WO2025041797A1 - Vacuum pump - Google Patents
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
Definitions
- the present invention relates to a vacuum pump.
- vacuum pumps such as turbomolecular pumps
- a vacuum pump with an exhaust section that includes a turbine pump section that is primarily intended to compress the molecular flow region, and a drag pump section that is primarily intended to compress the intermediate flow region to the viscous flow region (see, for example, Figure 9 of Patent Document 1).
- the vacuum pump shown in Patent Document 1 has multiple stages of rotors and fixed vanes inside a cylindrical casing that function as a turbine pump section, and also has a screw groove section that functions as a drag pump section.
- the casing also has an intake port at the top and an exhaust port at the bottom. When the vacuum pump is operated, gas is sucked in through the intake port, and this gas passes through the turbine pump section and drag pump section in that order before being exhausted from the exhaust port.
- vacuum pumps have a backpressure dependency in which the performance of the pump is affected by the pressure on the exhaust port side (backpressure side).
- known means of reducing the effect of backpressure include enlarging the diameter of the thread groove portion or lengthening the axial length of the thread groove portion, as shown in Patent Document 1.
- the present invention aims to provide a vacuum pump that has excellent back pressure performance even when the suction gas is hydrogen gas or the like.
- the present invention is a vacuum pump that includes an exhaust section that includes a turbine pump section having multiple stages of rotors and fixed blades and a drag pump section that is located downstream of the turbine pump section, and exhausts intake gas sucked in from an intake port by the exhaust section through a gas flow path from the exhaust port, and is characterized in that it includes an introduction flow path that introduces an intermediate introduction gas that has a higher viscosity than the intake gas, and the introduction flow path is connected to the gas flow path downstream of the rotor that is closest to the intake port in the exhaust section among the multiple stages of rotors.
- Such a vacuum pump is provided with a purge gas flow passage that supplies purge gas to the inside of a stator column that is provided on the inner periphery of the rotor on which the rotor blades are provided, and the introduction flow passage is branched off from the purge gas flow passage, and it is preferable that the purge gas is used as the intermediate introduction gas.
- the purge gas flow path is preferably composed of an outer purge gas flow path located outside the vacuum pump and an inner purge gas flow path located inside the vacuum pump, and the introduction flow path is preferably branched off from the inner purge gas flow path and connected to the gas flow path.
- the inner diameter of at least a portion of the introduction passage is smaller than the inner diameter of the purge gas passage.
- the introduction passage is equipped with a valve capable of adjusting the flow rate of the intermediate introduction gas.
- the introduction passage is preferably connected to the gas passage between the turbine pump section and the drag pump section.
- the vacuum pump of the present invention is provided with an introduction flow passage for introducing an intermediate introduction gas having a higher viscosity than the intake gas, and this introduction flow passage is connected to the gas flow passage downstream of the rotor that is closest to the intake port in the exhaust section among the multiple stages of rotors.
- FIG. 1 is a vertical cross-sectional view that shows a schematic diagram of an embodiment of a vacuum pump according to the present invention.
- FIG. 2 is a circuit diagram of an amplifier circuit of the vacuum pump shown in FIG. 1 .
- 6 is a time chart showing control when a current command value is larger than a detection value. 6 is a time chart showing control when a current command value is smaller than a detection value.
- FIG. 2 is a partially enlarged view of the vacuum pump shown in FIG. 1 .
- FIG. 2 is a partial enlarged view showing a first modified example of the vacuum pump shown in FIG. 1 .
- FIG. 2 is a partial enlarged view showing a second modified example of the vacuum pump shown in FIG. 1 .
- FIG. 2 is a partial enlarged view showing a third modified example of the vacuum pump shown in FIG. 1 .
- FIG. 4 is a partial enlarged view showing a fourth modified example of the vacuum pump shown in FIG. 6 is a graph showing the relationship between back pressure and suction pressure in the vacuum pump shown in FIGS. 1 and 5 .
- turbomolecular pump which is one embodiment of a vacuum pump according to the present invention, with reference to the drawings.
- FIG. 1 A longitudinal cross-sectional view of this turbomolecular pump 100 is shown in FIG. 1.
- the turbomolecular pump 100 has an intake port 101 formed at the upper end of a cylindrical outer tube 127. Inside the outer tube 127, a rotor 103 is provided, with a plurality of rotors 102 (102a, 102b, 102c, ...) which are turbine blades for drawing in and exhausting gas (intake gas) and arranged radially around its periphery in multiple stages.
- a rotor shaft 113 is attached to the center of this rotor 103, and this rotor shaft 113 is supported in the air and its position is controlled by, for example, a five-axis controlled magnetic bearing.
- the rotor 103 is generally made of a metal such as aluminum or an aluminum alloy.
- the upper radial electromagnets 104 are arranged in pairs on the X-axis and Y-axis.
- Four upper radial sensors 107 are provided adjacent to the upper radial electromagnets 104 and corresponding to each of the upper radial electromagnets 104.
- the upper radial sensors 107 are, for example, inductance sensors or eddy current sensors having conductive windings, and detect the position of the rotor shaft 113 based on the change in inductance of the conductive winding, which changes according to the position of the rotor shaft 113.
- the upper radial sensors 107 are configured to detect the radial displacement of the rotor shaft 113, i.e., the rotating body 103 fixed thereto, and send it to a control device (not shown).
- a compensation circuit having a PID adjustment function generates an excitation control command signal for the upper radial electromagnet 104 based on the position signal detected by the upper radial sensor 107, and the amplifier circuit 150 (described later) shown in FIG. 2 controls the excitation of the upper radial electromagnet 104 based on this excitation control command signal, thereby adjusting the upper radial position of the rotor shaft 113.
- the rotor shaft 113 is made of a material with high magnetic permeability (iron, stainless steel, etc.) and is attracted by the magnetic force of the upper radial electromagnet 104. Such adjustment is performed independently in the X-axis direction and the Y-axis direction.
- the lower radial electromagnet 105 and the lower radial sensor 108 are arranged in the same manner as the upper radial electromagnet 104 and the upper radial sensor 107, and adjust the lower radial position of the rotor shaft 113 in the same manner as the upper radial position.
- a compensation circuit having, for example, a PID adjustment function generates excitation control command signals for the axial electromagnet 106A and the axial electromagnet 106B based on the axial position signal detected by the axial sensor 109, and the amplifier circuit 150 controls the excitation of the axial electromagnet 106A and the axial electromagnet 106B based on these excitation control command signals, so that the axial electromagnet 106A attracts the metal disk 111 upward by magnetic force, and the axial electromagnet 106B attracts the metal disk 111 downward, thereby adjusting the axial position of the rotor shaft 113.
- control device appropriately adjusts the magnetic force that the axial electromagnets 106A, 106B exert on the metal disk 111, magnetically levitating the rotor shaft 113 in the axial direction and holding it in space without contact.
- the amplifier circuit 150 that controls the excitation of the upper radial electromagnet 104, the lower radial electromagnet 105, and the axial electromagnets 106A, 106B will be described later.
- the motor 121 has multiple magnetic poles arranged circumferentially to surround the rotor shaft 113. Each magnetic pole is controlled by a control device so as to rotate the rotor shaft 113 via electromagnetic forces acting between the magnetic poles and the rotor shaft 113.
- the motor 121 incorporates a rotational speed sensor such as a Hall element, resolver, or encoder (not shown), and the rotational speed of the rotor shaft 113 is detected by the detection signal of this rotational speed sensor.
- phase sensor (not shown) is attached near the lower radial sensor 108 to detect the phase of rotation of the rotor shaft 113.
- the control device uses the detection signals of both this phase sensor and the rotation speed sensor to detect the position of the magnetic pole.
- the fixed blades 123 are arranged with a small gap between the rotating blades 102 (102a, 102b, 102c).
- the rotating blades 102 (102a, 102b, 102c%) are formed at a predetermined angle from a plane perpendicular to the axis of the rotor shaft 113 in order to transport the intake gas molecules downwards by collision.
- the fixed blades 123 (123a, 123b, 123c%) are made of metals such as aluminum, iron, stainless steel, copper, etc., or alloys containing these metals as components.
- the fixed wing spacer 125 is a ring-shaped member made of metal such as aluminum, iron, stainless steel, copper, or an alloy containing these metals as components.
- An outer cylinder 127 is fixed to the outer periphery of the fixed wing spacer 125 with a small gap between them.
- a base portion 129 is disposed at the bottom of the outer cylinder 127.
