JP7566540B2 - Vacuum pump - Google Patents
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 40
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 34
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 101
- 238000000034 method Methods 0.000 description 58
- 230000008569 process Effects 0.000 description 57
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XGCDHPDIERKJPT-UHFFFAOYSA-N [F].[S] Chemical compound [F].[S] XGCDHPDIERKJPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
- F04D19/042—Turbomolecular vacuum pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/40—Casings; Connections of working fluid
- F04D29/52—Casings; Connections of working fluid for axial pumps
- F04D29/522—Casings; Connections of working fluid for axial pumps especially adapted for elastic fluid pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/58—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer
- F04D29/582—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps
- F04D29/5826—Cooling at least part of the working fluid in a heat exchanger
- F04D29/5833—Cooling at least part of the working fluid in a heat exchanger flow schemes and regulation thereto
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/58—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer
- F04D29/582—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps
- F04D29/584—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps cooling or heating the machine
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/58—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer
- F04D29/582—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps
- F04D29/5853—Cooling; Heating; Diminishing heat transfer specially adapted for elastic fluid pumps heat insulation or conduction
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Description
本発明は真空ポンプに関するものであり、特に、真空ポンプ内にガスが固化して生成される堆積物(通称「デポ」という)等が隙間に堆積する量を減らすことができる真空ポンプに関するものである。 The present invention relates to a vacuum pump, and in particular to a vacuum pump that can reduce the amount of deposits (commonly known as "deposits") that are generated when gas solidifies inside the vacuum pump and accumulate in gaps.
近年、被処理基板であるウエハから半導体素子を形成するプロセスにおいて、ウエハを、高真空に保持された半導体製造装置の処理室内で処理して、製品の半導体素子を作る方法が取られている。ウエハを真空室で加工処理する半導体製造装置では、高真空度を達成して保持するためにターボ分子ポンプ部及びネジ溝ポンプ部などを備えた真空ポンプが用いられている。 In recent years, in the process of forming semiconductor elements from wafers, which are the substrates to be processed, a method has been adopted in which the wafers are processed in a processing chamber of semiconductor manufacturing equipment maintained at a high vacuum to create the product semiconductor elements. In semiconductor manufacturing equipment that processes wafers in a vacuum chamber, a vacuum pump equipped with a turbo molecular pump section and a threaded groove pump section is used to achieve and maintain a high degree of vacuum.
ターボ分子ポンプ部は、ケーシングの内部に、薄い金属製の回転可能な回転翼とケーシングに固定された固定翼を有している。そして、回転翼を、例えば数百m/秒の高速で運転させ、吸気口側から入って来る加工処理に用いたプロセスガスをポンプ内部で圧縮して排気口側から排気するようにしている。 The turbomolecular pump section has a rotatable rotor made of thin metal inside the casing and fixed blades fixed to the casing. The rotors are operated at high speeds, for example several hundred meters per second, and the process gas used in the processing that enters from the intake side is compressed inside the pump and exhausted from the exhaust side.
ところで、真空ポンプの吸気口側より取り込まれたプロセスガスの分子は、吸気された直後は高温で、真空ポンプ内で回転翼の回転に伴う排気口側への移動に伴う圧縮過程で冷却される。プロセスガスが冷却されると固体化し、固体化された副生成物が固定翼や外筒(ケーシング)内面等に付着されてデポとして堆積する。副生成物としては、塩素系や硫化フッ素系のガスが一般的である。これらのガスは、真空度が低くなり、圧力が高くなるほど昇華温度が高くなり、真空ポンプ内部にガスが固化して堆積しやすくなる。反応生成物が真空ポンプ内部に堆積すると、反応生成物の流路を狭めて真空ポンプの圧縮性能、排気性能が低下する虞がある。一方、回転翼や固定翼にアルミニウムやステンレス材等を使用している気体移送部では、余り高い温度になると、回転翼や固定翼の強度が低下して運転中に破断を起す虞がある。また、真空ポンプ内に設けられた電装品やロータを回転させる電動モータは、温度が高くなると所望の性能を発揮しない虞等がある。そのため、真空ポンプは所定の温度を維持するように温度制御が必要となる。 The process gas molecules taken in from the intake side of the vacuum pump are at a high temperature immediately after being sucked in, and are cooled in the compression process that accompanies the movement to the exhaust side as the rotor rotates in the vacuum pump. When the process gas is cooled, it solidifies, and the solidified by-products adhere to the fixed blades and the inner surface of the outer cylinder (casing), etc., and accumulate as deposits. The by-products are generally chlorine-based or sulfur fluorine-based gases. The lower the degree of vacuum and the higher the pressure, the higher the sublimation temperature of these gases, and the more likely the gases are to solidify and accumulate inside the vacuum pump. If reaction products accumulate inside the vacuum pump, the flow path of the reaction products may be narrowed, and the compression and exhaust performance of the vacuum pump may decrease. On the other hand, in gas transfer parts using aluminum or stainless steel for the rotor and fixed blades, if the temperature becomes too high, the strength of the rotor and fixed blades may decrease and break during operation. In addition, there is a risk that the electric motor that rotates the rotor and electrical equipment installed in the vacuum pump may not perform as desired when the temperature becomes high. Therefore, the vacuum pump requires temperature control to maintain a specified temperature.
そこで、反応生成物が堆積するのを抑制する真空ポンプとして、ステータの周囲に冷却装置又は加熱装置を設けてガス流路内の温度を制御し、ガス流路内のガスが固化することなく移送できるようにした構造も知られている(例えば特許文献1参照)。 Therefore, as a vacuum pump that suppresses the accumulation of reaction products, a structure is also known in which a cooling device or a heating device is provided around the stator to control the temperature in the gas flow path, allowing the gas in the gas flow path to be transported without solidifying (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、真空ポンプ内の吸入されたガスは、真空度が増して圧力が高くなるほど昇華温度が高くなり、真空ポンプ内部にガスが固化して堆積しやすくなるという特性がある。一方、回転翼や固定翼等で構成される気体移送部は、余り高い温度になると強度が低下する問題や、真空ポンプ内の電装品や電動モータの性能に悪い影響を与えることがある。したがって、真空ポンプ内の電装品や電動モータの性能に悪い影響を与えずに、また、気体移送部の強度を低下させることなく、真空ポンプを正常に運転させながら真空ポンプ内部におけるガスの固化を抑制できるように温度制御を行うことが好ましい。 However, the gas sucked into the vacuum pump has a characteristic that the sublimation temperature increases as the degree of vacuum increases and the pressure increases, making the gas more likely to solidify and accumulate inside the vacuum pump. On the other hand, the gas transfer section, which is made up of rotors, fixed blades, etc., has a problem of losing strength when it becomes too hot, and can have a negative effect on the performance of the electrical equipment and electric motor inside the vacuum pump. Therefore, it is preferable to control the temperature so that the solidification of the gas inside the vacuum pump can be suppressed while the vacuum pump is operating normally, without negatively affecting the performance of the electrical equipment and electric motor inside the vacuum pump and without reducing the strength of the gas transfer section.
そこで、例えば図9及び図10に示す真空ポンプ10のように、冷却を必要とする冷却範囲内に配置される冷却側ステータ17Aを有した上段群気体移送部11と加熱を必要とする加熱範囲内に配置される加熱側ステータ17Bを有した下段気体移送部12とに分け、冷却側ステータ17Aと加熱側ステータ17Bとの間に隙間15を設けて、冷却側ステータ17Aと加熱側ステータ17Bをそれぞれ独立化させ、上段群気体移送部11の温度と下段気体移送部12の温度が互いに影響し合わないようにしている。なお、冷却側ステータ17Aと加熱側ステータ17Bとの間は、固定翼スペーサ14をボルト19で押さえて位置決めをしている。 For example, as shown in the vacuum pump 10 in Figures 9 and 10, the upper gas transfer section 11 is divided into a cooling side stator 17A, which is located in the cooling range that requires cooling, and a lower gas transfer section 12, which is located in the heating range that requires heating. A gap 15 is provided between the cooling side stator 17A and the heating side stator 17B, making the cooling side stator 17A and the heating side stator 17B independent from each other, so that the temperature of the upper gas transfer section 11 and the temperature of the lower gas transfer section 12 do not affect each other. The cooling side stator 17A and the heating side stator 17B are positioned by holding the fixed blade spacer 14 with a bolt 19.
冷却側ステータ17Aと加熱側ステータ17Bとの間を、ボルト19で押さえて位置決めする構造にあっては、ボルト19を締め付ける力の大きさや、締め付けによるOリング18の変形量、又は固定翼スペーサ14の種類等によって、冷却側ステータ17Aと加熱側ステータ17Bとの間の隙間15の大きさ(軸方向における寸法)が変わる。そして、隙間15が、回転翼16の半径方向周面と対向した状態で位置決めされた場合、回転翼16が回転するときに、回転翼16により、接線方向及び下流方向に移送されたプロセスガスの分子は、隙間15内に向かい易くなる(ガス分子の数が増える)。そして、隙間15内に入ったガスは、冷却側ステータ17Aによって冷却され、隙間15内で固体化し、副生成物として堆積する。この堆積物は、隙間15の幅を狭めて断熱効果を低下させ、ポンプ内温度分布を変化させる。したがって、定期的に真空ポンプ10を分解する等して、隙間15に溜まった堆積物を取り除く、メンテナンス作業が必要になる。このメンテナンス作業により、生産性が悪いという問題点があった。 In a structure in which the cooling side stator 17A and the heating side stator 17B are held in position by the bolts 19, the size of the gap 15 between the cooling side stator 17A and the heating side stator 17B (dimension in the axial direction) changes depending on the magnitude of the force tightening the bolts 19, the deformation amount of the O-ring 18 due to tightening, or the type of the fixed blade spacer 14. If the gap 15 is positioned facing the radial circumferential surface of the rotor 16, when the rotor 16 rotates, the process gas molecules transferred in the tangential and downstream directions by the rotor 16 tend to move toward the gap 15 (the number of gas molecules increases). The gas that enters the gap 15 is cooled by the cooling side stator 17A, solidifies in the gap 15, and accumulates as a by-product. This deposit narrows the width of the gap 15, reducing the insulation effect and changing the temperature distribution inside the pump. Therefore, maintenance work is required to remove the deposits accumulated in the gap 15 by periodically disassembling the vacuum pump 10, etc. This maintenance work caused problems such as poor productivity.
