JP7558783B2 - 液晶デバイス - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、液晶デバイスに関する。

近年、液晶セルを用いた光制御装置が提案されている。このような光制御装置は、主として、一偏光成分を集束させたり発散させたりするものである。一例では、複数の輪状の帯電極を備えた液晶レンズが提案されている。また、他の例としては、扇状の複数の分割領域に配置された透明電極を備えた液晶レンズも提案されている。

特開２００８－７６９２６号公報 特開２０１６－５７５４１号公報 特表２０１３－５１５９６９号公報

本発明の目的は、信頼性の低下を抑制することが可能な液晶デバイスを提供することにある。

一実施形態に係る液晶デバイスは、
第１液晶セルと、前記第１液晶セルに接着された第２液晶セルと、を備え、前記第１液晶セル及び前記第２液晶セルの各々は、帯状に形成された複数の第１電極を備える第１基板と、帯状に形成された複数の第２電極を備える第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間の１０μｍ以上のギャップに保持された液晶層と、前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、前記シールの内部に配置され、前記ギャップを保持する１個以上の第１スペーサと、前記シールで囲まれた内側の有効領域に配置され、前記ギャップを保持する複数の第２スペーサと、を備える。

図１は、本実施形態に係る液晶デバイス１を示す斜視図である。 図２は、図１に示した液晶デバイス１を示す分解斜視図である。 図３は、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０の一例を示す斜視図である。 図４は、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０の他の例を示す斜視図である。 図５は、第１液晶セル１０の一構成例を示す断面図である。 図６は、液晶層ＬＣ１に電界が形成されていないオフ状態（ＯＦＦ）の第１液晶セル１０を模式的に示す図である。 図７は、液晶層ＬＣ１に電界が形成されたオン状態（ＯＮ）の第１液晶セル１０を模式的に示す図である。 図８は、第１液晶セル１０の一例を示す平面図である。 図９は、第１液晶セル１０の他の例を示す平面図である。 図１０は、第１液晶セル１０の他の例を示す平面図である。 図１１は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の概略断面図である。 図１２は、第１液晶セル１０の他の例を示す平面図である。 図１３は、第１液晶セル１０の第１電極Ｅ１１及び第２スペーサＳＰ２の一例を示す平面図である。 図１４は、第１液晶セル１０の第１電極Ｅ１１及び第２スペーサＳＰ２の他の例を示す平面図である。 図１５は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の概略断面図である。 図１６は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の一例を示す断面図である。 図１７は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図１８は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図１９は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２０は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２１は、図２０に示した第１スペーサＳＰ１の平面図である。 図２２は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２３は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２４は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２５は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２６は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。 図２７は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

なお、図面には、必要に応じて理解を容易にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸、及び、Ｚ軸を記載する。Ｘ軸に沿った方向をＸ方向または第１方向と称し、Ｙ軸に沿った方向をＹ方向または第２方向と称し、Ｚ軸に沿った方向をＺ方向または第３方向と称する。Ｘ軸及びＹ軸によって規定される面をＸ－Ｙ平面と称し、Ｘ－Ｙ平面を見ることを平面視という。

図１は、本実施形態に係る液晶デバイス１を示す斜視図である。
液晶デバイス１は、第１液晶セル１０と、第２液晶セル２０と、第３液晶セル３０と、第４液晶セル４０と、第１フレキシブル配線基板Ｆ１と、第２フレキシブル配線基板Ｆ２と、第３フレキシブル配線基板Ｆ３と、第４フレキシブル配線基板Ｆ４と、回路基板５０と、を備えている。本実施形態に係る液晶デバイス１は、２つ以上の複数の液晶セルを備えるものであり、図１に示した例の如く、４つの液晶セルを備える構成に限定されるものではない。

第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０は、この順に積層されている。
第１フレキシブル配線基板Ｆ１は、第１液晶セル１０と回路基板５０とを電気的に接続している。第２フレキシブル配線基板Ｆ２は、第２液晶セル２０と回路基板５０とを電気的に接続している。第３フレキシブル配線基板Ｆ３は、第３液晶セル３０と回路基板５０とを電気的に接続している。第４フレキシブル配線基板Ｆ４は、第４液晶セル４０と回路基板５０とを電気的に接続している。

第１フレキシブル配線基板Ｆ１、第２フレキシブル配線基板Ｆ２、第３フレキシブル配線基板Ｆ３、及び、第４フレキシブル配線基板Ｆ４は、それぞれ、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０のエッジに沿って折り曲げられ、さらに、回路基板５０のエッジに沿って折り曲げられている。回路基板５０は、間隔を置いて第４液晶セル４０と対向するように配置されている。

回路基板５０と第４液晶セル４０との間には、点線で示す光源部ＬＳを配置するための領域が確保される。光源部ＬＳは、少なくとも光源を備え、必要に応じて光源と第４液晶セル４０との間にレンズ等の光学素子を備える。
光源部ＬＳから出射される光は、例えば無偏光である。光源部ＬＳからの出射光は、第４液晶セル４０、第３液晶セル３０、第２液晶セル２０、及び、第１液晶セル１０を順に透過する。後述するように、第４液晶セル４０、第３液晶セル３０、第２液晶セル２０、及び、第１液晶セル１０は、入射光の一部の偏光成分を発散するように構成されている。このように、液晶デバイス１と光源部ＬＳとを組み合わせることで、光の発散度合が可変の照明装置を提供することができる。

図２は、図１に示した液晶デバイス１を示す分解斜視図である。なお、図２では、第１フレキシブル配線基板Ｆ１、第２フレキシブル配線基板Ｆ２、第３フレキシブル配線基板Ｆ３、第４フレキシブル配線基板Ｆ４、及び、回路基板５０の図示を省略している。

第１液晶セル１０は、第１基板Ｓ１１と、第２基板Ｓ２１と、液晶層ＬＣ１と、シールＳＥ１と、を備えている。第１基板Ｓ１１及び第２基板Ｓ２１は、シールＳＥ１によって接着されている。液晶層ＬＣ１は、第１基板Ｓ１１と第２基板Ｓ２１との間に保持され、シールＳＥ１によって封止されている。入射光を発散することが可能な有効領域ＡＡ１は、シールＳＥ１で囲まれた内側に形成されている。

例えば、第１方向Ｘは、第１基板Ｓ１１の１つのエッジＳＸと平行な方向であり、第２方向Ｙは、第１基板Ｓ１１の他のエッジＳＹと平行な辺である。第３方向Ｚは、第１基板Ｓ１１の厚さ方向である。このような各方向と第１基板Ｓ１１との対応関係は、第２基板Ｓ２１にも当てはめることができ、さらには、他の液晶セル２０乃至４０にも同様に当てはめることができる。

