JP7563019B2

JP7563019B2 - カバーガラス

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Publication number: JP7563019B2
Application number: JP2020126195A
Authority: JP
Inventors: 隆義齊藤
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2020-07-27
Filing date: 2020-07-27
Publication date: 2024-10-08
Anticipated expiration: 2040-07-27
Also published as: CN115380012A; JP2022023332A; WO2022024744A1

Description

本発明は、アンチグレア機能を有するカバーガラスに関する。

カバーガラスは、携帯電話機、タブレット端末、テレビ等のディスプレイに広く用いられている。このようなディスプレイの視認性は、外光の映り込みなどにより低下することがある。ディスプレイの映り込みを低減し、視認性を向上させる方法として、表面に凹凸構造を有するアンチグレア層を設ける方法が知られている。さらに、防眩効果とコントラストを向上させる方法として、反射防止膜を設ける方法が知られている。

例えば、下記の特許文献１には、透明基体の表面に凹凸形状を形成することにより、防眩加工を施す方法や、低反射膜を設ける方法が開示されている。低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が記載されている。

特許第５８３９１３４号公報

近年、スマートフォンやデジタルサイネージ等のディスプレイにおいては、外光の映り込みをさらに一層低減させ、視認性をさらに一層向上させることが求められている。しかしながら、特許文献１のカバーガラスにおいても、外光の映り込みを十分には低減することはできず、視認性をなお十分に向上させることができないという問題がある。

本発明の目的は、視認性を効果的に向上させることができる、カバーガラスを提供することにある。

本願の第１の発明に係るカバーガラスは、ガラス基板と、前記ガラス基板上に設けられている、凹凸構造を有するアンチグレア層と、前記アンチグレア層上に設けられている、反射防止膜と、を備え、前記反射防止膜側から光を入射させたときに、正反射光の視感反射率が、反射散乱光の視感反射率よりも小さいことを特徴とする。

本願の第２の発明に係るカバーガラスは、ガラス基板と、前記ガラス基板上に設けられている、アンチグレア層と、前記アンチグレア層上に設けられている、反射防止膜と、を備え、前記ガラス基板と前記アンチグレア層との組成が異なっていることを特徴とする。

以下、第１の発明と第２の発明を総称して、本発明と称する場合があるものとする。

本発明においては、前記ガラス基板の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、０．０２以上であることが好ましい。

本発明においては、前記アンチグレア層が、平坦部及び非平坦部を有することが好ましい。

本発明においては、前記平坦部の厚みが、５ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましい。

本発明においては、前記ガラス基板上に前記アンチグレア層の平坦部及び前記反射防止膜がこの順に設けられてなる第１の積層体の構造による反射光の視感反射率が、前記アンチグレア層の非平坦部上に前記反射防止膜が設けられてなる第２の積層体の構造による視感反射率よりも小さいことが好ましい。

本発明においては、前記ガラス基板と前記アンチグレア層との間に、前記ガラス基板とは屈折率が異なっている、光学調整層が設けられていることが好ましい。

本発明においては、前記光学調整層の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、０．２以上であることが好ましい。

本発明によれば、視認性を効果的に向上させることができる、カバーガラスを提供することができる。

本発明の第１の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。（ａ）及び（ｂ）は、正反射光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。（ａ）及び（ｂ）は、反射散乱光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。ガラス基板上にアンチグレア層の平坦部及び反射防止膜がこの順に積層されてなる第１の積層体を説明するための模式的断面図である。アンチグレア層上の非平坦部に反射防止膜が積層されてなる第２の積層体を説明するための模式的断面図である。本発明の第２の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。ガラス基板上に、光学調整層、アンチグレア層、及び反射防止膜がこの順に積層されてなる第３の積層体を説明するための模式的断面図である。

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。なお、以下の図面において、Ａは入射光であり、Ｂは正反射光であり、Ｃは反射散乱光である。

（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。図１に示すように、カバーガラス１は、ガラス基板２と、アンチグレア層３と、反射防止膜４とを備える。ガラス基板２の上に、アンチグレア層３が設けられている。また、アンチグレア層３の上に、反射防止膜４が設けられている。