そこで、断熱用に設けられた隙間に向かうガスの流れ(ガス分子の数)を少なくして、隙間に堆積する副生成物の量を減らし、メンテナンス作業を必要とする間隔を延ばして生産性を向上させることができる真空ポンプを提供するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。 Therefore, a technical problem arises that must be solved in order to provide a vacuum pump that can reduce the flow of gas (the number of gas molecules) toward the gap provided for insulation, reduce the amount of by-products that accumulate in the gap, extend the interval between maintenance operations, and improve productivity. The present invention aims to solve this problem.
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項1に記載の発明は、吸気口と排気口を有するケーシングと、前記ケーシングの内側に、回転自在に支持されたロータ軸と、前記ロータ軸と共に回転可能な複数段の回転翼と、前記ケーシングに対して固定され、かつ、前記複数段の回転翼間に配置される複数段の固定翼と、前記複数段の固定翼を所定間隔に保持する冷却側ステータ及び加熱側ステータと、を備えた真空ポンプであって、前記冷却側ステータと前記加熱側ステータとの間を断熱する所定幅の隙間の開口部を、前記ロータ軸の軸方向において前記回転翼の外周面と対向しない位置に設け、前記開口部は、前記冷却側ステータによって冷却される冷却範囲内に位置する前記複数段の回転翼のうち最下段の回転翼と前記加熱側ステータによって加熱される加熱範囲内に位置する前記複数段の回転翼のうち最上段の回転翼との間の中央位置に設けられ、前記開口部の前記軸方向における幅寸法は、0.1mm~2.0mmに設定されている、真空ポンプを提供する。 The present invention has been proposed in order to achieve the above-mentioned object, and the invention described in claim 1 provides a vacuum pump including a casing having an intake port and an exhaust port, a rotor shaft rotatably supported inside the casing, multiple stages of rotors rotatable together with the rotor shaft, multiple stages of fixed blades fixed to the casing and disposed between the multiple stages of rotors, and a cooling-side stator and a heating-side stator which hold the multiple stages of fixed blades at a predetermined interval, wherein an opening of a gap of a predetermined width which insulates between the cooling-side stator and the heating-side stator is provided in a position which does not face the outer circumferential surface of the rotors in the axial direction of the rotor shaft, the opening being provided in a central position between a lowermost rotor of the multiple stages of rotors located within a cooling range cooled by the cooling-side stator and an uppermost rotor of the multiple stages of rotors located within a heating range heated by the heating-side stator, and the width dimension of the opening in the axial direction is set to 0.1 mm to 2.0 mm.
この構成によれば、冷却側ステータと加熱側ステータとの間を断熱するための所定幅の隙間の開口部を、ロータ軸の軸方向において回転翼の外周面と対向しない位置に設けている。したがって、回転翼の回転による遠心力で、ガスの一部がステータの内周面に向かって飛ばされても、隙間の開口部は、回転翼の外周面とは対向しないずれた位置に設けているので、隙間の開口に入り込む量も極めて少なく、隙間内に堆積する堆積物の量を減らすことができる。これにより、メンテナンス作業を必要とする間隔を延ばすことができ、生産性の向上に寄与する。 According to this configuration, the opening of the gap with a predetermined width for insulating between the cooling side stator and the heating side stator is provided in a position that does not face the outer peripheral surface of the rotor blade in the axial direction of the rotor shaft. Therefore, even if part of the gas is blown toward the inner peripheral surface of the stator by the centrifugal force caused by the rotation of the rotor blade, the opening of the gap is provided in a shifted position that does not face the outer peripheral surface of the rotor blade, so that the amount of gas that enters the opening of the gap is extremely small, and the amount of deposits that accumulate in the gap can be reduced. This makes it possible to extend the intervals between maintenance work, contributing to improved productivity.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の構成において、前記隙間の形状は、前記軸方向と垂直な径方向の外側に向かって水平に延びる第1の隙間部分と、前記第1の隙間部分の外端から更に前記径方向の外側、かつ、前記軸方向の下流側に沿って延びる第2の隙間部分を有する、真空ポンプを提供する。 The invention described in claim 2 provides a vacuum pump having the configuration described in claim 1, in which the shape of the gap has a first gap portion that extends horizontally toward the outside in a radial direction perpendicular to the axial direction, and a second gap portion that extends from the outer end of the first gap portion further outward in the radial direction and along the downstream side in the axial direction.
この構成によれば、開口部から第1の隙間部分に入り込んだプロセスガスが、更に奥へ進もうとしたとき、次の第2の隙間部分の壁に一度ぶつかるので、その壁が、隙間内に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部から隙間内に入り込むプロセスガスの量を減らして、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。 With this configuration, when the process gas that has entered the first gap from the opening attempts to move further in, it hits the wall of the next, second gap, which acts as a resistance to the flow into the gap. This reduces the amount of process gas that enters the gap from the opening, further reducing the amount of deposits generated by the process gas.
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の構成において、前記隙間の形状は、前記軸方向の下流側に沿って延びる第3の隙間部分を有する、真空ポンプを提供する。 The invention described in claim 3 provides a vacuum pump having the configuration described in claim 1 or 2, in which the shape of the gap has a third gap portion that extends along the downstream side in the axial direction.
この構成によれば、開口部からプロセスガスが隙間内に入り込もうしたとき、開口部を入って直ぐの正面の処に、下側に向かう第3の隙間部分が壁となってぶつかり、プロセスガスが隙間内に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部から隙間内に入り込むプロセスガスの量を減らして、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。 With this configuration, when the process gas tries to enter the gap from the opening, it hits the third gap portion toward the bottom as a wall immediately in front of the opening, creating resistance to the flow of the process gas toward the gap. This reduces the amount of process gas that enters the gap from the opening, further reducing the amount of deposits generated by the process gas.
請求項4に記載の発明は、請求項1から3までのいずれか1項に記載の構成において、前記隙間の形状は、前記軸方向と垂直な径方向の外側、かつ、前記軸方向の上流側に延びる第4の隙間部分を有する、真空ポンプを提供する。 The invention described in claim 4 provides a vacuum pump having the configuration described in any one of claims 1 to 3, in which the shape of the gap has a fourth gap portion that extends radially outwardly perpendicular to the axial direction and upstream in the axial direction.
この構成によれば、隙間の縦断面の形状が、軸方向と垂直な径方向の外側、かつ、軸方向の上流側に延びる第4の隙間部分を有している。したがって、開口部から隙間内に入ったプロセスガスは、一度第4の隙間部分とぶつかり、プロセスガスが隙間内に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部から隙間内に入り込むプロセスガスの量を減らし、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。 According to this configuration, the shape of the longitudinal section of the gap has a fourth gap portion that extends radially outward perpendicular to the axial direction and upstream in the axial direction. Therefore, the process gas that enters the gap from the opening collides with the fourth gap portion once, which becomes resistance to the flow of the process gas toward the gap. This reduces the amount of process gas that enters the gap from the opening, and further reduces the amount of deposits generated by the process gas.
請求項5に記載の発明は、請求項1から4までのいずれか1項に記載の構成において、前記隙間の形状は、前記開口部の上部に、前記開口部よりも前記ケーシングの内側に向かって突き出している軒部を有する、真空ポンプを提供する。 The invention described in claim 5 provides a vacuum pump having the configuration described in any one of claims 1 to 4, in which the shape of the gap has an eaves portion above the opening that protrudes toward the inside of the casing beyond the opening.
この構成によれば、隙間の縦断面の形状が、ケーシングを軸方向に縦断面したとき、ケーシング内周面に形成される隙間の開口部の上部に、開口部よりもケーシングの内側に向かって突き出している軒部を設けているので、上流側から流れて来るプロセスガスは軒部に流れが制御されて、隙間の開口部の方向には進まずに、開口部とは異なる下流側に向かわせることができる。これにより、開口部から隙間内に入り込むプロセスガスの量を減らして、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。 With this configuration, when the casing is cut longitudinally in the axial direction, the shape of the longitudinal section of the gap is such that, at the top of the opening of the gap formed on the inner peripheral surface of the casing, there is an eaves portion that protrudes further inward into the casing than the opening, so the flow of the process gas flowing from the upstream side is controlled by the eaves portion and it can be directed toward the downstream side different from the opening, rather than proceeding in the direction of the opening of the gap. This reduces the amount of process gas that enters the gap from the opening, and further reduces the amount of deposits generated by the process gas.
発明によれば、断熱用に設けられた隙間内に入り込むプロセスガスの量を減らして、プロセスガスで生成される堆積物が、隙間内に堆積する量を減らすことができる。これにより、隙間内の堆積物を取り除くメンテナンス作業を必要とする間隔を延ばして、生産性を向上させることができる。
また、隙間の断熱効果も向上して、真空ポンプ内に設けられた電装品やロータを回転させる電動モータの性能に悪い影響をあたえることのない範囲、及び、ロータやステータの強度低下に影響を与えない範囲で、温度を細かく制御することが可能になる。
また、プロセスガスの固化を制御しながら真空ポンプの正常運転を実現できる。
According to the present invention, the amount of process gas entering the gap provided for thermal insulation can be reduced, and the amount of deposits generated by the process gas that accumulate in the gap can be reduced. This can extend the interval between maintenance work required to remove the deposits in the gap, thereby improving productivity.
In addition, the insulating effect of the gap is improved, making it possible to precisely control the temperature within a range that does not adversely affect the performance of the electrical equipment installed in the vacuum pump or the electric motor that rotates the rotor, and does not affect the strength of the rotor or stator.
Furthermore, the vacuum pump can be operated normally while controlling the solidification of the process gas.
