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JP7650583B2 - How the chip is manufactured - Google Patents

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JP7650583B2
JP7650583B2 JP2020207535A JP2020207535A JP7650583B2 JP 7650583 B2 JP7650583 B2 JP 7650583B2 JP 2020207535 A JP2020207535 A JP 2020207535A JP 2020207535 A JP2020207535 A JP 2020207535A JP 7650583 B2 JP7650583 B2 JP 7650583B2
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Description

本発明は、交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれの表面側にデバイスが形成された被加工物を分割予定ラインに沿って分割してチップを製造するチップの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing chips by dividing a workpiece, on the surface side of each of a plurality of regions partitioned by a plurality of intersecting division lines, along the division lines to manufacture chips.

IC(Integrated Circuit)及びLSI(Large Scale Integration)等のデバイスのチップは、携帯電話及びパーソナルコンピュータ等の各種電子機器において不可欠の構成である。このチップは、例えば、交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれの表面側にデバイスが形成されたウェーハ等の被加工物を分割予定ラインに沿って分割することによって製造される。 Device chips such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are essential components in various electronic devices such as mobile phones and personal computers. These chips are manufactured, for example, by dividing a workpiece such as a wafer along the planned division lines, in which devices are formed on the front side of each of a number of regions partitioned by a number of intersecting planned division lines.

このように被加工物を分割する方法として、先ダイシングとも呼ばれる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。この方法においては、まず、分割予定ラインに沿った溝が被加工物の表面側に形成される。そして、被加工物の裏面側を研削砥石によって研削して、被加工物の厚さ方向において当該溝と重なる被加工物の部分の厚さを減少させながら研削砥石が被加工物を押圧することで被加工物が分割予定ラインに沿って分割される。 A method known as pre-dicing is a method for dividing a workpiece in this way (see, for example, Patent Document 1). In this method, first, a groove is formed on the front side of the workpiece along the intended division line. Then, the back side of the workpiece is ground with a grinding wheel, and the grinding wheel presses against the workpiece while reducing the thickness of the part of the workpiece that overlaps with the groove in the thickness direction of the workpiece, dividing the workpiece along the intended division line.

特開2003-7653号公報JP 2003-7653 A

先ダイシングによって被加工物を分割する場合、1つの被加工物に含まれる分割予定ラインの全部において、被加工物の厚さ方向において当該溝と重なる被加工物の部分の厚さが厳密に同じであるとは限らない。また、同じロットに含まれる複数の被加工物であっても、被加工物の厚さのばらつき等に起因して、それらを分割するために除去することが必要な被加工物の部分の厚さが厳密に同じであるとも限らない。 When dividing a workpiece by pre-dicing, the thickness of the portion of the workpiece that overlaps with the groove in the thickness direction of the workpiece is not necessarily strictly the same for all of the division lines included in one workpiece. Furthermore, even for multiple workpieces included in the same lot, the thickness of the portions of the workpiece that need to be removed to divide them is not necessarily strictly the same due to variations in the thickness of the workpieces, etc.

そのため、先ダイシングにおいては、確実に被加工物を分割予定ラインに沿って分割するために、被加工物の表面側に形成される溝の深さがチップの仕上げ厚さよりも僅かに大きくなるように設定されることがある。また、チップの被研削面を平坦にするために被加工物が分割予定ラインに沿って分割された後もチップが研削されることもある。 Therefore, in pre-dicing, in order to ensure that the workpiece is divided along the intended dividing lines, the depth of the grooves formed on the surface side of the workpiece is sometimes set to be slightly greater than the finished thickness of the chips. Also, in order to flatten the grinding surface of the chips, the chips may be ground even after the workpiece has been divided along the intended dividing lines.

すなわち、先ダイシングを用いてチップを製造する場合、被加工物が個々のチップへと分割された後においてもチップが研削されることがある。この場合、被加工物の平面方向にチップが揺さぶられるおそれがある。その結果、隣接するチップ同士が接触し、それらが破損するおそれがある。 That is, when chips are manufactured using pre-dicing, the chips may be ground even after the workpiece is divided into individual chips. In this case, there is a risk that the chips will be shaken in the planar direction of the workpiece. As a result, adjacent chips may come into contact with each other and be damaged.

この点に鑑み、本発明の目的は、先ダイシングを用いてチップを製造する際のチップの破損を抑制することである。 In view of this, the object of the present invention is to prevent chip damage when manufacturing chips using pre-dicing.

本発明の一側面によれば、交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれの表面側にデバイスが形成された被加工物を該分割予定ラインに沿って分割してチップを製造するチップの製造方法であって、該分割予定ラインに沿った溝を該被加工物の表面側に形成する溝形成ステップと、保護部材が該溝の内部に引き込まれるように圧力を制御して該溝の内面の少なくとも一部に該保護部材を密着させる保護部材密着ステップと、該被加工物の裏面側を研削することによって、該被加工物を該分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を備え、該保護部材密着ステップは、第1空間と第2空間とが該保護部材で区画され、かつ、該第1空間に配置された該被加工物と該保護部材とが離隔した状態で該第1空間と該第2空間とのそれぞれを減圧する減圧ステップと、該減圧ステップ後、該被加工物の表面が該保護部材に接触して覆われた状態にしてから該第2空間を加圧する加圧ステップと、を含むことを特徴とするチップの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a chip manufacturing method for manufacturing chips by dividing a workpiece, having devices formed on the surface side of each of a plurality of regions partitioned by a plurality of intersecting planned division lines, along the planned division lines, the method comprising: a groove forming step of forming grooves along the planned division lines on the surface side of the workpiece; a protective member adhering step of adhering the protective member to at least a portion of the inner surface of the groove by controlling the pressure so that the protective member is drawn into the groove; and a dividing step of dividing the workpiece along the planned division lines by grinding the back side of the workpiece, the protective member adhering step including a depressurizing step of depressurizing each of the first space and the second space while the workpiece arranged in the first space and the protective member are separated from each other; and a pressurizing step of pressurizing the second space after the depressurizing step, where the surface of the workpiece is in contact with and covered by the protective member .

また、本発明の他の側面によれば、交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれの表面側にデバイスが形成された被加工物を該分割予定ラインに沿って分割してチップを製造するチップの製造方法であって、該被加工物の外周領域よりも内側に位置する該分割予定ラインに沿った溝を該被加工物の表面側に形成する溝形成ステップと、保護部材が該溝の内部に引き込まれるように圧力を制御して該溝の内面の少なくとも一部に該保護部材を密着させる保護部材密着ステップと、該被加工物の裏面側を研削することによって、該被加工物を該分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を備え、該保護部材密着ステップは、第1空間と第2空間とが該保護部材で区画され、かつ、該第1空間に配置された該被加工物と該保護部材とが離隔した状態で該第1空間と該第2空間とのそれぞれを減圧する減圧ステップと、該減圧ステップ後、該被加工物の表面が該保護部材に接触して覆われた状態にしてから該第2空間を加圧する加圧ステップと、を含むことを特徴とするチップの製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing chips by dividing a workpiece, having devices formed on the surface side of each of a plurality of regions defined by a plurality of intersecting planned division lines, along the planned division lines to manufacture chips, the method comprising: a groove forming step of forming grooves on the surface side of the workpiece along the planned division lines located inside the outer circumferential region of the workpiece; a protective member adhering step of adhering the protective member to at least a part of the inner surface of the groove by controlling the pressure so that the protective member is drawn into the groove; and a dividing step of dividing the workpiece along the planned division lines by grinding the back side of the workpiece, the protective member adhering step including: a depressurizing step of depressurizing each of the first space and the second space while the workpiece arranged in the first space and the protective member are separated from each other; and a pressurizing step of pressurizing the second space after the depressurizing step, where the surface of the workpiece is in contact with and covered by the protective member .