第１基板Ｓ１１は、第１方向Ｘに沿って第２基板Ｓ２１よりも外側に延出した延出部ＥＸ１と、第２方向Ｙに沿って第２基板Ｓ２１よりも外側に延出した延出部ＥＹ１と、を有している。

第２液晶セル２０は、第１基板Ｓ１２と、第２基板Ｓ２２と、液晶層ＬＣ２と、シールＳＥ２と、を備えている。第１基板Ｓ１２及び第２基板Ｓ２２は、シールＳＥ２によって接着されている。液晶層ＬＣ２は、第１基板Ｓ１２と第２基板Ｓ２２との間に保持され、シールＳＥ２によって封止されている。有効領域ＡＡ２は、シールＳＥ２で囲まれた内側に形成されている。

第１基板Ｓ１２は、第１方向Ｘに沿って第２基板Ｓ２２よりも外側に延出した延出部ＥＸ２と、第２方向Ｙに沿って第２基板Ｓ２２よりも外側に延出した延出部ＥＹ２と、を有している。第３方向Ｚにおいて、延出部ＥＸ２は延出部ＥＸ１に重畳し、延出部ＥＹ２は延出部ＥＹ１に重畳している。

第３液晶セル３０は、第１基板Ｓ１３と、第２基板Ｓ２３と、液晶層ＬＣ３と、シールＳＥ３と、を備えている。第１基板Ｓ１３及び第２基板Ｓ２３は、シールＳＥ３によって接着されている。液晶層ＬＣ３は、第１基板Ｓ１３と第２基板Ｓ２３との間に保持され、シールＳＥ３によって封止されている。有効領域ＡＡ３は、シールＳＥ３で囲まれた内側に形成されている。

第１基板Ｓ１３は、第１方向Ｘに沿って第２基板Ｓ２３よりも外側に延出した延出部ＥＸ３と、第２方向Ｙに沿って第２基板Ｓ２３よりも外側に延出した延出部ＥＹ３と、を有している。第３方向Ｚにおいて、延出部ＥＹ３は、延出部ＥＹ２に重畳している。延出部ＥＸ３は、延出部ＥＸ２とは重畳せず、延出部ＥＸ２の反対側に位置している。

第４液晶セル４０は、第１基板Ｓ１４と、第２基板Ｓ２４と、液晶層ＬＣ４と、シールＳＥ４と、を備えている。第１基板Ｓ１４及び第２基板Ｓ２４は、シールＳＥ４によって接着されている。液晶層ＬＣ４は、第１基板Ｓ１４と第２基板Ｓ２４との間に保持され、シールＳＥ４によって封止されている。有効領域ＡＡ４は、シールＳＥ４で囲まれた内側に形成されている。

第１基板Ｓ１４は、第１方向Ｘに沿って第２基板Ｓ２４よりも外側に延出した延出部ＥＸ４と、第２方向Ｙに沿って第２基板Ｓ２４よりも外側に延出した延出部ＥＹ４と、を有している。第３方向Ｚにおいて、延出部ＥＸ４は延出部ＥＸ３に重畳し、延出部ＥＹ４は延出部ＥＹ３に重畳している。

第１液晶セル１０と第２液晶セル２０との間には、透明接着層Ａ１２が配置されている。透明接着層Ａ１２は、第１基板Ｓ１１と第２基板Ｓ２２とを接着している。
第２液晶セル２０と第３液晶セル３０との間には、透明接着層Ａ２３が配置されている。透明接着層Ａ２３は、第１基板Ｓ１２と第２基板Ｓ２３とを接着している。
第３液晶セル３０と第４液晶セル４０との間には、透明接着層Ａ３４が配置されている。透明接着層Ａ３４は、第１基板Ｓ１３と第２基板Ｓ２４とを接着している。

次に、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０について説明する。

図３は、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０の一例を示す斜視図である。

第１液晶セル１０において、第１基板Ｓ１１は、帯状に形成された複数の第１電極Ｅ１１を備えている。複数の第１電極Ｅ１１は、第１方向Ｘに沿って延出し、第２方向Ｙに沿って間隔をおいて並んでいる。第２基板Ｓ２１は、帯状に形成された複数の第２電極Ｅ２１を備えている。複数の第２電極Ｅ２１は、第２方向Ｙに沿って延出し、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて並んでいる。つまり、複数の第１電極Ｅ１１、及び、複数の第２電極Ｅ２１は、互いに交差している。後述するが、第１電極Ｅ１１と第２電極Ｅ２１との交差角は、平面視において、約９０°である。

第２液晶セル２０においても第１液晶セル１０と同様に、第１基板Ｓ１２の複数の第１電極Ｅ１２は、第１方向Ｘに沿って延出し、第２方向Ｙに沿って間隔をおいて並んでいる。第２基板Ｓ２２の複数の第２電極Ｅ２２は、第２方向Ｙに沿って延出し、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて並んでいる。

第３液晶セル３０において、第１基板Ｓ１３の複数の第１電極Ｅ１３は、第２方向Ｙに沿って延出し、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて並んでいる。第２基板Ｓ２３の複数の第２電極Ｅ２３は、第１方向Ｘに沿って延出し、第２方向Ｙに沿って間隔をおいて並んでいる。

第４液晶セル４０においては第３液晶セルと同様に、第１基板Ｓ１４の複数の第１電極Ｅ１４は、第２方向Ｙに沿って延出し、第１方向Ｘに沿って間隔をおいて並んでいる。第２基板Ｓ２４の複数の第２電極Ｅ２４は、第１方向Ｘに沿って延出し、第２方向Ｙに沿って間隔をおいて並んでいる。

例えば、第１液晶セル１０及び第４液晶セル４０は、Ｘ－Ｙ平面において、９０°回転対称の関係性を有している。第１電極Ｅ１１及び第１電極Ｅ１４は互いに直交し、また、第２電極Ｅ２１及び第２電極Ｅ２４は互いに直交している。つまり、第４液晶セル４０は、第１液晶セル１０と同一の構成を有しており、Ｘ－Ｙ平面において、第１液晶セル１０を９０°回転させた際の第１電極Ｅ１１の配置が第１電極Ｅ１４の配置と一致し、また、第２電極Ｅ２１の配置が第２電極Ｅ２４の配置と一致する。

同様に、第２液晶セル２０及び第３液晶セル３０は、Ｘ－Ｙ平面において、９０°回転対称の関係性を有している。第１電極Ｅ１２及び第１電極Ｅ１３は互いに直交し、また、第２電極Ｅ２２及び第２電極Ｅ２３は互いに直交している。

