In this embodiment, the hydrophilic member 5 is projected at an angle with respect to the substrate 1. Therefore, the amount of the hydrophilic member 5 embedded in the side portion 6b is greater than that of the bottom portion 6a, and as a result, the hydrophilicity of the side portion 6b is higher than that of the bottom portion 6a. The well 6 thus formed by the blasting process has a rough surface with a larger surface roughness of the bottom portion 6a and the side portion 6b than that of the substrate 1, and the side surface 6b is rougher than the bottom surface 6a by projecting the hydrophilic member 5 at an angle. In this process, the hydrophilic member 5 is embedded in the well 6 at the same time as the well 6 is formed, and the sample loading portion can be formed more efficiently than when each of these processes is performed as a separate process. In this process, a mask having an opening may be placed at a position corresponding to the well 6 of the substrate 1, and the hydrophilic member 5 may be projected from the nozzle 4. This allows for more accurate processing.

[洗浄工程:図3(c)]
最後に、試料積載プレート10を洗浄液で洗浄することでウェル6の底面部6a及び側面部6bの表面に埋設されず付着した親水部材5を除去する。この洗浄工程では、ウェル6に埋設された親水部材5は十分なエネルギーを持ってウェル6に埋設されているため、その大部分は除去されることはない。以上の工程により、本実施例の試料積載プレート10が得られる。
[Cleaning step: FIG. 3(c)]
Finally, the sample-loading plate 10 is washed with a washing solution to remove the hydrophilic material 5 that is not embedded but adheres to the surfaces of the bottom portion 6a and side portion 6b of the wells 6. In this washing step, most of the hydrophilic material 5 embedded in the wells 6 is not removed because it is embedded in the wells 6 with sufficient energy. Through the above steps, the sample-loading plate 10 of this embodiment is obtained.

次に本発明の別の実施形態について図面を用いて説明する。図4は本発明の試料積載プレート20を示す図であり、(a)は試料積載プレートの平面図であり、(b)は(a)のA-Aの断面図である。なお、ここでは先に説明した実施例と同様の構成については同一の符号を用い、構成が重複する部分については説明を省略する。本実施例における試料積載プレート20は、基板1に試料積載部となるウェル6と、ウェルの底面部6a及び側面部6bの表面に埋設された親水部材5、撥水膜2を備える。撥水膜2は、ウェル6を除く基板1表面の全体に形成されており、ウェル6の周囲は撥水膜2で囲まれている。撥水膜2は、例えば、炭素(C)、フッ素(F)またはシリコン(Si)を含む撥水材またはそれらの複合された撥水材であり、その厚みは例えば5nmである。本実施例では、ウェル6の周囲が撥水膜2で囲まれていることより、試料積載プレート10と比較し試料30の濡れ広がりを小さくできる点で有利であり、これにより複数の試料積載部のそれぞれの間における試料の接触の恐れが少なくなる。 Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 4 shows a sample loading plate 20 of the present invention, where (a) is a plan view of the sample loading plate, and (b) is a cross-sectional view of A-A in (a). Note that the same reference numerals are used for configurations similar to those in the previously described embodiment, and descriptions of overlapping configurations will be omitted. The sample loading plate 20 in this embodiment includes a well 6 serving as a sample loading portion on a substrate 1, a hydrophilic member 5 embedded in the surface of the bottom portion 6a and the side portion 6b of the well, and a water-repellent film 2. The water-repellent film 2 is formed on the entire surface of the substrate 1 except for the well 6, and the well 6 is surrounded by the water-repellent film 2. The water-repellent film 2 is, for example, a water-repellent material containing carbon (C), fluorine (F) or silicon (Si), or a composite water-repellent material thereof, and has a thickness of, for example, 5 nm. In this embodiment, the well 6 is surrounded by a water-repellent film 2, which has the advantage that the spread of the sample 30 can be reduced compared to the sample loading plate 10, thereby reducing the risk of the sample coming into contact with each of the multiple sample loading sections.

次に試料積載プレート20の製造方法について図面を用いて説明する。図5は本発明の試料積載プレート20の製造方法を示す模式図である。図4に示す試料積載プレート20は以下の工程により製造される。なお、図3に示す試料積載プレート10の製造方法と同一の工程についてはその説明を一部省略することがある。 Next, the manufacturing method of the sample-loading plate 20 will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic diagram showing the manufacturing method of the sample-loading plate 20 of the present invention. The sample-loading plate 20 shown in FIG. 4 is manufactured by the following steps. Note that some of the explanations of the steps that are the same as those in the manufacturing method of the sample-loading plate 10 shown in FIG. 3 may be omitted.