本発明においては、被加工物の表面側に形成された溝の内面の少なくとも一部に保護部材が密着した状態で被加工物の裏面側の研削が行われる。この場合、保護部材は、被加工物の裏面側が研削されて被加工物が個々のチップへと分割された後にチップを支持する。 In the present invention, the back side of the workpiece is ground with the protective member in close contact with at least a portion of the inner surface of the groove formed on the front side of the workpiece. In this case, the protective member supports the chips after the back side of the workpiece is ground and the workpiece is divided into individual chips.

そのため、本発明においては、隣接するチップ間に保護部材が入り込んだ状態となることでチップが研削されることによるチップの揺れが抑制される。また、仮にチップが揺さぶられたとしても隣接するチップの間に保護部材が存在するため、それらが直接接触する蓋然性が低減される。その結果、チップの破損が抑制される。 Therefore, in the present invention, the protective member is inserted between adjacent chips, suppressing shaking of the chips caused by grinding the chips. Furthermore, even if the chips are shaken, the presence of the protective member between adjacent chips reduces the likelihood of them coming into direct contact. As a result, damage to the chips is suppressed.

図1は、被加工物の一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic example of a workpiece. 図2は、チップの製造方法の一例を示すフローチャートである。FIG. 2 is a flow chart showing an example of a method for manufacturing a chip. 図3は、溝形成ステップの一例を行うための切削装置及び被加工物を模式的に示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view that shows a cutting device and a workpiece for performing an example of a groove forming step. 図4は、保護部材密着ステップの一例を行うためのチャンバー及び被加工物を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view that illustrates a chamber and a workpiece for performing an example of a protective member adhering step. 図5は、分割ステップの一例を行うための研削装置及び被加工物を模式的に示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view that shows a grinding apparatus and a workpiece for performing an example of the dividing step. 図6は、溝形成ステップの別の例を行うための切削装置及び被加工物を模式的に示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view that shows a schematic diagram of a cutting device and a workpiece for performing another example of the groove forming step. 図7は、保護部材密着ステップの別の例を行うためのチャンバー及び被加工物を模式的に示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view that illustrates a chamber and a workpiece for performing another example of the protective member adhering step.

添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図1は、チップを製造するために分割される被加工物の一例を模式的に示す斜視図である。図1に示される被加工物11は、例えば、シリコン(Si)等の半導体材料からなる円盤状のウェーハである。 An embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a schematic example of a workpiece to be divided to manufacture chips. The workpiece 11 shown in FIG. 1 is, for example, a disk-shaped wafer made of a semiconductor material such as silicon (Si).

被加工物11の表面11a側は、互いに交差する複数の分割予定ライン13で複数の領域に区画されており、各領域には、IC又はLSI等のデバイス15が形成されている。なお、被加工物11の材質、形状、構造及び大きさ等に制限はない。 The surface 11a of the workpiece 11 is divided into a number of regions by a number of mutually intersecting division lines 13, and a device 15 such as an IC or LSI is formed in each region. There are no limitations on the material, shape, structure, size, etc. of the workpiece 11.

例えば、被加工物11は、他の半導体材料、セラミックス、樹脂及び金属等の材料でなる基板であってもよい。同様に、デバイス15の種類、数量、形状、構造、大きさ及び配置等にも制限はない。 For example, the workpiece 11 may be a substrate made of other semiconductor materials, ceramics, resin, metal, etc. Similarly, there are no restrictions on the type, number, shape, structure, size, arrangement, etc. of the devices 15.

図2は、被加工物11を分割予定ライン13に沿って分割してチップを製造するチップの製造方法の一例を示すフローチャートである。この方法においては、まず、分割予定ライン13に沿った溝を被加工物11の表面側に形成する(溝形成ステップ:S1)。 Figure 2 is a flow chart showing an example of a method for manufacturing chips by dividing the workpiece 11 along the planned division lines 13. In this method, first, grooves are formed on the surface side of the workpiece 11 along the planned division lines 13 (groove formation step: S1).

図3は、溝形成ステップ(S1)の一例を行うための切削装置及び被加工物11を模式的に示す斜視図である。なお、図3に示されるX軸方向(加工送り方向)及びY軸方向(割り出し送り方向)は、水平面上において互いに直交する方向であり、また、Z軸方向(切り込み送り方向)は、X軸方向及びY軸方向に直交する方向(鉛直方向)である。 Figure 3 is a perspective view showing a cutting device and a workpiece 11 for performing an example of the groove forming step (S1). Note that the X-axis direction (machining feed direction) and the Y-axis direction (indexing feed direction) shown in Figure 3 are directions perpendicular to each other on a horizontal plane, and the Z-axis direction (cutting feed direction) is a direction (vertical direction) perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction.

図3に示される切削装置2は、X軸方向及びY軸方向に概ね平行な円状の保持面を有し、この保持面で被加工物11を保持可能なチャックテーブル4を有する。チャックテーブル4の上部には上面が露出するポーラス板(不図示)が設けられており、このポーラス板は吸引機構(不図示)に連結されている。 The cutting device 2 shown in FIG. 3 has a chuck table 4 that has a circular holding surface that is roughly parallel to the X-axis and Y-axis directions and can hold the workpiece 11 on this holding surface. A porous plate (not shown) with an exposed top surface is provided on the top of the chuck table 4, and this porous plate is connected to a suction mechanism (not shown).

吸引機構は、例えば、エジェクタ等を有し、ポーラス板の上面(チャックテーブル4の保持面)に負圧を生じさせることができる。そして、保持面に被加工物11が載置された状態で吸引機構が動作すると、被加工物11がチャックテーブル4に吸引保持される。 The suction mechanism, for example, has an ejector or the like, and can generate negative pressure on the upper surface of the porous plate (the holding surface of the chuck table 4). When the suction mechanism operates with the workpiece 11 placed on the holding surface, the workpiece 11 is sucked and held on the chuck table 4.

さらに、チャックテーブル4は、X軸方向移動機構(不図示)に連結されている。X軸方向移動機構は、例えば、ボールねじ及びモータ等を有する。そして、X軸方向移動機構が動作すると、チャックテーブル4は、X軸方向に沿って移動する。 Furthermore, the chuck table 4 is connected to an X-axis direction movement mechanism (not shown). The X-axis direction movement mechanism has, for example, a ball screw and a motor. When the X-axis direction movement mechanism operates, the chuck table 4 moves along the X-axis direction.

また、チャックテーブル4は、回転機構(不図示)に連結されている。回転機構は、例えば、スピンドル及びモータ等を有する。そして、回転機構が動作すると、チャックテーブル4は、Z軸方向に沿って保持面の中心を通る直線を回転軸として回転する。 The chuck table 4 is also connected to a rotation mechanism (not shown). The rotation mechanism includes, for example, a spindle and a motor. When the rotation mechanism operates, the chuck table 4 rotates around a straight line passing through the center of the holding surface along the Z-axis direction as the rotation axis.

