JP7627557B2 - 着色層を有するガラスおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、
任意形状の着色層を有する、ガラス。
片面または両面に着色層を有する、(1)に記載のガラス。
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層は、第2主面の着色層と重ならない、(1)に記載のガラス。
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層の一部または全部が、第2主面の着色層の一部または全部と重なる、(1)に記載のガラス。
上記遮光部および上記透光部のガラス組成が同じであり、
上記遮光部が着色層からなる、
(1)~(4)のいずれかに記載のガラスからなるカバーガラス。
還元雰囲気で熱処理する工程を含む、
Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、任意形状の着色層を有するガラスの製造方法。
着色層の厚みは特に制限されないが、好ましくは1~300μmであり、より好ましくは20~200μmで、更に好ましくは30~150μmである。
本実施形態に係るガラスにおいて、可視域(400nm~760nmの波長域)から赤外域にかけての波長域における着色層の分光透過率は、波長が長くなるにつれて増加傾向を示す。一方、着色層のODは、波長が長くなるにつれて減少傾向を示す。ODとは、光学密度または光学濃度(optical density)であり、下記式で示すように、入射光強度I0と透過光強度Iの比の常用対数に負号(マイナス)を付けた数値として表される。
OD=-log10(I/Io)
本実施形態に係るガラスにおいて、屈折率ndは、好ましくは1.70以上であり、さらには1.73以上、1.75以上、1.76以上、1.77以上、1.78以上、1.79以上、1.80以上の順により好ましい。屈折率ndの上限は、特に限定されないが、通常2.5であり、好ましくは2.3である。
本実施形態に係るガラスの組成について、以下に非制限的な例を示す。
Pb、As、Cd、Tl、Be、Seは、いずれも毒性を有する。そのため、本実施形態のガラスはこれら元素をガラス成分として含有しないことが好ましい。
本実施形態に係るガラスは、着色の無いガラスを調製し、そこに任意形状の着色層を形成することで得られる。着色の無いガラスは、公知のガラス製造方法に従って作製すればよい。例えば、複数種の化合物を調合し、十分混合してバッチ原料とし、バッチ原料を熔融容器中に入れて熔融、清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得る。あるいは、バッチ原料を熔融容器中に入れて粗熔解(ラフメルト)する。粗熔解によって得られた熔融物を急冷、粉砕してカレットを作製する。さらにカレットを熔融容器中に入れて加熱、再熔融(リメルト)して熔融ガラスとし、さらに清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得ることもできる。熔融ガラスの成形、徐冷には、公知の方法を適用すればよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、着色層は、ガラス表面に任意形状の金属膜を形成する工程、および、還元雰囲気で熱処理をする工程により形成できる。
本実施形態において形成される着色層の着色は、ガラス成分に起因する還元色と考えられ、特に遷移金属に起因する還元色であると考えられる。通常、ガラス成形体を、水素を3~5体積%程度の低濃度で含む雰囲気中で熱処理しても、ガラスはほとんど還元色を呈しない。しかし、上記金属膜は、雰囲気中の水素イオンを吸蔵するため、ガラスの金属膜と接触する部分は、金属膜と接触していない部分と比べて、水素イオンが多く供給され、その結果、還元反応が速く進行する。そのため、ガラスの金属膜と接触する部分は濃く着色する。金属膜による水素イオンの吸蔵量は大きく、金属膜の吸蔵により雰囲気中の水素濃度が低下するほどである。このこともあって、金属膜と接触していない部分は還元反応が進行しにくい。
本実施形態に係るガラスからなる光学素子は、着色の無い光学素子を調製し、そこに任意形状の着色層を形成することで得られる。着色の無い光学素子は、公知の製造方法に従って作製すればよい。例えば、熔融ガラスを鋳型に流し込んで板状に成形し、ガラス素材を作製する。得られたガラス素材を適宜、切断、研削、研磨し、プレス成形に適した大きさ、形状のカットピースを作製する。カットピースを加熱、軟化して、公知の方法でプレス成形(リヒートプレス)し、光学素子の形状に近似する光学素子ブランクを作製する。光学素子ブランクをアニールし、公知の方法で研削、研磨して光学素子を作製する。
ガラスの構成成分に対応する酸化物、水酸化物、メタリン酸塩、炭酸塩、および硝酸塩を原材料として準備し、得られるガラスの組成が、表1に示す各組成となるように上記原材料を秤量、調合して、原材料を十分に混合した。得られた調合原料(バッチ原料)を、白金坩堝に投入し、1100~1450℃で2~3時間加熱して熔融ガラスとした。熔融ガラスを攪拌して均質化を図り、清澄してから、熔融ガラスを適当な温度に予熱した金型に鋳込んだ。鋳込んだガラスを、ガラス転移温度Tg付近で1時間程度熱処理し、炉内で室温まで放冷した。縦40mm、横60mm、厚さ15mmの大きさに加工し、40mm×60mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)して、ガラスサンプルを得た。
得られたガラスサンプルについて、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)で各ガラス成分の含有量を測定し、表1に示す各組成のとおりであることを確認した。
得られたガラスサンプルについて、屈折率nd、比重およびガラス転移温度Tgを測定した。結果を表1に示す。
JIS規格 JIS B 7071-1の屈折率測定法により、屈折率ndを測定した。
比重は、アルキメデス法により測定した。
ガラス転移温度Tgは、MACサイエンス社製の熱機械分析装置(TMA4000S)を使用し、昇温速度4℃/分にて測定した。
得られたガラスサンプルのうち、No.1のガラス組成を有するガラスサンプルを縦20mm、横20mm、厚さ1.0mmの大きさに加工し、20mm×20mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面に、スパッタリングにより任意形状の金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した(スパッタリング時の電流15mA、成膜時間900sec)。
金属膜を研磨により剥離した。平面視において成膜した金属膜と略同形状の着色層を有するガラスサンプルを得た。