第１液晶セル１０の第１電極Ｅ１１及び第２液晶セル２０の第１電極Ｅ１２は、Ｘ－Ｙ平面において、互いに９０°未満の角度で交差している。第３液晶セル３０の第１電極Ｅ１３及び第４液晶セル４０の第１電極Ｅ１４は、Ｘ－Ｙ平面において、互いに９０°未満の角度で交差している。

第１基板Ｓ１１乃至Ｓ１４は、それぞれ正方形状に形成され、同等のサイズを有している。つまり、第１基板Ｓ１１乃至Ｓ１４の各々は、第１方向Ｘに沿って同等の長さＬＸを有し、且つ、第２方向Ｙに沿って同等の長さＬＹを有している。また、長さＬＸは、長さＬＹと同等である（ＬＸ＝ＬＹ）。

このため、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０が互いに接着された際には、図１に示したように、第１方向Ｘに沿ったエッジが重畳し、しかも、第２方向Ｙに沿ったエッジも重畳している。

第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０は、実質的に同様の構成を有しているが、以下、代表して第１液晶セル１０についてより具体的に説明する。

複数の第１電極Ｅ１１は、複数の第１帯電極Ｅ１１Ａと、複数の第２帯電極Ｅ１１Ｂと、を含んでいる。複数の第１帯電極Ｅ１１Ａは、互いに電気的に接続され、同一電圧が印加されるように構成されている。複数の第２帯電極Ｅ１１Ｂは、互いに電気的に接続され、同一電圧が印加されるように構成されている。但し、第２帯電極Ｅ１１Ｂに印加される電圧は、第１帯電極Ｅ１１Ａに印加される電圧とは異なるように制御される。これらの第１帯電極Ｅ１１Ａと第２帯電極Ｅ１１Ｂとは、第２方向Ｙに沿って、交互に並んでいる。

複数の第２電極Ｅ２１は、複数の第３帯電極Ｅ２１Ａと、複数の第４帯電極Ｅ２１Ｂと、を含んでいる。複数の第３帯電極Ｅ２１Ａは、互いに電気的に接続され、同一電圧が印加されるように構成されている。複数の第４帯電極Ｅ２１Ｂは、互いに電気的に接続され、同一電圧が印加されるように構成されている。但し、第４帯電極Ｅ２１Ｂに印加される電圧は、第３帯電極Ｅ２１Ａに印加される電圧とは異なるように制御される。これらの第３帯電極Ｅ２１Ａと第４帯電極Ｅ２１Ｂとは、第１方向Ｘに沿って、交互に並んでいる。

図４は、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０の他の例を示す斜視図である。図４に示す例は、図３に示す例と比較して、各液晶セルの複数の第１電極が円環状に形成され、且つ、同心円状に配置されている点、及び、複数の第２電極が円環状に形成され、且つ、同心円状に配置されている点で相違している。

図５は、第１液晶セル１０の一構成例を示す断面図である。ここでは、第１液晶セル１０について説明するが、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０も第１液晶セル１０と同様の断面構造を有しており、それらの説明については省略する。なお、シールＳＥ１の内部に配置される第１スペーサ、及び、有効領域ＡＡ１に配置される第２スペーサについては図示を省略し、後に詳述する。

第１基板Ｓ１１は、絶縁基板１１と、第１帯電極Ｅ１１Ａ及び第２帯電極Ｅ１１Ｂを含む第１電極Ｅ１１と、給電線ＰＬ１１乃至ＰＬ１４と、配向膜ＡＬ１と、を備えている。第１電極Ｅ１１、及び、給電線ＰＬ１１乃至ＰＬ１４は、絶縁基板１１の上に配置され、配向膜ＡＬ１によって覆われている。なお、第１電極Ｅ１１と絶縁基板１１との間、及び、給電線ＰＬ１１乃至ＰＬ１４と絶縁基板１１との間には、他の薄膜が介在していてもよい。第１帯電極Ｅ１１Ａは、給電線ＰＬ１２と電気的に接続されている。第２帯電極Ｅ１１Ｂは、給電線ＰＬ１３と電気的に接続されている。

給電線ＰＬ１１と電気的に接続された給電端子ＰＴ１１は、シールＳＥ１よりも外側に引き出されている。給電線ＰＬ１４と電気的に接続された給電端子ＰＴ１４は、シールＳＥ１よりも外側に引き出されている。給電端子ＰＴ１１及びＰＴ１４は、配向膜ＡＬ１から露出している。

第２基板Ｓ２１は、絶縁基板２１と、第２電極Ｅ２１と、給電線ＰＬ２１及びＰＬ２４と、配向膜ＡＬ２と、を備えている。第２電極Ｅ２１、及び、給電線ＰＬ２１及びＰＬ２４は、絶縁基板２１の上に配置され、配向膜ＡＬ２によって覆われている。なお、ここでは、１つの第２電極Ｅ２１のみが図示されているが、図３に示した複数の第２電極Ｅ２１は、絶縁基板２１と配向膜ＡＬ２との間に配置されている。複数の第２電極Ｅ２１のうち、第３帯電極Ｅ２１Ａは給電線ＰＬ２１と電気的に接続され、第４帯電極Ｅ２１Ｂは給電線ＰＬ２４と電気的に接続されている。なお、第２電極Ｅ２１と絶縁基板２１との間、及び、給電線ＰＬ２１及びＰＬ２４と絶縁基板２１との間には、他の薄膜が介在していてもよい。

給電線ＰＬ２１と電気的に接続された給電端子ＰＴ２１は、シールＳＥ１よりも外側に引き出されている。給電端子ＰＴ２１は、給電端子ＰＴ１１の直上に位置している。給電線ＰＬ２４と電気的に接続された給電端子ＰＴ２４は、シールＳＥ１よりも外側に引き出されている。給電端子ＰＴ２４は、給電端子ＰＴ１４の直上に位置している。給電端子ＰＴ２１及びＰＴ２４は、配向膜ＡＬ２から露出している。

導電材ＣＤ１は、給電端子ＰＴ１１と給電端子ＰＴ２１との間に配置され、両者を電気的に接続している。導電材ＣＤ２は、給電端子ＰＴ１４と給電端子ＰＴ２４との間に配置され、両者を電気的に接続している。

絶縁基板１１及び２１は、例えばガラス基板や樹脂基板などの透明基板である。第１電極Ｅ１１及び第２電極Ｅ２１は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの透明導電材料によって形成された透明電極である。給電線ＰＬ１１乃至ＰＬ１４、及び、給電線ＰＬ２１及びＰＬ２４は、アルミニウム、チタン、モリブデン、タングステンなどの金属材料によって形成されている。なお、給電線ＰＬ１１乃至ＰＬ１４、及び、給電線ＰＬ２１及びＰＬ２４は、透明電極と同一材料によって形成されてもよい。配向膜ＡＬ１及びＡＬ２は、Ｘ－Ｙ平面に略平行な配向規制力を有する水平配向膜である。