チャックテーブル4の上方には、切削ユニット6が設けられている。切削ユニット6は、Y軸方向に沿って延在するスピンドルハウジング8を有する。スピンドルハウジング8は、スピンドル10の基端側を回転可能な態様で収容する。 A cutting unit 6 is provided above the chuck table 4. The cutting unit 6 has a spindle housing 8 that extends along the Y-axis direction. The spindle housing 8 accommodates the base end of the spindle 10 in a rotatable manner.

スピンドル10の基端部には、スピンドルハウジング8に収容されたモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。また、スピンドル10の先端部はスピンドルハウジング8の端部から露出し、また、この先端部には切削ブレード12が装着されている。 A rotary drive source (not shown), such as a motor, housed in the spindle housing 8 is connected to the base end of the spindle 10. The tip of the spindle 10 is exposed from the end of the spindle housing 8, and a cutting blade 12 is attached to this tip.

切削ブレード12は、アルミニウム等で形成された環状の基台12aと、基台12aの外周部に固定され、かつ、X軸方向に平行な切削面(外周面)を有する環状の切り刃12bとを有する。切り刃12bは、例えば、ダイヤモンド等の砥粒を樹脂又は金属等の結合材で固定することによって形成される。 The cutting blade 12 has an annular base 12a made of aluminum or the like, and an annular cutting edge 12b fixed to the outer periphery of the base 12a and having a cutting surface (outer periphery) parallel to the X-axis direction. The cutting edge 12b is formed, for example, by fixing abrasive grains such as diamond with a binder such as resin or metal.

そして、スピンドル10の基端部に連結された回転駆動源が動作すると、スピンドル10及びスピンドル10の先端部に装着された切削ブレード12は、Y軸方向に沿ってスピンドル10の中心を通る直線を回転軸として回転する。 When the rotary drive source connected to the base end of the spindle 10 is operated, the spindle 10 and the cutting blade 12 attached to the tip of the spindle 10 rotate around a straight line passing through the center of the spindle 10 along the Y-axis direction.

切削ブレード12の周囲には、切削ブレード12の上部を囲むブレードカバー14が設けられている。ブレードカバー14は、スピンドルハウジング8の端部に固定され、また、その下部には、Y軸方向において切削ブレード12の下部を挟むように配置される一対のノズル16が設けられている。 A blade cover 14 is provided around the cutting blade 12, surrounding the upper part of the cutting blade 12. The blade cover 14 is fixed to the end of the spindle housing 8, and a pair of nozzles 16 are provided at the lower part of the blade cover 14, which are arranged to sandwich the lower part of the cutting blade 12 in the Y-axis direction.

被加工物11を切削する際には、一対のノズル16から切削ブレード12及び被加工物11に切削水が供給される。なお、この切削水は、例えば、水(純水)又は水に薬品を添加した液体等である。 When cutting the workpiece 11, cutting water is supplied to the cutting blade 12 and the workpiece 11 from a pair of nozzles 16. The cutting water is, for example, water (pure water) or a liquid in which chemicals have been added to water.

さらに、切削ユニット6は、Y軸方向移動機構(不図示)及びZ軸方向移動機構(不図示)に連結されている。Y軸方向移動機構及びZ軸方向移動機構のそれぞれは、例えば、ボールねじ及びモータ等を有する。そして、Y軸方向移動機構及び/又はZ軸方向移動機構が動作すると、切削ユニット6は、Y軸方向及び/又はZ軸方向に沿って移動する。 Furthermore, the cutting unit 6 is connected to a Y-axis direction moving mechanism (not shown) and a Z-axis direction moving mechanism (not shown). Each of the Y-axis direction moving mechanism and the Z-axis direction moving mechanism has, for example, a ball screw and a motor. When the Y-axis direction moving mechanism and/or the Z-axis direction moving mechanism operates, the cutting unit 6 moves along the Y-axis direction and/or the Z-axis direction.

また、X軸方向において切削ブレード12と隣接する位置には、チャックテーブル4の保持面側を撮像可能な撮像ユニット(不図示)が設けられている。この撮像ユニットは、例えば、可視光線又は赤外線を出射するLED(Light Emitting Diode)等の光源と、対物レンズと、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の撮像素子とを有する。 In addition, an imaging unit (not shown) capable of imaging the holding surface side of the chuck table 4 is provided at a position adjacent to the cutting blade 12 in the X-axis direction. This imaging unit has a light source such as an LED (Light Emitting Diode) that emits visible light or infrared light, an objective lens, and an imaging element such as a CCD (Charge Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor.

切削装置2を用いた溝形成ステップ(S1)は、例えば、以下の順序で行われる。まず、表面11aが上になるように被加工物11をチャックテーブル4の保持面に載置する。次いで、被加工物11がチャックテーブル4に吸引保持されるように吸引機構が動作する。 The groove forming step (S1) using the cutting device 2 is performed, for example, in the following order. First, the workpiece 11 is placed on the holding surface of the chuck table 4 with the surface 11a facing up. Next, the suction mechanism is operated so that the workpiece 11 is held by suction on the chuck table 4.

次いで、撮像ユニットによる撮像によって形成された被加工物11の表面11aの画像等に基づいて、被加工物11及び切削ユニット6の位置合わせが行われる。具体的には、分割予定ライン13がX軸方向に平行になるように回転機構がチャックテーブル4を回転させ、かつ、切削ブレード12の切り刃12bが複数の分割予定ライン13のいずれかの直上に位置付けられるようにY軸方向移動機構が切削ユニット6を移動させる。 Next, the workpiece 11 and the cutting unit 6 are aligned based on an image of the surface 11a of the workpiece 11 formed by the imaging unit. Specifically, the rotation mechanism rotates the chuck table 4 so that the planned division lines 13 are parallel to the X-axis direction, and the Y-axis movement mechanism moves the cutting unit 6 so that the cutting edge 12b of the cutting blade 12 is positioned directly above one of the multiple planned division lines 13.

次いで、X軸方向において被加工物11が切削ブレード12から離隔するようにX軸方向移動機構がチャックテーブル4を移動させる。次いで、切削ブレード12の下端が被加工物11の裏面11bよりも高く、かつ、その表面11aよりも低い位置に位置付けられるようにZ軸方向移動機構が切削ユニット6を移動させる。 Next, the X-axis direction movement mechanism moves the chuck table 4 in the X-axis direction so that the workpiece 11 moves away from the cutting blade 12. Next, the Z-axis direction movement mechanism moves the cutting unit 6 so that the lower end of the cutting blade 12 is positioned higher than the back surface 11b of the workpiece 11 and lower than the front surface 11a.

次いで、回転駆動源がスピンドル10とスピンドル10の先端部に装着された切削ブレード12とを回転させる。次いで、切削ブレード12が回転した状態でX軸方向における切削ブレード12の一端から他端までを被加工物11が通り過ぎるようにX軸方向移動機構がチャックテーブル4を移動させる。 Then, the rotary drive source rotates the spindle 10 and the cutting blade 12 attached to the tip of the spindle 10. Next, while the cutting blade 12 is rotating, the X-axis direction movement mechanism moves the chuck table 4 so that the workpiece 11 passes from one end of the cutting blade 12 to the other end in the X-axis direction.

これにより、分割予定ライン13に沿った溝17が被加工物11の表面11a側に形成される。さらに、同様の処理を残りの分割予定ライン13に対して順次実施することで、複数の分割予定ライン13の全てに溝17が形成される。 As a result, grooves 17 are formed along the planned division lines 13 on the surface 11a side of the workpiece 11. The same process is then performed sequentially on the remaining planned division lines 13, so that grooves 17 are formed along all of the multiple planned division lines 13.