本発明は、断熱用に設けられた隙間に向かうガスの流れ(ガス分子の数)を少なくして、隙間に堆積する副生成物の量を減らし、メンテナンス作業を必要とする間隔を延ばして生産性を向上させることができる真空ポンプを提供するという目的を達成するために、吸気口と排気口を有するケーシングと、前記ケーシングの内側に、回転自在に支持されたロータ軸と、前記ロータ軸と共に回転可能な複数段の回転翼と、前記ケーシングに対して固定され、かつ、前記複数段の回転翼間に配置される複数段の固定翼と、前記複数段の固定翼を所定間隔に保持する加熱側ステータ及び冷却側ステータと、を備えた真空ポンプであって、前記加熱側ステータと前記冷却側ステータとの間を断熱する所定幅の隙間の開口部を、前記ロータ軸の軸方向において前記回転翼の外周面と対向しない位置に設け、前記開口部は、前記冷却側ステータによって冷却される冷却範囲内に位置する前記複数段の回転翼のうち最下段の回転翼と前記加熱側ステータによって加熱される加熱範囲内に位置する前記複数段の回転翼のうち最上段の回転翼との間の中央位置に設けられ、前記開口部の前記軸方向における幅寸法は、0.1mm~2.0mmに設定されている、ことにより実現した。 In order to achieve the object of providing a vacuum pump that can reduce the flow of gas (the number of gas molecules) toward gaps provided for thermal insulation, reduce the amount of by-products that accumulate in the gaps, and extend the interval between maintenance operations to improve productivity, the present invention provides a vacuum pump that includes a casing having an intake port and an exhaust port, a rotor shaft rotatably supported inside the casing, multiple stages of rotor blades that can rotate together with the rotor shaft, multiple stages of fixed blades that are fixed to the casing and disposed between the multiple stages of rotor blades, a heating side stator and a cooling and a cooling-side stator, wherein an opening of a gap of a predetermined width that insulates between the heating- side stator and the cooling-side stator is provided at a position not facing the outer circumferential surface of the rotor blades in the axial direction of the rotor shaft, the opening being provided at a central position between a lowermost rotor blade of the multiple stages of rotor blades located within a cooling range cooled by the cooling-side stator and an uppermost rotor blade of the multiple stages of rotor blades located within a heating range heated by the heating-side stator, and the width dimension of the opening in the axial direction is set to 0.1 mm to 2.0 mm.
以下、本発明の実施形態に係る一実施例を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。 An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. In the following embodiment, when the number, numerical value, amount, range, etc. of components is mentioned, the number is not limited to the specific number, and may be more or less than the specific number, unless otherwise specified or when it is clearly limited to a specific number in principle.
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。 In addition, when referring to the shape or positional relationship of components, etc., this includes things that are substantially similar or similar to that shape, etc., unless otherwise specified or considered in principle to be clearly different.
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。 In addition, drawings may exaggerate characteristic parts to make the features easier to understand, and the dimensional ratios of components may not be the same as in reality. In addition, in cross-sectional views, hatching of some components may be omitted to make the cross-sectional structure of the components easier to understand.
また、以下の説明において、上下や左右等の方向を示す表現は、絶対的なものではなく、本発明のターボ分子ポンプの各部が描かれている姿勢である場合に適切であるが、その姿勢が変化した場合には姿勢の変化に応じて変更して解釈されるべきものである。また、実施例の説明の全体を通じて同じ要素には同じ符号を付している。 In addition, in the following description, expressions indicating directions such as up/down and left/right are not absolute, but are appropriate when each part of the turbomolecular pump of the present invention is in the orientation depicted, but if the orientation changes, they should be interpreted differently depending on the change in orientation. Also, the same symbols are used for the same elements throughout the description of the embodiments.
図1は本発明に係る真空ポンプとしてのターボ分子ポンプ100の一実施例を示すもので、図1はその縦断面図である。 Figure 1 shows one embodiment of a turbomolecular pump 100 as a vacuum pump according to the present invention, and FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view of the pump.
図1において、ターボ分子ポンプ100は、円筒状のハウジングとしての外筒127の上端に吸気口101が形成されている。外筒127の内方には、ガスを吸引排気するためのタービンブレードである複数の回転翼102(102a、102b、102c・・・)を周部に放射状かつ多段に形成した回転体103が備えられている。この回転体103の中心にはロータ軸113が取り付けられており、このロータ軸113は、例えば5軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持かつ位置制御されている。 In FIG. 1, the turbomolecular pump 100 has an intake port 101 formed at the upper end of an outer cylinder 127 serving as a cylindrical housing. Inside the outer cylinder 127 is a rotor 103 having multiple rotors 102 (102a, 102b, 102c, ...) formed radially and in multiple stages around its periphery as turbine blades for sucking in and exhausting gas. A rotor shaft 113 is attached to the center of the rotor 103, and this rotor shaft 113 is supported in the air and its position is controlled by, for example, a five-axis controlled magnetic bearing.
上側径方向電磁石104は、4個の電磁石がX軸とY軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石104の近接に、かつ上側径方向電磁石104のそれぞれに対応されて4個の上側径方向センサ107が備えられている。上側径方向センサ107は、例えば伝導巻線を有するインダクタンスセンサや渦電流センサなどが用いられ、ロータ軸113の位置に応じて変化するこの伝導巻線のインダクタンスの変化に基づいてロータ軸113の位置を検出する。この上側径方向センサ107はロータ軸113、すなわちそれに固定された回転体103の径方向変位を検出し、図示せぬ制御装置に送るように構成されている。 The upper radial electromagnets 104 are arranged in pairs on the X-axis and Y-axis. Four upper radial sensors 107 are provided adjacent to the upper radial electromagnets 104 and corresponding to each of the upper radial electromagnets 104. The upper radial sensors 107 are, for example, inductance sensors or eddy current sensors having conductive windings, and detect the position of the rotor shaft 113 based on the change in inductance of the conductive windings, which changes according to the position of the rotor shaft 113. The upper radial sensors 107 are configured to detect the radial displacement of the rotor shaft 113, i.e., the rotating body 103 fixed thereto, and send the detected displacement to a control device (not shown).
この制御装置においては、例えばPID調節機能を有する補償回路が、上側径方向センサ107によって検出された位置信号に基づいて、上側径方向電磁石104の励磁制御指令信号を生成し、図2に示すアンプ回路150(後述する)が、この励磁制御指令信号に基づいて、上側径方向電磁石104を励磁制御することで、ロータ軸113の上側の径方向位置が調整される。 In this control device, for example, a compensation circuit having a PID adjustment function generates an excitation control command signal for the upper radial electromagnet 104 based on the position signal detected by the upper radial sensor 107, and the amplifier circuit 150 (described later) shown in FIG. 2 controls the excitation of the upper radial electromagnet 104 based on this excitation control command signal, thereby adjusting the upper radial position of the rotor shaft 113.
そして、このロータ軸113は、高透磁率材(鉄、ステンレスなど)などにより形成され、上側径方向電磁石104の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、X軸方向とY軸方向とにそれぞれ独立して行われる。また、下側径方向電磁石105及び下側径方向センサ108が、上側径方向電磁石104及び上側径方向センサ107と同様に配置され、ロータ軸113の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整している。 The rotor shaft 113 is made of a material with high magnetic permeability (iron, stainless steel, etc.) and is attracted by the magnetic force of the upper radial electromagnet 104. Such adjustment is performed independently in the X-axis direction and the Y-axis direction. The lower radial electromagnet 105 and the lower radial sensor 108 are arranged in the same manner as the upper radial electromagnet 104 and the upper radial sensor 107, and adjust the lower radial position of the rotor shaft 113 in the same manner as the upper radial position.
さらに、軸方向電磁石106A、106Bが、ロータ軸113の下部に備えた円板状の金属ディスク111を上下に挟んで配置されている。金属ディスク111は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロータ軸113の軸方向変位を検出するために軸方向センサ109が備えられ、その軸方向位置信号が制御装置に送られるように構成されている。 Furthermore, axial electromagnets 106A and 106B are arranged above and below a circular metal disk 111 provided at the bottom of rotor shaft 113. Metal disk 111 is made of a high magnetic permeability material such as iron. An axial sensor 109 is provided to detect the axial displacement of rotor shaft 113, and the axial position signal is sent to the control device.
そして、制御装置において、例えばPID調節機能を有する補償回路が、軸方向センサ109によって検出された軸方向位置信号に基づいて、軸方向電磁石106Aと軸方向電磁石106Bのそれぞれの励磁制御指令信号を生成し、アンプ回路150が、これらの励磁制御指令信号に基づいて、軸方向電磁石106Aと軸方向電磁石106Bをそれぞれ励磁制御することで、軸方向電磁石106Aが磁力により金属ディスク111を上方に吸引し、軸方向電磁石106Bが金属ディスク111を下方に吸引し、ロータ軸113の軸方向位置が調整される。 Then, in the control device, a compensation circuit having, for example, a PID adjustment function generates excitation control command signals for the axial electromagnet 106A and the axial electromagnet 106B based on the axial position signal detected by the axial sensor 109, and the amplifier circuit 150 controls the excitation of the axial electromagnet 106A and the axial electromagnet 106B based on these excitation control command signals, so that the axial electromagnet 106A attracts the metal disk 111 upward by magnetic force, and the axial electromagnet 106B attracts the metal disk 111 downward, thereby adjusting the axial position of the rotor shaft 113.
このように、制御装置は、この軸方向電磁石106A、106Bが金属ディスク111に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸113を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。なお、これら上側径方向電磁石104、下側径方向電磁石105及び軸方向電磁石106A、106Bを励磁制御するアンプ回路150については、後述する。 In this way, the control device appropriately adjusts the magnetic force that the axial electromagnets 106A and 106B exert on the metal disk 111, magnetically levitating the rotor shaft 113 in the axial direction and holding it in space without contact. The amplifier circuit 150 that controls the excitation of the upper radial electromagnet 104, the lower radial electromagnet 105, and the axial electromagnets 106A and 106B will be described later.
一方、モータ121は、ロータ軸113を取り囲むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各磁極は、ロータ軸113との間に作用する電磁力を介してロータ軸113を回転駆動するように、制御装置によって制御されている。また、モータ121には図示しない例えばホール素子、レゾルバ、エンコーダなどの回転速度センサが組み込まれており、この回転速度センサの検出信号によりロータ軸113の回転速度が検出されるようになっている。 On the other hand, the motor 121 has multiple magnetic poles arranged circumferentially to surround the rotor shaft 113. Each magnetic pole is controlled by a control device so as to rotate the rotor shaft 113 via electromagnetic forces acting between the magnetic poles and the rotor shaft 113. In addition, the motor 121 incorporates a rotational speed sensor, such as a Hall element, resolver, or encoder (not shown), and the rotational speed of the rotor shaft 113 is detected by the detection signal of this rotational speed sensor.
さらに、例えば下側径方向センサ108近傍に、図示しない位相センサが取り付けてあり、ロータ軸113の回転の位相を検出するようになっている。制御装置では、この位相センサと回転速度センサの検出信号を共に用いて磁極の位置を検出するようになっている。 In addition, a phase sensor (not shown) is attached, for example, near the lower radial sensor 108, to detect the phase of rotation of the rotor shaft 113. The control device uses the detection signals of both this phase sensor and the rotation speed sensor to detect the position of the magnetic poles.