次に、図６及び図７を参照しながら、第１液晶セル１０における光学作用について説明する。なお、図６及び図７においては、説明に必要な構成のみを図示している。

図６は、液晶層ＬＣ１に電界が形成されていないオフ状態（ＯＦＦ）の第１液晶セル１０を模式的に示す図である。
オフ状態の液晶層ＬＣ１においては、液晶分子ＬＭ１は、初期配向している。このようなオフ状態では、液晶層ＬＣ１は、ほぼ均一な屈折率分布を有している。このため、第１液晶セル１０への入射光である第１偏光成分ＰＯＬ１は、ほとんど屈折（あるいは発散）されることなく液晶層ＬＣ１を透過する。なお、ここでの第１偏光成分ＰＯＬ１とは、自然光のうち、例えばＰ偏光に相当する。本明細書においては、Ｐ偏光に直交するＳ偏光を第２偏光成分ＰＯＬ２と称する場合がある。

図７は、液晶層ＬＣ１に電界が形成されたオン状態（ＯＮ）の第１液晶セル１０を模式的に示す図である。
例えば、液晶層ＬＣ１が正の誘電率異方性を有している場合、液晶層ＬＣ１に電界が形成されたオン状態では、液晶分子ＬＭ１は、その長軸が電界に沿うように配向する。例えば、液晶層ＬＣ１のうち、第１基板Ｓ１１の近傍の領域に作用する電界は、図５に示した第１帯電極Ｅ１１Ａと第２帯電極Ｅ１１Ｂとの間の電位差によって形成される。このような電界が液晶層ＬＣ１に作用することにより、液晶層ＬＣ１には、液晶分子ＬＭ１が基板に対してほぼ垂直に立ち上がった領域、液晶分子ＬＭ１が初期配向状態に維持される領域、液晶分子ＬＭ１が基板に対して斜め方向に立ち上がった領域などが形成される。

液晶分子ＬＭ１は、屈折率異方性Δｎを有している。このため、オン状態の液晶層ＬＣ１は、液晶分子ＬＭ１の配向状態に応じた屈折率分布、あるいは、リタデーション分布を有する。ここでのリタデーションとは、液晶層ＬＣ１の厚さ（あるいは、第１基板Ｓ１１と第２基板Ｓ２１とのギャップ）をｄとしたとき、Δｎ・ｄで表されるものである。
このようなオン状態では、第１偏光成分ＰＯＬ１は、液晶層ＬＣ１を透過する際に、液晶層ＬＣ１の屈折率分布の影響を受けて発散される。

同様に、第２偏光成分ＰＯＬ２は、オン状態の液晶層ＬＣ２を透過する際に、液晶層ＬＣ２の屈折率分布の影響を受けて発散される。

このように、少なくとも、第１偏光成分ＰＯＬ１を発散可能な第１液晶セル１０と、第２偏光成分ＰＯＬ２を発散可能な第２液晶セル２０とを積層した液晶デバイス１によれば、光源部ＬＳからの出射光を発散することができる。

ところで、屈折率分布が形成された液晶層に白色光が入射する場合、波長毎に発散の度合いが異なる。このため、発散された白色光の一部が色付くおそれがある。

このため、本実施形態では、第１液晶セル１０、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０を積層した液晶デバイス１を提供する。このような構成の液晶デバイス１において、例えば、第１液晶セル１０及び第４液晶セル４０は、光源部ＬＳからの出射光のうち、主として第１偏光成分（Ｐ偏光）ＰＯＬ１を発散し、第２液晶セル２０及び第３液晶セル３０は、主として第２偏光成分（Ｓ偏光）ＰＯＬ２を発散する。

但し、第１液晶セル１０の液晶層ＬＣ１に形成される屈折率分布、及び、第４液晶セル４０の液晶層ＬＣ４に形成される屈折率分布は、互いに異なるように構成されている。これにより、第１液晶セル１０における第１偏光成分ＰＯＬ１の発散度合と、第４液晶セル４０における第１偏光成分ＰＯＬ１の発散度合とが異なり、第１偏光成分ＰＯＬ１の色付きが抑制される。

同様に、第２液晶セル２０の液晶層ＬＣ２に形成される屈折率分布、及び、第３液晶セル３０の液晶層ＬＣ３に形成される屈折率分布は、互いに異なるように構成されている。これにより、第２液晶セル２０における第２偏光成分ＰＯＬ２の発散度合と、第３液晶セル３０における第２偏光成分ＰＯＬ２の発散度合とが異なり、第２偏光成分ＰＯＬ２の色付きが抑制される。

ところで、各液晶セルにおける偏光成分の発散度合は、屈折率分布の大きさに依存する。つまり、液晶層の厚さ、あるいは、第１基板と第２基板とのギャップが大きいほど、より大きな発散作用を実現することができる。例えば、１０μｍ以上、さらには１５μｍ以上、場合によっては５０μｍ以上のギャップを形成することが要望される。しかしながら、単に１０μｍ以上のギャップを形成しようとすると、シール材料の使用量が多くなり、加えて、シールの高さが不均一となったり、シールが途切れてしまったりする不具合を招くおそれがある。

そこで、本実施形態では、シールの内部に第１スペーサＳＰ１が配置されている。ここでは、液晶デバイス１を構成する液晶セルのうち、第１液晶セル１０について説明するが、第２液晶セル２０、第３液晶セル３０、及び、第４液晶セル４０も第１液晶セル１０と同様に構成されている。

図８は、第１液晶セル１０の一例を示す平面図である。
シールＳＥ１は、連続的な枠状に形成されている。第１スペーサＳＰ１は、シールＳＥ１の内部に配置され、第１基板Ｓ１１と第２基板Ｓ２１とのギャップを保持している。図８に示す例では、第１スペーサＳＰ１は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにそれぞれライン状に形成され、シールＳＥ１と同様に、連続的な枠状に形成されている。

シールＳＥ１で囲まれた内側の有効領域ＡＡ１には、複数の第２スペーサＳＰ２が配置されている。図８に示す例では、４個の第２スペーサＳＰ２は、四角形（長方形、正方形、あるいは、ひし形）の頂点に位置するように配置されている。第２スペーサＳＰ２も、第１スペーサＳＰ１と同様に、第１基板Ｓ１１と第２基板Ｓ２１とのギャップを保持している。

図９は、第１液晶セル１０の他の例を示す平面図である。
図９に示す例は、図８に示した例と比較して、第１スペーサＳＰ１が複数のライン状に形成された点で相違している。なお、ここでは、第１スペーサＳＰ１は、間隔を置いて並んだ３本のライン状に形成されているが、本数は図示した例に限らない。