- An exhaust port 133 is formed in the base portion 129 and is connected to the outside. The intake gas that enters the intake port 101 from the chamber (vacuum chamber) side and is transferred to the base portion 129 is sent to the exhaust port 133.
- This cylindrical portion 102d is cylindrical and protrudes toward the inner peripheral surface of the threaded spacer 131, and is adjacent to the inner peripheral surface of the threaded spacer 131 with a predetermined gap therebetween.
- the intake gas transferred to the thread groove 131a by the rotor 102 and the fixed blade 123 is guided by the thread groove 131a and sent to the base part 129.
- the exhaust section 114 is composed of a turbine pump section 115 having multiple stages of rotors 102 and fixed blades 123, and a drag pump section 116 having a screw groove 131a and a cylindrical section 102d.
- the base portion 129 is a disk-shaped member that forms the base of the turbomolecular pump 100, and is generally made of a metal such as iron, aluminum, or stainless steel.
- the base portion 129 not only physically holds the turbomolecular pump 100, but also functions as a heat conduction path, so it is desirable to use a metal that is rigid and has high thermal conductivity, such as iron, aluminum, or copper.
- the temperature of the rotor 102 rises due to frictional heat generated when the intake gas comes into contact with the rotor 102 and conduction of heat generated by the motor 121, but this heat is transferred to the fixed blade 123 side by radiation or conduction by gas molecules of the intake gas.
- the fixed blade spacers 125 are joined together at their outer periphery and transmit to the outside heat received by the fixed blades 123 from the rotor blades 102 and frictional heat generated when the intake gas comes into contact with the fixed blades 123.
- the threaded spacer 131 is disposed on the outer periphery of the cylindrical portion 102d of the rotor 103, and that the thread groove 131a is engraved on the inner periphery of the threaded spacer 131.
- a thread groove is engraved on the outer periphery of the cylindrical portion 102d, and a spacer having a cylindrical inner periphery is disposed around it.
- the intake gas sucked in from the intake port 101 does not enter the electrical equipment section, which is composed of the upper radial electromagnet 104, upper radial sensor 107, motor 121, lower radial electromagnet 105, lower radial sensor 108, axial electromagnets 106A and 106B, and axial sensor 109, etc., and the electrical equipment section is surrounded by a stator column 122, and the inside of this stator column 122 is kept at a predetermined pressure by purge gas.
- the electrical equipment section which is composed of the upper radial electromagnet 104, upper radial sensor 107, motor 121, lower radial electromagnet 105, lower radial sensor 108, axial electromagnets 106A and 106B, and axial sensor 109, etc.
- a purge gas inlet 135 is provided in the base portion 129, and purge gas is introduced from this purge gas inlet 135 to the inside of the stator column 122.
- the introduced purge gas is sent to the exhaust port 133 through gaps between the protective bearing 120 and the rotor shaft 113, between the rotor and stator of the motor 121, and between the stator column 122 and the inner cylindrical portion of the rotor 102.
- the flow path through which the purge gas flows from the purge gas inlet 135 to the stator column 122 is referred to as the purge gas flow path FP2.
- the turbomolecular pump 100 requires control based on the model identification and individually adjusted unique parameters (for example, various characteristics corresponding to the model).
- the turbomolecular pump 100 has an electronic circuit section 141 inside its body.
- the electronic circuit section 141 is composed of a semiconductor memory such as an EEP-ROM, electronic components such as semiconductor elements for accessing the memory, and a substrate 143 for mounting these components.
- This electronic circuit section 141 is housed below a rotational speed sensor (not shown) near the center of the base section 129 that constitutes the lower part of the turbomolecular pump 100, and is closed by an airtight bottom cover 145.
- some process gases introduced into the chamber have the property of solidifying when their pressure exceeds a predetermined value or their temperature falls below a predetermined value.
- the pressure of the intake gas is lowest at the intake port 101 and highest at the exhaust port 133. If the pressure of the intake gas exceeds a predetermined value or the temperature falls below a predetermined value while the intake gas is being transferred from the intake port 101 to the exhaust port 133, the intake gas solidifies and adheres to and accumulates inside the turbomolecular pump 100.
- a heater (not shown) or a circular water-cooled tube 149 is wrapped around the outer periphery of the base portion 129, and a temperature sensor (e.g., a thermistor) (not shown) is embedded in the base portion 129, and the heating of the heater and the cooling by the water-cooled tube 149 are controlled based on the signal from the temperature sensor to keep the temperature of the base portion 129 at a constant high temperature (set temperature) (hereinafter referred to as TMS; TMS; Temperature Management System).
- TMS constant high temperature
- turbomolecular pump 100 of this embodiment is equipped with an intermediate introduction gas inlet 137 for introducing intermediate introduction gas into the turbomolecular pump 100.
- intermediate introduction gas etc.
- one end of the electromagnet winding 151 constituting the upper radial electromagnet 104 etc. is connected to the positive pole 171a of the power supply 171 via the transistor 161, and the other end is connected to the negative pole 171b of the power supply 171 via the current detection circuit 181 and the transistor 162.
- the transistors 161 and 162 are so-called power MOSFETs, and have a structure in which a diode is connected between the source and drain.
- the transistor 161 has its diode cathode terminal 161a connected to the positive electrode 171a, and its anode terminal 161b connected to one end of the electromagnet winding 151.
- the transistor 162 has its diode cathode terminal 162a connected to the current detection circuit 181, and its anode terminal 162b connected to the negative electrode 171b.
- the current regeneration diode 165 has its cathode terminal 165a connected to one end of the electromagnet winding 151 and its anode terminal 165b connected to the negative pole 171b.
- the current regeneration diode 166 has its cathode terminal 166a connected to the positive pole 171a and its anode terminal 166b connected to the other end of the electromagnet winding 151 via a current detection circuit 181.
- the current detection circuit 181 is composed of, for example, a Hall sensor type current sensor or an electrical resistance element.
- the amplifier circuit 150 configured as above corresponds to one electromagnet. Therefore, if the magnetic bearing is controlled in five axes and there are a total of ten electromagnets 104, 105, 106A, and 106B, a similar amplifier circuit 150 is configured for each electromagnet, and the ten amplifier circuits 150 are connected in parallel to the power supply 171.
- the amplifier control circuit 191 is configured, for example, by a digital signal processor section (hereinafter referred to as a DSP section) of the control device (not shown), and this amplifier control circuit 191 switches the transistors 161 and 162 on and off.
- a DSP section digital signal processor section
- the amplifier control circuit 191 compares the current value detected by the current detection circuit 181 (a signal reflecting this current value is called a current detection signal 191c) with a predetermined current command value. Then, based on the result of this comparison, it determines the size of the pulse width (pulse width times Tp1, Tp2) to be generated within a control cycle Ts, which is one period under PWM control. As a result, gate drive signals 191a, 191b having this pulse width are output from the amplifier control circuit 191 to the gate terminals of transistors 161, 162.
- a high voltage of about 50 V is used for the power supply 171 so that the current flowing through the electromagnet winding 151 can be rapidly increased (or decreased).
- a capacitor (not shown) is usually connected between the positive pole 171a and the negative pole 171b of the power supply 171 to stabilize the power supply 171.
- electromagnet current iL the current flowing through the electromagnet winding 151
- electromagnet current iL the current flowing through the electromagnet winding 151
- both transistors 161 and 162 are turned on for a time period equivalent to pulse width time Tp1 only once during control cycle Ts (e.g., 100 ⁇ s) as shown in FIG. 3. Therefore, during this period, electromagnet current iL increases toward current value iLmax (not shown) that can flow from positive pole 171a to negative pole 171b via transistors 161 and 162.
- both transistors 161 and 162 are turned off for a time period equivalent to pulse width time Tp2 only once during control cycle Ts, as shown in FIG. 4. Therefore, during this period, electromagnet current iL decreases toward current value iLmin (not shown) that can be regenerated from negative pole 171b to positive pole 171a via diodes 165 and 166.
- the intermediate introduction gas is a gas with a higher viscosity than the intake gas.
- the intake gas is hydrogen gas
- nitrogen gas or argon gas is used as the intermediate introduction gas.
- the intermediate introduction gas is not limited to a gas of a different type from the intake gas, and may be, for example, a gas of the same type as the intake gas, but with its viscosity increased by increasing its temperature.
- the intermediate introduction gas is introduced into the turbomolecular pump 100 from the intermediate introduction gas inlet 137 shown in FIG. 5.