回転翼102(102a、102b、102c・・・)とわずかの空隙を隔てて複数枚の固定翼123(123a、123b、123c・・・)が配設されている。回転翼102は、それぞれ排気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。 Multiple fixed blades 123 (123a, 123b, 123c, ...) are arranged with a small gap between the rotor blades 102 (102a, 102b, 102c, ...). Each rotor blade 102 is formed at a predetermined angle from a plane perpendicular to the axis of the rotor shaft 113 in order to transport exhaust gas molecules downward by collision.
また、固定翼123も、同様にロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成され、かつ外筒127の内方に向けて回転翼102の段と互い違いに配設されている。そして、固定翼123の外周端は、複数の段積みされた固定翼スペーサ125(125a、125b、125c・・・)の間に嵌挿された状態で支持されている。 The fixed blades 123 are also formed at a predetermined angle from a plane perpendicular to the axis of the rotor shaft 113, and are arranged in a staggered manner with the rotor blades 102 toward the inside of the outer cylinder 127. The outer peripheral end of the fixed blades 123 is supported by being inserted between a plurality of stacked fixed blade spacers 125 (125a, 125b, 125c, ...).
固定翼スペーサ125はリング状の部材であり、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。固定翼スペーサ125の外周には、わずかの空隙を隔てて外筒127が固定されている。外筒127の底部にはベース部129が配設されている。ベース部129には排気口133が形成され、外部に連通されている。チャンバ側から吸気口101に入ってベース部129に移送されてきた排気ガスは、排気口133へと送られる。 The fixed wing spacer 125 is a ring-shaped member, and is made of metals such as aluminum, iron, stainless steel, copper, or alloys containing these metals. An outer cylinder 127 is fixed to the outer periphery of the fixed wing spacer 125 with a small gap between them. A base portion 129 is disposed at the bottom of the outer cylinder 127. An exhaust port 133 is formed in the base portion 129, and is connected to the outside. Exhaust gas that enters the intake port 101 from the chamber side and is transferred to the base portion 129 is sent to the exhaust port 133.
さらに、ターボ分子ポンプ100の用途によって、固定翼スペーサ125の下部とベース部129の間には、ネジ付スペーサ131が配設される。ネジ付スペーサ131は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝131aが複数条刻設されている。ネジ溝131aの螺旋の方向は、回転体103の回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、この分子が排気口133の方へ移送される方向である。回転体103の回転翼102(102a、102b、102c・・・)に続く最下部には円筒部102Eが垂下されている。この円筒部102Eの外周面は、円筒状で、かつネジ付スペーサ131の内周面に向かって張り出されており、このネジ付スペーサ131の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。回転翼102および固定翼123によってネジ溝131aに移送されてきた排気ガスは、ネジ溝131aに案内されつつベース部129へと送られる。 Depending on the application of the turbomolecular pump 100, a threaded spacer 131 is disposed between the lower part of the fixed vane spacer 125 and the base part 129. The threaded spacer 131 is a cylindrical member made of metal such as aluminum, copper, stainless steel, iron, or an alloy containing these metals, and has a plurality of helical thread grooves 131a engraved on its inner peripheral surface. The helical direction of the thread groove 131a is the direction in which the molecules of the exhaust gas are transported toward the exhaust port 133 when they move in the rotation direction of the rotor 103. A cylindrical part 102E hangs down from the lowest part of the rotor 103, which is connected to the rotor vanes 102 (102a, 102b, 102c, ...). The outer peripheral surface of the cylindrical part 102E is cylindrical and protrudes toward the inner peripheral surface of the threaded spacer 131, and is adjacent to the inner peripheral surface of the threaded spacer 131 with a predetermined gap therebetween. The exhaust gas transferred to the thread groove 131a by the rotor 102 and the fixed blade 123 is guided by the thread groove 131a and sent to the base portion 129.
ベース部129は、ターボ分子ポンプ100の基底部を構成する円盤状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属によって構成されている。ベース部129はターボ分子ポンプ100を物理的に保持すると共に、熱の伝導路の機能も兼ね備えているので、鉄、アルミニウムや銅などの剛性があり、熱伝導率も高い金属が使用されるのが望ましい。 The base portion 129 is a disk-shaped member that forms the base of the turbomolecular pump 100, and is generally made of a metal such as iron, aluminum, or stainless steel. The base portion 129 not only physically holds the turbomolecular pump 100, but also functions as a heat conduction path, so it is desirable to use a metal that is rigid and has high thermal conductivity, such as iron, aluminum, or copper.
かかる構成において、回転翼102がロータ軸113と共にモータ121により回転駆動されると、回転翼102と固定翼123の作用により、吸気口101を通じてチャンバから排気ガスが吸気される。吸気口101から吸気された排気ガスは、回転翼102と固定翼123の間を通り、ベース部129へ移送される。このとき、排気ガスが回転翼102に接触する際に生ずる摩擦熱や、モータ121で発生した熱の伝導などにより、回転翼102の温度は上昇するが、この熱は、輻射又は排気ガスの気体分子などによる伝導により固定翼123側に伝達される。 In this configuration, when the rotor 102 is rotated by the motor 121 together with the rotor shaft 113, the rotor 102 and the fixed blades 123 act to draw exhaust gas from the chamber through the intake port 101. The exhaust gas drawn in through the intake port 101 passes between the rotor 102 and the fixed blades 123 and is transferred to the base portion 129. At this time, the temperature of the rotor 102 rises due to frictional heat generated when the exhaust gas comes into contact with the rotor 102 and the conduction of heat generated by the motor 121, but this heat is transferred to the fixed blades 123 side by radiation or conduction by gas molecules of the exhaust gas.
固定翼スペーサ125は、外周部で互いに接合しており、固定翼123が回転翼102から受け取った熱や排気ガスが固定翼123に接触する際に生ずる摩擦熱などを外部へと伝達する。 The fixed blade spacers 125 are joined together at their outer periphery and transmit to the outside heat received by the fixed blades 123 from the rotor blades 102 and frictional heat generated when exhaust gas comes into contact with the fixed blades 123.
なお、上記では、ネジ付スペーサ131は回転体103の円筒部102Eの外周に配設し、ネジ付スペーサ131の内周面にネジ溝131aが刻設されているとして説明した。しかしながら、これとは逆に円筒部102Eの外周面にネジ溝が刻設され、その周囲に円筒状の内周面を有するスペーサが配置される場合もある。 In the above description, the threaded spacer 131 is disposed on the outer periphery of the cylindrical portion 102E of the rotor 103, and the thread groove 131a is engraved on the inner periphery of the threaded spacer 131. However, there are also cases where the opposite is true, that is, a thread groove is engraved on the outer periphery of the cylindrical portion 102E, and a spacer having a cylindrical inner periphery is disposed around it.
また、ターボ分子ポンプ100の用途によっては、吸気口101から吸引されたガスが上側径方向電磁石104、上側径方向センサ107、モータ121、下側径方向電磁石105、下側径方向センサ108、軸方向電磁石106A、106B、軸方向センサ109などで構成される電装部に侵入することのないよう、電装部は周囲をステータコラム122で覆われ、このステータコラム122内はパージガスにて所定圧に保たれる場合もある。 Depending on the application of the turbomolecular pump 100, the electrical equipment section may be covered by a stator column 122 to prevent the gas sucked in from the intake port 101 from entering the electrical equipment section, which is composed of the upper radial electromagnet 104, the upper radial sensor 107, the motor 121, the lower radial electromagnet 105, the lower radial sensor 108, the axial electromagnets 106A and 106B, the axial sensor 109, etc., and the inside of the stator column 122 may be kept at a predetermined pressure by purging gas.
この場合には、ベース部129には図示しない配管が配設され、この配管を通じてパージガスが導入される。導入されたパージガスは、保護ベアリング120とロータ軸113間、モータ121のロータとステータ間、ステータコラム122と回転翼102の内周側円筒部の間の隙間を通じて排気口133へ送出される。 In this case, piping (not shown) is provided in the base portion 129, and purge gas is introduced through this piping. The introduced purge gas is sent to the exhaust port 133 through the gaps between the protective bearing 120 and the rotor shaft 113, between the rotor and stator of the motor 121, and between the stator column 122 and the inner cylindrical portion of the rotor blades 102.
ここに、ターボ分子ポンプ100は、機種の特定と、個々に調整された固有のパラメータ(例えば、機種に対応する諸特性)に基づいた制御を要する。この制御パラメータを格納するために、上記ターボ分子ポンプ100は、その本体内に電子回路部141を備えている。電子回路部141は、EEP-ROM等の半導体メモリ及びそのアクセスのための半導体素子等の電子部品、それらの実装用の基板143等から構成される。この電子回路部141は、ターボ分子ポンプ100の下部を構成するベース部129の例えば中央付近の図示しない回転速度センサの下部に収容され、気密性の底蓋145によって閉じられている。 The turbomolecular pump 100 requires control based on the model identification and individually adjusted unique parameters (e.g., various characteristics corresponding to the model). To store these control parameters, the turbomolecular pump 100 has an electronic circuit section 141 in its main body. The electronic circuit section 141 is composed of a semiconductor memory such as an EEP-ROM, electronic components such as semiconductor elements for accessing the memory, and a substrate 143 for mounting these components. The electronic circuit section 141 is housed below a rotational speed sensor (not shown), for example near the center of the base section 129 that constitutes the lower part of the turbomolecular pump 100, and is closed by an airtight bottom cover 145.
ところで、半導体の製造工程では、チャンバに導入されるプロセスガスの中には、その圧力が所定値よりも高くなり、或いは、その温度が所定値よりも低くなると、固体となる性質を有するものがある。ターボ分子ポンプ100内部では、排気ガスの圧力は、吸気口101で最も低く排気口133で最も高い。プロセスガスが吸気口101から排気口133へ移送される途中で、その圧力が所定値よりも高くなったり、その温度が所定値よりも低くなったりすると、プロセスガスは、固体状となり、ターボ分子ポンプ100内部に付着して堆積する。 In the semiconductor manufacturing process, some process gases introduced into the chamber have the property of becoming solid when their pressure exceeds a predetermined value or their temperature falls below a predetermined value. Inside the turbomolecular pump 100, the pressure of the exhaust gas is lowest at the intake port 101 and highest at the exhaust port 133. If the pressure of the process gas becomes higher than a predetermined value or its temperature falls below a predetermined value while the process gas is being transferred from the intake port 101 to the exhaust port 133, the process gas becomes solid and adheres to and accumulates inside the turbomolecular pump 100.
