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JP7614711B2 - Method for processing workpiece - Google Patents

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JP7614711B2 JP2021075550A JP2021075550A JP7614711B2 JP 7614711 B2 JP7614711 B2 JP 7614711B2 JP 2021075550 A JP2021075550 A JP 2021075550A JP 2021075550 A JP2021075550 A JP 2021075550A JP 7614711 B2 JP7614711 B2 JP 7614711B2
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Description

本発明は、ウェーハのような円盤状の被加工物を研削する際に適用される被加工物の加工方法に関する。 The present invention relates to a method for processing a workpiece that is applied when grinding a disk-shaped workpiece such as a wafer.

小型で軽量なデバイスチップを実現するために、集積回路等のデバイスが表面側に設けられた円盤状のウェーハを薄く加工する機会が増えている。例えば、ウェーハの表面側をチャックテーブルで保持し、砥粒を含む砥石が固定された研削ホイールと、チャックテーブルと、を互いに回転させて、純水等の液体を供給しながらウェーハの裏面に砥石を押し当てることで、このウェーハを研削して薄くできる。 In order to realize small and lightweight device chips, there are increasing opportunities to thin disk-shaped wafers with integrated circuits and other devices on the front side. For example, the front side of the wafer is held by a chuck table, and the chuck table and a grinding wheel with a grinding stone containing abrasive grains fixed to it are rotated relative to each other, and the grinding stone is pressed against the back side of the wafer while a liquid such as pure water is supplied, thereby grinding the wafer to make it thinner.

デバイスチップの製造に用いられる円盤状のウェーハの外周縁は、通常、搬送の際に加わる衝撃等による欠けや割れの発生を防ぐために、面取りされている。ところが、面取りされたウェーハを研削等の方法で薄くすると、ウェーハの外周縁はナイフエッジのように尖って脆くなり、却って、欠けや割れが発生し易くなってしまう。 The outer edges of disk-shaped wafers used in the manufacture of device chips are usually chamfered to prevent chipping or cracking due to shocks applied during transportation. However, when a chamfered wafer is thinned by grinding or other methods, the outer edges of the wafer become sharp and brittle like a knife edge, making them more susceptible to chipping and cracking.

そこで、ウェーハを研削する前に、その面取りされた部分(以下、面取り部)を除去するエッジトリミングと呼ばれる技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。例えば、ウェーハに切削ブレードを切り込ませて面取り部を除去しておけば、ウェーハを裏面側から研削しても、その外周縁が尖って脆くなることはない。 A technique called edge trimming has been proposed to remove the chamfered portion (hereinafter, the chamfered portion) of the wafer before grinding it (see, for example, Patent Document 1). For example, if a cutting blade is cut into the wafer to remove the chamfered portion, the outer edge will not become sharp and brittle even if the wafer is ground from the back side.

一方で、エッジトリミングでウェーハの面取り部を完全に除去すると、ウェーハの向きを示すノッチ等が失われ、また、ウェーハの直径に差が生じ易い。その結果、複数のウェーハを厚みの方向に重ねて高い精度で貼り合わせることが難しくなる。よって、複数のウェーハを貼り合わせるウェーハオンウェーハ(Wafer On Wafer)のような技術と組み合わせる場合には、面取り部の表面側の一部だけが除去されている。 On the other hand, if edge trimming is used to completely remove the chamfered portion of the wafer, notches that indicate the wafer's orientation are lost, and differences in the wafer diameter are likely to occur. As a result, it becomes difficult to stack multiple wafers in the thickness direction and bond them together with high precision. Therefore, when combining this method with a technology such as Wafer On Wafer, which bonds multiple wafers together, only a portion of the front side of the chamfered portion is removed.

特開2000-173961号公報JP 2000-173961 A

しかしながら、面取り部の表面側の一部が除去された状態のウェーハを裏面側から研削すると、外周縁に残っていた面取り部の一部(裏面側の部分)がウェーハから分離し、大きな端材となって装置内に留まり易い。そのため、端材を除去する作業の頻度が高くなっていた。 However, when a wafer with part of the front side of the chamfer removed is ground from the back side, the part of the chamfer remaining on the outer edge (the part on the back side) tends to separate from the wafer and become a large scrap that tends to remain inside the equipment. This has led to an increase in the frequency of work required to remove the scrap.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ウェーハのような円盤状の被加工物を研削する際に、大きな端材の発生を抑制できる新たな被加工物の加工方法を提供することである。 The present invention was made in consideration of these problems, and its purpose is to provide a new method for processing a workpiece that can suppress the generation of large scraps when grinding a disk-shaped workpiece such as a wafer.

本発明の一側面によれば、分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれにデバイスが設けられたデバイス領域と、該デバイス領域を囲む外周余剰領域と、を表面側に有する円盤状の被加工物を裏面側から研削する際に用いられる被加工物の加工方法であって、該被加工物の該裏面側を第1チャックテーブルで保持する第1保持ステップと、該第1チャックテーブルにより保持された該被加工物の外周縁を含む環状の領域に対して、回転させた第1切削ブレードを該被加工物の該表面側から該被加工物の仕上がり厚さに相当する深さを超える深さまで切り込ませながら、該第1チャックテーブルを回転させることにより、該環状の領域の該表面側の一部が除去されることで該裏面側に残留する環状の残留部を形成する第1切削ステップと、該被加工物の該表面側を第2チャックテーブルで保持する第2保持ステップと、該第2チャックテーブルにより保持された該被加工物に対して、回転させた第2切削ブレードを、該被加工物の該裏面側から、該残留部の内側の縁よりも該被加工物の径方向で内側の位置まで、且つ、該残留部が除去される深さまで切り込ませながら、該第2チャックテーブルを回転させることにより、該残留部を除去する第2切削ステップと、該第2チャックテーブルにより保持された該被加工物に対して、該第2切削ブレードの回転軸に対して交差する回転軸で回転させた研削ホイールが備える研削砥石を、該被加工物の該裏面側から接触させながら、該第2チャックテーブルを回転させることにより、該被加工物を該裏面側から研削して該仕上がり厚さまで薄くする研削ステップと、を含む被加工物の加工方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, a method for processing a workpiece used in grinding a disk-shaped workpiece having a surface side including a device region, in which a device is provided in each of a plurality of regions partitioned by a planned division line, and an outer peripheral excess region surrounding the device region, includes a first holding step of holding the back side of the workpiece with a first chuck table, a first cutting step of cutting an annular region including the outer peripheral edge of the workpiece held by the first chuck table from the front side of the workpiece to a depth exceeding a depth corresponding to the finished thickness of the workpiece while rotating the first chuck table, thereby removing a portion of the front side of the annular region to form an annular remaining portion remaining on the back side, and a second cutting step of cutting the front side of the workpiece with a second chuck table. A method for processing a workpiece is provided, the method including: a second holding step of holding the workpiece on a chuck table; a second cutting step of removing the remaining portion by rotating the second chuck table while cutting the rotating second cutting blade into the workpiece held by the second chuck table from the back side of the workpiece to a position radially inward of the inner edge of the remaining portion and to a depth at which the remaining portion is removed; and a grinding step of grinding the workpiece from the back side to the finished thickness by rotating the second chuck table while contacting the workpiece held by the second chuck table with a grinding stone provided on a grinding wheel rotated about a rotation axis intersecting the rotation axis of the second cutting blade from the back side of the workpiece.