- the intermediate introduction gas introduced into the turbomolecular pump 100 flows through the introduction flow path FP3 shown in the figure.
- the fixed blade spacer 125a of this embodiment has a connection port 138 that penetrates the fixed blade spacer 125a in the radial direction, and as shown in the figure, the connection port 138 is located downstream of the rotor 102a in the exhaust direction.
- the introduction flow path FP3 is connected by the connection port 138 to the gas flow path FP1 downstream of the rotor 102a that is closest to the intake port 101 in the exhaust section 114.
- the turbomolecular pump 100 configured in this manner, not only the intake gas sucked in from the intake port 101 but also the intermediate introduction gas that has passed through the connection port 138 flows through the gas flow path FP1.
- the viscosity of the mixture of the intake gas and the intermediate introduction gas is higher than that of the intake gas alone, and therefore the compression effect in the exhaust section 114 (particularly the drag pump section 116) is improved. Therefore, with the turbomolecular pump 100, even if the intake gas is a low-viscosity gas such as hydrogen gas, the back pressure performance can be improved compared to the case where the intermediate introduction gas is not introduced.
- the back pressure performance of the turbo molecular pump 100 in this embodiment will be described with reference to Fig. 10.
- the horizontal axis indicates the pressure (back pressure) at the exhaust port 133
- the vertical axis indicates the pressure (suction pressure) at the intake port 101.
- the dashed line in Fig. 10 indicates the relationship between the back pressure and the suction pressure when only the intake gas is sucked without introducing the intermediate introduction gas
- the solid line in Fig. 10 indicates the relationship between the back pressure and the suction pressure when the intake gas is sucked while introducing the intermediate introduction gas.
- the intake gas is hydrogen gas
- the intermediate introduction gas is nitrogen gas.
- the configuration related to the intermediate gas introduction in the turbomolecular pump 100 can be modified in various ways.
- the turbomolecular pump 100 may be modified to the configuration shown in FIG. 6.
- the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 6 is equipped with a valve 139.
- the connection port 138 is provided at the outlet of a through hole provided inside the threaded spacer 131.
- the introduction flow path FP3 through which the intermediate introduction gas flows is a flow path from the valve 139 through the intermediate introduction gas introduction port 137 to the connection port 138.
- the valve 139 can adjust the flow rate of the intermediate introduction gas flowing through the introduction flow path FP3.
- the introduction flow path FP3 is connected to the vicinity of the middle of the drag pump section 116 in the exhaust section 114 by the connection port 138. That is, downstream of the vicinity of the middle of the drag pump section 116 in the exhaust section 114, a mixture of intake gas and intermediate introduction gas flows, so the compression effect in this part is improved compared to when only intake gas flows through the gas flow path FP1. Therefore, even in the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 6, the back pressure performance can be improved compared to when the intermediate introduction gas is not introduced. Note that if the amount of intermediate introduction gas introduced into the gas flow path FP1 is too large or too small, the compression effect cannot be improved. On the other hand, if a valve 139 is provided as in this embodiment, the amount of intermediate introduction gas can be easily changed, so that the back pressure performance can be further improved by adjusting the amount of intermediate introduction gas.
- the turbomolecular pump 100 may also be modified to the configuration shown in FIG. 7.
- the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 7 is provided with a connection port 138 between the turbine pump section 115 and the drag pump section 116 in the exhaust section 114. That is, the introduction flow path FP3 is connected to the gas flow path FP1 between the turbine pump section 115 and the drag pump section 116. With this configuration, the mixed gas of the intake gas and the intermediate introduction gas flows through the drag pump section 116, improving the compression effect in the drag pump section 116.
- the mixed gas of the intake gas and the intermediate introduction gas basically flows downstream from the middle of the drag pump section 116, while in the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 7, the mixed gas basically flows through the entire drag pump section 116, so the compression effect is further improved.
- the mixed gas of the intake gas and the intermediate introduction gas also flows through the entire drag pump section 116 in the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 5, so a further improvement in the compression effect is expected compared to the turbomolecular pump 100 in FIG. 6.
- the turbomolecular pump 100 in FIG. 6 In the turbomolecular pump 100 in FIG.
- the number of gas molecules that come into contact with the rotor 102 and the fixed blades 123 when the mixed gas flows through the turbine pump section 115 increases compared to the case of only the intake gas, which increases the heat generation in the rotor 102 and the fixed blades 123, making it easier to reach the upper limit temperature of the turbomolecular pump 100 that is permissible. For this reason, it is necessary to suppress the allowable flow rate of the intake gas in order to suppress the temperature rise.
- the mixed gas basically flows downstream of the turbine pump section 115, so the allowable flow rate of the intake gas can be increased compared to the turbomolecular pump 100 in FIG. 5.
- the turbomolecular pump 100 may be modified to the configuration shown in FIG. 8.
- a purge gas fitting 135a having a purge gas inlet 135 is branched into two on the outside of the base portion 129.
- One of the branched purge gas fittings 135a is connected to the inside of the stator column 122, and the other of the branched purge gas fittings 135a is connected to a connection port 138 located between the turbine pump portion 115 and the drag pump portion 116.
- the purge gas flow path FP2 is a flow path from the purge gas inlet 135 to the stator column 122 via one of the purge gas fittings 135a
- the introduction flow path FP3 is a flow path from the other purge gas fitting 135a to the connection port 138. That is, the introduction flow path FP3 is branched from the purge gas flow path FP2, and a purge gas is used as an intermediate introduction gas flowing through the introduction flow path FP3.
- the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 8 allows the purge gas to be used as the intermediate introduction gas, and therefore the overall configuration of the turbomolecular pump 100, including associated equipment, can be simplified compared to when the purge gas and the intermediate introduction gas are prepared separately. Furthermore, when using the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 8, it is particularly preferable that the suction gas is hydrogen gas and the purge gas is nitrogen gas. That is, since nitrogen gas has a higher viscosity than hydrogen gas, the back pressure performance can be improved compared to when nitrogen gas is not introduced as the intermediate introduction gas. Furthermore, since nitrogen gas is an inexpensive inert gas, the turbomolecular pump 100 can be operated safely and costs can be reduced.
- the turbomolecular pump 100 may be modified to the configuration shown in FIG. 9.
- the turbomolecular pump 100 shown in FIG. 9 has through holes in the base portion 129 and the threaded spacer 131.
- the inlet of the through hole is connected to the purge gas flow path FP2.
- the through hole is also connected to a connection port 138 located between the turbine pump portion 115 and the drag pump portion 116.
- the introduction flow path FP3 is a flow path from the inlet of the through hole to the connection port 138.
- the flow path located outside the turbomolecular pump 100 i.e., inside the purge gas joint 135b
- the flow path located inside the turbomolecular pump 100 is referred to as the inner purge gas flow path FP2B.
- the introduction flow path FP3 branches off from the inner purge gas flow path FP2B and is connected to the gas flow path FP1. That is, in this turbomolecular pump 100, the purge gas can also be used as the intermediate introduction gas, so the overall configuration of the turbomolecular pump 100 can be simplified compared to when the purge gas and the intermediate introduction gas are prepared separately.
- the introduction flow path FP3 is provided outside the turbomolecular pump 100, so space is required, but in the turbomolecular pump 100 in FIG. 9, the introduction flow path FP3 is provided inside the turbomolecular pump 100, so space can be secured around the turbomolecular pump 100.
- the inner diameter of at least a portion of the introduction flow path FP3 is smaller than the inner diameter of the purge gas flow path FP2.
- a relatively small diameter connection port 138 is used, and the inner diameter of at least this portion is smaller than the inner diameter of the purge gas flow path FP2.
- the amount of purge gas used as the intermediate introduction gas is generally less than the amount of purge gas introduced into the stator column 122. Therefore, by making the inner diameter of at least a portion of the introduction flow path FP3 smaller than the inner diameter of the purge gas flow path FP2, it becomes easier to achieve the desired back pressure performance from the beginning. Furthermore, when adjusting the amount of purge gas flowing through the introduction flow path FP3 to improve the back pressure performance, it is easy to increase a small inner diameter, making the adjustment easier.
- the amount of purge gas flowing through the introduction flow path FP3 may be adjusted using the valve 139 (see Figure 6) described above.
- the drag pump section 116 is not limited to the Holweck pump mechanism that uses the screw groove 131a described above, but may be configured with other pump mechanisms, such as a Sigburn pump mechanism.