図１０は、第１液晶セル１０の他の例を示す平面図である。
図１０に示す例は、図８に示した例と比較して、第１スペーサＳＰ１が複数のドット状に形成された点で相違している。

図１１は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の概略断面図である。ここでは、説明に必要な構成のみを図示している。

第１スペーサＳＰ１は、シールＳＥ１の内部に配置され、その周囲がシールＳＥ１によって包囲されている。つまり、第１スペーサＳＰ１の側面の全体は、シールＳＥ１に接している。第２スペーサＳＰ２は、その周囲が液晶層ＬＣ１に包囲されている。一例では、第２スペーサＳＰ２の側面は、液晶層ＬＣ１に接しているが、第２スペーサＳＰ２の一部の側面は、図５に示した配向膜ＡＬ１及びＡＬ２によって覆われている。
図１１に示す例では、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、いずれも第１基板Ｓ１１に配置されているが、第２基板Ｓ２１に配置されてもよい。第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、同一材料によって形成されている。

一例では、第１スペーサＳＰ１の第３方向Ｚに沿った高さＨ１は、第２スペーサＳＰ２の第３方向Ｚに沿った高さＨ２と同等である。但し、高さＨ１及びＨ２は、必ずしも同等とは限らない。第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、いずれも１０μｍ以上のギャップｄを保持する機能を有するものであるが、第１スペーサＳＰ１に重畳する部材の厚さ、及び、第２スペーサＳＰ２に重畳する部材の厚さを考慮して各々の高さが設定される。つまり、第１スペーサＳＰ１の高さが第２スペーサＳＰ２の高さが同等である場合もあり得るし、第１スペーサＳＰ１の高さが第２スペーサＳＰ２の高さより小さい場合もあり得るし、第１スペーサＳＰ１の高さが第２スペーサＳＰ２の高さより大きい場合もあり得る。高さの異なるスペーサは、例えば、ハーフトーンマスクやグレートーンマスクを用いたフォトリソグラフィプロセスによって形成可能である。

このように、液晶層ＬＣ１が１０μｍ以上のギャップｄに保持された構成において、第１スペーサＳＰ１がシールＳＥ１の内部に配置されたことにより、シール材料の使用量の増加が抑制される。また、第１液晶セル１０の周縁部のギャップが第１スペーサＳＰ１によって保持されるため、シールＳＥ１のみの場合と比較して、周縁部でのギャップムラが抑制される。さらに、第１スペーサＳＰ１がシールＳＥ１の内部に包含されたことにより、シールＳＥ１の強度が向上し、シール切れが抑制され、さらには、シールＳＥ１と第１基板Ｓ１１との界面及びシールＳＥ１と第２基板Ｓ２１との界面を通じた液晶材料の漏れが抑制される。したがって、信頼性の低下を抑制することが可能となる。

図１２は、第１液晶セル１０の他の例を示す平面図である。
図１２に示す例は、図８乃至図１０に示した例と比較して、６個の第２スペーサＳＰ２が六角形の頂点に位置するように配置された点で相違している。第１スペーサＳＰ１については、図８に示したような１本のライン状に形成されてもよいし、図９に示したような複数のライン状に形成されてもよいし、図１０に示したような複数のドット状に形成されてもよい。
複数の液晶セルが積層された際に、各々の有効領域に位置する第２スペーサＳＰ２が重畳する位置関係にある場合、液晶セルの僅かな位置ずれによってモアレが発生する恐れがある。一方で、各液晶セルにおいて、第２スペーサＳＰ２を個別にレイアウトすることは、製造歩留まりの低下をもたらす恐れがある。

図１２に示す例によれば、９０°回転対称の関係性を有する第１液晶セル１０及び第４液晶セル４０が積層された際に、第１液晶セル１０の第２スペーサＳＰ２が第４液晶セル４０の第２スペーサＳＰ２には重畳しない。したがって、モアレが抑制される。また、第２スペーサＳＰ２のレイアウトが一致する２つの液晶セルを、第１液晶セル１０及び第４液晶セル４０として利用することができ、製造歩留まりの低下が抑制される。

図１３は、第１液晶セル１０の第１電極Ｅ１１及び第２スペーサＳＰ２の一例を示す平面図である。
ここに示す複数の第１電極Ｅ１１は、図３に示したように、それぞれ直線状に延出している。第２スペーサＳＰ２は、複数の第１電極Ｅ１１に跨って配置されている。第１基板Ｓ１１に配置される第２スペーサＳＰ２のうち、第１基板Ｓ１１に接する底部の幅Ｗ２は、第１電極Ｅ１１の幅Ｗ１１と第１電極Ｅ１１の間隙の幅Ｗ１２との和より大きい。

図１４は、第１液晶セル１０の第１電極Ｅ１１及び第２スペーサＳＰ２の他の例を示す平面図である。
ここに示す複数の第１電極Ｅ１１は、図４に示したように、それぞれ円弧状に延出している。このような例においても、第２スペーサＳＰ２は、複数の第１電極Ｅ１１に跨って配置されている。

図１５は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の概略断面図である。ここでは、説明に必要な構成のみを図示している。

第２スペーサＳＰ２の底部Ｂ２は、複数の第１電極Ｅ１１に接するとともに、第１電極Ｅ１１の間隙において絶縁基板１１に接している。なお、絶縁基板１１と第１電極Ｅ１１との間に他の薄膜が介在している場合には、第２スペーサＳＰ２は、第１電極Ｅ１１の間隙においてその薄膜に接する。

例えば、第２スペーサＳＰ２と第１電極Ｅ１１との密着性が低く、第２スペーサＳＰ２と絶縁基板１１との密着性が高い場合、第１電極Ｅ１１のみに接している第２スペーサＳＰ２は、絶縁基板１１のみに接している第２スペーサＳＰ２と比較して、剥離しやすい。そこで、上記のように、第２スペーサＳＰ２が材質の異なる複数の部材に接することにより、第２スペーサＳＰ２の剥離が抑制される。

複数の第１電極Ｅ１１を覆う配向膜ＡＬ１は、第２スペーサＳＰ２の側面ＳＳ２のうち、底部Ｂ２に近接する側を覆っている。第２スペーサＳＰ２のうち高さＨ２の１／２の位置を中間部Ｍ２とすると、中間部Ｍ２よりも上方の側面ＳＳ２は、配向膜ＡＬ１から露出している。配向膜ＡＬ１から露出している側面ＳＳ２の総面積（あるいは液晶層ＬＣ１に接している側面ＳＳ２の総面積）は、配向膜ＡＬ１によって覆われている側面ＳＳ２の総面積より大きい。