好ましくは、該第2切削ステップにより該残留部を除去しながら、該研削ステップにより該被加工物を該裏面側から研削する。 Preferably, the workpiece is ground from the back side in the grinding step while the remaining portion is removed in the second cutting step.

本発明の一側面にかかる被加工物の加工方法では、第1チャックテーブルにより保持された被加工物の外周縁を含む環状の領域に対して、回転させた第1切削ブレードを被加工物の表面側から切り込ませて、裏面側に残留する環状の残留部を形成し、その後、被加工物の研削に使用される第2チャックテーブルによって保持された状態で、回転させた第2切削ブレードを被加工物の裏面側から切り込ませて、残留部を除去するので、被加工物を研削する際に、残留部が被加工物から分離して大きな端材になることがない。 In a method for processing a workpiece according to one aspect of the present invention, a rotating first cutting blade is caused to cut into an annular region including the outer periphery of a workpiece held by a first chuck table from the front side of the workpiece to form an annular remaining portion that remains on the back side, and then, while held by a second chuck table used for grinding the workpiece, a rotating second cutting blade is caused to cut into the back side of the workpiece to remove the remaining portion, so that when the workpiece is ground, the remaining portion does not separate from the workpiece and become large scrap material.

また、本発明の一側面にかかる被加工物の加工方法では、回転させた第2切削ブレードを、残留部の内側の縁よりも被加工物の径方向で内側の位置まで切り込ませるので、例えば、研削ホイールと第2切削ブレードとの双方を使用する複合的な加工装置を用いる場合のように、第2切削ブレードによる切削の精度を高め難い状況でも、残留部を確実に除去できる。 In addition, in the method for processing a workpiece according to one aspect of the present invention, the rotating second cutting blade is caused to cut into the workpiece to a position radially inward of the inner edge of the remaining portion, so that the remaining portion can be reliably removed even in situations where it is difficult to improve the accuracy of cutting with the second cutting blade, such as when using a combined processing device that uses both a grinding wheel and a second cutting blade.

図1は、円盤状の被加工物を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a disk-shaped workpiece. 図2は、切削装置のチャックテーブルにより保持された被加工物の外周縁を含む環状の領域が加工される様子を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing how an annular region including the outer periphery of a workpiece held by a chuck table of the cutting machine is machined. 図3は、切削装置のチャックテーブルにより保持された被加工物の外周縁を含む環状の領域が加工される様子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing how an annular region including the outer periphery of a workpiece held by a chuck table of a cutting machine is machined. 図4は、研削装置のチャックテーブルにより保持された被加工物に対して切削ブレードを切り込ませるとともに、研削ホイールが備える研削砥石を被加工物の裏面側から接触させる様子を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing how a cutting blade is cut into a workpiece held by a chuck table of a grinding device, and a grinding stone of a grinding wheel is brought into contact with the back surface of the workpiece. 図5は、研削装置のチャックテーブルにより保持された被加工物に対して切削ブレードを切り込ませるとともに、研削ホイールが備える研削砥石を被加工物の裏面側から接触させる様子を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing how a cutting blade is cut into a workpiece held by a chuck table of a grinding device, and a grinding stone of a grinding wheel is brought into contact with the back surface of the workpiece. 図6は、被加工物に切り込ませる切削ブレードと被加工物との位置の関係を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the cutting blade that cuts into the workpiece and the workpiece. 図7は、被加工物が仕上がり厚さまで薄くなる様子を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing how the workpiece is thinned to the finished thickness. 図8は、被加工物が仕上がり厚さまで薄くなる様子を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing how the workpiece is thinned to its final thickness.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。図1は、本実施形態にかかる被加工物の加工方法で加工される円盤状の被加工物11を模式的に示す斜視図である。図1に示すように、被加工物11は、例えば、シリコン(Si)等の半導体を用いて円盤状に形成されたウェーハであり、概ね円形の表面11aと、概ね円形の裏面11bと、を有している。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a disk-shaped workpiece 11 to be processed by the method for processing a workpiece according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the workpiece 11 is, for example, a wafer formed into a disk shape using a semiconductor such as silicon (Si), and has a roughly circular front surface 11a and a roughly circular back surface 11b.

この被加工物11は、予め面取りされている。すなわち、被加工物11の表面11aと裏面11bとを接続する外周縁(外周面)11cは、外向きに凸の曲面によって主に構成されている。また、被加工物11の外周縁11cを含む一部の領域には、ノッチ等と呼ばれ被加工物11の向き(代表的には、結晶方位)を示す切り欠き部分11dが設けられている。 This workpiece 11 has been chamfered in advance. That is, the outer periphery (outer peripheral surface) 11c connecting the front surface 11a and the back surface 11b of the workpiece 11 is mainly composed of an outwardly convex curved surface. In addition, a part of the area including the outer periphery 11c of the workpiece 11 has a cutout portion 11d called a notch or the like that indicates the orientation of the workpiece 11 (typically, the crystal orientation).

被加工物11の表面11a側は、中央側のデバイス領域と、デバイス領域を囲む外周余剰領域と、に分けられる。デバイス領域は、互いに交差する複数の分割予定ライン(ストリート)13で更に複数の小領域に区画されており、各小領域には、IC(Integrated Circuit)等のデバイス15が設けられている。 The surface 11a of the workpiece 11 is divided into a central device region and a peripheral surplus region surrounding the device region. The device region is further divided into a number of small regions by a number of mutually intersecting division lines (streets) 13, and each small region is provided with a device 15 such as an IC (Integrated Circuit).

なお、本実施形態では、シリコン等の半導体でなる円盤状のウェーハを被加工物11として用いるが、この被加工物11の材質、構造、大きさ等に制限はない。例えば、他の半導体、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる基板を被加工物11として用いることもできる。同様に、デバイス15の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はない。 In this embodiment, a disk-shaped wafer made of a semiconductor such as silicon is used as the workpiece 11, but there are no limitations on the material, structure, size, etc. of this workpiece 11. For example, a substrate made of other materials such as semiconductors, ceramics, resins, metals, etc. can also be used as the workpiece 11. Similarly, there are no limitations on the type, number, shape, structure, size, arrangement, etc. of the devices 15.