本実施形態において、ガラス基板２は、略矩形板状の形状を有する。もっとも、ガラス基板２は、例えば、略円板状等の形状を有していてもよく、その形状は特に限定されない。

ガラス基板２の厚みは、特に限定されず、光透過率などに応じて適宜設定することができる。ガラス基板２の厚みは、例えば、０．１ｍｍ～３ｍｍ程度とすることができる。

ガラス基板２に用いられるガラスとしては、特に限定されず、例えば、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、化学強化ガラス等を用いることができる。

また、ガラス基板２は、第１の主面２ａ及び第２の主面２ｂを有する。第１の主面２ａ及び第２の主面２ｂは、対向し合っている。ガラス基板２の第１の主面２ａ上に、アンチグレア層３が設けられている。また、アンチグレア層３は、凹凸構造を有する。アンチグレア層３は、外光の映り込み等を抑制する、いわゆる防眩効果を付与するために設けられている。

本実施形態において、アンチグレア層３は、無機膜である。このようなアンチグレア層３は、ガラス基板２上に、無機塗料を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。本実施形態において、アンチグレア層３は、無機塗料をスプレーコート法によって塗布し、乾燥させることにより形成されている。なお、無機塗料の塗布方法は、スプレーコート法に限定されず、他の塗布方法により塗布してもよい。

本実施形態において、無機塗料は、シリカ前駆体により構成されている。もっとも、無機塗料は、例えば、アルミナ前駆体、ジルコニア前駆体、チタニア前駆体等により構成されていてもよい。これらの前駆体は、１種を単独で用いてもよく、複数種を併用してもよい。また、無機塗料の溶媒としては、例えば、水、アルコール等を用いることができる。

シリカ前駆体としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等のアルコキシシラン、アルコキシシランの加水分解縮合物（ゾルゲルシリカ）、シラザン等が挙げられる。防眩効果をより一層高める観点からは、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等のアルコキシシラン、それらの加水分解縮合物であることが好ましく、テトラエトキシシランの加水分解縮合物であることがより好ましい。

アルミナ前駆体としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシドの加水分解縮合物、水溶性アルミニウム塩、アルミニウムキレート等が挙げられる。

ジルコニア前駆体としては、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。

チタニア前駆体としては、チタンアルコキシド、チタンアルコキシドの加水分解縮合物等が挙げられる。

また、無機塗料は、無機粒子を含んでいてもよい。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、ハフニア粒子、イットリア粒子等が挙げられる。

アンチグレア層３の平均厚みは、特に限定されない。もっとも、防眩効果をより一層高める観点からは、アンチグレア層３の平均厚みは、０．１μｍ以上、２μｍ以下であることが好ましく、０．１５μｍ以上、１．７５μｍ以下であることがより好ましく、０．２μｍ以上、１μｍ以下であることがさらに好ましい。

反射防止膜４は、誘電体多層膜であることが好ましい。この場合、ディスプレイ等における画像鮮明度をより一層向上させることができる。本実施形態において、反射防止膜４は、相対的に屈折率が高い高屈折率膜５と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜６とが、この順に交互に積層された誘電体多層膜である。なお、反射防止膜４は、相対的に屈折率が低い低屈折率膜６と、相対的に屈折率が高い高屈折率膜５とが、この順に交互に積層された誘電体多層膜であってもよい。

高屈折率膜５の材料としては、例えば、本実施形態のような酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムが挙げられる。

低屈折率膜６の材料としては、例えば、酸化ケイ素や、酸化アルミニウム等が挙げられる。

反射防止膜４を構成する各層の厚みは、１ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

反射防止膜４を構成する層の総数は、２層以上、７層以下であることが好ましい。このような範囲内にすることにより、効果的で、かつ簡易に形成可能な膜にすることができる。

反射防止膜４の全体の厚みは、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、７５ｎｍ以上、７５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

反射防止膜４は、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、又は真空蒸着法等により形成することができる。

本実施形態のカバーガラス１では、反射防止膜４側から入射光Ａを入射させたときに、正反射光Ｂの視感反射率が、反射散乱光Ｃの視感反射率よりも小さい。このため、カバーガラス１では、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、ディスプレイ等における視認性を効果的に向上させることができる。以下、図２及び図３を参照しつつ、カバーガラス１における正反射光Ｂの視感反射率及び反射散乱光Ｃの視感反射率の測定方法を説明する。