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Abstract
Description
本発明は、真空ポンプに関する。 The present invention relates to a vacuum pump.
ターボ分子ポンプ等の真空ポンプとして、主に分子流領域の圧縮を狙いとするタービンポンプ部と、主に中間流領域から粘性流領域の圧縮を狙いとするドラッグポンプ部とを含んで構成される排気部を備える真空ポンプが知られている(例えば特許文献1の図9を参照)。 Among vacuum pumps, such as turbomolecular pumps, there is known a vacuum pump with an exhaust section that includes a turbine pump section that is primarily intended to compress the molecular flow region, and a drag pump section that is primarily intended to compress the intermediate flow region to the viscous flow region (see, for example, Figure 9 of Patent Document 1).
特許文献1に示されている真空ポンプは、筒状のケーシングの内部に、タービンポンプ部として機能する複数段の回転翼と固定翼が設けられ、さらにドラッグポンプ部として機能するネジ溝部が設けられている。またケーシングの上部には吸気口が設けられ、下部には排気口が設けられている。そして真空ポンプを駆動させると、吸気口からガスが吸引され、このガスはタービンポンプ部とドラッグポンプ部を順に通過した後、排気口から排気される。 The vacuum pump shown in Patent Document 1 has multiple stages of rotors and fixed vanes inside a cylindrical casing that function as a turbine pump section, and also has a screw groove section that functions as a drag pump section. The casing also has an intake port at the top and an exhaust port at the bottom. When the vacuum pump is operated, gas is sucked in through the intake port, and this gas passes through the turbine pump section and drag pump section in that order before being exhausted from the exhaust port.
一般に真空ポンプには、排気口側(背圧側)の圧力によってポンプの性能に影響が及ぶ背圧依存性がある。従来、背圧の影響を受けにくくする(背圧性能を高める)手段としては、特許文献1に示されているように、ネジ溝部の直径を拡大することやネジ溝部の軸方向長さを長くすることが知られている。 Generally, vacuum pumps have a backpressure dependency in which the performance of the pump is affected by the pressure on the exhaust port side (backpressure side). Conventionally, known means of reducing the effect of backpressure (improving backpressure performance) include enlarging the diameter of the thread groove portion or lengthening the axial length of the thread groove portion, as shown in Patent Document 1.
ところで真空ポンプで吸引するガスが水素ガスである場合は、上記のような背圧性能を高める手段を用いても、例えば窒素ガスを吸引する場合と比較して十分な背圧性能が得られないことがある。この点につき本願発明者が検討を重ねたところ、水素ガスは窒素ガスと比較して粘度が低く、そのため排気部(特にはドラッグポンプ部)での圧縮効果が低くなり、それが背圧性能低下の要因の一つであると推察された。 However, when the gas being sucked into the vacuum pump is hydrogen gas, even if the above-mentioned means for increasing back pressure performance are used, sufficient back pressure performance may not be obtained compared to when, for example, nitrogen gas is sucked in. After extensive research into this point, the inventors of the present application concluded that hydrogen gas has a lower viscosity than nitrogen gas, which reduces the compression effect in the exhaust section (especially the drag pump section), and that this is one of the factors that causes the back pressure performance to decrease.
本発明は、吸引ガスが水素ガス等であっても背圧性能に優れる真空ポンプを提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a vacuum pump that has excellent back pressure performance even when the suction gas is hydrogen gas or the like.
本発明は、複数段の回転翼と固定翼を有するタービンポンプ部と前記タービンポンプ部よりも排気下流側に位置するドラッグポンプ部とを含んで構成される排気部を備え、前記排気部によって吸気口から吸引した吸気ガスをガス流路を介して排気口から排気させる真空ポンプであって、前記吸気ガスよりも粘度が高い中間導入ガスを導入する導入流路を備え、前記導入流路は、前記複数段の回転翼の中で、前記排気部における前記吸気口に最も近い回転翼よりも排気下流側で前記ガス流路に接続されていることを特徴とする。 The present invention is a vacuum pump that includes an exhaust section that includes a turbine pump section having multiple stages of rotors and fixed blades and a drag pump section that is located downstream of the turbine pump section, and exhausts intake gas sucked in from an intake port by the exhaust section through a gas flow path from the exhaust port, and is characterized in that it includes an introduction flow path that introduces an intermediate introduction gas that has a higher viscosity than the intake gas, and the introduction flow path is connected to the gas flow path downstream of the rotor that is closest to the intake port in the exhaust section among the multiple stages of rotors.
このような真空ポンプは、前記回転翼が設けられた回転体の内周側に設けられるステータコラムの内側にパージガスを供給するパージガス流路を備え、前記導入流路は前記パージガス流路から分岐したものであって、前記中間導入ガスとして前記パージガスが用いられることが好ましい。 Such a vacuum pump is provided with a purge gas flow passage that supplies purge gas to the inside of a stator column that is provided on the inner periphery of the rotor on which the rotor blades are provided, and the introduction flow passage is branched off from the purge gas flow passage, and it is preferable that the purge gas is used as the intermediate introduction gas.
そして前記パージガス流路は、真空ポンプの外側に位置する外側パージガス流路と真空ポンプの内側に位置する内側パージガス流路とで構成され、前記導入流路は、前記内側パージガス流路から分岐して前記ガス流路に接続されることが好ましい。 The purge gas flow path is preferably composed of an outer purge gas flow path located outside the vacuum pump and an inner purge gas flow path located inside the vacuum pump, and the introduction flow path is preferably branched off from the inner purge gas flow path and connected to the gas flow path.
そして前記導入流路の少なくとも一部の内径は、前記パージガス流路の内径よりも小さいことが好ましい。 It is preferable that the inner diameter of at least a portion of the introduction passage is smaller than the inner diameter of the purge gas passage.
また前記導入流路は、前記中間導入ガスの流量を調整可能なバルブを備えることが好ましい。 It is also preferable that the introduction passage is equipped with a valve capable of adjusting the flow rate of the intermediate introduction gas.
そして前記導入流路は、前記タービンポンプ部と前記ドラッグポンプ部の間で前記ガス流路に接続されていることが好ましい。 The introduction passage is preferably connected to the gas passage between the turbine pump section and the drag pump section.
本発明の真空ポンプは、吸気ガスよりも粘度が高い中間導入ガスを導入する導入流路を備え、この導入流路は、複数段の回転翼の中で、排気部における吸気口に最も近い回転翼よりも排気下流側でガス流路に接続されている。このような構成により、排気部によって吸気口から吸引した吸気ガスをガス流路を介して排気口から排気させるにあたり、ガス流路では、吸気ガス及び中間導入ガスが流れる。すなわち、吸気ガスと中間導入ガスの混合ガスの粘度は吸気ガスのみに比して高くなり、それ故、排気部での圧縮効果が向上する。従って本発明の真空ポンプによれば、吸引ガスが水素ガス等であっても優れた背圧性能を得ることができる。 The vacuum pump of the present invention is provided with an introduction flow passage for introducing an intermediate introduction gas having a higher viscosity than the intake gas, and this introduction flow passage is connected to the gas flow passage downstream of the rotor that is closest to the intake port in the exhaust section among the multiple stages of rotors. With this configuration, when the intake gas sucked in from the intake port by the exhaust section is exhausted from the exhaust port via the gas flow passage, the intake gas and the intermediate introduction gas flow in the gas flow passage. In other words, the viscosity of the mixture of the intake gas and the intermediate introduction gas is higher than that of the intake gas alone, and therefore the compression effect in the exhaust section is improved. Therefore, with the vacuum pump of the present invention, excellent back pressure performance can be obtained even if the suction gas is hydrogen gas or the like.
以下、図面を参照しながら本発明に係る真空ポンプの一実施形態であるターボ分子ポンプについて、図面を参照しながら説明する。 Below, we will explain a turbomolecular pump, which is one embodiment of a vacuum pump according to the present invention, with reference to the drawings.