[撥水膜形成工程:図5(a)]
先ず、基板1を準備し、基板1の一方の面の全面に撥水膜2を形成する。撥水膜2は、例えば、真空蒸着等の成膜方法によって行う。
[Water-repellent film formation process: FIG. 5(a)]
First, the substrate 1 is prepared, and the water-repellent film 2 is formed on the entire surface of one surface of the substrate 1. The water-repellent film 2 is formed by a film forming method such as vacuum deposition.

[マスク配置工程:図5(b)]
次に、基板1の撥水膜2が形成された面に開口部を有するマスク3を配置する。開口部を有するマスク3は金属製のマスク3若しくは公知のフォトリソグラフィ技術を用いたレジスト膜からなるマスク3である。マスク3の開口部は、試料積載プレート20のウェル6を含む領域であり、後述する基板1への親水部材5の投射領域に相当する。本実施例では、ウェル6を形成する際にマスク3を用いているが、マスク3を用いず基板1へ親水部材5を投射しても構わない。
[Mask placement process: FIG. 5(b)]
Next, a mask 3 having an opening is placed on the surface of the substrate 1 on which the water-repellent film 2 is formed. The mask 3 having an opening is a metal mask 3 or a mask 3 made of a resist film formed using a known photolithography technique. The opening of the mask 3 is an area including the wells 6 of the sample-loading plate 20, and corresponds to a projection area of the hydrophilic member 5 onto the substrate 1, which will be described later. In this embodiment, the mask 3 is used when forming the wells 6, but the hydrophilic member 5 may be projected onto the substrate 1 without using the mask 3.

[ブラスト加工工程:図5(c-1),図5(c-2)]
次に、基板1のウェル6に対応する位置(マスク3の開口部)にノズル4より、親水部材5を投射する(図5(c-1)参照)。この工程では、ウェル6形成部位の撥水膜2を除去するとともに底面部6a及び側面部6bが粗面であるウェル6を形成し、それと同時にウェル6に親水部材5を埋設する(加工後の状態は図5(c-2)参照)。
[Blast processing process: Fig. 5 (c-1), Fig. 5 (c-2)]
Next, a hydrophilic material 5 is projected from a nozzle 4 onto positions (openings of the mask 3) corresponding to the wells 6 of the substrate 1 (see FIG. 5(c-1)). In this process, the water-repellent film 2 is removed from the area where the wells 6 are to be formed, and the wells 6 are formed with rough bottom and side surfaces 6a and 6b, and at the same time, the hydrophilic material 5 is embedded in the wells 6 (see FIG. 5(c-2) for the state after processing).

[洗浄工程:図5(d)]
最後に、基板1に配置したマスク3を撤去し、試料積載プレート20を洗浄液で洗浄することでウェル6の底面部6a及び側面部6bの表面に埋設されず付着した親水部材5を除去する。この洗浄では、ウェル6に埋設された親水部材5は十分なエネルギーを持ってウェル6に埋設されているため、その大部分は除去されることはない。以上の工程により、本実施例の試料積載プレート20が得られる。
[Cleaning step: FIG. 5(d)]
Finally, the mask 3 placed on the substrate 1 is removed, and the sample-loading plate 20 is washed with a washing solution to remove the hydrophilic material 5 that is not embedded but adheres to the surfaces of the bottom portion 6a and side portion 6b of the wells 6. In this washing, most of the hydrophilic material 5 embedded in the wells 6 is not removed because it is embedded in the wells 6 with sufficient energy. The sample-loading plate 20 of this embodiment is obtained by the above steps.

以上、本発明の試料積載プレート及び試料積載プレートの製造方法について、実施例に基づき説明してきたが本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。例えば、試料積載プレート20の製造方法において、基板1に撥水膜2を形成後にウェル6を形成したが、ウェル6を形成後にウェル6を覆うマスクを配置してウェル6の周囲に撥水膜2を形成してもよい。また、試料積載部は底面部6a及び側面部6bを備えたウェル6としたが、試料積載部の中心に向かう傾斜面を備えたすり鉢状の試料積載部としてもよい。 The sample-loading plate and the method for manufacturing the sample-loading plate of the present invention have been described above based on the examples, but any modification can be made within the scope of the technical concept of the present invention. For example, in the method for manufacturing the sample-loading plate 20, the well 6 is formed after the water-repellent film 2 is formed on the substrate 1, but the water-repellent film 2 may be formed around the well 6 by placing a mask covering the well 6 after the well 6 is formed. Also, the sample loading portion is a well 6 with a bottom portion 6a and a side portion 6b, but the sample loading portion may be a cone-shaped sample loading portion with an inclined surface toward the center of the sample loading portion.