図２（ａ）及び（ｂ）は、正反射光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。まず、図２（ａ）に示すカバーガラス１における正反射光Ｂの反射光強度Ｘ１を測定する。なお、正反射光Ｂの反射光強度Ｘ１を測定する際には、カバーガラス１の裏面反射が測定に影響しないように裏面反射を抑制する処理を行う。次に、図２（ｂ）に示すように、カバーガラス１の反射防止膜４の上面にアルミニウム膜８（膜厚約３００ｎｍ）を形成した状態で、正反射光Ｂの反射光強度Ｙ１を測定する。そして、これらの反射光強度の比Ｘ１／Ｙ１から正反射光Ｂの反射スペクトルを測定することができる。なお、正反射光Ｂの反射光強度Ｘ１，Ｙ１は、例えば、分光光度計により、入射光の入射角は８°、受光する反射光の角度は８°、測定波長は３８０ｎｍ～８００ｎｍ、測定波長間隔は１ｎｍとして、測定することができる。そして、測定された反射スペクトルから、ＪＩＳＺ８７２２：２００９に準拠し、Ｄ６５光源に対する正反射光Ｂの視感反射率を求めることができる。

図３（ａ）及び（ｂ）は、反射散乱光の視感反射率の測定方法を説明するための模式的断面図である。まず、図３（ａ）に示すカバーガラス１における反射散乱光Ｃの反射光強度Ｘ２を測定する。なお、反射散乱光Ｃの反射光強度Ｘ２を測定する際には、カバーガラス１の裏面反射が測定に影響しないように裏面反射を抑制する処理を行う。次に、図３（ｂ）に示すように、カバーガラス１の反射防止膜４の上面にアルミニウム膜８を形成した状態で、反射散乱光Ｃの反射光強度Ｙ２を測定する。そして、これらの反射光強度の比Ｘ２／Ｙ２から反射散乱光Ｃの反射スペクトルを測定することができる。なお、反射散乱光Ｃの反射光強度Ｘ２，Ｙ２は、例えば、分光光度計により、入射光の入射角は８°、受光する反射光の角度は１１°、測定波長は３８０ｎｍ～８００ｎｍ、測定波長間隔は１ｎｍとして、測定することができる。そして、測定された反射スペクトルから、ＪＩＳＺ８７２２：２００９に準拠し、Ｄ６５光源に対する反射散乱光Ｃの視感反射率を求めることができる。

従来、ガラス基板上に、アンチグレア層や、反射防止膜を設けた場合、各界面で反射が生じ、その反射特性は複雑なものとなっていた。これに対して、本発明者は、正反射光Ｂ及び反射散乱光Ｃの反射スペクトルに着目し、正反射光Ｂの視感反射率を反射散乱光Ｃの視感反射率よりも小さくすることにより、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、視認性を効果的に向上できることを見出した。

また、本発明者は、正反射光Ｂの反射スペクトルが図４に示す第１の積層体１０、すなわちガラス基板２上にアンチグレア層３の平坦部及び反射防止膜４がこの順に積層されてなる積層体の構造によって生じることを見出した。また、反射散乱光Ｃの反射スペクトルが図５に示す第２の積層体１１、すなわちアンチグレア層３の非平坦部上に反射防止膜４が積層されてなる積層体の構造によって生じることを見出した。

従って、正反射光Ｂの視感反射率は、ガラス基板２上にアンチグレア層３の平坦部及び反射防止膜４がこの順に積層されてなる第１の積層体１０の構造による反射光の視感反射率により求めることができる。また、反射散乱光Ｃの視感反射率は、アンチグレア層３の非平坦部上に反射防止膜４が積層されてなる第２の積層体１１の構造による視感反射率により求めることができる。

よって、ガラス基板２上にアンチグレア層３の平坦部及び反射防止膜４がこの順に積層されてなる第１の積層体１０の設計により、正反射光Ｂの視感反射率を調整することができる。正反射光Ｂの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。

また、アンチグレア層３の非平坦部上に反射防止膜４が積層されてなる第２の積層体１１の設計により、反射散乱光Ｃの視感反射率を調整することができる。反射散乱光Ｃの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。

第１の積層体１０における視感反射率ができる限り低くなるように、反射防止膜４の厚み、特に高屈折率膜５及び低屈折率膜６の厚みや材料を設計することにより、正反射光Ｂの視感反射率を反射散乱光Ｃの視感反射率よりも小さくすることができる。