本実施形態にかかる被加工物の加工方法では、まず、被加工物11の外周縁11cを含む環状の領域(面取り部)を表面11a側から部分的に除去する。具体的には、まず、この加工に適した切削装置のチャックテーブル(第1チャックテーブル)で被加工物11の裏面11b側を保持する(第1保持ステップ)。 In the method for processing a workpiece according to this embodiment, first, an annular region (chamfered portion) including the outer peripheral edge 11c of the workpiece 11 is partially removed from the front surface 11a side. Specifically, first, the back surface 11b side of the workpiece 11 is held by a chuck table (first chuck table) of a cutting device suitable for this processing (first holding step).

図2は、切削装置2のチャックテーブル(第1チャックテーブル)4により保持された被加工物11の外周縁11cを含む環状の領域が、表面11a側から加工される様子を示す斜視図であり、図3は、チャックテーブル4により保持された被加工物11の外周縁11cを含む環状の領域が、表面11a側から加工される様子を示す断面図である。 Figure 2 is a perspective view showing how an annular area including the outer peripheral edge 11c of the workpiece 11 held by the chuck table (first chuck table) 4 of the cutting device 2 is machined from the surface 11a side, and Figure 3 is a cross-sectional view showing how an annular area including the outer peripheral edge 11c of the workpiece 11 held by the chuck table 4 is machined from the surface 11a side.

図2及び図3に示すように、切削装置2は、被加工物11を保持できるように構成されたチャックテーブル4を備えている。チャックテーブル4は、例えば、ステンレス鋼に代表される金属を用いて形成された円盤状の枠体6を含む。枠体6の上面側には、円形状の開口を上端に持つ凹部6aが形成されている。 As shown in Figures 2 and 3, the cutting device 2 is equipped with a chuck table 4 configured to hold a workpiece 11. The chuck table 4 includes a disk-shaped frame 6 formed from a metal such as stainless steel. A recess 6a having a circular opening at the upper end is formed on the upper surface side of the frame 6.

枠体6の凹部6aには、セラミックス等を用いて多孔質の円盤状に形成された保持板8が固定されている。保持板8の上面8aは、概ね平坦に構成されており、被加工物11をチャックテーブル4で保持する際には、この上面8aに被加工物11の裏面11b等が接触する。なお、被加工物11の裏面11bには、予め樹脂等でなる保護部材を貼付しておいても良い。この場合には、保持板8の上面8aに保護部材が接触する。 A holding plate 8 formed in a porous disk shape using ceramics or the like is fixed to the recess 6a of the frame 6. The upper surface 8a of the holding plate 8 is configured to be generally flat, and when the workpiece 11 is held by the chuck table 4, the back surface 11b of the workpiece 11 comes into contact with this upper surface 8a. Note that a protective member made of resin or the like may be attached in advance to the back surface 11b of the workpiece 11. In this case, the protective member comes into contact with the upper surface 8a of the holding plate 8.

保持板8の下面側は、枠体6の内部に設けられた流路6bや、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。そのため、保持板8の上面8aに被加工物11の裏面11b等を接触させて、バルブを開き、吸引源の負圧を作用させれば、被加工物11は、負圧に起因する吸引力でチャックテーブル4に保持される。 The lower side of the holding plate 8 is connected to a suction source (not shown) such as an ejector via a flow path 6b provided inside the frame 6 and a valve (not shown). Therefore, when the back surface 11b of the workpiece 11 is brought into contact with the upper surface 8a of the holding plate 8, the valve is opened, and negative pressure from the suction source is applied, the workpiece 11 is held to the chuck table 4 by the suction force caused by the negative pressure.

枠体6の下部には、モーター等の回転駆動源(不図示)が連結されている。チャックテーブル4は、この回転駆動源が生じる力によって、上面8aの中心が回転の中心となるように、例えば、鉛直方向(Z1軸方向)に沿う軸(回転軸)の周りに回転する。また、枠体6は、チャックテーブル移動機構(不図示)に支持されており、チャックテーブル4は、このチャックテーブル移動機構によって、上面8aに対して概ね平行な加工送り方向(X1軸方向)に移動する。 A rotational drive source (not shown) such as a motor is connected to the lower part of the frame 6. The force generated by this rotational drive source causes the chuck table 4 to rotate, for example, around an axis (rotation axis) along the vertical direction (Z1 axis direction) so that the center of the upper surface 8a becomes the center of rotation. The frame 6 is also supported by a chuck table moving mechanism (not shown), and the chuck table 4 is moved by this chuck table moving mechanism in the processing feed direction (X1 axis direction) that is roughly parallel to the upper surface 8a.

チャックテーブル4の上方には、切削ユニット(第1切削ユニット)10が配置されている。切削ユニット10は、筒状のスピンドルハウジング12を備えている。スピンドルハウジング12の内側の空間には、柱状のスピンドル14の一部が収容されている。このスピンドル14の軸心(回転軸)は、チャックテーブル4の上面8aに対して概ね平行である。 A cutting unit (first cutting unit) 10 is disposed above the chuck table 4. The cutting unit 10 has a cylindrical spindle housing 12. A part of a columnar spindle 14 is housed in the space inside the spindle housing 12. The axis (rotation axis) of this spindle 14 is generally parallel to the upper surface 8a of the chuck table 4.

スピンドルハウジング12から露出するスピンドル14の一端側には、砥粒を含む切り刃を備えた切削ブレード(第1切削ブレード)16が装着されている。スピンドル14の他端側には、モーター等の回転駆動源(不図示)が連結されており、スピンドル14の一端側に装着された切削ブレード16は、この回転駆動源が生じる力によって、スピンドル14の軸心の周りに回転する。切削ブレード16の傍には、切削ブレード16や被加工物11に対して水等の液体(切削液)を供給できるノズル(不図示)が配置されている。 A cutting blade (first cutting blade) 16 with a cutting edge containing abrasive grains is attached to one end of the spindle 14 exposed from the spindle housing 12. A rotary drive source such as a motor (not shown) is connected to the other end of the spindle 14, and the cutting blade 16 attached to one end of the spindle 14 rotates around the axis of the spindle 14 by the force generated by this rotary drive source. A nozzle (not shown) is arranged next to the cutting blade 16 to supply a liquid (cutting fluid) such as water to the cutting blade 16 and the workpiece 11.

スピンドルハウジング12(切削ユニット10)は、例えば、切削ユニット移動機構(不図示)に支持されている。切削ユニット10は、この切削ユニット移動機構によって、チャックテーブル4の上面8aに対して概ね平行、且つ加工送り方向に対して概ね垂直な割り出し送り方向(Y1軸方向)と、上面8aに対して概ね垂直な鉛直方向と、に移動する。 The spindle housing 12 (cutting unit 10) is supported, for example, by a cutting unit movement mechanism (not shown). The cutting unit 10 is moved by this cutting unit movement mechanism in an indexing feed direction (Y1 axis direction) that is generally parallel to the upper surface 8a of the chuck table 4 and generally perpendicular to the machining feed direction, and in a vertical direction that is generally perpendicular to the upper surface 8a.