1 基板
2 撥水膜
3 マスク
4 ノズル
5 投射材
6 ウェル
6a 底面部
6b 側面部
10、20 試料積載プレート
30 試料

REFERENCE SIGNS LIST 1 Substrate 2 Water-repellent film 3 Mask 4 Nozzle 5 Projection material 6 Well 6a Bottom surface 6b Side surface 10, 20 Sample-loading plate 30 Sample

Claims (3)

基板上に親水性表面を有する試料積載部を備えた試料積載プレートの製造方法において、
前記親水性表面に前記親水性表面より親水性の高い親水部材を投射して前記試料積載部を形成するブラスト加工工程を備え、
当該ブラスト加工工程は、前記親水性表面に前記親水部材を埋設する工程であることを特徴とする試料積載プレートの製造方法。
A method for manufacturing a sample loading plate having a sample loading portion having a hydrophilic surface on a substrate, comprising the steps of:
a blasting process step of projecting a hydrophilic member having a higher hydrophilicity than the hydrophilic surface onto the hydrophilic surface to form the sample loading section;
A method for manufacturing a sample-loading plate, wherein the blast processing step is a step of embedding the hydrophilic material in the hydrophilic surface.
前記ブラスト加工工程は、前記親水性表面の表面粗さを粗面化する工程であることを特徴とする請求項に記載の試料積載プレートの製造方法。 2. The method for manufacturing a sample-loading plate according to claim 1 , wherein the blast processing step is a step of roughening the surface roughness of the hydrophilic surface. 前記ブラスト加工工程の前、または前記ブラスト加工工程の後に、前記基板の表面に撥水膜を形成する撥水膜形成工程を備えることを特徴とする請求項またはに記載の試料積載プレートの製造方法。
3. The method for manufacturing a sample-loading plate according to claim 1 , further comprising a water-repellent film forming step of forming a water-repellent film on the surface of the substrate before or after the blast processing step.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010055765A1 (en) 2000-02-18 2001-12-27 O'keefe Matthew Apparatus and methods for parallel processing of micro-volume liquid reactions
JP2007309668A (en) 2006-05-16 2007-11-29 Biologica:Kk Sample plate for laser desorption ionization mass spectrometry
WO2017159878A1 (en) 2016-03-18 2017-09-21 シチズンファインデバイス株式会社 Sample loading plate and method for manufacturing same
JP2017181333A (en) 2016-03-31 2017-10-05 シチズンファインデバイス株式会社 Sample mounting plate and manufacturing method therefor
WO2019155802A1 (en) 2018-02-09 2019-08-15 浜松ホトニクス株式会社 Sample support body, production method for sample support body, and sample ionization method
JP2021057148A (en) 2019-09-27 2021-04-08 シチズンファインデバイス株式会社 Method for manufacturing sample mounting plate
CN115575483A (en) 2022-09-23 2023-01-06 安徽医科大学第二附属医院 A kind of direct target plate droplet growing device and using method thereof

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010055765A1 (en) 2000-02-18 2001-12-27 O'keefe Matthew Apparatus and methods for parallel processing of micro-volume liquid reactions
JP2007309668A (en) 2006-05-16 2007-11-29 Biologica:Kk Sample plate for laser desorption ionization mass spectrometry
WO2017159878A1 (en) 2016-03-18 2017-09-21 シチズンファインデバイス株式会社 Sample loading plate and method for manufacturing same
JP2017181333A (en) 2016-03-31 2017-10-05 シチズンファインデバイス株式会社 Sample mounting plate and manufacturing method therefor
WO2019155802A1 (en) 2018-02-09 2019-08-15 浜松ホトニクス株式会社 Sample support body, production method for sample support body, and sample ionization method
JP2021057148A (en) 2019-09-27 2021-04-08 シチズンファインデバイス株式会社 Method for manufacturing sample mounting plate
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