本実施形態のカバーガラス１では、反射散乱光Ｃの視感反射率と正反射光Ｂの視感反射率との差は、好ましくは０．０１％以上であり、より好ましくは０．０５％以上である。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。なお、反射散乱光Ｃの視感反射率と正反射光Ｂの視感反射率との差の上限値は、例えば、１％とすることができる。

本実施形態のカバーガラス１の別の局面では、ガラス基板２とアンチグレア層３の組成が異なっている。この場合においても、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、視認性を効果的に向上することができる。

本発明において、ガラス基板２の屈折率とアンチグレア層３の屈折率との差の絶対値は、好ましくは０．０２以上であり、より好ましくは０．０５以上である。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。また、視認性をより効果的に向上する観点から、アンチグレア層３の屈折率は、ガラス基板２の屈折率より小さいことが好ましい。

また、反射防止膜４の厚み、特に高屈折率膜５及び低屈折率膜６の厚みや材料を調整することによっても、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。

アンチグレア層３は、平坦部を有していることが好ましい。ここで、平坦部とは、アンチグレア層３の表面の凹凸高さの頻度分布を求め、最も頻度が高い高さ±２０ｎｍ以内となる箇所のことをいう。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。この場合、平坦部の厚みは、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下とすることができる。また、平面視において、アンチグレア層３全体の面積に対する平坦部の面積は、例えば、１５％以上、６０％以下とすることができる。なお、非平坦部とは、平坦部以外の箇所のことをいう。また、アンチグレア層３の表面の凹凸高さの頻度分布において、最も頻度が高い高さから５０ｎｍ低い高さでの負荷面積率が０．９以下、かつ、最も頻度が高い高さから５０ｎｍ高い高さでの負荷面積率が０．１以上である場合、アンチグレア層３は、平坦部を有していないものとする。

（第２の実施形態）
図６は、本発明の第２の実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。図６に示すように、カバーガラス２１では、ガラス基板２とアンチグレア層３との間に、光学調整層７が設けられている。本実施形態では、光学調整層７が、相対的に屈折率が高い高屈折率層である。もっとも、光学調整層７は、相対的に屈折率が低い低屈折率層であってもよく、ガラス基板２と屈折率の異なる層であればよい。その他の点は、第１の実施形態と同様である。

カバーガラス２１においても、正反射光Ｂの視感反射率が、反射散乱光Ｃの視感反射率よりも小さいので、外光の映り込みを効果的に抑制することができ、ディスプレイ等の視認性を効果的に向上させることができる。

なお、この場合、図７に示すように、ガラス基板２上に、光学調整層７、アンチグレア層３、及び反射防止膜４がこの順に積層されてなる第３の積層体３０の設計により、正反射光Ｂの視感反射率を調整することができる。正反射光Ｂの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。

また、アンチグレア層３上に反射防止膜４が積層されてなる第２の積層体１１の設計により、反射散乱光Ｃの視感反射率を調整することができる。反射散乱光Ｃの視感反射率は、各層の屈折率、特に各層を構成する材料、各層の厚み等により調整することができる。

アンチグレア層３の屈折率と光学調整層７の屈折率との差の絶対値は、好ましくは０．２以上であり、より好ましくは１．０以上である。この場合、外光の映り込みをより効果的に抑制することができ、視認性をより効果的に向上することができる。また、視認性をより効果的に向上する観点から、アンチグレア層３の屈折率は、光学調整層７の屈折率より小さいことが好ましい。

なお、本発明は、第１の実施形態及び第２の実施形態の構成に限定されない。例えば、反射防止膜４の上に他の層が設けられていてもよい。他の層としては、例えば、防汚層が挙げられる。防汚層は、有機ケイ素化合物を含むことが好ましい。有機ケイ素化合物を含むことにより、反射防止膜４との密着性をより一層高めることができる。これにより、長期間の使用によっても、防汚層が剥離し難い。

有機ケイ素化合物としては、例えば、シランカップリング剤、シリコーンオイル、シリコーンレジン、シリコーンゴム、疎水性シリカ、及びフッ素含有有機ケイ素化合物から選択される１つ以上の化合物を挙げることができる。

防汚層の厚みは、０．５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下であることが好ましく、０．７５ｎｍ以上、１５ｎｍ以下であることがより好ましく、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