図2に示されるチップの製造方法においては、溝形成ステップ(S1)の後に、保護部材が溝17の内部に引き込まれるように圧力を制御して溝17の内面の少なくとも一部に保護部材を密着させる(保護部材密着ステップ:S2)。図4は、保護部材密着ステップの一例を行うためのチャンバー及び被加工物11を模式的に示す断面図である。なお、図4においては、便宜上、構成要素の一部がブロックで描かれている。 In the chip manufacturing method shown in FIG. 2, after the groove forming step (S1), the pressure is controlled so that the protective member is drawn into the inside of the groove 17, and the protective member is adhered to at least a part of the inner surface of the groove 17 (protective member adhesion step: S2). FIG. 4 is a cross-sectional view that shows a schematic of a chamber and workpiece 11 for performing an example of the protective member adhesion step. Note that in FIG. 4, some of the components are depicted as blocks for convenience.

図4に示されるチャンバー20は、分離可能な上部20a及び下部20bを有し、上部20a及び下部20bが結合されることによって筒状の内部空間を画定する。そして、チャンバー20においては、上部20a及び下部20bの境界の全域に保護部材19が介在する状態で内部空間が閉塞される。 The chamber 20 shown in FIG. 4 has a separable upper portion 20a and a lower portion 20b, which are joined together to define a cylindrical internal space. In the chamber 20, the internal space is closed with a protective member 19 interposed over the entire boundary between the upper portion 20a and the lower portion 20b.

すなわち、チャンバー20においては、円盤状の保護部材19によって区画される上部空間(第2空間)A及び下部空間(第1空間)Bのそれぞれが閉塞される。なお、保護部材19は、互いに概ね平行な一面19a及び他面19bを有するフィルム状に構成され、例えば、樹脂からなる。 That is, in the chamber 20, the upper space (second space) A and the lower space (first space) B, which are partitioned by the disk-shaped protective member 19, are each closed. The protective member 19 is configured in the form of a film having one surface 19a and the other surface 19b that are generally parallel to each other, and is made of, for example, resin.

下部空間Bには、被加工物11を載置するための載置台22が設けられている。載置台22の下部には、鉛直方向に沿って延在するロッド24の上端部が固定されている。ロッド24は、チャンバー20の下部20bに設けられた開口(不図示)を通って外部に延在し、その下端部にはエアシリンダ等の昇降機構26が連結されている。 A mounting table 22 for mounting the workpiece 11 is provided in the lower space B. The upper end of a rod 24 extending vertically is fixed to the lower part of the mounting table 22. The rod 24 extends to the outside through an opening (not shown) provided in the lower part 20b of the chamber 20, and a lifting mechanism 26 such as an air cylinder is connected to its lower end.

また、上部空間Aは、バルブ28aを介して吸引機構30に連通し、また、バルブ28bを介して外部空間に連通する。吸引機構30は、例えば、エジェクタ等を有する。そして、バルブ28aが開かれ、かつ、バルブ28bが閉じられた状態で吸引機構30が動作すると、上部空間Aが減圧される。 The upper space A is connected to the suction mechanism 30 via valve 28a, and to the outside space via valve 28b. The suction mechanism 30 has, for example, an ejector. When the suction mechanism 30 operates with valve 28a open and valve 28b closed, the pressure in the upper space A is reduced.

同様に、下部空間Bは、バルブ32aを介して吸引機構34に連通し、また、バルブ32bを介して外部空間に連通する。吸引機構34は、例えば、エジェクタ等を有する。そして、バルブ32aが開かれ、かつ、バルブ32bが閉じられた状態で吸引機構34が動作すると、下部空間Bが減圧される。 Similarly, the lower space B is connected to the suction mechanism 34 via the valve 32a, and is also connected to the external space via the valve 32b. The suction mechanism 34 has, for example, an ejector. When the suction mechanism 34 operates with the valve 32a open and the valve 32b closed, the pressure in the lower space B is reduced.

チャンバー20を用いた保護部材密着ステップ(S2)は、例えば、以下の順序で行われる。まず、チャンバー20の上部20aが下部20bから分離した状態で表面11aが上になるように載置台22に被加工物11を載置する。 The protective member adhesion step (S2) using the chamber 20 is performed, for example, in the following order: First, the workpiece 11 is placed on the mounting table 22 with the surface 11a facing up, with the upper part 20a of the chamber 20 separated from the lower part 20b.

次いで、上部20a及び下部20bの間に保護部材19が介在する状態でチャンバー20の上部20a及び下部20bを結合する。次いで、バルブ28a,32aを開き、かつ、バルブ28b,32bを閉じる。 Next, the upper part 20a and the lower part 20b of the chamber 20 are joined together with the protective member 19 interposed between the upper part 20a and the lower part 20b. Next, the valves 28a and 32a are opened, and the valves 28b and 32b are closed.

次いで、被加工物11と保護部材19とが離隔した状態で吸引機構30,34を動作させて上部空間A及び下部空間Bのそれぞれを減圧する。次いで、被加工物11の表面11aが保護部材19に接触するように昇降機構26がロッド24を上昇させる。これにより、被加工物11の表面11aが保護部材19によって覆われた状態となる。 Next, with the workpiece 11 and the protective member 19 separated from each other, the suction mechanisms 30, 34 are operated to reduce the pressure in the upper space A and the lower space B. Next, the lifting mechanism 26 raises the rod 24 so that the surface 11a of the workpiece 11 comes into contact with the protective member 19. This causes the surface 11a of the workpiece 11 to be covered by the protective member 19.

次いで、バルブ28aを閉じてから、バルブ28bを開く。これにより、上部空間Aと外部空間とが連通して上部空間Aが加圧される。すなわち、保護部材19の一面19a側の圧力よりも保護部材19の他面19b側の圧力が高くなる。 Next, valve 28a is closed and then valve 28b is opened. This allows upper space A to communicate with the outside space, and pressurizes upper space A. In other words, the pressure on the other side 19b of protective member 19 becomes higher than the pressure on one side 19a of protective member 19.

その結果、溝17の内部に保護部材19の一部が引き込まれて、溝17の内面の少なくとも一部に保護部材19が密着する。なお、被加工物11の表面11aと接触しない保護部材19の余剰部分は、適宜の方法によって除去される。 As a result, a portion of the protective member 19 is drawn into the groove 17, and the protective member 19 adheres closely to at least a portion of the inner surface of the groove 17. The excess portion of the protective member 19 that is not in contact with the surface 11a of the workpiece 11 is removed by an appropriate method.

図2に示されるチップの製造方法においては、保護部材密着ステップ(S2)の後に、被加工物11の裏面11b側を研削することによって、被加工物11を分割予定ライン13に沿って分割する(分割ステップ:S3)。図5は、研削ステップ(S3)の一例を行うための研削装置及び被加工物11を模式的に示す斜視図である。 In the chip manufacturing method shown in FIG. 2, after the protective member adhesion step (S2), the back surface 11b side of the workpiece 11 is ground to divide the workpiece 11 along the intended division line 13 (division step: S3). FIG. 5 is a perspective view showing a grinding device and the workpiece 11 for performing an example of the grinding step (S3).