第１スペーサＳＰ１の底部Ｂ１は、絶縁基板１１に接している。但し、第２スペーサＳＰ２と同様に、第１スペーサＳＰ１が材質の異なる複数の部材に接していてもよい。例えば、第１スペーサＳＰ１は、絶縁基板１１のみならず、第１電極Ｅ１１と同一材料によって形成されたダミー電極に接していてもよい。

配向膜ＡＬ１は、第１スペーサＳＰ１の側面ＳＳ１のうち、底部Ｂ１に近接する側を覆っている。第１スペーサＳＰ１のうち高さＨ１の１／２の位置を中間部Ｍ１とすると、中間部Ｍ１よりも上方の側面ＳＳ１は、配向膜ＡＬ１から露出している。配向膜ＡＬ１から露出している側面ＳＳ１の総面積は、配向膜ＡＬ１によって覆われている側面ＳＳ１の総面積より大きい。

配向膜ＡＬ１から露出した側面ＳＳ１は、シールＳＥ１に接している。つまり、シールＳＥ１によって覆われる側面ＳＳ１の総面積は、配向膜ＡＬ１によって覆われている側面ＳＳ１の総面積より大きい。

第１スペーサＳＰ１の上面Ｔ１及び第２スペーサＳＰ２の上面Ｔ２は、配向膜ＡＬ１によって覆われている場合があるが、その図示は省略している。

以下に、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２のいくつかのバリエーションについて、第１方向Ｘ及び第３方向Ｚによって規定されるＸ－Ｚ平面の断面図を参照しながら説明する。Ｘ－Ｚ平面をみることを断面視という。各断面図においては、説明に必要な構成のみを図示している。また、複数のバリエーションは適宜組み合わせることができる。

図１６は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の一例を示す断面図である。

第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２に関して、断面視における底部の幅をＷとし、高さをＨとしたときのアスペクト比（Ｈ／Ｗ）に着目する。
第２スペーサＳＰ２のアスペクト比（Ｈ２／Ｗ２）は、０．５以上である。第１スペーサＳＰ１のアスペクト比（Ｈ１／Ｗ１）は、第２スペーサＳＰ２のアスペクト比（Ｈ２／Ｗ２）より小さい。
一例では、幅Ｗ２は５０μｍであり、高さＨ２は３０μｍであり、アスペクト比（Ｈ２／Ｗ２）は０．６である。また、幅Ｗ１は１００μｍであり、高さＨ２は３０μｍであり、アスペクト比（Ｈ１／Ｗ１）は０．３である。

第２スペーサＳＰ２に関しては、ギャップ保持機能を維持しつつも、有効領域に占める面積を低減することが要求されるため、幅Ｗ２（あるいは底部Ｂ２の直径）は小さいことが望ましい。幅Ｗ２が３０μｍ未満の場合、アスペクト比（Ｈ２／Ｗ２）は１以上となる場合があり得る。また、幅Ｗ２が小さいほど、側面ＳＳ２は、第１基板Ｓ１１に対して垂直に近づく傾向にある。

第１スペーサＳＰ１に関しては、ギャップ保持機能を維持するとともに、シールＳＥ１との接触面積を増加することが要求される。このため、一手法として、図１６に示す例では、底部Ｂ１の幅Ｗ１を１００μｍ以上に拡大している。第１スペーサＳＰ１は、底部Ｂ１から上面Ｔ１に向かって次第に幅が縮小するような順テーパー状に形成されている。側面ＳＳ１は、第１基板Ｓ１１に対して傾斜している。

このような例によれば、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２のそれぞれの要求を満足することができる。

図１７は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
第２スペーサＳＰ２は、底部Ｂ２と中間部Ｍ２との間にくびれ部Ｃ２を有している。くびれ部Ｃ２の幅Ｗ２１は、底部Ｂ２の幅Ｗ２、及び、中間部Ｍ２の幅Ｗ２２のいずれよりも小さい。図１７に示す例では、第２スペーサＳＰ２は、上面Ｔ２からくびれ部Ｃ２に向かって次第に幅が縮小するような逆テーパー状に形成されており、底部Ｂ２からくびれ部Ｃ２に向かって次第に幅が縮小するような順テーパー状に形成されている。このため、幅Ｗ２２も、幅Ｗ２より小さい。一例では、Ｗ２は、１０μｍ程度である。

図１８は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
ここでは、ギャップｄが５０μｍ以上である場合を想定する。

第１スペーサＳＰ１は、第１基板Ｓ１１に配置された第１下スペーサＳＰ１１と、第１下スペーサＳＰ１１の直上に位置し第２基板Ｓ２１に配置された第１上スペーサＳＰ１２と、を有している。第１下スペーサＳＰ１１及び第１上スペーサＳＰ１２の各々は、互いに対向する対向面Ｌ１１及びＵ１２を有している。対向面Ｌ１１及びＵ１２は、例えば平坦面である。対向面Ｌ１１及びＵ１２は、接していてもよいが、離間している場合もあり得る。

第２スペーサＳＰ２は、第１基板Ｓ１１に配置された第２下スペーサＳＰ２１と、第２下スペーサＳＰ２１の直上に位置し第２基板Ｓ２１に配置された第２上スペーサＳＰ２２と、を有している。第２下スペーサＳＰ２１及び第２上スペーサＳＰ２２の各々は、互いに対向する対向面Ｌ２１及びＵ２２を有している。対向面Ｌ２１及びＵ２２は、例えば平坦面である。対向面Ｌ２１及びＵ２２は、接していてもよいが、離間している場合もあり得る。

対向面Ｌ１１及びＵ１２の間、及び、対向面Ｌ２１及びＵ２２の間には、配向膜ＡＬ１及びＡＬ２が介在していたり、シールＳＥ１が介在していたりする場合があり得る。

第１下スペーサＳＰ１１の高さＨ１１及び第１上スペーサＳＰ１２の高さＨ１２は、同等であってもよいし、異なっていてもよい。高さＨ１１と高さＨ１２との和が第１スペーサＳＰ１として要求される高さＨ１に相当すればよい。
第２下スペーサＳＰ２１の高さＨ２１及び第２上スペーサＳＰ２２の高さＨ２２は、同等であってもよいし、異なっていてもよい。高さＨ２１と高さＨ２２との和が第２スペーサＳＰ２として要求される高さＨ２に相当すればよい。
一例では、高さＨ１１及びＨ１２、及び、高さＨ２１及びＨ２２は、いずれも２０μｍ以上である。

このような例によれば、第１下スペーサＳＰ１１及び第１上スペーサＳＰ１２の各々が２０μｍ以上の高さに形成されることにより、大きなギャップｄが形成され、より発散度合の高い液晶デバイスを提供することができる。