例えば、Alエッチング装置にプロセスガスとしてSiCl4が使用された場合、低真空(760[torr]~10-2[torr])かつ、低温(約20[℃])のとき、固体生成物(例えばAlCl3)が析出し、ターボ分子ポンプ100内部に付着堆積することが蒸気圧曲線からわかる。これにより、ターボ分子ポンプ100内部にプロセスガスの析出物が堆積すると、この堆積物がポンプ流路を狭め、ターボ分子ポンプ100の性能を低下させる原因となる。そして、前述した生成物は、排気口付近やネジ付スペーサ131付近の圧力が高い部分で凝固、付着し易い状況にあった。 For example, when SiCl4 is used as the process gas in an Al etching device, the vapor pressure curve shows that at low vacuum (760 torr to 10-2 torr) and low temperature (approximately 20°C), solid products (e.g. AlCl3) precipitate and deposit inside the turbomolecular pump 100. As a result, when process gas deposits accumulate inside the turbomolecular pump 100, the deposits narrow the pump flow path, causing a decrease in the performance of the turbomolecular pump 100. The aforementioned products are prone to solidification and adhesion in areas of high pressure near the exhaust port and near the threaded spacer 131.
そのため、この問題を解決するために、従来はベース部129等の外周に図示しないヒータや環状の水冷管149を巻着させ、かつ例えばベース部129に図示しない温度センサ(例えばサーミスタ)を埋め込み、この温度センサの信号に基づいてベース部129の温度を一定の高い温度(設定温度)に保つようにヒータの加熱や水冷管149による冷却の制御(以下TMSという。TMS;Temperature Management System)が行われている。 Therefore, in order to solve this problem, conventionally, a heater (not shown) or a circular water-cooled tube 149 is wrapped around the outer periphery of the base portion 129, etc., and a temperature sensor (e.g., a thermistor) (not shown) is embedded in the base portion 129, and the heating of the heater and the cooling by the water-cooled tube 149 are controlled based on the signal from this temperature sensor to keep the temperature of the base portion 129 at a constant high temperature (set temperature) (hereinafter referred to as TMS; TMS; Temperature Management System).
次に、このように構成されるターボ分子ポンプ100に関して、その上側径方向電磁石104、下側径方向電磁石105及び軸方向電磁石106A、106Bを励磁制御するアンプ回路150について説明する。このアンプ回路150の回路図を図2に示す。 Next, regarding the turbomolecular pump 100 configured in this manner, we will explain the amplifier circuit 150 that controls the excitation of the upper radial electromagnet 104, the lower radial electromagnet 105, and the axial electromagnets 106A and 106B. A circuit diagram of this amplifier circuit 150 is shown in Figure 2.
図2において、上側径方向電磁石104等を構成する電磁石巻線151は、その一端がトランジスタ161を介して電源171の正極171aに接続されており、また、その他端が電流検出回路181及びトランジスタ162を介して電源171の負極171bに接続されている。そして、トランジスタ161、162は、いわゆるパワーMOSFETとなっており、そのソース-ドレイン間にダイオードが接続された構造を有している。 In FIG. 2, one end of the electromagnet winding 151 constituting the upper radial electromagnet 104 etc. is connected to the positive pole 171a of the power supply 171 via the transistor 161, and the other end is connected to the negative pole 171b of the power supply 171 via the current detection circuit 181 and the transistor 162. The transistors 161 and 162 are so-called power MOSFETs, and have a structure in which a diode is connected between the source and drain.
このとき、トランジスタ161は、そのダイオードのカソード端子161aが正極171aに接続されるとともに、アノード端子161bが電磁石巻線151の一端と接続されるようになっている。また、トランジスタ162は、そのダイオードのカソード端子162aが電流検出回路181に接続されるとともに、アノード端子162bが負極171bと接続されるようになっている。 At this time, the transistor 161 has its diode cathode terminal 161a connected to the positive electrode 171a, and its anode terminal 161b connected to one end of the electromagnet winding 151. The transistor 162 has its diode cathode terminal 162a connected to the current detection circuit 181, and its anode terminal 162b connected to the negative electrode 171b.
一方、電流回生用のダイオード165は、そのカソード端子165aが電磁石巻線151の一端に接続されるとともに、そのアノード端子165bが負極171bに接続されるようになっている。また、これと同様に、電流回生用のダイオード166は、そのカソード端子166aが正極171aに接続されるとともに、そのアノード端子166bが電流検出回路181を介して電磁石巻線151の他端に接続されるようになっている。そして、電流検出回路181は、例えばホールセンサ式電流センサや電気抵抗素子で構成されている。 On the other hand, the current regeneration diode 165 has its cathode terminal 165a connected to one end of the electromagnet winding 151 and its anode terminal 165b connected to the negative pole 171b. Similarly, the current regeneration diode 166 has its cathode terminal 166a connected to the positive pole 171a and its anode terminal 166b connected to the other end of the electromagnet winding 151 via a current detection circuit 181. The current detection circuit 181 is composed of, for example, a Hall sensor type current sensor or an electrical resistance element.
以上のように構成されるアンプ回路150は、一つの電磁石に対応されるものである。そのため、磁気軸受が5軸制御で、電磁石104、105、106A、106Bが合計10個ある場合には、電磁石のそれぞれについて同様のアンプ回路150が構成され、電源171に対して10個のアンプ回路150が並列に接続されるようになっている。 The amplifier circuit 150 configured as above corresponds to one electromagnet. Therefore, if the magnetic bearing is controlled on five axes and there are a total of ten electromagnets 104, 105, 106A, and 106B, a similar amplifier circuit 150 is configured for each electromagnet, and the ten amplifier circuits 150 are connected in parallel to the power supply 171.
さらに、アンプ制御回路191は、例えば、制御装置の図示しないディジタル・シグナル・プロセッサ部(以下、DSP部という)によって構成され、このアンプ制御回路191は、トランジスタ161、162のon/offを切り替えるようになっている。 Furthermore, the amplifier control circuit 191 is configured, for example, by a digital signal processor section (hereinafter referred to as a DSP section) of the control device (not shown), and this amplifier control circuit 191 switches the transistors 161 and 162 on and off.
アンプ制御回路191は、電流検出回路181が検出した電流値(この電流値を反映した信号を電流検出信号191cという)と所定の電流指令値とを比較するようになっている。そして、この比較結果に基づき、PWM制御による1周期である制御サイクルTs内に発生させるパルス幅の大きさ(パルス幅時間Tp1、Tp2)を決めるようになっている。その結果、このパルス幅を有するゲート駆動信号191a、191bを、アンプ制御回路191からトランジスタ161、162のゲート端子に出力するようになっている。 The amplifier control circuit 191 compares the current value detected by the current detection circuit 181 (a signal reflecting this current value is called a current detection signal 191c) with a predetermined current command value. Then, based on the result of this comparison, it determines the size of the pulse width (pulse width times Tp1, Tp2) to be generated within a control cycle Ts, which is one period of PWM control. As a result, gate drive signals 191a, 191b having this pulse width are output from the amplifier control circuit 191 to the gate terminals of transistors 161, 162.
なお、回転体103の回転速度の加速運転中に共振点を通過する際や定速運転中に外乱が発生した際等に、高速かつ強い力での回転体103の位置制御をする必要がある。そのため、電磁石巻線151に流れる電流の急激な増加(あるいは減少)ができるように、電源171としては、例えば50V程度の高電圧が使用されるようになっている。また、電源171の正極171aと負極171bとの間には、電源171の安定化のために、通常コンデンサが接続されている(図示略)。 When the rotor 103 passes through a resonance point during accelerated operation or when a disturbance occurs during constant speed operation, it is necessary to control the position of the rotor 103 at high speed and with strong force. For this reason, a high voltage of, for example, about 50 V is used as the power supply 171 so that the current flowing through the electromagnet winding 151 can be rapidly increased (or decreased). In addition, a capacitor (not shown) is usually connected between the positive pole 171a and the negative pole 171b of the power supply 171 to stabilize the power supply 171.
かかる構成において、トランジスタ161、162の両方をonにすると、電磁石巻線151に流れる電流(以下、電磁石電流iLという)が増加し、両方をoffにすると、電磁石電流iLが減少する。 In this configuration, when both transistors 161 and 162 are turned on, the current flowing through the electromagnet winding 151 (hereafter referred to as electromagnet current iL) increases, and when both are turned off, the electromagnet current iL decreases.
また、トランジスタ161、162の一方をonにし他方をoffにすると、いわゆるフライホイール電流が保持される。そして、このようにアンプ回路150にフライホイール電流を流すことで、アンプ回路150におけるヒステリシス損を減少させ、回路全体としての消費電力を低く抑えることができる。また、このようにトランジスタ161、162を制御することにより、ターボ分子ポンプ100に生じる高調波等の高周波ノイズを低減することができる。さらに、このフライホイール電流を電流検出回路181で測定することで電磁石巻線151を流れる電磁石電流iLが検出可能となる。 Furthermore, when one of the transistors 161, 162 is turned on and the other is turned off, a so-called flywheel current is maintained. By passing a flywheel current through the amplifier circuit 150 in this manner, the hysteresis loss in the amplifier circuit 150 can be reduced, and the power consumption of the entire circuit can be kept low. Furthermore, by controlling the transistors 161, 162 in this manner, high-frequency noise such as harmonics generated in the turbo molecular pump 100 can be reduced. Furthermore, by measuring this flywheel current with the current detection circuit 181, the electromagnet current iL flowing through the electromagnet winding 151 can be detected.
すなわち、検出した電流値が電流指令値より小さい場合には、図3に示すように制御サイクルTs(例えば100μs)中で1回だけ、パルス幅時間Tp1に相当する時間分だけトランジスタ161、162の両方をonにする。そのため、この期間中の電磁石電流iLは、正極171aから負極171bへ、トランジスタ161、162を介して流し得る電流値iLmax(図示せず)に向かって増加する。 In other words, when the detected current value is smaller than the current command value, both transistors 161 and 162 are turned on for a time period equivalent to pulse width time Tp1 only once during control cycle Ts (e.g., 100 μs) as shown in FIG. 3. Therefore, during this period, electromagnet current iL increases toward current value iLmax (not shown) that can flow from positive pole 171a to negative pole 171b via transistors 161 and 162.