図5に示される研削装置40は、中心が外周よりも僅かに突出した円錐の側面に相当する形状の保持面を有し、この保持面で被加工物11を保持可能なチャックテーブル42を有する。チャックテーブル42の上部には上面が露出するポーラス板(不図示)が設けられており、このポーラス板は吸引機構(不図示)に連結されている。 The grinding device 40 shown in FIG. 5 has a holding surface shaped like the side of a cone whose center protrudes slightly beyond the outer periphery, and has a chuck table 42 that can hold the workpiece 11 on this holding surface. A porous plate (not shown) with an exposed top surface is provided on the top of the chuck table 42, and this porous plate is connected to a suction mechanism (not shown).

吸引機構は、例えば、エジェクタ等を有し、ポーラス板の上面(チャックテーブル42の保持面)に負圧を生じさせることができる。そして、保持面に被加工物11が載置された状態で吸引機構が動作すると、被加工物11がチャックテーブル42に吸引保持される。 The suction mechanism has, for example, an ejector, and can generate negative pressure on the upper surface of the porous plate (the holding surface of the chuck table 42). When the suction mechanism operates with the workpiece 11 placed on the holding surface, the workpiece 11 is sucked and held on the chuck table 42.

さらに、チャックテーブル42は、水平方向移動機構(不図示)に連結されている。水平方向移動機構は、例えば、ボールねじ及びモータ等を有する。そして、水平方向移動機構が動作すると、チャックテーブル42は、水平方向に沿って移動する。 Furthermore, the chuck table 42 is connected to a horizontal movement mechanism (not shown). The horizontal movement mechanism has, for example, a ball screw and a motor. When the horizontal movement mechanism operates, the chuck table 42 moves in the horizontal direction.

また、チャックテーブル42は、回転機構(不図示)に連結されている。回転機構は、例えば、スピンドル及びモータ等を有する。そして、回転機構が動作すると、チャックテーブル42は、保持面の中心を通り、かつ、鉛直方向に沿った直線又は鉛直方向に対して僅かに傾いた直線を回転軸として、図5に示される矢印aの方向に回転する。 The chuck table 42 is also connected to a rotation mechanism (not shown). The rotation mechanism includes, for example, a spindle and a motor. When the rotation mechanism operates, the chuck table 42 rotates in the direction of arrow a shown in FIG. 5 around a rotation axis that passes through the center of the holding surface and is a straight line along the vertical direction or a straight line that is slightly inclined relative to the vertical direction.

チャックテーブル42の上方には、研削ユニット44が設けられている。研削ユニット44は、上端部がモータ等の回転駆動源に連結されているスピンドル46を有する。スピンドル46の下端部には、円盤状のホイールマウント48が固定されている。 A grinding unit 44 is provided above the chuck table 42. The grinding unit 44 has a spindle 46 whose upper end is connected to a rotational drive source such as a motor. A disk-shaped wheel mount 48 is fixed to the lower end of the spindle 46.

ホイールマウント48には、ホイールマウント48を上下方向に貫通する複数の開口(不図示)が設けられている。複数の開口は、ホイールマウント48の周方向に沿って概ね等間隔に配置されている。また、複数の開口のそれぞれには、ボルト50が挿入されている。 The wheel mount 48 has a number of openings (not shown) that penetrate the wheel mount 48 in the up-down direction. The openings are arranged at roughly equal intervals along the circumferential direction of the wheel mount 48. A bolt 50 is inserted into each of the openings.

ホイールマウント48の下部には、研削ホイール52が装着されている。具体的には、研削ホイール52は、環状の基台54を有する。そして、基台54の上部には、複数の雌ねじ部(不図示)が設けられており、各雌ねじ部にボルト50の下端部が螺合することで研削ホイール52がホイールマウント48の下部に装着される。 A grinding wheel 52 is attached to the bottom of the wheel mount 48. Specifically, the grinding wheel 52 has an annular base 54. The top of the base 54 is provided with multiple female threads (not shown), and the lower ends of the bolts 50 are screwed into each female thread, thereby attaching the grinding wheel 52 to the bottom of the wheel mount 48.

また、基台54の下端部には、基台54の周方向に沿って概ね等間隔に配置されている複数の研削砥石56が固定されている。複数の研削砥石56の下面は、概ね同じ高さに配置されており、これらの下面が研削ユニット44の研削面となる。 Furthermore, a plurality of grinding wheels 56 are fixed to the lower end of the base 54 and are arranged at approximately equal intervals along the circumferential direction of the base 54. The lower surfaces of the grinding wheels 56 are arranged at approximately the same height, and these lower surfaces become the grinding surfaces of the grinding unit 44.

さらに、スピンドル46は、鉛直方向移動機構(不図示)に連結されている。鉛直方向移動機構は、例えば、ボールねじ及びモータ等を有する。そして、鉛直方向移動機構が動作すると、スピンドル46、ホイールマウント48及び研削ホイール52は、鉛直方向に沿って移動する。 Furthermore, the spindle 46 is connected to a vertical movement mechanism (not shown). The vertical movement mechanism has, for example, a ball screw and a motor. When the vertical movement mechanism operates, the spindle 46, the wheel mount 48, and the grinding wheel 52 move in the vertical direction.

また、スピンドル46は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されている。そして、回転駆動源が動作すると、スピンドル46は、鉛直方向に沿ってスピンドル46の中心を通る直線を回転軸として、図5に示される矢印bの方向に回転する。 The spindle 46 is also connected to a rotary drive source (not shown) such as a motor. When the rotary drive source operates, the spindle 46 rotates in the direction of arrow b shown in FIG. 5, with a vertical line passing through the center of the spindle 46 as its rotation axis.

研削装置40を用いた研削ステップ(S3)は、例えば、以下の順序で行われる。まず、水平方向及び鉛直方向の双方において、チャックテーブル42と研削ユニット44とを離隔させた状態で、被加工物11の裏面11bが上を向くようにチャックテーブル42の保持面に被加工物11を載置する。すなわち、被加工物11の表面11aに密着した保護部材19を介して被加工物11をチャックテーブル42の保持面に載置する。 The grinding step (S3) using the grinding device 40 is performed, for example, in the following order. First, with the chuck table 42 and the grinding unit 44 separated in both the horizontal and vertical directions, the workpiece 11 is placed on the holding surface of the chuck table 42 with the back surface 11b of the workpiece 11 facing upward. That is, the workpiece 11 is placed on the holding surface of the chuck table 42 via the protective member 19 that is in close contact with the front surface 11a of the workpiece 11.

次いで、被加工物11がチャックテーブル42に吸引保持されるように吸引機構が動作する。次いで、チャックテーブル42の回転軸と複数の研削砥石56が配置されている環状の領域とが重なるように水平方向移動機構がチャックテーブル42を移動させる。 Next, the suction mechanism operates so that the workpiece 11 is sucked and held on the chuck table 42. Next, the horizontal movement mechanism moves the chuck table 42 so that the rotation axis of the chuck table 42 overlaps with the annular area in which the multiple grinding wheels 56 are arranged.

次いで、回転機構がチャックテーブル42を回転させるとともにスピンドル46の上端部に連結されているモータがスピンドル46、ホイールマウント48及び研削ホイール52を回転させる。 Then, the rotation mechanism rotates the chuck table 42, and the motor connected to the upper end of the spindle 46 rotates the spindle 46, the wheel mount 48, and the grinding wheel 52.