このターボ分子ポンプ100の縦断面図を図1に示す。ターボ分子ポンプ100には、円筒状の外筒127の上端に吸気口101が形成されている。そして、外筒127の内方には、ガス(吸気ガス)を吸引排気するためのタービンブレードである複数の回転翼102(102a、102b、102c・・・)を周部に放射状かつ多段に形成した回転体103が備えられている。この回転体103の中心にはロータ軸113が取り付けられており、このロータ軸113は、例えば5軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持かつ位置制御されている。回転体103は、一般的に、アルミニウム又はアルミニウム合金などの金属によって構成されている。
A longitudinal cross-sectional view of this
上側径方向電磁石104は、4個の電磁石がX軸とY軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石104に近接して、かつ上側径方向電磁石104のそれぞれに対応して4個の上側径方向センサ107が備えられている。上側径方向センサ107は、例えば伝導巻線を有するインダクタンスセンサや渦電流センサなどが用いられ、ロータ軸113の位置に応じて変化するこの伝導巻線のインダクタンスの変化に基づいてロータ軸113の位置を検出する。この上側径方向センサ107はロータ軸113、すなわちそれに固定された回転体103の径方向変位を検出し、不図示の制御装置に送るように構成されている。
The upper
この制御装置においては、例えばPID調節機能を有する補償回路が、上側径方向センサ107によって検出された位置信号に基づいて、上側径方向電磁石104の励磁制御指令信号を生成し、図2に示すアンプ回路150(後述する)が、この励磁制御指令信号に基づいて、上側径方向電磁石104を励磁制御することで、ロータ軸113の上側の径方向位置が調整される。
In this control device, for example, a compensation circuit having a PID adjustment function generates an excitation control command signal for the upper
そして、このロータ軸113は、高透磁率材(鉄、ステンレスなど)などにより形成され、上側径方向電磁石104の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、X軸方向とY軸方向とにそれぞれ独立して行われる。また、下側径方向電磁石105及び下側径方向センサ108が、上側径方向電磁石104及び上側径方向センサ107と同様に配置され、ロータ軸113の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整している。
The
さらに、軸方向電磁石106A、106Bが、ロータ軸113の下部に備えた円板状の金属ディスク111を上下に挟んで配置されている。金属ディスク111は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロータ軸113の軸方向変位を検出するために軸方向センサ109が備えられ、その軸方向位置信号が制御装置に送られるように構成されている。
Furthermore,
そして、制御装置において、例えばPID調節機能を有する補償回路が、軸方向センサ109によって検出された軸方向位置信号に基づいて、軸方向電磁石106Aと軸方向電磁石106Bのそれぞれの励磁制御指令信号を生成し、アンプ回路150が、これらの励磁制御指令信号に基づいて、軸方向電磁石106Aと軸方向電磁石106Bをそれぞれ励磁制御することで、軸方向電磁石106Aが磁力により金属ディスク111を上方に吸引し、軸方向電磁石106Bが金属ディスク111を下方に吸引し、ロータ軸113の軸方向位置が調整される。
Then, in the control device, a compensation circuit having, for example, a PID adjustment function generates excitation control command signals for the
このように、制御装置は、この軸方向電磁石106A、106Bが金属ディスク111に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸113を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。なお、これら上側径方向電磁石104、下側径方向電磁石105及び軸方向電磁石106A、106Bを励磁制御するアンプ回路150については、後述する。
In this way, the control device appropriately adjusts the magnetic force that the
一方、モータ121は、ロータ軸113を取り囲むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各磁極は、ロータ軸113との間に作用する電磁力を介してロータ軸113を回転駆動するように、制御装置によって制御されている。また、モータ121には図示しない例えばホール素子、レゾルバ、エンコーダなどの回転速度センサが組み込まれており、この回転速度センサの検出信号によりロータ軸113の回転速度が検出されるようになっている。
On the other hand, the
さらに、例えば下側径方向センサ108近傍に、図示しない位相センサが取り付けてあり、ロータ軸113の回転の位相を検出するようになっている。制御装置では、この位相センサと回転速度センサの検出信号を共に用いて磁極の位置を検出するようになっている。
Furthermore, for example, a phase sensor (not shown) is attached near the lower
回転翼102(102a、102b、102c・・・)とわずかの空隙を隔てて複数枚の固定翼123(123a、123b、123c・・・)が配設されている。回転翼102(102a、102b、102c・・・)は、それぞれ吸気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。固定翼123(123a、123b、123c・・・)は、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。
Several fixed blades 123 (123a, 123b, 123c...) are arranged with a small gap between the rotating blades 102 (102a, 102b, 102c...). The rotating blades 102 (102a, 102b, 102c...) are formed at a predetermined angle from a plane perpendicular to the axis of the
また、固定翼123も、同様にロータ軸113の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成され、かつ外筒127の内方に向けて回転翼102の段と互い違いに配設されている。そして、固定翼123の外周端は、複数の段積みされた固定翼スペーサ125(125a、125b、125c・・・)の間に嵌挿された状態で支持されている。
The
固定翼スペーサ125はリング状の部材であり、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。固定翼スペーサ125の外周には、わずかの空隙を隔てて外筒127が固定されている。外筒127の底部にはベース部129が配設されている。ベース部129には排気口133が形成され、外部に連通されている。チャンバ(真空チャンバ)側から吸気口101に入ってベース部129に移送されてきた吸気ガスは、排気口133へと送られる。
The fixed wing spacer 125 is a ring-shaped member made of metal such as aluminum, iron, stainless steel, copper, or an alloy containing these metals as components. An
さらに、固定翼スペーサ125の下部とベース部129の間には、ネジ付スペーサ131が配設される。ネジ付スペーサ131は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝131aが複数条刻設されている。ネジ溝131aの螺旋の方向は、回転体103の回転方向に吸気ガスの分子が移動したときに、この分子が排気口133の方へ移送される方向である。回転体103の回転翼102(102a、102b、102c・・・)に続く最下部には円筒部102dが垂下されている。この円筒部102dの外周面は、円筒状で、かつネジ付スペーサ131の内周面に向かって張り出されており、このネジ付スペーサ131の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。回転翼102および固定翼123によってネジ溝131aに移送されてきた吸気ガスは、ネジ溝131aに案内されつつベース部129へと送られる。
Furthermore, a threaded
ここで、吸気口101から排気口133に向けて吸気ガスを排気させる機能を備える部位を排気部114と称し、吸気口101から排気口133に至る吸気ガスが流れる流路をガス流路FP1と称する。排気部114は、複数段の回転翼102と固定翼123を有するタービンポンプ部115と、ネジ溝131aと円筒部102dを有するドラッグポンプ部116により構成されている。
Here, the part that has the function of discharging the intake gas from the
ベース部129は、ターボ分子ポンプ100の基底部を構成する円盤状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属によって構成されている。ベース部129はターボ分子ポンプ100を物理的に保持すると共に、熱の伝導路の機能も兼ね備えているので、鉄、アルミニウムや銅などの剛性があり、熱伝導率も高い金属が使用されるのが望ましい。
The
かかる構成において、回転翼102がロータ軸113と共にモータ121により回転駆動されると、回転翼102と固定翼123の作用により、吸気口101を通じてチャンバからガスが吸気される。回転翼102の回転速度は通常20000rpm~90000rpmであり、回転翼102の先端での周速度は200m/s~400m/sに達する。吸気口101から吸引された吸気ガスは、回転翼102と固定翼123の間を通り、ベース部129へ移送される。このとき、吸気ガスが回転翼102に接触する際に生ずる摩擦熱や、モータ121で発生した熱の伝導などにより、回転翼102の温度は上昇するが、この熱は、輻射又は吸気ガスの気体分子などによる伝導により固定翼123側に伝達される。
In this configuration, when the
固定翼スペーサ125は、外周部で互いに接合しており、固定翼123が回転翼102から受け取った熱や吸気ガスが固定翼123に接触する際に生ずる摩擦熱などを外部へと伝達する。
The fixed blade spacers 125 are joined together at their outer periphery and transmit to the outside heat received by the fixed
なお、上記では、ネジ付スペーサ131は回転体103の円筒部102dの外周に配設し、ネジ付スペーサ131の内周面にネジ溝131aが刻設されているとして説明した。しかしながら、これとは逆に円筒部102dの外周面にネジ溝が刻設され、その周囲に円筒状の内周面を有するスペーサが配置される場合もある。
In the above, it has been explained that the threaded
本実施形態のターボ分子ポンプ100は、吸気口101から吸引された吸気ガスが上側径方向電磁石104、上側径方向センサ107、モータ121、下側径方向電磁石105、下側径方向センサ108、軸方向電磁石106A、106B、軸方向センサ109などで構成される電装部に侵入することのないよう、電装部は周囲をステータコラム122で覆われ、このステータコラム122内はパージガスにて所定圧に保たれている。
In the