一方、検出した電流値が電流指令値より大きい場合には、図4に示すように制御サイクルTs中で1回だけパルス幅時間Tp2に相当する時間分だけトランジスタ161、162の両方をoffにする。そのため、この期間中の電磁石電流iLは、負極171bから正極171aへ、ダイオード165、166を介して回生し得る電流値iLmin(図示せず)に向かって減少する。 On the other hand, if the detected current value is greater than the current command value, both transistors 161 and 162 are turned off for a time period equivalent to pulse width time Tp2 only once during control cycle Ts, as shown in FIG. 4. Therefore, during this period, the electromagnet current iL decreases from negative pole 171b to positive pole 171a toward a current value iLmin (not shown) that can be regenerated via diodes 165 and 166.
そして、いずれの場合にも、パルス幅時間Tp1、Tp2の経過後は、トランジスタ161、162のどちらか1個をonにする。そのため、この期間中は、アンプ回路150にフライホイール電流が保持される。 In either case, after the pulse width times Tp1 and Tp2 have elapsed, one of the transistors 161 and 162 is turned on. Therefore, during this period, a flywheel current is maintained in the amplifier circuit 150.
ところで、ケーシングとしての外筒127内においては、冷却を必要とする冷却範囲内に配置した冷却側ステータ110A(固定翼123a~123f)及び冷却側回転翼102A(回転翼102a~102g)を有する上段群気体移送部と、加熱を必要とする加熱範囲内に配置した加熱側ステータ110B(固定翼123h~123j)及び冷却側回転翼102B(回転翼102h~102k)を有する下段群気体移送部とでなる。そして、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bの間にOリング112を配設して、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bの間を所定量離して隙間114を設けることにより、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bをそれぞれ独立化させ、冷却側ステータ110Aの温度と加熱側ステータ110Bの温度が互いに影響し合わないようにしている。なお、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bとの間は、固定翼スペーサ125をボルト115で押さえて位置決めをしている。また、図1中の符号152は、冷却側ステータ110A側の温度を検出する温度センサ、符号153は、加熱側ステータ110B側の温度を検出する温度センサ、符号154は加熱側ステータ110Bを加熱するためのヒータ、符号155は冷却側ステータ110Aを冷却する冷却管である。 Inside the outer cylinder 127 as a casing, there is an upper group gas transfer section having the cooling side stator 110A (fixed blades 123a-123f) and the cooling side rotor 102A (rotor 102a-102g) arranged in the cooling range that requires cooling, and a lower group gas transfer section having the heating side stator 110B (fixed blades 123h-123j) and the cooling side rotor 102B (rotor 102h-102k) arranged in the heating range that requires heating. An O-ring 112 is disposed between the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B, and a gap 114 is provided between the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B by a predetermined distance, thereby making the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B independent from each other, so that the temperature of the cooling side stator 110A and the temperature of the heating side stator 110B do not affect each other. The cooling side stator 110A and the heating side stator 110B are positioned by holding the fixed wing spacer 125 with a bolt 115. Also, in FIG. 1, reference numeral 152 denotes a temperature sensor that detects the temperature on the cooling side stator 110A side, reference numeral 153 denotes a temperature sensor that detects the temperature on the heating side stator 110B side, reference numeral 154 denotes a heater for heating the heating side stator 110B, and reference numeral 155 denotes a cooling pipe that cools the cooling side stator 110A.
一方、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bの間の隙間114の開口部114Aと近接する上段群気体移送部の冷却側の回転翼102gと下段群気体移送部の加熱側の回転翼102hとの間は、冷却側の回転翼102gの外周面と加熱側の回転翼102hの外周面のどちらも、隙間114の開口部114Aと真っ正面から向き合わないように、回転翼102gと回転翼102hの位置をそれぞれ開口部114Aに対して軸方向、すなわち上下方向にずらし、回転翼102gと回転翼102hとの間に距離Sの隙間を設けている。その距離Sは、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bとの間を、ボルト115で押さえて位置決めした際、冷却側ステータ110A又は加熱側ステータ110Bのいずれか一方あるいは両方が軸方向に移動しても、隙間114の開口部114Aと真っ正面から向き合わないだけの大きさを確保するのが好ましい。
また、開口部114Aの好ましい位置としては、回転翼102gと回転翼102hによるプロセスガスの分子の移動を考慮し、回転翼102gと回転翼102hの軸方向距離の略中央が考えられる。ただし、開口部114Aの位置は略中央に限定されず、例えば、回転翼102gによるプロセスガスの分子の移動を重視し、略中央位置から下流側にあってもよい。
On the other hand, between the cooling side rotor 102g of the upper group gas transfer section and the heating side rotor 102h of the lower group gas transfer section, which are close to the opening 114A of the gap 114 between the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B, the positions of the rotors 102g and 102h are shifted axially, i.e., vertically, relative to the opening 114A so that neither the outer peripheral surface of the cooling side rotor 102g nor the outer peripheral surface of the heating side rotor 102h faces the opening 114A of the gap 114 directly face-on, and a gap of distance S is provided between the rotors 102g and 102h. It is preferable that the distance S be large enough that when the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B are positioned by pressing them with bolts 115, even if either or both of the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B move axially, they do not face the opening 114A of the gap 114 directly.
In addition, a preferable position for the opening 114A is considered to be approximately the center of the axial distance between the rotors 102g and 102h, taking into consideration the movement of process gas molecules by the rotors 102g and 102h. However, the position of the opening 114A is not limited to approximately the center, and for example, the opening 114A may be located downstream from the approximately center position, taking into consideration the movement of process gas molecules by the rotors 102g.
また、隙間114における開口部114Aの幅の大きさ(軸方向の寸法)は、プロセスガスの分子が他の分子に衝突して進路を変えられることなく進むことのできる距離の平均値である平均自由行程や、断熱効果等を考慮して、分子ができるだけ入り込みにくい所定幅の大きさに設定される。例えば、隙間114および開口部114Aの大きさとしては、0.1mmから2.0mmであり、より好ましくは、0.5mmから1.0mmが考えられる。 The width (axial dimension) of the opening 114A in the gap 114 is set to a predetermined width that makes it as difficult as possible for molecules to enter, taking into consideration the mean free path, which is the average distance that process gas molecules can travel without colliding with other molecules and changing course, and the insulating effect, etc. For example, the size of the gap 114 and the opening 114A is 0.1 mm to 2.0 mm, and more preferably 0.5 mm to 1.0 mm.
なお、本実施例の構造では、図5に図1のA部を拡大して示しているように、ケーシングである外筒127を軸方向に縦断面したときにおける、隙間114の縦断面の形状は、開口部114Aから軸方向と垂直な径方向の外側に向かって水平に延びる第1の隙間部分としての水平隙間部分114aと、水平隙間部分114aの外側端から更に径方向の外側、かつ、軸方向の下流側に沿って斜め下側に延びる傾斜した第2の隙間部分としての傾斜隙間部分14bとを一体に有して、開口部114Aから逆L字状に形成された部分を有する構造とした。以下の説明では、軸方向の上流側とは吸気口101側で、軸方向の下流側とは排気口133側とする。また、軸方向とは、ロータ軸113の軸線方向で、径方向とは軸線に対して垂直な方向、すなわち外筒127の径方向である。 In the structure of this embodiment, as shown in FIG. 5, which is an enlarged view of part A in FIG. 1, when the outer cylinder 127, which is the casing, is cut in the axial direction, the shape of the vertical section of the gap 114 is a structure that has a horizontal gap portion 114a as a first gap portion extending horizontally from the opening 114A toward the outside in the radial direction perpendicular to the axial direction, and an inclined gap portion 14b as a second gap portion that is inclined and extends further radially outward from the outer end of the horizontal gap portion 114a and diagonally downward along the downstream side in the axial direction, and has a portion formed in an inverted L shape from the opening 114A. In the following description, the upstream side in the axial direction is the intake port 101 side, and the downstream side in the axial direction is the exhaust port 133 side. The axial direction is the axial direction of the rotor shaft 113, and the radial direction is the direction perpendicular to the axis, that is, the radial direction of the outer cylinder 127.
この実施例のように構成された真空ポンプ10では、冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bとの間を断熱している所定幅の隙間114の開口部14Aを、回転体103の軸方向において回転翼102(回転翼102gと回転翼102h)の外周面と対向しない、軸方向にずれた位置に設けている。したがって、回転翼102の回転による遠心力で、プロセスガスの一部が、円筒部102Eの冷却側ステータ110Aと加熱側ステータ110Bの内周面に向かって飛ばされても、隙間114の開口部114Aに入り込むプロセスガスの量も極めて少なく、隙間114内に堆積する堆積物の量を減らすことができる。これにより、隙間114内に堆積した堆積物等を除去するためのメンテナンス作業を必要とする間隔を延ばすことができ、生産性の向上に寄与することになる。 In the vacuum pump 10 configured as in this embodiment, the opening 14A of the gap 114 of a predetermined width that insulates between the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B is provided at a position offset in the axial direction of the rotor 103, not facing the outer circumferential surface of the rotor 102 (rotor 102g and rotor 102h). Therefore, even if a part of the process gas is blown toward the inner circumferential surface of the cooling side stator 110A and the heating side stator 110B of the cylindrical portion 102E by the centrifugal force caused by the rotation of the rotor 102, the amount of process gas that enters the opening 114A of the gap 114 is extremely small, and the amount of deposits that accumulate in the gap 114 can be reduced. This makes it possible to extend the interval at which maintenance work is required to remove deposits, etc., accumulated in the gap 114, which contributes to improving productivity.
なお、図1及び図5に示す実施例では、ケーシングである外筒127を軸方向に断面したときの、隙間114の縦断面の形状を、開口部114Aから外側に向かって水平に延びる水平隙間部分114aと、水平隙間部分114aの外端から更に径方向の外側、かつ、軸方向の下流側に沿って斜めに延びる傾斜した傾斜隙間部分114bとを一体に設けて、概略逆L字状に形成してなる構造を示した。 In the embodiment shown in Figures 1 and 5, when the outer cylinder 127, which is the casing, is cut in the axial direction, the shape of the vertical cross section of the gap 114 is shown to be roughly an inverted L-shape, with a horizontal gap portion 114a extending horizontally outward from the opening 114A and an inclined gap portion 114b extending diagonally from the outer end of the horizontal gap portion 114a to the radially outer side and downstream in the axial direction.