防汚層の形成方法は、特に限定されるものではなく、例えば、有機ケイ素化合物等の希釈液をスプレーコート法などにより塗布することにより形成することができる。

以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。

（実施例１）
まず、ガラス基板（日本電気硝子株式会社製、品番「Ｔ２Ｘ－１」、屈折率：１．５０）を用意した。次に、ガラス基板上に、シリカ前駆体を含むコーティング剤を、スプレーコート法により塗布し、厚み２０ｎｍのアンチグレア層（屈折率：１．４４）を形成した。なお、コーティング剤の塗布量は、３５ｍｌ／ｍ^２とした。また、ガラス基板の屈折率とアンチグレア層の屈折率との差は、０．０６であった。平坦部の面積割合は４７％であった。

次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み１２．７３ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み３４．８４ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み１１３．４４ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み８５．４５ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜を形成した。これにより、高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に合計４層積層されてなる誘電体多層膜を作製し、カバーガラスを得た。

（実施例２）
まず、ガラス基板（日本電気硝子株式会社製、品番「Ｔ２Ｘ－１」、屈折率：１．５０）を用意した。次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み２．３６ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる光学調整層（屈折率：２．３５）を形成した。

次に、ガラス基板上に、シリカ前駆体を含むコーティング剤を、スプレーコート法により塗布し、厚み５４ｎｍのアンチグレア層（屈折率：１．４４）を成膜した。なお、無機塗料の塗布量は、７０ｍｌ／ｍ^２とした。また、光学調整層の屈折率とアンチグレア層の屈折率との差は、０．８５であった。平坦部の面積割合は２１％であった。

次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み１６．１３ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み３６．７７ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み１１４．６１ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜を形成した。次に、スパッタリング法により、厚み８６．０９ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜を形成した。これにより、高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に合計４層積層されてなる反射防止膜を作製し、カバーガラスを得た。

（比較例１）
実施例１と同様にしてガラス基板上にアンチグレア層を形成した。次に、アンチグレア層上に、スパッタリング法により、厚み４５ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜、厚み１０．３７ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜、厚み３６．２１ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜、厚み１０９．４５ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜、及び厚み８１．４４ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜がこの順に交互に合計５層積層されてなる反射防止膜を作製し、カバーガラスを得た。

（比較例２）
反射防止膜を設けなかったこと以外は、実施例１と同様にしてカバーガラスを得た。

（比較例３）
ガラス基板（日本電気硝子株式会社製、品番「Ｔ２Ｘ－１」、屈折率：１．５０）をエッチングすることにより、アンチグレア処理を施した。次に、アンチグレア処理したガラス基板上に、スパッタリング法により、厚み１０．３ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜、厚み３６．２１ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜、厚み１０９．４５ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）からなる高屈折率膜、及び厚み８１．４４ｎｍの酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる低屈折率膜がこの順に交互に合計４層積層されてなる反射防止膜を作製し、カバーガラスを得た。

（比較例４）
ガラス基板（日本電気硝子株式会社製、品番「Ｔ２Ｘ－１」、屈折率：１．５０）をエッチングすることにより、アンチグレア処理を施し、カバーガラスを得た。

（比較例５）
ガラス基板（日本電気硝子株式会社製、品番「Ｔ２Ｘ－１」、屈折率：１．５０）をそのまま素ガラスとして使用した。

＜評価＞
（視感反射率）
分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、品番「Ｕ－４０００」）を用いて、正反射光及び反射散乱光の視感反射率を測定した。具体的には、正反射光の視感反射率測定は、光の入射角度は８°とし、受光角度は８°とし、測定波長は３８０ｎｍ～８００ｎｍとし、測定間隔は１ｎｍとし、測定された反射スペクトルから、ＪＩＳＺ８７２２：２００９に準拠し、Ｄ６５光源に対する正反射光の視感反射率を求めた。反射散乱光の視感反射率測定は、入射角度は８°とし、受光角度は１１°とし、測定波長は３８０ｎｍ～８００ｎｍとし、測定間隔は１ｎｍとし、測定された反射スペクトルから、ＪＩＳＺ８７２２：２００９に準拠し、Ｄ６５光源に対する反射散乱光の視感反射率を求めた。結果を下記の表１に示す。なお、下記の表１では、素ガラス基準正反射反射率も併せて示した。素ガラス基準正反射反射率は、正反射光の反射スペクトルから、測定波長域の反射率の平均値（平均反射率）を求め、素ガラス（比較例５）の平均反射率に対する比から求めた。