ベース部129にはパージガス導入口135が設けられ、このパージガス導入口135からステータコラム122の内側にパージガスが導入される。導入されたパージガスは、保護ベアリング120とロータ軸113間、モータ121のロータとステータ間、ステータコラム122と回転翼102の内周側円筒部の間の隙間を通じて排気口133へ送出される。ここで、パージガス導入口135からステータコラム122に至るパージガスが流れる流路をパージガス流路FP2と称する。
A
ここに、ターボ分子ポンプ100は、機種の特定と、個々に調整された固有のパラメータ(例えば、機種に対応する諸特性)に基づいた制御を要する。この制御パラメータを格納するために、上記ターボ分子ポンプ100は、その本体内に電子回路部141を備えている。電子回路部141は、EEP-ROM等の半導体メモリ及びそのアクセスのための半導体素子等の電子部品、それらの実装用の基板143等から構成される。この電子回路部141は、ターボ分子ポンプ100の下部を構成するベース部129の例えば中央付近の図示しない回転速度センサの下部に収容され、気密性の底蓋145によって閉じられている。
Here, the
ところで、半導体の製造工程では、チャンバに導入されるプロセスガスの中には、その圧力が所定値よりも高くなり、或いは、その温度が所定値よりも低くなると、固体となる性質を有するものがある。ターボ分子ポンプ100内部では、吸気ガスの圧力は、吸気口101で最も低く排気口133で最も高い。吸気ガスが吸気口101から排気口133へ移送される途中で、その圧力が所定値よりも高くなったり、その温度が所定値よりも低くなったりすると、吸気ガスは、固体状となり、ターボ分子ポンプ100内部に付着して堆積する。
In the semiconductor manufacturing process, some process gases introduced into the chamber have the property of solidifying when their pressure exceeds a predetermined value or their temperature falls below a predetermined value. Inside the
例えば、Alエッチング装置にプロセスガスとしてSiCl4が使用された場合、低真空(760[torr]~10-2[torr])かつ、低温(約20[℃])のとき、固体生成物(例えばAlCl3)が析出し、ターボ分子ポンプ100内部に付着堆積することが蒸気圧曲線からわかる。これにより、ターボ分子ポンプ100内部にプロセスガスの析出物が堆積すると、この堆積物がポンプ流路を狭め、ターボ分子ポンプ100の性能を低下させる原因となる。そして、前述した生成物は、排気口133付近やネジ付スペーサ131付近の圧力が高い部分で凝固、付着し易い状況にあった。
For example, when SiCl4 is used as the process gas in an Al etching device, at low vacuum (760 torr to 10-2 torr) and low temperature (approximately 20°C), a solid product (e.g. AlCl3) precipitates and accumulates inside the
そのため、この問題を解決するために、従来はベース部129等の外周に図示しないヒータや環状の水冷管149を巻着させ、かつ例えばベース部129に図示しない温度センサ(例えばサーミスタ)を埋め込み、この温度センサの信号に基づいてベース部129の温度を一定の高い温度(設定温度)に保つようにヒータの加熱や水冷管149による冷却の制御(以下TMSという。TMS;Temperature Management System)が行われている。
To solve this problem, conventionally, a heater (not shown) or a circular water-cooled
さらに本実施形態のターボ分子ポンプ100は、ターボ分子ポンプ100内に中間導入ガスを導入するための中間導入ガス導入口137を備えている。なお、中間導入ガス等に関する詳細な説明は後述する。
Furthermore, the
次に、このように構成されるターボ分子ポンプ100に関して、その上側径方向電磁石104、下側径方向電磁石105及び軸方向電磁石106A、106Bを励磁制御するアンプ回路150について説明する。このアンプ回路150の回路図を図2に示す。
Next, regarding the
図2において、上側径方向電磁石104等を構成する電磁石巻線151は、その一端がトランジスタ161を介して電源171の正極171aに接続されており、また、その他端が電流検出回路181及びトランジスタ162を介して電源171の負極171bに接続されている。そして、トランジスタ161、162は、いわゆるパワーMOSFETとなっており、そのソース-ドレイン間にダイオードが接続された構造を有している。
In FIG. 2, one end of the electromagnet winding 151 constituting the upper
このとき、トランジスタ161は、そのダイオードのカソード端子161aが正極171aに接続されるとともに、アノード端子161bが電磁石巻線151の一端と接続されるようになっている。また、トランジスタ162は、そのダイオードのカソード端子162aが電流検出回路181に接続されるとともに、アノード端子162bが負極171bと接続されるようになっている。 At this time, the transistor 161 has its diode cathode terminal 161a connected to the positive electrode 171a, and its anode terminal 161b connected to one end of the electromagnet winding 151. The transistor 162 has its diode cathode terminal 162a connected to the current detection circuit 181, and its anode terminal 162b connected to the negative electrode 171b.
一方、電流回生用のダイオード165は、そのカソード端子165aが電磁石巻線151の一端に接続されるとともに、そのアノード端子165bが負極171bに接続されるようになっている。また、これと同様に、電流回生用のダイオード166は、そのカソード端子166aが正極171aに接続されるとともに、そのアノード端子166bが電流検出回路181を介して電磁石巻線151の他端に接続されるようになっている。そして、電流検出回路181は、例えばホールセンサ式電流センサや電気抵抗素子で構成されている。 On the other hand, the current regeneration diode 165 has its cathode terminal 165a connected to one end of the electromagnet winding 151 and its anode terminal 165b connected to the negative pole 171b. Similarly, the current regeneration diode 166 has its cathode terminal 166a connected to the positive pole 171a and its anode terminal 166b connected to the other end of the electromagnet winding 151 via a current detection circuit 181. The current detection circuit 181 is composed of, for example, a Hall sensor type current sensor or an electrical resistance element.
以上のように構成されるアンプ回路150は、一つの電磁石に対応されるものである。そのため、磁気軸受が5軸制御で、電磁石104、105、106A、106Bが合計10個ある場合には、電磁石のそれぞれについて同様のアンプ回路150が構成され、電源171に対して10個のアンプ回路150が並列に接続されるようになっている。
The amplifier circuit 150 configured as above corresponds to one electromagnet. Therefore, if the magnetic bearing is controlled in five axes and there are a total of ten
さらに、アンプ制御回路191は、例えば、制御装置の図示しないディジタル・シグナル・プロセッサ部(以下、DSP部という)によって構成され、このアンプ制御回路191は、トランジスタ161、162のon/offを切り替えるようになっている。 Furthermore, the amplifier control circuit 191 is configured, for example, by a digital signal processor section (hereinafter referred to as a DSP section) of the control device (not shown), and this amplifier control circuit 191 switches the transistors 161 and 162 on and off.
アンプ制御回路191は、電流検出回路181が検出した電流値(この電流値を反映した信号を電流検出信号191cという)と所定の電流指令値とを比較するようになっている。そして、この比較結果に基づき、PWM制御による1周期である制御サイクルTs内に発生させるパルス幅の大きさ(パルス幅時間Tp1、Tp2)を決めるようになっている。その結果、このパルス幅を有するゲート駆動信号191a、191bを、アンプ制御回路191からトランジスタ161、162のゲート端子に出力するようになっている。 The amplifier control circuit 191 compares the current value detected by the current detection circuit 181 (a signal reflecting this current value is called a current detection signal 191c) with a predetermined current command value. Then, based on the result of this comparison, it determines the size of the pulse width (pulse width times Tp1, Tp2) to be generated within a control cycle Ts, which is one period under PWM control. As a result, gate drive signals 191a, 191b having this pulse width are output from the amplifier control circuit 191 to the gate terminals of transistors 161, 162.
なお、回転体103の回転速度の加速運転中に共振点を通過する際や定速運転中に外乱が発生した際等に、高速かつ強い力での回転体103の位置制御をする必要がある。そのため、電磁石巻線151に流れる電流の急激な増加(あるいは減少)ができるように、電源171としては、例えば50V程度の高電圧が使用されるようになっている。また、電源171の正極171aと負極171bとの間には、電源171の安定化のために、通常コンデンサが接続されている(図示略)。
In addition, when the
かかる構成において、トランジスタ161、162の両方をonにすると、電磁石巻線151に流れる電流(以下、電磁石電流iLという)が増加し、両方をoffにすると、電磁石電流iLが減少する。 In this configuration, when both transistors 161 and 162 are turned on, the current flowing through the electromagnet winding 151 (hereafter referred to as electromagnet current iL) increases, and when both are turned off, the electromagnet current iL decreases.