図１９は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
第１下スペーサＳＰ１１の対向面Ｌ１１、及び、第１上スペーサＳＰ１２の対向面Ｕ１２は、凹凸面である。対向面Ｌ１１と対向面Ｕ１２との間には、シールＳＥ１が介在している。つまり、図１８に示した例と比較して、第１下スペーサＳＰ１１とシールＳＥ１との接触面積、及び、第１上スペーサＳＰ１２とシールＳＥ１との接触面積を増大することができる。
なお、第２スペーサＳＰ２においては、対向面Ｌ２１及びＵ２２は、いずれも平坦面である。

図２０は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
シールＳＥ１を横断する第１方向Ｘの長さについて、第１下スペーサＳＰ１１の長さＬＸ１１は、第１上スペーサＳＰ１２の長さＬＸ１２より小さい。なお、第１下スペーサＳＰ１１の長さＬＸ１１が第１上スペーサＳＰ１２の長さＬＸ１２より大きくてもよい。対向面Ｌ１１及びＵ１２は、いずれも平坦面であるが、凹凸面であってもよい。

図２１は、図２０に示した第１スペーサＳＰ１の平面図である。
図２１の（Ａ）に示す例では、第１下スペーサＳＰ１１は第２方向Ｙに沿ってライン状に形成されている。複数の第１上スペーサＳＰ１２は、第２方向Ｙに沿って間隔を置いて並び、それぞれ第１下スペーサＳＰ１１と交差している。第２方向Ｙの長さについて、第１下スペーサＳＰ１１の長さＬＹ１１は、第１上スペーサＳＰ１２の長さＬＹ１２より大きい。

図２１の（Ｂ）に示す例では、第１スペーサＳＰ１がドット状に形成されている。複数の第１下スペーサＳＰ１１、及び、複数の第１上スペーサＳＰ１２は、第２方向Ｙに沿って間隔を置いて並んでいる。第１下スペーサＳＰ１１は、それぞれ第１上スペーサＳＰ１２と交差している。第２方向Ｙの長さについて、第１下スペーサＳＰ１１の長さＬＹ１１は、第１上スペーサＳＰ１２の長さＬＹ１２より大きい。

図２０及び図２１に示す例においても、第１下スペーサＳＰ１１とシールＳＥ１との接触面積、及び、第１上スペーサＳＰ１２とシールＳＥ１との接触面積を増大することができる。

図２２は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
第１方向Ｘの長さについては、第１下スペーサＳＰ１１の長さＬＸ１１は、第１上スペーサＳＰ１２の長さＬＸ１２より小さい。第１上スペーサＳＰ１２は、第１方向Ｘに沿った両端部にそれぞれ突起Ｐ１を有している。第１下スペーサＳＰ１１の対向面Ｌ１１は、一対の突起Ｐ１の間に位置している。つまり、第１下スペーサＳＰ１１の上端部は、一対の突起Ｐ１の間に位置している。
なお、第１下スペーサＳＰ１１の形状は、図２１の（Ａ）に示したライン状であってもよいし、図２１の（Ｂ）に示したドット状であってもよい。
このような例においても、上記したのと同様の効果が得られる。

図２３は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
第１スペーサＳＰ１の高さＨ１は、第２スペーサＳＰ２の高さＨ２より小さい。また、第１スペーサＳＰ１と第２基板Ｓ２１との間には、シールＳＥ１が介在している。図２３に示す例では、シールＳＥ１がビーズやファイバ等のフィラーＦＬを含み、第１スペーサＳＰ１の上面Ｔ１と第２基板Ｓ２１との間にフィラーＦＬが介在している。つまり、シールＳＥ１がフィラーＦＬを含む場合には、第１スペーサＳＰ１と第２基板Ｓ２１との間にフィラーＦＬが噛み込むことを想定して、高さＨ１が設定される。このため、ギャップムラを抑制することができる。

図２４は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
図２４に示す例は、図２３に示した例と比較して、第１スペーサＳＰ１が複数のライン状または複数のドット状に形成された点で相違している。第１スペーサＳＰ１と第２基板Ｓ２１との間には、フィラーＦＬが介在している。隣接する第１スペーサＳＰ１の間にもシールＳＥ１が充填される。
図２４に示す例によれば、図２３に示した例と同様の効果が得られる。また、第１スペーサＳＰ１とシールＳＥ１との接触面積を増大することができる。さらに、シールＳＥ１に包含される第１スペーサＳＰ１の体積を増やすことで、シール材料の使用量を抑制することができる。

図２５は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
図２５に示す例は、図２３に示した例と比較して、第１スペーサＳＰ１の上面Ｔ１が凹凸面である点で相違している。第１スペーサＳＰ１と第２基板Ｓ２１との間には、フィラーＦＬが介在している。
図２５に示す例においても、上記したのと同様の効果が得られる。

図２６は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
第１スペーサＳＰ１は、第１基板Ｓ１１に近接する側の第１部分ＳＰ１１１と、第２基板Ｓ２１に近接する側の第２部分ＳＰ１１２と、を有している。第１部分ＳＰ１１１は、第１上面Ｔ１１を有している。第２部分ＳＰ１１２は、第１部分ＳＰ１１１と一体的に形成され、第１上面Ｔ１１と第２基板Ｓ２１との間に第２上面Ｔ１２を有している、つまり、第２部分ＳＰ１１２は、第１部分ＳＰ１１１の第１上面Ｔ１１から第２基板Ｓ２１に向かって突出した部分に相当する。第１上面Ｔ１１及び第２上面Ｔ１２は、いずれもＸ－Ｙ平面にほぼ平行な平坦面である。

第１上面Ｔ１１に重畳するシールＳＥ１の厚さは、第２上面Ｔ１２に重畳するシールＳＥ１の厚さより大きい。シールＳＥ１は、第２上面Ｔ１２にはほとんど重畳しない場合もあり得る。
なお、第１スペーサＳＰ１は、第３方向Ｚに沿った高さの異なる３つ以上の上面を有していてもよい。
図２６に示す例においても、上記したのと同様の効果が得られる。

図２７は、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を含む第１液晶セル１０の他の例を示す断面図である。
第１スペーサＳＰ１の高さＨ１は、第２スペーサＳＰ２の高さＨ２より大きい。詳細な図示を省略しているが、第１スペーサＳＰ１と第２基板Ｓ２１との間に介在する部材の厚さが、第２スペーサＳＰ２と第２基板Ｓ２１との間に介在する部材の厚さより小さい場合には、高さＨ１が高さＨ２より大きく設定されることで、ギャップムラを抑制することができる。あるいは、シールＳＥ１が硬化する際に第１基板Ｓ１１及び第２基板Ｓ２１のそれぞれの周縁部が加圧される場合があり、シールＳＥ１が硬化した後のギャップムラを抑制する観点で、高さＨ１が高さＨ２より大きく設定される場合もあり得る。