チャックテーブル4で被加工物11の裏面11b側を保持する際には、被加工物11の裏面11b等を上面8aに接触させた上で、バルブを開き、吸引源の負圧を作用させる。これにより、被加工物11は、負圧に起因する吸引力でチャックテーブル4に保持され、表面11a側が上方に露出した状態になる。 When holding the back surface 11b of the workpiece 11 on the chuck table 4, the back surface 11b of the workpiece 11 is brought into contact with the top surface 8a, the valve is opened, and negative pressure from the suction source is applied. As a result, the workpiece 11 is held on the chuck table 4 by the suction force caused by the negative pressure, and the front surface 11a is exposed upward.

被加工物11をチャックテーブル4で保持した後には、被加工物11の外周縁11cを含む環状の領域に切削ブレード16を切り込ませ、その表面11a側の一部を除去する(第1切削ステップ)。具体的には、まず、切削ブレード16の下端が被加工物11の表面11aと裏面11bとの間の高さ(位置)に位置付けられるように、鉛直方向における切削ユニット10の位置を切削ユニット移動機構で調整する。 After the workpiece 11 is held by the chuck table 4, the cutting blade 16 is inserted into the annular area including the outer peripheral edge 11c of the workpiece 11, and a portion of the front surface 11a side is removed (first cutting step). Specifically, first, the position of the cutting unit 10 in the vertical direction is adjusted by the cutting unit movement mechanism so that the lower end of the cutting blade 16 is positioned at a height (position) between the front surface 11a and the back surface 11b of the workpiece 11.

次に、切削ブレード16を回転させて、ノズルからの液体の供給を開始する。また、外周縁11cを含む環状の領域に切削ブレード16を切り込ませるように、上面8aに対して概ね平行な方向におけるチャックテーブル4の位置と切削ユニット10の位置との関係を、チャックテーブル移動機構と切削ユニット移動機構とで調整する。その後、鉛直方向に沿う軸の周りにチャックテーブル4を1周以上回転させる。 Next, the cutting blade 16 is rotated to start supplying liquid from the nozzle. The relationship between the position of the chuck table 4 and the position of the cutting unit 10 in a direction generally parallel to the top surface 8a is adjusted by the chuck table movement mechanism and the cutting unit movement mechanism so that the cutting blade 16 cuts into the annular region including the outer periphery 11c. After that, the chuck table 4 is rotated one or more times around an axis along the vertical direction.

これにより、切削ブレード16を被加工物11の外周縁11cに沿って切り込ませ、外周縁11cを含む環状の領域の表面11a側の一部を除去できる。すなわち、被加工物11の表面11a側の外周部には、円柱の側面に相当する形状を有し表面11aに対して概ね垂直な側面11eが形成される。また、被加工物11の裏面11b側には、環状の領域の他の一部でなる環状の残留部11fが残留する。 This allows the cutting blade 16 to cut along the outer peripheral edge 11c of the workpiece 11, removing a portion of the surface 11a side of the annular region including the outer peripheral edge 11c. That is, a side 11e that has a shape equivalent to the side of a cylinder and is generally perpendicular to the surface 11a is formed on the outer peripheral portion of the surface 11a side of the workpiece 11. Also, an annular remaining portion 11f consisting of another portion of the annular region remains on the back surface 11b side of the workpiece 11.

なお、本実施形態では、切削ブレード16の下端を、表面11a側からの距離が被加工物11の仕上がり厚さ(加工後の被加工物11の厚さ)を超える高さ(位置)に位置付けた状態で、被加工物11に切削ブレード16を切り込ませる。つまり、被加工物11の表面11a側から、被加工物11の仕上がり厚さに相当する深さを超える深さまで切削ブレード16を切り込ませる。その結果、被加工物11に形成される側面11eの高さ(鉛直方向の長さ)は、被加工物11の仕上がり厚さよりも大きくなる。 In this embodiment, the cutting blade 16 is cut into the workpiece 11 with the lower end of the cutting blade 16 positioned at a height (position) where the distance from the surface 11a side exceeds the finished thickness of the workpiece 11 (the thickness of the workpiece 11 after processing). In other words, the cutting blade 16 is cut from the surface 11a side of the workpiece 11 to a depth that exceeds the depth equivalent to the finished thickness of the workpiece 11. As a result, the height (vertical length) of the side surface 11e formed on the workpiece 11 becomes greater than the finished thickness of the workpiece 11.

被加工物11に切削ブレード16を切り込ませ、表面11aに対して概ね垂直な側面11eと、環状の残留部11fと、を形成した後には、裏面11b側から被加工物11を研削して仕上がり厚さまで薄くする。具体的には、まず、この加工に適した研削装置(複合的な加工装置)のチャックテーブル(第2チャックテーブル)で被加工物11の表面11a側を保持する(第2保持ステップ)。 After cutting the workpiece 11 with the cutting blade 16 to form the side surface 11e that is roughly perpendicular to the surface 11a and the annular remaining portion 11f, the workpiece 11 is ground from the back surface 11b side to thin it down to the finished thickness. Specifically, first, the surface 11a side of the workpiece 11 is held by the chuck table (second chuck table) of a grinding device (combined processing device) suitable for this processing (second holding step).

図4は、研削装置(複合的な加工装置)22のチャックテーブル(第2チャックテーブル)24により保持された被加工物11が裏面11b側から加工される様子を示す斜視図であり、図5は、チャックテーブル24により保持された被加工物11が裏面11b側から加工される様子を示す断面図である。 Figure 4 is an oblique view showing how the workpiece 11 held by the chuck table (second chuck table) 24 of the grinding device (combined processing device) 22 is processed from the back surface 11b side, and Figure 5 is a cross-sectional view showing how the workpiece 11 held by the chuck table 24 is processed from the back surface 11b side.

図4及び図5に示すように、研削装置22は、被加工物11を保持できるように構成されたチャックテーブル24を備えている。チャックテーブル24の構造は、切削装置2が備えるチャックテーブル4の構造と類似している。例えば、チャックテーブル24は、セラミックス等を用いて形成された円盤状の枠体26を含む。枠体26の上面側には、円形状の開口を上端に持つ凹部26aが形成されている。 As shown in Figures 4 and 5, the grinding device 22 is equipped with a chuck table 24 configured to hold the workpiece 11. The structure of the chuck table 24 is similar to the structure of the chuck table 4 equipped in the cutting device 2. For example, the chuck table 24 includes a disk-shaped frame body 26 formed using ceramics or the like. A recess 26a having a circular opening at the upper end is formed on the upper surface side of the frame body 26.