次いで、被加工物11の裏面11bと複数の研削砥石56の下面とが接触するように鉛直方向移動機構がスピンドル46、ホイールマウント48及び研削ホイール52を下降させる。これにより、被加工物11の裏面11bが研削される。 Next, the vertical movement mechanism lowers the spindle 46, the wheel mount 48, and the grinding wheel 52 so that the back surface 11b of the workpiece 11 comes into contact with the undersides of the multiple grinding wheels 56. This causes the back surface 11b of the workpiece 11 to be ground.

これにより、被加工物11の厚さ方向において溝17と重なる部分の厚さが減少しながら被加工物11が研削砥石56に押圧される。その結果、被加工物11が分割予定ライン13に沿って分割される。なお、この研削は、被加工物11が分割された後もチップの被研削面の平坦化等を目的として継続される。 As a result, the workpiece 11 is pressed against the grinding wheel 56 while the thickness of the workpiece 11 at the portion overlapping the groove 17 in the thickness direction is reduced. As a result, the workpiece 11 is divided along the intended division line 13. This grinding continues even after the workpiece 11 is divided, for the purpose of flattening the grinding surface of the chip, etc.

図2に示されるチップの製造方法においては、被加工物11の表面11a側に形成された溝17の内面の少なくとも一部に保護部材19が密着した状態で被加工物11の裏面11b側の研削(研削ステップ(S3))が行われる。この場合、保護部材19は、被加工物11の裏面11b側が研削されて被加工物11が個々のチップへと分割された後にチップを支持する。 In the chip manufacturing method shown in FIG. 2, the back surface 11b side of the workpiece 11 is ground (grinding step (S3)) while the protective member 19 is in close contact with at least a portion of the inner surface of the groove 17 formed on the front surface 11a side of the workpiece 11. In this case, the protective member 19 supports the chips after the back surface 11b side of the workpiece 11 is ground to separate the workpiece 11 into individual chips.

そのため、図2に示されるチップの製造方法においては、隣接するチップ間に保護部材19が入り込んだ状態となることでチップが研削されることによるチップの揺れが抑制される。また、仮にチップが揺さぶられたとしても隣接するチップの間に保護部材19が存在するため、それらが直接接触する蓋然性が低減される。その結果、チップの破損が抑制される。 Therefore, in the chip manufacturing method shown in FIG. 2, the protective member 19 is inserted between adjacent chips, suppressing shaking of the chips caused by grinding the chips. Even if the chips are shaken, the presence of the protective member 19 between adjacent chips reduces the likelihood of them coming into direct contact. As a result, damage to the chips is suppressed.

なお、上述した方法は本発明の一態様に過ぎず、本発明は上述の方法に限定されない。例えば、本発明における保護部材密着ステップは、保護部材19を被加工物11の表面11a側に形成された溝の少なくとも一部に密着できればどのような方法で行われてもよい。以下では、このような方法の一例について図6及び図7を参照して説明する。 The above-mentioned method is merely one aspect of the present invention, and the present invention is not limited to the above-mentioned method. For example, the protective member adhesion step in the present invention may be performed by any method that can adhere the protective member 19 to at least a portion of the groove formed on the surface 11a side of the workpiece 11. An example of such a method will be described below with reference to Figures 6 and 7.

なお、図6は、この方法における溝形成ステップ(S1)の一例を行うための切削装置2及び被加工物11を模式的に示す斜視図であり、また、図7は、この方法における保護部材密着ステップ(S2)の一例を行うためのチャンバー及び被加工物11を模式的に示す断面図である。 FIG. 6 is a schematic perspective view of a cutting device 2 and a workpiece 11 for performing an example of the groove forming step (S1) in this method, and FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a chamber and a workpiece 11 for performing an example of the protective member adhering step (S2) in this method.

なお、図6に示される切削装置2は、図3に示される切削装置2と同じ構造を有する。そのため、ここでは切削装置2の構造の説明については省略する。なお、図7においては、便宜上、構成要素の一部がブロックで描かれている。 The cutting device 2 shown in FIG. 6 has the same structure as the cutting device 2 shown in FIG. 3. Therefore, a description of the structure of the cutting device 2 will be omitted here. For convenience, some of the components are depicted as blocks in FIG. 7.

図6に示される切削装置2を用いた溝形成ステップ(S1)においては、分割予定ライン13に沿って被加工物11の外周領域11cよりも内側に位置する溝を被加工物11の表面11a側に形成する。すなわち、この溝形成ステップ(S1)においては、被加工物11の外周領域11cに溝が形成されない。 In the groove forming step (S1) using the cutting device 2 shown in FIG. 6, a groove is formed on the surface 11a side of the workpiece 11 along the planned division line 13, the groove being located inside the outer peripheral region 11c of the workpiece 11. In other words, in this groove forming step (S1), no groove is formed in the outer peripheral region 11c of the workpiece 11.

具体的には、まず、表面11aが上になるように被加工物11をチャックテーブル4の保持面に載置する。次いで、被加工物11がチャックテーブル4に吸引保持されるように吸引機構が動作する。 Specifically, first, the workpiece 11 is placed on the holding surface of the chuck table 4 with the surface 11a facing up. Next, the suction mechanism is operated so that the workpiece 11 is held by suction on the chuck table 4.

次いで、撮像ユニットによる撮像によって形成された被加工物11の表面11aの画像等に基づいて、被加工物11及び切削ユニット6の位置合わせが行われる。具体的には、分割予定ライン13がX軸方向に平行になるように回転機構がチャックテーブル4を回転させ、かつ、切削ブレード12の切り刃12bが複数の分割予定ライン13のいずれかの直上に位置付けられるようにY軸方向移動機構が切削ユニット6を移動させる。 Next, the workpiece 11 and the cutting unit 6 are aligned based on an image of the surface 11a of the workpiece 11 formed by the imaging unit. Specifically, the rotation mechanism rotates the chuck table 4 so that the planned division lines 13 are parallel to the X-axis direction, and the Y-axis movement mechanism moves the cutting unit 6 so that the cutting edge 12b of the cutting blade 12 is positioned directly above one of the multiple planned division lines 13.

次いで、切削ブレード12の下端が被加工物11の外周領域11cの内周よりも僅かに内側の位置の直上に位置付けられるようにX軸方向移動機構がチャックテーブル4を移動させる。次いで、回転駆動源がスピンドル10とスピンドル10の先端部に装着された切削ブレード12とを回転させる。 Next, the X-axis direction movement mechanism moves the chuck table 4 so that the lower end of the cutting blade 12 is positioned directly above a position slightly inside the inner circumference of the outer circumferential region 11c of the workpiece 11. Next, the rotation drive source rotates the spindle 10 and the cutting blade 12 attached to the tip of the spindle 10.

次いで、切削ブレード12の下端が被加工物11の裏面11bよりも高く、かつ、その表面11aよりも低い位置に位置付けられるようにZ軸方向移動機構が切削ユニット6を移動させる。次いで、切削ブレード12によって被加工物11の外周領域11cよりも内側の領域が切削されるようにX軸方向移動機構がチャックテーブル4を移動させる。この移動、すなわち、被加工物11の表面11a側の切削は、切削ブレード12の下端が被加工物11の外周領域11cの内周よりも僅かに内側の位置に至るまで継続される。 Then, the Z-axis direction movement mechanism moves the cutting unit 6 so that the lower end of the cutting blade 12 is positioned higher than the back surface 11b of the workpiece 11 and lower than the front surface 11a. Next, the X-axis direction movement mechanism moves the chuck table 4 so that the cutting blade 12 cuts the area inside the outer peripheral area 11c of the workpiece 11. This movement, i.e., cutting of the front surface 11a side of the workpiece 11, continues until the lower end of the cutting blade 12 reaches a position slightly inside the inner circumference of the outer peripheral area 11c of the workpiece 11.