また、トランジスタ161、162の一方をonにし他方をoffにすると、いわゆるフライホイール電流が保持される。そして、このようにアンプ回路150にフライホイール電流を流すことで、アンプ回路150におけるヒステリシス損を減少させ、回路全体としての消費電力を低く抑えることができる。また、このようにトランジスタ161、162を制御することにより、ターボ分子ポンプ100に生じる高調波等の高周波ノイズを低減することができる。さらに、このフライホイール電流を電流検出回路181で測定することで電磁石巻線151を流れる電磁石電流iLが検出可能となる。
Furthermore, when one of the transistors 161, 162 is turned on and the other off, a so-called flywheel current is maintained. By passing a flywheel current through the amplifier circuit 150 in this manner, the hysteresis loss in the amplifier circuit 150 is reduced, and the power consumption of the entire circuit can be kept low. Furthermore, by controlling the transistors 161, 162 in this manner, high-frequency noise such as harmonics generated in the
すなわち、検出した電流値が電流指令値より小さい場合には、図3に示すように制御サイクルTs(例えば100μs)中で1回だけ、パルス幅時間Tp1に相当する時間分だけトランジスタ161、162の両方をonにする。そのため、この期間中の電磁石電流iLは、正極171aから負極171bへ、トランジスタ161、162を介して流し得る電流値iLmax(図示せず)に向かって増加する。 In other words, when the detected current value is smaller than the current command value, both transistors 161 and 162 are turned on for a time period equivalent to pulse width time Tp1 only once during control cycle Ts (e.g., 100 μs) as shown in FIG. 3. Therefore, during this period, electromagnet current iL increases toward current value iLmax (not shown) that can flow from positive pole 171a to negative pole 171b via transistors 161 and 162.
一方、検出した電流値が電流指令値より大きい場合には、図4に示すように制御サイクルTs中で1回だけパルス幅時間Tp2に相当する時間分だけトランジスタ161、162の両方をoffにする。そのため、この期間中の電磁石電流iLは、負極171bから正極171aへ、ダイオード165、166を介して回生し得る電流値iLmin(図示せず)に向かって減少する。 On the other hand, if the detected current value is greater than the current command value, both transistors 161 and 162 are turned off for a time period equivalent to pulse width time Tp2 only once during control cycle Ts, as shown in FIG. 4. Therefore, during this period, electromagnet current iL decreases toward current value iLmin (not shown) that can be regenerated from negative pole 171b to positive pole 171a via diodes 165 and 166.
そして、いずれの場合にも、パルス幅時間Tp1、Tp2の経過後は、トランジスタ161、162のどちらか1個をonにする。そのため、この期間中は、アンプ回路150にフライホイール電流が保持される。 In either case, after the pulse width times Tp1 and Tp2 have elapsed, one of the transistors 161 and 162 is turned on. Therefore, during this period, a flywheel current is maintained in the amplifier circuit 150.
ここで、上述した中間導入ガスに関して説明する。中間導入ガスは、吸気ガスよりも粘度が高いガスであり、例えば吸気ガスが水素ガスである場合には、中間導入ガスとして窒素ガスやアルゴンガスが使用される。なお中間導入ガスは、吸気ガスと種類が異なるものに限られず、例えば吸気ガスと同一種類であって温度を上昇させて粘度を高めたガスであってもよい。 Here, we will explain the intermediate introduction gas mentioned above. The intermediate introduction gas is a gas with a higher viscosity than the intake gas. For example, when the intake gas is hydrogen gas, nitrogen gas or argon gas is used as the intermediate introduction gas. Note that the intermediate introduction gas is not limited to a gas of a different type from the intake gas, and may be, for example, a gas of the same type as the intake gas, but with its viscosity increased by increasing its temperature.
本実施形態のターボ分子ポンプ100において、中間導入ガスは図5に示した中間導入ガス導入口137からターボ分子ポンプ100内に導入される。ターボ分子ポンプ100内に導入された中間導入ガスは、図示した導入流路FP3を流れる。本実施形態の固定翼スペーサ125aは、固定翼スペーサ125aを径方向に貫通する接続口138を備えていて、図示したように接続口138は、回転翼102aよりも排気下流側に位置している。すなわち導入流路FP3は、接続口138によって、排気部114における吸気口101に最も近い回転翼102aよりも排気下流側でガス流路FP1に接続されている。
In the
このように構成されるターボ分子ポンプ100によれば、ガス流路FP1では、吸気口101から吸引された吸気ガスだけでなく、接続口138を通過した中間導入ガスも流れる。すなわち、吸気ガスと中間導入ガスの混合ガスの粘度は吸気ガスのみに比して高くなり、それ故、排気部114(特にドラッグポンプ部116)での圧縮効果が向上する。従ってターボ分子ポンプ100によれば、吸引ガスが水素ガスのように粘度が低いガスであっても中間導入ガスを導入しない場合に比して背圧性能を向上させることができる。
With the
ここで、図10を参照しながら本実施形態におけるターボ分子ポンプ100の背圧性能について説明する。図10において横軸は排気口133での圧力(背圧)を示し、縦軸は
吸気口101での圧力(吸圧)を示す。また図10における破線は、中間導入ガスを導入せずに吸気ガスのみ吸引した場合での背圧と吸圧との関係を示し、図10における実線は、中間導入ガスを導入しつつ吸気ガスを吸引した場合での背圧と吸圧との関係を示している。また図10は、吸気ガスが水素ガスであり、中間導入ガスは窒素ガスである。
Here, the back pressure performance of the turbo
図10から明らかなように、背圧が上昇すると吸圧も上昇するが、中間導入ガスを導入する場合は、中間導入ガスを導入しない場合に比して背圧が上昇しても吸圧の上昇が抑制されていて、背圧性能が向上していることが確認された。 As is clear from Figure 10, when the back pressure increases, the suction pressure also increases. However, when intermediate gas is introduced, the increase in suction pressure is suppressed compared to when intermediate gas is not introduced, even if the back pressure increases, and it was confirmed that the back pressure performance is improved.