枠体26の凹部26aには、セラミックス等を用いて多孔質の円盤状に形成された保持板28が固定されている。保持板28の上面28aは、円錐の側面に相当する形状に構成されており、被加工物11をチャックテーブル24で保持する際には、この上面28aに被加工物11の表面11a等が接触する。 A holding plate 28 formed in a porous disk shape using ceramics or the like is fixed to the recess 26a of the frame 26. The upper surface 28a of the holding plate 28 is configured in a shape corresponding to the side of a cone, and when the workpiece 11 is held by the chuck table 24, the surface 11a of the workpiece 11 comes into contact with this upper surface 28a.

なお、図5等では、上面28aが平坦に表現されているが、上面28aの中心と外周縁との高さの差(高低差)は、10μm~30μm程度である。また、被加工物11の表面11aには、予め樹脂等でなる保護部材を貼付しておいても良い。この場合には、保持板28の上面28aに保護部材が接触する。 In FIG. 5 and other figures, the upper surface 28a is depicted as flat, but the difference in height (height difference) between the center and the outer periphery of the upper surface 28a is approximately 10 μm to 30 μm. A protective member made of resin or the like may be attached in advance to the surface 11a of the workpiece 11. In this case, the protective member comes into contact with the upper surface 28a of the holding plate 28.

保持板28の下面側は、枠体26の内部に設けられた流路26bや、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。そのため、保持板28の上面28aに被加工物11の表面11a等を接触させて、バルブを開き、吸引源の負圧を作用させれば、被加工物11は、負圧に起因する吸引力でチャックテーブル24に保持される。 The lower side of the holding plate 28 is connected to a suction source (not shown) such as an ejector via a flow path 26b provided inside the frame 26, a valve (not shown), etc. Therefore, when the surface 11a of the workpiece 11 is brought into contact with the upper surface 28a of the holding plate 28, the valve is opened, and negative pressure from the suction source is applied, the workpiece 11 is held to the chuck table 24 by the suction force caused by the negative pressure.

枠体26の下部には、モーター等の回転駆動源(不図示)が連結されている。チャックテーブル24は、この回転駆動源が生じる力によって、上面28aの中心が回転の中心となるように、鉛直方向(Z2軸方向)に対して平行な軸(回転軸)、又は、鉛直方向から僅かに傾いた軸(回転軸)の周りに回転する。また、枠体26は、チャックテーブル移動機構(不図示)に支持されており、チャックテーブル24は、このチャックテーブル移動機構によって、第1水平方向(X2軸方向)に移動する。 A rotational drive source (not shown) such as a motor is connected to the lower part of the frame 26. The force generated by this rotational drive source rotates the chuck table 24 around an axis (rotation axis) parallel to the vertical direction (Z2 axis direction) or an axis (rotation axis) slightly tilted from the vertical direction, with the center of the upper surface 28a as the center of rotation. The frame 26 is also supported by a chuck table moving mechanism (not shown), and the chuck table 24 moves in the first horizontal direction (X2 axis direction) by this chuck table moving mechanism.

チャックテーブル24の上方には、研削ユニット30が配置されている。研削ユニット30は、例えば、筒状のスピンドルハウジング(不図示)を備えている。スピンドルハウジングの内側の空間には、柱状のスピンドル32の一部が収容されている。スピンドル32の軸心(回転軸)は、例えば、鉛直方向に対して平行、又は僅かに傾いており、チャックテーブル24の上面28aに対して交差する。 A grinding unit 30 is disposed above the chuck table 24. The grinding unit 30 includes, for example, a cylindrical spindle housing (not shown). A portion of a columnar spindle 32 is housed in the space inside the spindle housing. The axis (rotation axis) of the spindle 32 is, for example, parallel to the vertical direction or slightly inclined, and intersects with the upper surface 28a of the chuck table 24.

スピンドル32の下端部には、例えば、円盤状のマウント34が設けられている。マウント34の外周部には、このマウント34を厚さの方向に貫通する複数の穴(不図示)が形成されており、各穴には、ボルト36等が挿入される。マウント34の下面には、このマウント34と概ね直径が等しい円盤状の研削ホイール38が、ボルト36等によって固定されている。 At the lower end of the spindle 32, for example, a disk-shaped mount 34 is provided. A plurality of holes (not shown) are formed on the outer periphery of the mount 34, penetrating the mount 34 in the thickness direction, and a bolt 36 or the like is inserted into each hole. A disk-shaped grinding wheel 38, which has roughly the same diameter as the mount 34, is fixed to the underside of the mount 34 by a bolt 36 or the like.

研削ホイール38は、ステンレス鋼やアルミニウム等の金属を用いて形成された円盤状のホイール基台40を含む。ホイール基台40の下面には、このホイール基台40の周方向に沿って複数の研削砥石42が固定されている。スピンドル32の上端側には、モーター等の回転駆動源(不図示)が連結されている。研削ホイール38は、この回転駆動源が生じる力によって、スピンドル32の軸心の周りに回転する。 The grinding wheel 38 includes a disk-shaped wheel base 40 made of a metal such as stainless steel or aluminum. A plurality of grinding stones 42 are fixed to the underside of the wheel base 40 along the circumferential direction of the wheel base 40. A rotational drive source (not shown) such as a motor is connected to the upper end side of the spindle 32. The grinding wheel 38 rotates around the axis of the spindle 32 by the force generated by this rotational drive source.

研削ホイール38の傍、又は研削ホイール38の内部には、研削砥石42や被加工物11に対して水等の液体(研削液)を供給できるように構成された研削用ノズル(不図示)が設けられている。研削ユニット30のスピンドルハウジングは、例えば、研削ユニット移動機構(不図示)に支持されている。研削ユニット30は、この研削ユニット移動機構によって、鉛直方向に移動する。 A grinding nozzle (not shown) is provided next to or inside the grinding wheel 38, and is configured to supply a liquid (grinding fluid) such as water to the grinding stone 42 and the workpiece 11. The spindle housing of the grinding unit 30 is supported, for example, by a grinding unit movement mechanism (not shown). The grinding unit 30 moves vertically by this grinding unit movement mechanism.

また、この研削ユニット30と干渉しない位置には、切削ユニット(第2切削ユニット)44が配置されている。切削ユニット44は、筒状のスピンドルハウジング46を備えている。スピンドルハウジング46の内側の空間には、柱状のスピンドル48の一部が収容されている。スピンドル48の軸心(回転軸)は、研削ユニット30が備えるスピンドル32の軸心に対して交差(例えば、直交)している。 A cutting unit (second cutting unit) 44 is disposed in a position that does not interfere with the grinding unit 30. The cutting unit 44 includes a cylindrical spindle housing 46. A portion of a columnar spindle 48 is housed in the space inside the spindle housing 46. The axis (rotation axis) of the spindle 48 intersects (e.g., perpendicular to) the axis of the spindle 32 included in the grinding unit 30.