これにより、分割予定ライン13に沿って被加工物11の外周領域11cよりも内側に位置する溝21が被加工物11の表面11a側に形成される。さらに、同様の処理を残りの分割予定ライン13に対して順次実施することで、複数の分割予定ライン13の全てに溝21が形成される。 As a result, grooves 21 are formed on the surface 11a side of the workpiece 11 along the planned division lines 13 and located inside the outer peripheral region 11c of the workpiece 11. Furthermore, by sequentially performing the same process on the remaining planned division lines 13, grooves 21 are formed on all of the multiple planned division lines 13.

そして、このように溝21が形成された被加工物11に対して、保護部材密着ステップ(S2)を行う。図4に示されるチャンバー60は、分離可能な上部60a及び下部60bを有し、上部60a及び下部60bが結合されることによって筒状の内部空間Cを画定する。 Then, the protective member adhesion step (S2) is performed on the workpiece 11 with the grooves 21 formed in this way. The chamber 60 shown in FIG. 4 has a separable upper portion 60a and a lower portion 60b, and the upper portion 60a and the lower portion 60b are joined to define a cylindrical internal space C.

内部空間Cには、被加工物11等を載置するための載置台62が設けられている。載置台62の下部には、鉛直方向に沿って延在するロッド64の上端部が固定されている。ロッド64は、チャンバー60の下部60bに設けられた開口(不図示)を通って外部に延在し、その下端部にはエアシリンダ等の昇降機構66が連結されている。 A mounting table 62 for mounting the workpiece 11 and the like is provided in the internal space C. The upper end of a rod 64 extending vertically is fixed to the lower part of the mounting table 62. The rod 64 extends to the outside through an opening (not shown) provided in the lower part 60b of the chamber 60, and a lifting mechanism 66 such as an air cylinder is connected to its lower end.

また、内部空間Cは、バルブ68aを介して吸引機構70に連通し、また、バルブ68bを介して外部空間に連通する。吸引機構70は、例えば、エジェクタ等を有する。そして、バルブ68aが開かれ、かつ、バルブ68bが閉じられた状態で吸引機構70が動作すると、内部空間Cが減圧される。 The internal space C is connected to the suction mechanism 70 via the valve 68a, and to the external space via the valve 68b. The suction mechanism 70 has, for example, an ejector. When the suction mechanism 70 operates with the valve 68a open and the valve 68b closed, the internal space C is depressurized.

さらに、内部空間Cには、円状の保持面を有し、この保持面で保護部材19を保持可能なチャックテーブル72が設けられている。チャックテーブル72の上部には、鉛直方向に沿って延在するロッド74の下端部が固定されている。ロッド74は、チャンバー60の上部60aに設けられた開口(不図示)を通って外部に延在する。 Furthermore, a chuck table 72 having a circular holding surface capable of holding the protective member 19 is provided in the internal space C. The lower end of a rod 74 extending vertically is fixed to the upper portion of the chuck table 72. The rod 74 extends to the outside through an opening (not shown) provided in the upper portion 60a of the chamber 60.

また、チャックテーブル72の下部には下面が露出するポーラス板が設けられており、このポーラス板はロッド74に設けられた流路を介して吸引機構76に連結されている。吸引機構は、例えば、エジェクタ等を有し、ポーラス板の下面(チャックテーブル72の保持面)に負圧を生じさせることができる。そして、保持面が保護部材19と接触した状態で吸引機構が動作すると、保護部材19がチャックテーブル72に吸引保持される。 A porous plate with an exposed underside is provided below the chuck table 72, and this porous plate is connected to the suction mechanism 76 via a flow path provided in the rod 74. The suction mechanism has, for example, an ejector, and can generate negative pressure on the underside of the porous plate (the holding surface of the chuck table 72). When the suction mechanism operates with the holding surface in contact with the protective member 19, the protective member 19 is held by suction to the chuck table 72.

チャンバー60を用いた保護部材密着ステップ(S2)は、例えば、以下の順序で行われる。まず、チャンバー60の上部60aが下部60bから分離した状態で載置台62に保護部材19を載置する。次いで、保護部材19がチャックテーブル72の保持面に接触するように昇降機構66がロッド64を上昇させる。 The protective member adhesion step (S2) using the chamber 60 is performed, for example, in the following order. First, the protective member 19 is placed on the mounting table 62 with the upper portion 60a of the chamber 60 separated from the lower portion 60b. Next, the lifting mechanism 66 raises the rod 64 so that the protective member 19 contacts the holding surface of the chuck table 72.

次いで、保護部材19がチャックテーブル72に吸引保持されるように吸引機構76が動作する。次いで、保護部材19と載置台62とが離隔するように昇降機構66がロッド64を下降させる。次いで、チャンバー60の上部60aが下部60bから分離した状態で載置台62に表面11aが上になるように被加工物11を載置する。 The suction mechanism 76 then operates so that the protective member 19 is held by suction on the chuck table 72. The lifting mechanism 66 then lowers the rod 64 so that the protective member 19 and the mounting table 62 are separated. Next, with the upper part 60a of the chamber 60 separated from the lower part 60b, the workpiece 11 is placed on the mounting table 62 with the surface 11a facing up.

次いで、チャンバー60の上部20a及び下部20bを結合する。次いで、バルブ68aを開き、かつ、バルブ68bを閉じる。次いで、被加工物11と保護部材19とが離隔した状態で吸引機構70を動作させて内部空間Cを減圧する。 Next, the upper part 20a and the lower part 20b of the chamber 60 are connected. Next, the valve 68a is opened and the valve 68b is closed. Next, with the workpiece 11 and the protective member 19 separated from each other, the suction mechanism 70 is operated to reduce the pressure in the internal space C.

なお、内部空間Cが減圧された場合であっても保護部材19がチャックテーブル72に吸引保持され続けるように、吸引機構76は、減圧された内部空間Cの内圧よりも低い圧力をチャックテーブル72の保持面に生じさせるように動作する。次いで、被加工物11の表面11aが保護部材19に接触するように昇降機構66がロッド64を上昇させる。 In addition, even if the internal space C is depressurized, the suction mechanism 76 operates to generate a pressure on the holding surface of the chuck table 72 that is lower than the internal pressure of the depressurized internal space C so that the protective member 19 continues to be sucked and held by the chuck table 72. Next, the lifting mechanism 66 raises the rod 64 so that the surface 11a of the workpiece 11 comes into contact with the protective member 19.

次いで、保護部材19とチャックテーブル72とが分離するように吸引機構76の動作を停止する。次いで、保護部材19とチャックテーブル72とが離隔するように昇降機構66がロッド64を下降させる。これにより、被加工物11の表面11aが保護部材19によって覆われて被加工物11の表面11a側に形成された溝21が密閉されたような状態となる。 Then, the operation of the suction mechanism 76 is stopped so that the protective member 19 and the chuck table 72 are separated. Next, the lifting mechanism 66 lowers the rod 64 so that the protective member 19 and the chuck table 72 are separated. As a result, the surface 11a of the workpiece 11 is covered by the protective member 19, and the groove 21 formed on the surface 11a side of the workpiece 11 is sealed.