上記した本実施形態によれば、信頼性の低下を抑制することが可能な液晶デバイスを提供することができる。

以上、本発明の実施形態として説明した液晶デバイスを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶デバイスも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、もしくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
また、上述の実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、または当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。

１…液晶デバイス ＬＳ…光源
１０…第１液晶セル Ｓ１１…第１基板 Ｅ１１…第１電極（Ｅ１１Ａ…第１帯電極、Ｅ１１Ｂ…第２帯電極） Ｓ２１…第２基板 Ｅ２１…第２電極（Ｅ２１Ａ…第３帯電極、Ｅ２１Ｂ…第４帯電極） ＬＣ１…第１液晶層 ＳＥ１…シール
ＳＰ１…第１スペーサ ＳＰ１１…第１下スペーサ ＳＰ１２…第１上スペーサ
ＳＰ２…第２スペーサ ＳＰ２１…第２下スペーサ ＳＰ２２…第２上スペーサ
２０…第２液晶セル ３０…第３液晶セル ４０…第４液晶セル

Claims (8)

1. 第１液晶セルと、
   前記第１液晶セルに接着された第２液晶セルと、を備え、
   前記第１液晶セル及び前記第２液晶セルの各々は、
   帯状に形成された複数の第１電極を備える第１基板と、
   帯状に形成された複数の第２電極を備える第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の１０μｍ以上のギャップに保持された液晶層と、
   前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、
   前記シールの内部に配置され、前記ギャップを保持する１個以上の第１スペーサと、
   前記シールで囲まれた内側の有効領域に配置され、前記ギャップを保持する複数の第２スペーサと、
   を備え、
   前記第２スペーサは、前記複数の第１電極に跨って配置されている、液晶デバイス。
2. 第１液晶セルと、
   前記第１液晶セルに接着された第２液晶セルと、を備え、
   前記第１液晶セル及び前記第２液晶セルの各々は、
   帯状に形成された複数の第１電極を備える第１基板と、
   帯状に形成された複数の第２電極を備える第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の１０μｍ以上のギャップに保持された液晶層と、
   前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、
   前記シールの内部に配置され、前記ギャップを保持する１個以上の第１スペーサと、
   前記シールで囲まれた内側の有効領域に配置され、前記ギャップを保持する複数の第２スペーサと、
   を備え、
   断面視における底部の幅をＷとし、高さをＨとしたときのアスペクト比（Ｈ／Ｗ）について、
   前記第２スペーサのアスペクト比は、０．５以上であり、
   前記第１スペーサのアスペクト比は、前記第２スペーサのアスペクト比より小さい、液晶デバイス。
3. 前記第２スペーサは、前記底部と、前記高さの１／２の位置である中間部との間にくびれ部を有し、
   前記くびれ部の幅は、前記底部の幅、及び、前記中間部の幅のいずれよりも小さい、請求項２に記載の液晶デバイス。
4. 前記第１基板は、さらに、前記複数の第１電極を覆う配向膜を備え、
   前記配向膜は、前記第２スペーサの側面のうち、前記底部側を覆い、
   前記中間部よりも上方の前記側面は、前記配向膜から露出している、請求項３に記載の液晶デバイス。
5. 第１液晶セルと、
   前記第１液晶セルに接着された第２液晶セルと、を備え、
   前記第１液晶セル及び前記第２液晶セルの各々は、
   帯状に形成された複数の第１電極を備える第１基板と、
   帯状に形成された複数の第２電極を備える第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の１０μｍ以上のギャップに保持された液晶層と、
   前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、
   前記シールの内部に配置され、前記ギャップを保持する１個以上の第１スペーサと、
   前記シールで囲まれた内側の有効領域に配置され、前記ギャップを保持する複数の第２スペーサと、
   を備え、
   前記ギャップは、５０μｍ以上であり、
   前記第１スペーサは、前記第１基板に配置された第１下スペーサと、前記第１下スペーサの直上に位置し前記第２基板に配置された第１上スペーサと、を有し、
   前記第２スペーサは、前記第１基板に配置された第２下スペーサと、前記第２下スペーサの直上に位置し前記第２基板に配置された第２上スペーサと、を有し、
   前記第１下スペーサ及び前記第１上スペーサの各々は、互いに対向する対向面を有し、
   前記対向面の各々は、凹凸面である、液晶デバイス。
6. 第１液晶セルと、
   前記第１液晶セルに接着された第２液晶セルと、を備え、
   前記第１液晶セル及び前記第２液晶セルの各々は、
   帯状に形成された複数の第１電極を備える第１基板と、
   帯状に形成された複数の第２電極を備える第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の１０μｍ以上のギャップに保持された液晶層と、
   前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、
   前記シールの内部に配置され、前記ギャップを保持する１個以上の第１スペーサと、
   前記シールで囲まれた内側の有効領域に配置され、前記ギャップを保持する複数の第２スペーサと、
   を備え、
   前記ギャップは、５０μｍ以上であり、
   前記第１スペーサは、前記第１基板に配置された第１下スペーサと、前記第１下スペーサの直上に位置し前記第２基板に配置された第１上スペーサと、を有し、
   前記第２スペーサは、前記第１基板に配置された第２下スペーサと、前記第２下スペーサの直上に位置し前記第２基板に配置された第２上スペーサと、を有し、
   前記シールを横断する第１方向の長さについて、前記第１下スペーサの長さは、前記第１上スペーサの長さより小さく、
   前記第１方向に直交する第２方向の長さについて、前記第１下スペーサの長さは、前記第１上スペーサの長さより大きい、液晶デバイス。
7. 前記第１上スペーサは、前記第１方向に沿った両端部にそれぞれ突起を有し、
   前記第１下スペーサは、前記突起の間に位置している、請求項６に記載の液晶デバイス。
8. 第１液晶セルと、
   前記第１液晶セルに接着された第２液晶セルと、を備え、
   前記第１液晶セル及び前記第２液晶セルの各々は、
   帯状に形成された複数の第１電極を備える第１基板と、
   帯状に形成された複数の第２電極を備える第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間の１０μｍ以上のギャップに保持された液晶層と、
   前記第１基板と前記第２基板とを接着するシールと、
   前記シールの内部に配置され、前記ギャップを保持する１個以上の第１スペーサと、
   前記シールで囲まれた内側の有効領域に配置され、前記ギャップを保持する複数の第２スペーサと、
   を備え、
   前記第１スペーサは、
   第１上面を有する第１部分と、
   前記第１部分と一体的に形成され、前記第１上面と前記第２基板との間に第２上面を有する第２部分と、を有している、液晶デバイス。
   

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