スピンドルハウジング46から露出するスピンドル48の一端側には、砥粒を含む切り刃を備えた切削ブレード(第2切削ブレード)50が装着されている。この切削ブレード50(切り刃)の幅は、少なくとも、残留部11fの幅(径方向の長さ)よりも大きい。スピンドル48の他端側には、モーター等の回転駆動源(不図示)が連結されており、スピンドル48の一端側に装着された切削ブレード50は、この回転駆動源が生じる力によって、スピンドル48の軸心の周りに回転する。 A cutting blade (second cutting blade) 50 with a cutting edge containing abrasive grains is attached to one end of the spindle 48 exposed from the spindle housing 46. The width of this cutting blade 50 (cutting edge) is at least greater than the width (radial length) of the remaining portion 11f. A rotary drive source such as a motor (not shown) is connected to the other end of the spindle 48, and the cutting blade 50 attached to one end of the spindle 48 rotates around the axis of the spindle 48 by the force generated by this rotary drive source.

切削ブレード50の傍には、切削ブレード50や被加工物11に対して水等の液体(切削液)を供給できる切削用ノズル(不図示)が配置されている。切削ユニット44のスピンドルハウジング46は、例えば、切削ユニット移動機構(不図示)に支持されている。切削ユニット44は、この切削ユニット移動機構によって、第1水平方向及び鉛直方向に対して概ね垂直な第2水平方向(Y2軸方向)と、鉛直方向と、に移動する。 A cutting nozzle (not shown) is disposed next to the cutting blade 50, which can supply liquid (cutting fluid) such as water to the cutting blade 50 and the workpiece 11. The spindle housing 46 of the cutting unit 44 is supported, for example, by a cutting unit movement mechanism (not shown). The cutting unit 44 is moved by this cutting unit movement mechanism in a second horizontal direction (Y2 axis direction) that is approximately perpendicular to the first horizontal direction and vertical direction, and in the vertical direction.

チャックテーブル24で被加工物11の表面11a側を保持する際には、被加工物11の表面11a等を上面28aに接触させた上で、バルブを開き、吸引源の負圧を作用させる。これにより、被加工物11は、負圧に起因する吸引力でチャックテーブル24に保持され、裏面11b側が上方に露出した状態になる。 When holding the front surface 11a of the workpiece 11 on the chuck table 24, the front surface 11a of the workpiece 11 is brought into contact with the upper surface 28a, the valve is opened, and negative pressure from the suction source is applied. As a result, the workpiece 11 is held on the chuck table 24 by the suction force caused by the negative pressure, and the back surface 11b is exposed upward.

被加工物11をチャックテーブル24で保持した後には、被加工物11に対して切削ブレード50を切り込ませ、残留部11fを除去する(第2切削ステップ)。また、被加工物11の裏面11b側から研削ホイール38の研削砥石42を接触させて、被加工物11を仕上がり厚さまで薄くする(研削ステップ)。 After the workpiece 11 is held by the chuck table 24, the cutting blade 50 is cut into the workpiece 11 to remove the remaining portion 11f (second cutting step). In addition, the grinding stone 42 of the grinding wheel 38 is brought into contact with the back surface 11b side of the workpiece 11 to thin the workpiece 11 to the finished thickness (grinding step).

具体的には、まず、研削ホイール38を回転させる際の研削砥石42の軌跡が被加工物11の中心の直上を通り、また、残留部11fの直上に切削ブレード50が配置されるように、チャックテーブル24の位置、研削ユニット30の位置、及び切削ユニット44の位置の関係を、チャックテーブル移動機構と切削ユニット移動機構とで調整する。 Specifically, first, the relationship between the positions of the chuck table 24, the grinding unit 30, and the cutting unit 44 is adjusted by the chuck table movement mechanism and the cutting unit movement mechanism so that the trajectory of the grinding stone 42 when rotating the grinding wheel 38 passes directly above the center of the workpiece 11 and the cutting blade 50 is positioned directly above the remaining portion 11f.

そして、図4及び図5に示すように、チャックテーブル24を回転させた状態で、切削ブレード50を回転させて、切削用ノズルから液体を供給しながら、切削ユニット44を徐々に下降させる。同様に、チャックテーブル24を回転させた状態で、研削ホイール38を回転させて、研削用ノズルから液体を供給しながら、研削ユニット30を徐々に下降させる。これにより、切削ブレード50を切り込ませて残留部11fを除去しながら、被加工物11を裏面11b側から研削して薄くすることができる。 As shown in Figures 4 and 5, while the chuck table 24 is rotating, the cutting blade 50 is rotated and the cutting unit 44 is gradually lowered while liquid is supplied from the cutting nozzle. Similarly, while the chuck table 24 is rotating, the grinding wheel 38 is rotated and the grinding unit 30 is gradually lowered while liquid is supplied from the grinding nozzle. This allows the workpiece 11 to be ground from the back surface 11b side to make it thinner, while the cutting blade 50 cuts in to remove the remaining portion 11f.

図6は、被加工物11に切り込ませる切削ブレード50と被加工物11との位置の関係を示す断面図である。図6に示すように、本実施形態では、環状の残留部11fの内側の縁よりも被加工物11の径方向で内側の位置まで切削ブレード50が切り込むように、チャックテーブル24の位置と切削ユニット44の位置との関係が調整される。つまり、被加工物11の径方向で内側に位置する切削ブレード50の側面を、径方向で側面11eよりも内側に位置付ける。 Figure 6 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the cutting blade 50 cutting into the workpiece 11 and the workpiece 11. As shown in Figure 6, in this embodiment, the relationship between the position of the chuck table 24 and the position of the cutting unit 44 is adjusted so that the cutting blade 50 cuts into the workpiece 11 to a position radially inward of the inner edge of the annular remaining portion 11f. In other words, the side of the cutting blade 50 located radially inward of the workpiece 11 is positioned radially inward of the side surface 11e.

また、本実施形態では、環状の残留部11fを完全に除去できる深さまで切削ブレード50が切り込むように、切削ユニット44を下降させる。つまり、切削ブレード50の下端の高さ(位置)が残留部11fの下端の高さ(位置)より低くなるまで、切削ユニット44を下降させる。ただし、切削ブレード50の下端の高さ(位置)が研削後の被加工物11の裏面11gの高さ(位置)よりも高い状態で、切削ユニット44の下降を停止させる必要がある。 In addition, in this embodiment, the cutting unit 44 is lowered so that the cutting blade 50 cuts to a depth that allows the annular remaining portion 11f to be completely removed. In other words, the cutting unit 44 is lowered until the height (position) of the bottom end of the cutting blade 50 is lower than the height (position) of the bottom end of the remaining portion 11f. However, the lowering of the cutting unit 44 must be stopped when the height (position) of the bottom end of the cutting blade 50 is higher than the height (position) of the back surface 11g of the workpiece 11 after grinding.