ターボ分子ポンプ100における中間導入ガスに係わる構成は、種々の変更が可能である。例えばターボ分子ポンプ100は、図6に示した構成に変更してもよい。
The configuration related to the intermediate gas introduction in the
図6に示したターボ分子ポンプ100は、バルブ139を備えている。また接続口138は、ネジ付スペーサ131の内部に設けた貫通穴の出口に設けられている。なお本実施形態において中間導入ガスが流れる導入流路FP3は、バルブ139から中間導入ガス導入口137を経て、接続口138に至るまでの流路である。そしてバルブ139は、導入流路FP3を流れる中間導入ガスの流量を調整することが可能である。
The
図6に示したターボ分子ポンプ100において、導入流路FP3は、接続口138によって、排気部114におけるドラッグポンプ部116の中間付近に接続されている。すなわち、排気部114におけるドラッグポンプ部116の中間付近より下流側においては、吸気ガスと中間導入ガスの混合ガスが流れるため、吸気ガスのみがガス流路FP1を流れる場合に比してこの部分での圧縮効果が向上する。従って図6に示したターボ分子ポンプ100においても、中間導入ガスを導入しない場合に比して背圧性能を向上させることができる。なお、ガス流路FP1に導入される中間導入ガスの量が多すぎても少なすぎても圧縮効果の向上は見込めない。一方、本実施形態のようにバルブ139を設けておけば、中間導入ガスの量を容易に変更することができるため、中間導入ガスの量を調整して背圧性能をさらに向上させることができる。
In the
またターボ分子ポンプ100は、図7に示した構成に変更してもよい。図7に示したターボ分子ポンプ100は、排気部114におけるタービンポンプ部115とドラッグポンプ部116の間に接続口138を備えている。すなわち導入流路FP3は、タービンポンプ部115とドラッグポンプ部116の間でガス流路FP1に接続されている。このような構成によって吸気ガスと中間導入ガスの混合ガスはドラッグポンプ部116を流れるため、ドラッグポンプ部116での圧縮効果が向上する。
The
なお、図6に示したターボ分子ポンプ100では、吸気ガスと中間導入ガスの混合ガスは基本的にドラッグポンプ部116の中間付近より下流側を流れる一方、図7に示したターボ分子ポンプ100では、混合ガスは基本的にドラッグポンプ部116の全域を流れることから圧縮効果が一層向上する。また吸気ガスと中間導入ガスの混合ガスは、図5に示したターボ分子ポンプ100においてもドラッグポンプ部116の全域を流れることから、図6のターボ分子ポンプ100に比して圧縮効果の一層の向上が見込まれる。なお、図5のターボ分子ポンプ100においては、混合ガスがタービンポンプ部115を流れる際の回転翼102や固定翼123に接触するガスの分子数が吸気ガスのみの場合に比して増えることになり、これにより回転翼102や固定翼123での発熱が増える結果、許容されるターボ分子ポンプ100の上限温度に達しやすくなる。このため、温度上昇を抑えるべく吸気ガスの許容流量を抑制する必要がある。一方、図7に示したターボ分子ポンプ100では、混合ガスは基本的にタービンポンプ部115の下流側を流れるため、図5のターボ分子ポンプ100に比して、吸気ガスの許容流量を増やすことができる。
In the
ターボ分子ポンプ100は、図8に示した構成に変更してもよい。図8に示したターボ分子ポンプ100は、パージガス導入口135を備えるパージガス継手135aがベース部129の外側で2つに分岐している。分岐した一方のパージガス継手135aは、ステータコラム122の内側に通じていて、分岐した他方のパージガス継手135aは、タービンポンプ部115とドラッグポンプ部116の間に位置する接続口138に通じている。本実施形態においてパージガス流路FP2は、パージガス導入口135から一方のパージガス継手135aを経てステータコラム122に至る流路であり、導入流路FP3は、他方のパージガス継手135aから接続口138に至る流路である。すなわち導入流路FP3はパージガス流路FP2から分岐していて、導入流路FP3を流れる中間導入ガスとしてパージガスが用いられる。
The
図8に示したターボ分子ポンプ100によれば、パージガスを中間導入ガスとして利用できることから、パージガスと中間導入ガスとを別異に準備する場合に比して、附帯設備も含めたターボ分子ポンプ100に係わる全体の構成を簡素化することができる。また図8のターボ分子ポンプ100を用いる場合は、吸引ガスが水素ガスであり、パージガスが窒素ガスであることが特に好適である。すなわち窒素ガスは水素ガスよりも粘度が高いため、窒素ガスを中間導入ガスとして導入しない場合に比して背圧性能を向上させることができる。また窒素ガスは安価な不活性ガスであるため、ターボ分子ポンプ100を安全に稼動させ且つコストを抑制することができる。
The
ターボ分子ポンプ100は、図9に示した構成に変更してもよい。図9に示したターボ分子ポンプ100には、ベース部129とネジ付スペーサ131の内部に貫通穴が設けられている。この貫通穴の入口はパージガス流路FP2に通じている。またこの貫通穴は、タービンポンプ部115とドラッグポンプ部116の間に位置する接続口138に通じている。なお本実施形態において導入流路FP3は、この貫通穴の入口から接続口138に至る流路である。ここで、パージガス導入口135からステータコラム122の内側に通じるパージガス流路FP2について、ターボ分子ポンプ100の外側(すなわち、パージガス継手135bの内側)に位置する流路を外側パージガス流路FP2Aと称し、ターボ分子ポンプ100の内側に位置する流路を内側パージガス流路FP2Bと称する。
The
図9に示したターボ分子ポンプ100において、導入流路FP3は、内側パージガス流路FP2Bから分岐してガス流路FP1に接続されている。すなわち、このターボ分子ポンプ100においても、パージガスを中間導入ガスとして利用できるため、パージガスと中間導入ガスとを別異に準備する場合に比してターボ分子ポンプ100に係わる全体の構成を簡素化することができる。また図8に示したターボ分子ポンプ100は、導入流路FP3がターボ分子ポンプ100の外部に設けられていることからその分スペースを要することになるが、図9のターボ分子ポンプ100は、導入流路FP3がターボ分子ポンプ100の内部に設けられているため、ターボ分子ポンプ100の周囲にスペースを確保することができる。
In the
なお、図8、図9に示したターボ分子ポンプ100のようにパージガスを中間導入ガスとして利用する場合は、導入流路FP3の少なくとも一部の内径は、パージガス流路FP2の内径よりも小さいことが好ましい。本実施形態では、図8、図9に示すように比較的小径の接続口138を用いていて、少なくともこの部分の内径がパージガス流路FP2の内径よりも小さくなっている。
When using a purge gas as an intermediate introduction gas, as in the
中間導入ガスとして使用するパージガスの量は、一般にはステータコラム122内に導入されるパージガスの量よりも少なくなる。従って、導入流路FP3の少なくとも一部の内径をパージガス流路FP2の内径よりも小さくしておくことにより、当初から所望する背圧性能を発揮させやすくなる。また背圧性能を向上させるにあたって導入流路FP3を流れるパージガスの量を調整する際、小さな内径を大きくすることは容易であるため、調整が行いやすくなる。なお、上述したバルブ139(図6を参照)を用いて導入流路FP3を流れるパージガスの量を調整してもよい。
The amount of purge gas used as the intermediate introduction gas is generally less than the amount of purge gas introduced into the
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、上記の説明で特に限定しない限り、特許請求の範囲に記載された本発明の趣旨の範囲内において、種々の変形・変更、組み合わせが可能である。また、上記の実施形態における効果は、本発明から生じる効果を例示したに過ぎず、本発明による効果が上記の効果に限定されることを意味するものではない。 The above describes one embodiment of the present invention, but the present invention is not limited to the specific embodiment, and unless otherwise limited in the above description, various modifications, changes, and combinations are possible within the scope of the spirit of the present invention described in the claims. Furthermore, the effects of the above embodiment are merely examples of the effects resulting from the present invention, and do not mean that the effects of the present invention are limited to the above effects.
例えばドラッグポンプ部116は、上述したネジ溝131aを利用したホルベック式ポンプ機構に限られず、例えばシグバーン式ポンプ機構等、他のポンプ機構により構成してもよい。
For example, the
100:ターボ分子ポンプ(真空ポンプ)
101:吸気口
102:回転翼
103:回転体
114:排気部
115:タービンポンプ部
116:ドラッグポンプ部
122:ステータコラム
123:固定翼
133:排気口
139:バルブ
FP1:ガス流路
FP2:パージガス流路
FP2A:外側パージガス流路
FP2B:内側パージガス流路
FP3:導入流路
100: Turbo molecular pump (vacuum pump)
101: Intake port 102: Rotor 103: Rotor 114: Exhaust section 115: Turbine pump section 116: Drag pump section 122: Stator column 123: Fixed blade 133: Exhaust port 139: Valve FP1: Gas flow path FP2: Purge gas flow path FP2A: Outer purge gas flow path FP2B: Inner purge gas flow path FP3: Introduction flow path
Claims (6)
前記吸気ガスよりも粘度が高い中間導入ガスを導入する導入流路を備え、
前記導入流路は、前記複数段の回転翼の中で、前記排気部における前記吸気口に最も近い回転翼よりも排気下流側で前記ガス流路に接続されていることを特徴とする真空ポンプ。 A vacuum pump comprising an exhaust section including a turbine pump section having multiple stages of rotors and fixed vanes and a drag pump section located downstream of the turbine pump section, the vacuum pump exhausting intake gas sucked in from an intake port by the exhaust section through a gas flow path from the exhaust port,
an introduction flow passage for introducing an intermediate introduction gas having a higher viscosity than the intake gas;
a first impeller that is closest to the intake port in the exhaust section and that is connected to the gas flow passage downstream of the first impeller that is closest to the intake port in the exhaust section, the first impeller being connected to the gas flow passage downstream of the first impeller that is closest to the intake port in the exhaust section.
前記導入流路は前記パージガス流路から分岐したものであって、前記中間導入ガスとして前記パージガスが用いられることを特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ。 a purge gas flow passage for supplying a purge gas to an inside of a stator column provided on an inner circumferential side of a rotor provided with the rotor blades,
2. The vacuum pump according to claim 1, wherein the introduction passage is branched off from the purge gas passage, and the purge gas is used as the intermediate introduction gas.
前記導入流路は、前記内側パージガス流路から分岐して前記ガス流路に接続されることを特徴とする請求項2に記載の真空ポンプ。 the purge gas passage is composed of an outer purge gas passage located outside the vacuum pump and an inner purge gas passage located inside the vacuum pump,
3. The vacuum pump according to claim 2, wherein the introduction passage branches off from the inner purge gas passage and is connected to the gas passage.
2. The vacuum pump according to claim 1, wherein the introduction passage is connected to the gas passage between the turbine pump section and the drag pump section.
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