（平坦部の面積割合）
ＫＥＹＥＮＣＥ社製、レーザー顕微鏡ＶＫ-Ｘ２６０を用い、１５０倍対物レンズにて、アンチグレア層の凹凸高さを９５μｍ×７１μｍの測定範囲で測定した。次に、測定した高さデータの頻度分布を求め、最も頻度が大きい高さが０となるようにシフト補正した。補正した高さが－２０ｎｍ以上＋２０ｎｍ以下である領域の面積を求め、これを平坦部の面積とした。得られた平坦部の面積をレーザー顕微鏡の測定範囲の面積で割ることで平坦部の面積割合とした。

（映り込み指標値）
映り込み指標値Ｃ：Ｃｌａｒｉｔｙは、ＳＭＳ－１０００（Ｄｉｓｐｌａｙ－Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ＆Ｓｙｓｔｅｍｅ社製）を用いて、反射分布測定モードにより測定した。なお、焦点距離１６ｍｍのレンズを用い、入射光の入射角を３°、実施例及び比較例のカバーガラス上の照射位置からレンズまでの距離を４１０ｍｍに設定し、実施例及び比較例のカバーガラスの裏面に屈折率１．５３の浸液を付けた状態で黒板ガラスと貼り付けて測定した。

（官能試験）
防眩性については、ライン光源を映り込ませた状態で、映り込んだライン光源の輪郭が認識できないものを「Ａ」、輪郭をかろうじて認識できるものを「Ｂ」、輪郭をある程度認識できるものを「Ｃ」、輪郭がはっきり認識できるものを「Ｄ」として評価した。

画像鮮明度については、解像度２６４ｐｐｉの表示装置上に任意の写真画像を表示させ、その半分を覆うように評価サンプルを置き、写真画像と評価サンプル越しの写真画像を比較しその差が判別できなかったものを「Ａ」、その差がわずかながらに確認できたものを「Ｂ」、評価サンプル越しの写真画像の劣化を少し感じたものを「Ｃ」、評価サンプル越しの写真画像の劣化を感じたものを「Ｄ」、評価サンプル越しの写真画像の劣化を大きく感じたものを「Ｅ」として評価した。

結果を下記の表１に示す。

表１より、実施例１～２では、官能試験の評価がいずれも「Ａ」又は「Ｂ」であり、視認性が向上されていることが確認できた。一方、比較例１～５では、官能試験の評価のうちいずれかが、「Ｃ」、「Ｄ」、又は「Ｅ」であり、視認性を十分に向上させることができなかった。

１，２１…カバーガラス
２…ガラス基板
２ａ…第１の主面
２ｂ…第２の主面
３…アンチグレア層
４…反射防止膜
５…高屈折率膜
６…低屈折率膜
７…光学調整層
８…アルミニウム膜
１０…第１の積層体
１１…第２の積層体
３０…第３の積層体

Claims

ガラス基板と、
前記ガラス基板上に設けられている、凹凸構造を有するアンチグレア層と、
前記アンチグレア層上に設けられている、反射防止膜と、
前記ガラス基板と前記アンチグレア層との間に設けられており、前記ガラス基板とは屈折率が異なっている、光学調整層と、
を備え、
前記アンチグレア層が、平坦部及び非平坦部を有し、
平面視において、前記アンチグレア層全体の面積に対する前記平坦部の面積の割合が、１５％以上、６０％以下であり、
前記光学調整層の屈折率は、前記アンチグレア層の屈折率より大きく、
前記光学調整層の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、０．２以上であり、
前記反射防止膜側から光を入射させたときに、正反射光の視感反射率が、反射散乱光の視感反射率よりも小さい、カバーガラス。
前記ガラス基板の屈折率と前記アンチグレア層の屈折率との差の絶対値が、０．０２以上である、請求項１に記載のカバーガラス。
前記平坦部の厚みが、５ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である、請求項１または請求項２に記載のカバーガラス。
前記ガラス基板上に前記アンチグレア層の平坦部及び前記反射防止膜がこの順に設けられてなる第１の積層体の構造による反射光の視感反射率が、前記アンチグレア層の非平坦部上に前記反射防止膜が設けられてなる第２の積層体の構造による視感反射率よりも小さい、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のカバーガラス。
前記光学調整層が、酸化ニオブにより構成されている、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載のカバーガラス。