この図1及び図5に示す構造では、開口部114Aから水平隙間部分114a内に入ると、次に水平隙間部分114aの外側端から外側に向かって斜め下側に折れ曲がって延びる傾斜した傾斜隙間部分114bがあるので、開口部114Aから水平隙間部分114aに入って、次に傾斜隙間部分114bに流れ込むとき、傾斜隙間部分114bが壁となってぶつかり、プロセスガスが更に内側に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部114Aから隙間114内に入り込むプロセスガスの量を減らし、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。 In the structure shown in Figures 1 and 5, when the process gas enters the horizontal gap portion 114a from the opening 114A, there is an inclined gap portion 114b that bends diagonally downward and extends outward from the outer end of the horizontal gap portion 114a. Therefore, when the process gas enters the horizontal gap portion 114a from the opening 114A and then flows into the inclined gap portion 114b, the inclined gap portion 114b acts as a wall against which the process gas hits, providing resistance to the flow of the process gas further inward. This reduces the amount of process gas that enters the gap 114 from the opening 114A, and further reduces the amount of deposits generated by the process gas.
なお、隙間114の構造は、図1及び図5に示す構造に限ることなく、例えば、図6、図7、図8に示すような構造にしてもよい。また、傾斜隙間部分114bは、水平隙間部分114aの外端から更に径方向の外側、かつ、軸方向の上流側に沿って斜め上側に向かって延びる隙間部分としてもよい。 The structure of the gap 114 is not limited to the structure shown in Figures 1 and 5, and may be, for example, the structure shown in Figures 6, 7, and 8. The inclined gap portion 114b may be a gap portion that extends further radially outward from the outer end of the horizontal gap portion 114a and obliquely upward along the upstream side in the axial direction.
図6に示す隙間114の構造では、ケーシングである外筒127を軸方向に断面したときの、隙間114の縦断面の形状を、開口部114Aを入ると直ぐに軸方向の下流側に向かう第3の隙間部分としての垂直隙間部分114cと、垂直隙間部分114cの下端から径方向の外側に向かって水平に延びる水平隙間部分114aを一体に設けて、開口部114Aから略I字状に形成している部分を有する構造にしている。 In the structure of the gap 114 shown in FIG. 6, when the outer tube 127, which is the casing, is cut in the axial direction, the shape of the longitudinal section of the gap 114 is such that the vertical gap portion 114c, which serves as a third gap portion that faces the downstream side in the axial direction immediately after entering the opening 114A, and the horizontal gap portion 114a, which extends horizontally from the lower end of the vertical gap portion 114c toward the outside in the radial direction, are integrally provided, forming a portion that is approximately I-shaped from the opening 114A.
この図6の構造では、隙間114の断面形状を略I字状に形成することにより、開口部114Aからプロセスガスが隙間114内に入り込もうとしたとき、開口部114Aを入って直ぐの正面の処に、軸方向の下流側に向かう垂直隙間部分114cの壁が存在するので、その壁が、プロセスガスが内側に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部114Aから隙間114内に入り込むプロセスガスの量を減らし、同時に、堆積物ができる量を更に少なくすることができる。なお、垂直隙間部分114cは、開口部114Aを入ると直ぐに軸方向の下流側に向かう構造にしているが、反対に、開口部114Aを入ると直ぐに軸方向の上流側に向かう構造にしてもよい。 In the structure shown in FIG. 6, the cross-sectional shape of the gap 114 is formed into an approximately I-shape, so that when the process gas tries to enter the gap 114 from the opening 114A, the wall of the vertical gap portion 114c facing the axial downstream side is located immediately in front of the opening 114A, and the wall acts as a resistance to the inward flow of the process gas. This reduces the amount of process gas that enters the gap 114 from the opening 114A, and at the same time, the amount of deposits can be further reduced. Note that the vertical gap portion 114c is structured so that it faces the axial downstream side immediately after entering the opening 114A, but it may also be structured so that it faces the axial upstream side immediately after entering the opening 114A.
図7に示す隙間114の構造では、ケーシングである外筒127を軸方向に断面したときの、隙間114の縦断面の形状を、開口部114Aを入ると直ぐに、開口部11Aから軸方向と垂直な径方向の外側、かつ、軸方向の上流側に向かって斜めに延びる第4の隙間部分としての傾斜隙間部分114dと、傾斜隙間部分114dの外端から軸方向の下流側に向かって斜めに延びる第5の隙間部分としての傾斜隙間部分114eとを一体に設けて、開口部114Aから略逆V字状に形成している部分を有する構造にしている。 In the structure of the gap 114 shown in FIG. 7, when the outer tube 127, which is the casing, is cut in the axial direction, the shape of the vertical cross section of the gap 114 is structured to have a portion formed in a roughly inverted V shape from the opening 114A, with an inclined gap portion 114d as a fourth gap portion that extends diagonally from the opening 11A radially outward in a direction perpendicular to the axial direction and toward the upstream side in the axial direction, and an inclined gap portion 114e as a fifth gap portion that extends diagonally from the outer end of the inclined gap portion 114d toward the downstream side in the axial direction.
この図7の構造では、開口部114Aから傾斜隙間部分114d内に入ると直ぐに、外側斜め上方に昇るので、開口部114Aから傾斜隙間部分114d内に入ったプロセスガスは、外側斜め上方に傾斜している傾斜隙間部分114dが壁となってぶつかり、プロセスガスが内側に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部114Aから隙間114内に入り込むプロセスガスの量を減らし、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。 In the structure of FIG. 7, as soon as the process gas enters the inclined gap portion 114d from the opening 114A, it rises outward and diagonally upward, so the process gas that enters the inclined gap portion 114d from the opening 114A hits the inclined gap portion 114d, which slopes outward and diagonally upward, as a wall, and this acts as resistance to the inward flow of the process gas. This reduces the amount of process gas that enters the gap 114 from the opening 114A, and further reduces the amount of deposits generated by the process gas.
なお、図7の構成では、開口部114Aから軸方向と垂直な径方向の外側、かつ、軸方向の上流に向かって斜めに延びる傾斜隙間部分114dと、傾斜隙間部分114dの外端から軸方向の下流側に向かって斜めに延びる傾斜隙間部分114eとを一体に設けて、開口部114Aから略逆V字状に形成している部分を有する構造にしているが、開口部114Aから上流側に傾斜して延びる傾斜隙間部分114d、又は、開口部114Aから下流側に向かって傾斜して延びる傾斜隙間部分114eのいずれか一方を設けた構造にしてもよいものである。 In the configuration of FIG. 7, the inclined gap portion 114d that extends from the opening 114A radially outwardly perpendicular to the axial direction and obliquely toward the upstream side in the axial direction, and the inclined gap portion 114e that extends obliquely from the outer end of the inclined gap portion 114d toward the downstream side in the axial direction are integrally provided, resulting in a structure having a portion that is formed in a roughly inverted V shape from the opening 114A. However, the structure may also have either the inclined gap portion 114d that extends obliquely from the opening 114A toward the upstream side, or the inclined gap portion 114e that extends obliquely from the opening 114A toward the downstream side.
図8に示す隙間114の構造では、ケーシングである外筒127を軸方向に断面したとき、外筒127の内周面に形成される隙間114における開口部114Aの上部に、開口部114Aよりも外筒127の内側に向かって突き出している軒部116を設けた構造にしている。すなわち、軒部116は、開口部114Aとの間に段差を作り、上流側から流れて来るプロセスガスが開口部114Aの方向へは向かわずに、真っ直ぐ下流側へ進むように流れを制御することができる。また、隙間114は、開口部114Aを入ると直ぐに下流側へ向かう第3の隙間部分としての垂直隙間部分114cと、垂直隙間部分114cの下端から軸方向と垂直な径方向の外側に向かって水平に延びる水平隙間部分114aとを一体に設けて、開口部114Aから略I字状に形成している部分を有する構造にしている。 In the structure of the gap 114 shown in FIG. 8, when the outer cylinder 127, which is the casing, is cross-sectioned in the axial direction, the gap 114 formed on the inner peripheral surface of the outer cylinder 127 has an eaves portion 116 that protrudes toward the inside of the outer cylinder 127 beyond the opening 114A. That is, the eaves portion 116 creates a step between the opening 114A and the opening 114A, and can control the flow so that the process gas flowing from the upstream side does not flow toward the opening 114A but flows straight downstream. In addition, the gap 114 has a vertical gap portion 114c as a third gap portion that flows downstream immediately after entering the opening 114A, and a horizontal gap portion 114a that extends horizontally from the lower end of the vertical gap portion 114c toward the outside in the radial direction perpendicular to the axial direction, and is structured to have a portion that is formed in an approximately I-shape from the opening 114A.
図8の構造では、隙間114の断面形状を略I字状に形成することにより、開口部114Aからプロセスガスが隙間114内に入り込もうとしたとき、開口部114Aを入って直ぐの正面の処に、下側に向かう垂直隙間部分114cの壁が存在するので、その壁にプロセスガスがぶつかり、プロセスガスが内側に向かう流れの抵抗となる。これにより、開口部114Aから隙間114内に入り込むプロセスガスの量を減らし、プロセスガスで生成される堆積物の量を更に少なくすることができる。また、軒部116の下面エッジ部分(軒先下面)116aと開口部114Aの下側エッジ部分114gには、それぞれR面取り加工を施している。R面取り加工は、下面エッジ部分116a又は下側エッジ部分114gに、外筒127内で回転翼102にぶつかって跳ね返って来たプロセスガスの一部がぶつかったとき、そのぶつかったプロセスガスの一部を開口部114A内とは異なるロータ軸113の方向に向け、開口部114A内に入り込まないようにするものである。 In the structure of FIG. 8, the cross-sectional shape of the gap 114 is formed into an approximately I-shape, so that when the process gas tries to enter the gap 114 from the opening 114A, the wall of the vertical gap portion 114c facing downward is present immediately in front of the opening 114A, and the process gas hits the wall, which acts as a resistance to the flow of the process gas toward the inside. This reduces the amount of process gas that enters the gap 114 from the opening 114A, and further reduces the amount of deposits generated by the process gas. In addition, the lower edge portion (lower surface of the eaves tip) 116a of the eaves portion 116 and the lower edge portion 114g of the opening 114A are each subjected to R-chamfering. The R-chamfering process is performed so that when part of the process gas that has bounced off the rotor blades 102 inside the outer cylinder 127 hits the lower edge portion 116a or the lower edge portion 114g, the part of the process gas that has bounced off is directed in a direction toward the rotor shaft 113 that is different from the direction into the opening 114A, so that it does not enter the opening 114A.