このように、本実施形態では、環状の残留部11fの内側の縁よりも被加工物11の径方向で内側の位置まで切削ブレード50を切り込ませ、また、切削ブレード50の下端の高さ(位置)が残留部11fの下端の高さ(位置)より低く研削後の被加工物11の裏面11gの高さ(位置)よりも高くなるように切削ブレード50を切り込ませる。よって、切削の精度を高め難い本実施形態のような研削装置22を用いる場合にも、被加工物11の残留部11fを確実に除去できる。 In this manner, in this embodiment, the cutting blade 50 is caused to cut into the workpiece 11 to a position radially inward of the inner edge of the annular remaining portion 11f, and the cutting blade 50 is caused to cut into the workpiece 11 so that the height (position) of the bottom end of the cutting blade 50 is lower than the height (position) of the bottom end of the remaining portion 11f and higher than the height (position) of the back surface 11g of the workpiece 11 after grinding. Therefore, even when using a grinding device 22 such as that of this embodiment, in which it is difficult to improve cutting accuracy, the remaining portion 11f of the workpiece 11 can be reliably removed.

なお、本実施形態では、切削ブレード50の下端が研削砥石42の下端よりも先行して下降するように、研削ユニット30と切削ユニット44とを下降させる。つまり、研削ユニット30の下降は、切削ユニット44の下降を開始させた後に開始され、研削砥石42を残留部11fに接触させない。このように、研削砥石42を残留部11fに接触させることなく、残留部11fを切削ブレード50により除去することで、研削砥石42との接触により残留部11fが被加工物11から分離して大きな端材になることがない。 In this embodiment, the grinding unit 30 and the cutting unit 44 are lowered so that the lower end of the cutting blade 50 descends before the lower end of the grinding wheel 42. In other words, the grinding unit 30 begins to descend after the cutting unit 44 begins to descend, and the grinding wheel 42 does not come into contact with the remaining portion 11f. In this way, the remaining portion 11f is removed by the cutting blade 50 without the grinding wheel 42 coming into contact with the remaining portion 11f, so that the remaining portion 11f does not separate from the workpiece 11 due to contact with the grinding wheel 42 and become a large scrap material.

図7は、被加工物11が仕上がり厚さまで薄くなる様子を示す斜視図であり、図8は、被加工物11が仕上がり厚さまで薄くなる様子を示す断面図である。図7及び図8に示すように、残留部11fが除去され、被加工物11が仕上がり厚さまで薄くなると、被加工物11の加工を終了させる。なお、被加工物11が仕上がり厚さまで薄くなると、研削後の裏面11gが上方に露出した状態になる。 Figure 7 is a perspective view showing how the workpiece 11 is thinned to the finished thickness, and Figure 8 is a cross-sectional view showing how the workpiece 11 is thinned to the finished thickness. As shown in Figures 7 and 8, when the remaining portion 11f is removed and the workpiece 11 is thinned to the finished thickness, the processing of the workpiece 11 is completed. When the workpiece 11 is thinned to the finished thickness, the back surface 11g after grinding is exposed upward.

以上のように、本実施形態にかかる被加工物の加工方法では、切削装置2のチャックテーブル(第1チャックテーブル)4により保持された被加工物11の外周縁11cを含む環状の領域に対して、回転させた切削ブレード(第1切削ブレード)16を被加工物11の表面11a側から切り込ませて、裏面11b側に残留する環状の残留部11fを形成し、その後、被加工物11の研削に使用される研削装置(複合的な加工装置)22のチャックテーブル(第2チャックテーブル)24によって保持された状態で、回転させた切削ブレード(第2切削ブレード)50を被加工物11の裏面11b側から切り込ませて、残留部11fを除去するので、被加工物11を研削する際に、残留部11fが被加工物11から分離して大きな端材になることがない。 As described above, in the method for processing the workpiece according to this embodiment, the rotating cutting blade (first cutting blade) 16 is cut into the annular region including the outer peripheral edge 11c of the workpiece 11 held by the chuck table (first chuck table) 4 of the cutting device 2 from the front surface 11a side of the workpiece 11 to form an annular remaining portion 11f remaining on the back surface 11b side. Then, while the workpiece 11 is held by the chuck table (second chuck table) 24 of the grinding device (combined processing device) 22 used for grinding the workpiece 11, the rotating cutting blade (second cutting blade) 50 is cut into the workpiece 11 from the back surface 11b side to remove the remaining portion 11f. Therefore, when the workpiece 11 is ground, the remaining portion 11f does not separate from the workpiece 11 and become a large scrap.

また、本実施形態にかかる被加工物の加工方法では、回転させた切削ブレード50を、残留部11fの内側の縁よりも被加工物11の径方向で内側の位置まで切り込ませるので、例えば、研削ホイール38と切削ブレード50との双方を使用する研削装置22を用いる場合のように、切削ブレード50による切削の精度を高め難い状況でも、残留部11fを確実に除去できる。 In addition, in the method for processing the workpiece according to this embodiment, the rotating cutting blade 50 is caused to cut into the workpiece 11 to a position radially inward from the inner edge of the remaining portion 11f, so that the remaining portion 11f can be reliably removed even in situations where it is difficult to improve the accuracy of cutting by the cutting blade 50, such as when using a grinding device 22 that uses both a grinding wheel 38 and a cutting blade 50.

更に、本実施形態にかかる被加工物の加工方法では、切削ブレード50を切り込ませて残留部11fを除去しながら、被加工物11を裏面11b側から研削するので、例えば、切削ブレード50を切り込ませて残留部11fを完全に除去した上で、被加工物11を裏面11b側から研削する場合に比べて、被加工物11の加工に要する時間を大幅に短くできる。 Furthermore, in the method for processing the workpiece according to this embodiment, the workpiece 11 is ground from the back surface 11b side while the cutting blade 50 is cut in to remove the remaining portion 11f. This significantly shortens the time required to process the workpiece 11 compared to, for example, cutting in to completely remove the remaining portion 11f with the cutting blade 50 and then grinding the workpiece 11 from the back surface 11b side.

なお、本発明は、上述した実施形態の記載に制限されず種々変更して実施可能である。例えば、被加工物11に残留部11fを形成した後、チャックテーブル(第2チャックテーブル)24で被加工物11を保持する前には、被加工物11と別の被加工物との貼り合わせをはじめとする任意の処理を被加工物11に対して行うことができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified in various ways. For example, after the remaining portion 11f is formed in the workpiece 11, any processing, including bonding the workpiece 11 to another workpiece, can be performed on the workpiece 11 before the workpiece 11 is held by the chuck table (second chuck table) 24.