次いで、バルブ68aを閉じてから、バルブ68bを開く。これにより、内部空間Cと外部空間とが連通して内部空間Cが加圧される。すなわち、溝21の内部の圧力よりもその外部の圧力が高くなる。 Next, valve 68a is closed and valve 68b is opened. This allows internal space C to communicate with the external space, and internal space C is pressurized. In other words, the pressure outside groove 21 becomes higher than the pressure inside.

その結果、溝21の内部に保護部材19の一部が引き込まれて、溝21の内面の少なくとも一部に保護部材19が密着する。その後、上述のとおり、分割ステップ(S3)を実施することで被加工物11が分割予定ライン13に沿って分割されて個々のチップが製造される。 As a result, a portion of the protective member 19 is drawn into the groove 21, and the protective member 19 adheres to at least a portion of the inner surface of the groove 21. Then, as described above, the dividing step (S3) is performed to divide the workpiece 11 along the planned dividing lines 13 to produce individual chips.

なお、分割ステップ(S3)において被加工物11を分割させるためには、被加工物11の径方向に沿った外周領域11cの幅が短いことが好ましい。例えば、外周領域11cの幅は、1mm以下であることが好ましく、800μm以下であることがより好ましく、600μm以下であることが最も好ましい。 In addition, in order to divide the workpiece 11 in the dividing step (S3), it is preferable that the width of the outer peripheral region 11c along the radial direction of the workpiece 11 is short. For example, the width of the outer peripheral region 11c is preferably 1 mm or less, more preferably 800 μm or less, and most preferably 600 μm or less.

その他、上述した実施形態及び変形例にかかる構造及び方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures and methods of the above-described embodiments and variations can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

11:被加工物(11a:表面、11b:裏面、11c:外周領域)
13:分割予定ライン
15:デバイス
17:溝
19:保護部材
21:溝
2 :研削装置
4 :チャックテーブル
6 :切削ユニット
8 :スピンドルハウジング
10:スピンドル
12:切削ブレード(12a:基台、12b:切り刃)
14:ブレードカバー
16:ノズル
20:チャンバー(20a:上部、20b:下部)
22:載置台
24:ロッド
26:昇降機構
28a,28b,32a,32b:バルブ
30,34:吸引機構
40:研削装置
42:チャックテーブル
44:研削ユニット
46:スピンドル
48:ホイールマウント
50:ボルト
52:研削ホイール
54:基台
56:研削砥石
60:チャンバー(60a:上部、60b:下部)
62:載置台
64:ロッド
66:昇降機構
68a,68b:バルブ
70:吸引機構
72:チャックテーブル
74:ロッド
76:吸引機構
11: Workpiece (11a: front surface, 11b: back surface, 11c: outer peripheral area)
13: Planned division line 15: Device 17: Groove 19: Protective member 21: Groove 2: Grinding device 4: Chuck table 6: Cutting unit 8: Spindle housing 10: Spindle 12: Cutting blade (12a: Base, 12b: Cutting blade)
14: Blade cover 16: Nozzle 20: Chamber (20a: upper part, 20b: lower part)
22: Placement table 24: Rod 26: Lifting mechanism 28a, 28b, 32a, 32b: Valves 30, 34: Suction mechanism 40: Grinding device 42: Chuck table 44: Grinding unit 46: Spindle 48: Wheel mount 50: Bolt 52: Grinding wheel 54: Base 56: Grinding stone 60: Chamber (60a: upper part, 60b: lower part)
62: Placement table 64: Rod 66: Lifting mechanism 68a, 68b: Valve 70: Suction mechanism 72: Chuck table 74: Rod 76: Suction mechanism

Claims (2)

交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれの表面側にデバイスが形成された被加工物を該分割予定ラインに沿って分割してチップを製造するチップの製造方法であって、
該分割予定ラインに沿った溝を該被加工物の表面側に形成する溝形成ステップと、
保護部材が該溝の内部に引き込まれるように圧力を制御して該溝の内面の少なくとも一部に該保護部材を密着させる保護部材密着ステップと、
該被加工物の裏面側を研削することによって、該被加工物を該分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を備え、
該保護部材密着ステップは、
第1空間と第2空間とが該保護部材で区画され、かつ、該第1空間に配置された該被加工物と該保護部材とが離隔した状態で該第1空間と該第2空間とのそれぞれを減圧する減圧ステップと、
該減圧ステップ後、該被加工物の表面が該保護部材に接触して覆われた状態にしてから該第2空間を加圧する加圧ステップと、
を含むことを特徴とするチップの製造方法。
A method for manufacturing chips by dividing a workpiece, in which a device is formed on a front surface side of each of a plurality of regions partitioned by a plurality of intersecting division lines, along the division lines to manufacture chips, comprising:
a groove forming step of forming a groove along the intended division line on the front surface side of the workpiece;
a protective member contact step of contacting the protective member with at least a part of the inner surface of the groove by controlling pressure so that the protective member is drawn into the groove;
A dividing step of dividing the workpiece along the dividing lines by grinding a back surface side of the workpiece,
The protective member adhesion step includes:
a depressurizing step of depressurizing each of the first space and the second space, the first space and the second space being partitioned by the protective member and the workpiece disposed in the first space being separated from the protective member;
a pressurizing step of pressurizing the second space after the depressurizing step and bringing the surface of the workpiece into contact with and covered by the protective member;
A method for producing a chip , comprising:
交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれの表面側にデバイスが形成された被加工物を該分割予定ラインに沿って分割してチップを製造するチップの製造方法であって、
該被加工物の外周領域よりも内側に位置し、かつ、該分割予定ラインに沿った溝を該被加工物の表面側に形成する溝形成ステップと、
保護部材が該溝の内部に引き込まれるように圧力を制御して該溝の内面の少なくとも一部に該保護部材を密着させる保護部材密着ステップと、
該被加工物の裏面側を研削することによって、該被加工物を該分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、を備え、
該保護部材密着ステップは、
第1空間と第2空間とが該保護部材で区画され、かつ、該第1空間に配置された該被加工物と該保護部材とが離隔した状態で該第1空間と該第2空間とのそれぞれを減圧する減圧ステップと、
該減圧ステップ後、該被加工物の表面が該保護部材に接触して覆われた状態にしてから該第2空間を加圧する加圧ステップと、
を含むことを特徴とするチップの製造方法。
A method for manufacturing chips by dividing a workpiece, in which a device is formed on a front surface side of each of a plurality of regions partitioned by a plurality of intersecting division lines, along the division lines to manufacture chips, comprising:
a groove forming step of forming a groove on a front surface side of the workpiece, the groove being located inside an outer circumferential region of the workpiece and extending along the intended division line;
a protective member contact step of contacting the protective member with at least a part of the inner surface of the groove by controlling pressure so that the protective member is drawn into the groove;
A dividing step of dividing the workpiece along the dividing lines by grinding a back surface side of the workpiece,
The protective member adhesion step includes:
a depressurizing step of depressurizing each of the first space and the second space, the first space and the second space being partitioned by the protective member and the workpiece disposed in the first space being separated from the protective member;
a pressurizing step of pressurizing the second space after the depressurizing step and bringing the surface of the workpiece into contact with and covered by the protective member;
A method for producing a chip , comprising:
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