波長300~2500nmにおける外部透過率を測定した。外部透過率は、ガラスサンプルの厚み方向に光を入射したときの、入射光強度に対する透過光強度の百分率[透過光強度/入射光強度×100]で定義される。なお、外部透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を図7に示す。図中、点線は着色層を有する部分の透過率であり、実線は同じ部分の着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)の透過率である。
着色層を有する部分について、波長1100nmにおける入射光強度I0および透過光強度Iを測定し、下記式によりOD(光学密度)を算出した。同じ部分について、着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)のODも同様に算出した。結果を表2に示す。
OD=-log10(I/I0)
着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)のサンプルを、厚さ10mmで、互いに平行かつ光学研磨された平面を有するように加工し、分光透過率を測定した。光学研磨された一方の平面に垂直に入射する光線の強度を強度Aとし、他方の平面から出射する光線の強度を強度Bとして、分光透過率B/Aを算出した。分光透過率が70%になる波長をλ70とした。なお、分光透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を表3に示す。
No.2のガラス組成を有するガラスサンプルを用いた他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図8に示す。
実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。結果を表3に示す。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図9に示す。
実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。結果を表3に示す。
No.4のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、厚さ0.4mmに加工し、410℃で5時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図10に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
No.5のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、440℃で12時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図11に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、金属膜としてNi膜を成膜し、430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図12に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、直径30mm、厚さ2.0mmの円形に加工し、2つの主表面を精密研磨(光学研磨)した。一方の光学研磨面(主表面)に、金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Ni膜)を成膜した。また同じサンプルの側面の全面に金属膜(Ni膜)を成膜した。
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、縦50mm、横50mm、厚さ1.0mmの四角形状に加工し、50mm×50mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面(第1主面)に、金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。また同じサンプルのもう一方の光学研磨面(第2主面)に、平面視において第1主面に形成した金属膜と重ならないように、金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、縦50mm、横50mm、厚さ1.0mmの四角形状に加工し、50mm×50mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面(第1主面)に金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。また同じサンプルのもう一方の光学研磨面(第2主面)に、第1主面に形成した金属膜と第1主面に形成した金属膜と同じ形状かつ平面視において同じ位置に、金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。そして、熱処理時間を4.5hrとした他は実施例2-2と同様にして、還元雰囲気で熱処理した。
Claims (8)
- Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、
Biイオンの含有量が0.5カチオン%以上であり、
P5+の含有量が10カチオン%以上であるガラスであって、
任意形状の着色層と非着色部とを有し、
前記着色層および前記非着色部のガラス組成が同じである、ガラス。
- 板状であり、
片面または両面に着色層を有する、請求項1に記載のガラス。 - 板状であり、
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層は、第2主面の着色層と重ならない、請求項1に記載のガラス。 - 板状であり、
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層の一部または全部が、第2主面の着色層の一部または全部と重なる、請求項1に記載のガラス。 - 着色層を有する部分の波長1100nmにおけるODが0.3以上である、請求項1~4のいずれかに記載のガラス。
- 請求項1~4のいずれかに記載のガラスからなる光学素子。
- 遮光部と透光部とを有し、
前記遮光部および前記透光部のガラス組成が同じであり、
前記遮光部が着色層からなる、
請求項1~4のいずれかに記載のガラスからなるカバーガラス。 - ガラス表面に任意形状の金属膜を形成し、還元雰囲気で熱処理して、前記金属膜と接触しているガラス表面から内部にわたって任意形状の着色層を形成する工程を含む、
Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、Biイオンの含有量が0.5カチオン%以上であり、P5+の含有量が10カチオン%以上であり、任意形状の着色層を有するガラスの製造方法。
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