また、上述した実施形態では、切削ブレード(第2切削ブレード)50を切り込ませて残留部11fを除去しながら、被加工物11を裏面11b側から研削しているが、切削ブレード50を切り込ませて残留部11fを完全に除去した上で、被加工物11を裏面11b側から研削しても良い。なお、この場合には、残留部11fを形成する場合と同様の手順で切削ブレード50を被加工物11に切り込ませ、残留部11fを除去しても良い。 In the above embodiment, the workpiece 11 is ground from the back surface 11b side while the cutting blade (second cutting blade) 50 is cut in to remove the residual portion 11f, but the workpiece 11 may be ground from the back surface 11b side after the cutting blade 50 is cut in to completely remove the residual portion 11f. In this case, the cutting blade 50 may be cut into the workpiece 11 and the residual portion 11f may be removed in the same procedure as when the residual portion 11f is formed.

更に、上述した実施形態では、切削装置2と研削装置(複合的な加工装置)22とを用いて被加工物11を加工しているが、研削装置(複合的な加工装置)22のみを用いて同様の手順で被加工物11を加工することもできる。この場合には、チャックテーブル(第1チャックテーブル)24によって保持された被加工物11に対して切削ブレード(第1切削ブレード)50を切り込ませることで、残留部11fを形成することになる。 In addition, in the above-described embodiment, the workpiece 11 is processed using the cutting device 2 and the grinding device (combined processing device) 22, but the workpiece 11 can also be processed in a similar manner using only the grinding device (combined processing device) 22. In this case, the cutting blade (first cutting blade) 50 is caused to cut into the workpiece 11 held by the chuck table (first chuck table) 24, thereby forming the remaining portion 11f.

その他、上述した実施形態及び変形例にかかる構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, etc. of the above-mentioned embodiments and variations can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

11 :被加工物
11a :表面
11b :裏面
11c :外周縁(外周面)
11d :切り欠き部分
11e :側面
11f :残留部
11g :裏面
13 :分割予定ライン(ストリート)
15 :デバイス
2 :切削装置
4 :チャックテーブル(第1チャックテーブル)
6 :枠体
6a :凹部
6b :流路
8 :保持板
8a :上面
10 :切削ユニット(第1切削ユニット)
12 :スピンドルハウジング
14 :スピンドル
16 :切削ブレード(第1切削ブレード)
22 :研削装置(複合的な加工装置)
24 :チャックテーブル(第1チャックテーブル、第2チャックテーブル)
26 :枠体
26a :凹部
26b :流路
28 :保持板
28a :上面
30 :研削ユニット
32 :スピンドル
34 :マウント
36 :ボルト
38 :研削ホイール
40 :ホイール基台
42 :研削砥石
44 :切削ユニット(第2切削ユニット)
46 :スピンドルハウジング
48 :スピンドル
50 :切削ブレード(第1切削ブレード、第2切削ブレード)
11: Workpiece 11a: Surface 11b: Back surface 11c: Outer peripheral edge (outer peripheral surface)
11d: Notch portion 11e: Side surface 11f: Remaining portion 11g: Back surface 13: Planned division line (street)
15: Device 2: Cutting device 4: Chuck table (first chuck table)
6: Frame 6a: Recess 6b: Flow path 8: Holding plate 8a: Upper surface 10: Cutting unit (first cutting unit)
12: Spindle housing 14: Spindle 16: Cutting blade (first cutting blade)
22: Grinding equipment (complex processing equipment)
24: Chuck table (first chuck table, second chuck table)
26: Frame 26a: Recess 26b: Flow path 28: Holding plate 28a: Upper surface 30: Grinding unit 32: Spindle 34: Mount 36: Bolt 38: Grinding wheel 40: Wheel base 42: Grinding stone 44: Cutting unit (first 2 cutting units)
46: Spindle housing 48: Spindle 50: Cutting blade (first cutting blade, second cutting blade)

Claims (2)

分割予定ラインによって区画された複数の領域のそれぞれにデバイスが設けられたデバイス領域と、該デバイス領域を囲む外周余剰領域と、を表面側に有する円盤状の被加工物を裏面側から研削する際に用いられる被加工物の加工方法であって、
該被加工物の該裏面側を第1チャックテーブルで保持する第1保持ステップと、
該第1チャックテーブルにより保持された該被加工物の外周縁を含む環状の領域に対して、回転させた第1切削ブレードを該被加工物の該表面側から該被加工物の仕上がり厚さに相当する深さを超える深さまで切り込ませながら、該第1チャックテーブルを回転させることにより、該環状の領域の該表面側の一部が除去されることで残留する環状の残留部を形成する第1切削ステップと、
該被加工物の該表面側を第2チャックテーブルで保持する第2保持ステップと、
該第2チャックテーブルにより保持された該被加工物に対して、回転させた第2切削ブレードを、該被加工物の該裏面側から、該残留部の内側の縁よりも該被加工物の径方向で内側の位置まで、且つ、該残留部が除去される深さまで切り込ませながら、該第2チャックテーブルを回転させることにより、該残留部を除去する第2切削ステップと、
該第2チャックテーブルにより保持された該被加工物に対して、該第2切削ブレードの回転軸に対して交差する回転軸で回転させた研削ホイールが備える研削砥石を、該被加工物の該裏面側から接触させながら、該第2チャックテーブルを回転させることにより、該被加工物を該裏面側から研削して該仕上がり厚さまで薄くする研削ステップと、を含む被加工物の加工方法。
A method for processing a workpiece used in grinding, from a back surface side, a disk-shaped workpiece having, on a front surface side, a device region in which a device is provided in each of a plurality of regions partitioned by a planned division line, and a peripheral surplus region surrounding the device region, the method comprising the steps of:
a first holding step of holding the back surface side of the workpiece by a first chuck table;
a first cutting step in which a rotating first cutting blade is caused to cut into an annular region including an outer peripheral edge of the workpiece held by the first chuck table from the surface side of the workpiece to a depth exceeding a depth corresponding to a finished thickness of the workpiece, while rotating the first chuck table, thereby removing a portion of the surface side of the annular region to form a remaining annular remaining portion;
a second holding step of holding the front surface side of the workpiece by a second chuck table;
a second cutting step of removing the remaining portion by rotating the second chuck table while cutting a rotated second cutting blade into the workpiece held by the second chuck table from the back surface side of the workpiece to a position radially inward of the inner edge of the remaining portion of the workpiece and to a depth at which the remaining portion is removed;
a grinding step of grinding the workpiece from the back side to the finished thickness by rotating the second chuck table while contacting the workpiece held by the second chuck table with a grinding stone attached to a grinding wheel rotated about a rotation axis intersecting the rotation axis of the second cutting blade from the back side of the workpiece.
該第2切削ステップにより該残留部を除去しながら、該研削ステップにより該被加工物を該裏面側から研削する請求項1に記載の被加工物の加工方法。 The method for processing a workpiece according to claim 1, wherein the workpiece is ground from the back side in the grinding step while the residual portion is removed in the second cutting step.
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