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変を成すことができ、そして、本発明が該改変されたものに及ぶことは当然である。 The present invention can be modified in various ways without departing from the spirit of the invention, and it goes without saying that the present invention extends to such modifications.
100 :ターボ分子ポンプ
101 :吸気口
102 :回転翼
102A :冷却側回転翼
102B :冷却側回転翼
102E :円筒部
102a :回転翼
102b :回転翼
102c :回転翼
102d :回転翼
102e :回転翼
102f :回転翼
102g :回転翼
103 :回転体
104 :上側径方向電磁石
105 :下側径方向電磁石
106A :軸方向電磁石
106B :軸方向電磁石
107 :上側径方向センサ
108 :下側径方向センサ
109 :軸方向センサ
110A :冷却側ステータ(上段群気体移送部)
110B :加熱側ステータ(下段群気体移送部)
111 :金属ディスク
112 :Oリング
113 :ロータ軸
114 :隙間
114A :開口部
114a :水平隙間部分(第1の隙間部分)
114b :傾斜隙間部分(第2の隙間部分)
114c :垂直隙間部分(第3の隙間部分)
114d :傾斜隙間部分(第4の隙間部分)
114e :傾斜隙間部分(第5の隙間部分)
114g :下側エッジ部分
115 :ボルト
116 :軒部
116a :下面エッジ部分
120 :保護ベアリング
121 :モータ
122 :ステータコラム
123 :固定翼
123a :固定翼
123b :固定翼
123c :固定翼
123d :固定翼
123e :固定翼
123f :固定翼
123g :固定翼
123h :固定翼
123i :固定翼
125 :固定翼スペーサ
127 :外筒
129 :ベース部
131 :ネジ付スペーサ
131a :ネジ溝
133 :排気口
141 :電子回路部
143 :基板
145 :底蓋
149 :水冷管
150 :アンプ回路
151 :電磁石巻線
152 :温度センサ
153 :温度センサ
154 :電磁石巻線
155 :水冷管
161 :ヒータ
161a :カソード端子
161b :アノード端子
162 :トランジスタ
162a :カソード端子
162b :アノード端子
165 :ダイオード
165a :カソード端子
165b :アノード端子
166 :ダイオード
166a :カソード端子
166b :アノード端子
171 :電源
171a :正極
171b :負極
181 :電流検出回路
191 :アンプ制御回路
191a :ゲート駆動信号
191b :ゲート駆動信号
191c :電流検出信号
S :距離
Tp1 :パルス幅時間
Tp2 :パルス幅時間
Ts :制御サイクル
iL :電磁石電流
iLmax :電流値
iLmin :電流値
100: turbo molecular pump 101: intake port 102: rotor 102A: cooling side rotor 102B: cooling side rotor 102E: cylindrical portion 102a: rotor 102b: rotor 102c: rotor 102d: rotor 102e: rotor 102f: rotor 102g: rotor 103: rotor 104: upper radial electromagnet 105: lower radial electromagnet 106A: axial electromagnet 106B: axial electromagnet 107: upper radial sensor 108: lower radial sensor 109: axial sensor 110A: cooling side stator (upper group gas transfer section)
110B: Heating side stator (lower group gas transfer section)
111: Metal disk 112: O-ring 113: Rotor shaft 114: Gap 114A: Opening 114a: Horizontal gap portion (first gap portion)
114b: inclined gap portion (second gap portion)
114c: Vertical gap portion (third gap portion)
114d: Inclined gap portion (fourth gap portion)
114e: Inclined gap portion (fifth gap portion)
114g : Lower edge portion 115 : Bolt 116 : Eaves portion 116a : Lower surface edge portion 120 : Protective bearing 121 : Motor 122 : Stator column 123 : Fixed blade 123a : Fixed blade 123b : Fixed blade 123c : Fixed blade 123d : Fixed blade 123e : Fixed blade 123f : Fixed blade 123g : Fixed blade 123h : Fixed blade 123i : Fixed blade 125 : Fixed blade spacer 127 : Outer cylinder 129 : Base portion 131 : Threaded spacer 131a : Thread groove 133 : Exhaust port 141 : Electronic circuit portion 143 : Board 145 : Bottom cover 149 : Water-cooled tube 150 : Amplifier circuit 151 : Electromagnet winding 152 : Temperature sensor 153 : Temperature sensor 154 : Electromagnet winding 155 : Water-cooled tube 161 : Heater 161a : Cathode terminal 161b : Anode terminal 162 : Transistor 162a : Cathode terminal 162b : Anode terminal 165 : Diode 165a : Cathode terminal 165b : Anode terminal 166 : Diode 166a : Cathode terminal 166b : Anode terminal 171 : Power supply 171a : Positive electrode 171b : Negative electrode 181 : Current detection circuit 191 : Amplifier control circuit 191a : Gate drive signal 191b : Gate drive signal 191c : Current detection signal S : Distance Tp1 : Pulse width time Tp2 : Pulse width time Ts : Control cycle iL : Electromagnet current iLmax : Current value iLmin : Current value
Claims (5)
前記ケーシングの内側に、回転自在に支持されたロータ軸と、
前記ロータ軸と共に回転可能な複数段の回転翼と、
前記ケーシングに対して固定され、かつ、前記複数段の回転翼間に配置される複数段の固定翼と、
前記複数段の固定翼を所定間隔に保持する冷却側ステータ及び加熱側ステータと、
を備えた真空ポンプであって、
前記冷却側ステータと前記加熱側ステータとの間を断熱する所定幅の隙間の開口部を、前記ロータ軸の軸方向において前記回転翼の外周面と対向しない位置に設け、
前記開口部は、前記冷却側ステータによって冷却される冷却範囲内に位置する前記複数段の回転翼のうち最下段の回転翼と前記加熱側ステータによって加熱される加熱範囲内に位置する前記複数段の回転翼のうち最上段の回転翼との間の中央位置に設けられ、
前記開口部の前記軸方向における幅寸法は、0.1mm~2.0mmに設定されている、
ことを特徴とする真空ポンプ。 a casing having an intake port and an exhaust port;
a rotor shaft rotatably supported inside the casing;
A rotor shaft is provided with a plurality of rotor stages, the rotor blades being rotatable together with the rotor shaft;
a plurality of stages of fixed blades fixed to the casing and disposed between the plurality of stages of rotor blades;
a cooling side stator and a heating side stator that hold the plurality of stages of fixed blades at a predetermined interval;
A vacuum pump comprising:
an opening of a gap having a predetermined width for insulating the cooling-side stator and the heating-side stator is provided at a position not facing an outer circumferential surface of the rotor blade in an axial direction of the rotor shaft,
the opening is provided at a central position between a lowermost rotor blade among the plurality of stages of rotor blades located within a cooling range cooled by the cooling-side stator and an uppermost rotor blade among the plurality of stages of rotor blades located within a heating range heated by the heating-side stator,
The width dimension of the opening in the axial direction is set to 0.1 mm to 2.0 mm.
A vacuum pump characterized by:
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020152347A JP7566540B2 (en) | 2020-09-10 | 2020-09-10 | Vacuum pump |
CN202180053111.7A CN116018464A (en) | 2020-09-10 | 2021-09-03 | Vacuum pump |
IL300575A IL300575A (en) | 2020-09-10 | 2021-09-03 | Vacuum pump |
PCT/JP2021/032481 WO2022054717A1 (en) | 2020-09-10 | 2021-09-03 | Vacuum pump |
KR1020237005341A KR20230062812A (en) | 2020-09-10 | 2021-09-03 | vacuum pump |
EP21866676.6A EP4212729A4 (en) | 2020-09-10 | 2021-09-03 | VACUUM PUMP |
US18/042,004 US20240011495A1 (en) | 2020-09-10 | 2021-09-03 | Vacuum pump |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020152347A JP7566540B2 (en) | 2020-09-10 | 2020-09-10 | Vacuum pump |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022046347A JP2022046347A (en) | 2022-03-23 |
JP7566540B2 true JP7566540B2 (en) | 2024-10-15 |
Family
ID=80631800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020152347A Active JP7566540B2 (en) | 2020-09-10 | 2020-09-10 | Vacuum pump |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20240011495A1 (en) |
EP (1) | EP4212729A4 (en) |
JP (1) | JP7566540B2 (en) |
KR (1) | KR20230062812A (en) |
CN (1) | CN116018464A (en) |
IL (1) | IL300575A (en) |
WO (1) | WO2022054717A1 (en) |
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WO2019188732A1 (en) | 2018-03-30 | 2019-10-03 | エドワーズ株式会社 | Vacuum pump |
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EP3462034B1 (en) * | 2017-09-28 | 2024-09-11 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vacuum pump |
-
2020
- 2020-09-10 JP JP2020152347A patent/JP7566540B2/en active Active
-
2021
- 2021-09-03 WO PCT/JP2021/032481 patent/WO2022054717A1/en active Application Filing
- 2021-09-03 US US18/042,004 patent/US20240011495A1/en active Pending
- 2021-09-03 CN CN202180053111.7A patent/CN116018464A/en active Pending
- 2021-09-03 IL IL300575A patent/IL300575A/en unknown
- 2021-09-03 KR KR1020237005341A patent/KR20230062812A/en active Search and Examination
- 2021-09-03 EP EP21866676.6A patent/EP4212729A4/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015031153A (en) | 2013-07-31 | 2015-02-16 | エドワーズ株式会社 | Vacuum pump |
JP2015086856A (en) | 2013-09-24 | 2015-05-07 | 株式会社島津製作所 | Turbo molecular pump |
WO2019188732A1 (en) | 2018-03-30 | 2019-10-03 | エドワーズ株式会社 | Vacuum pump |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230062812A (en) | 2023-05-09 |
IL300575A (en) | 2023-04-01 |
WO2022054717A1 (en) | 2022-03-17 |
EP4212729A4 (en) | 2024-08-14 |
JP2022046347A (en) | 2022-03-23 |
EP4212729A1 (en) | 2023-07-19 |
CN116018464A (en) | 2023-04-25 |
US20240011495A1 (en) | 2024-01-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231107 |
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A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20241002 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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