JP7553587B2 - レーザ加工システム及び制御方法 - Google Patents
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Description
前述したように、レーザ加工システム1は、ロボット2と、レーザ発振器3と、スキャナ4と、ロボット制御装置5と、スキャナ制御装置6と、レーザ制御装置7と、ロボット教示操作盤8と、プログラム生成装置9と、を備える。
以下、図3を参照しながら、ロボット制御装置、スキャナ制御装置6、レーザ制御装置7及びプログラム生成装置9の動作について詳述する。
図5に示すように、スキャナ制御装置6は、軌跡制御部61と、制御点移動部62と、制御点記憶部63と、を備える。
制御点移動部62は、制御点修正用軌跡に基づいて、ロボット教示操作盤8の操作に従って制御点を移動する。
以下に説明するように、レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さは、制御点修正用軌跡の長さの変化を視認できる距離、特定すべきレーザ光の光軸方向のずれ量、及びスキャナ4とレーザ光のレーザ照射点との距離から算出される。
図6Cに示すように、スキャナ4とワーク10とは、正対しており、ワーク10が位置A1にあるときと、位置B1にあるときとを比較するものとする。
スキャナ4内のガルバノミラー41、42からの距離は、ワーク10の位置A1及び位置B1それぞれにおいて、D及びD+ΔDである。そして、長さL及びL+ΔL並びに距離D及びD+ΔDの関係は、以下のようになる。
L=(ΔL/ΔD)×D
本実施形態における制御点の修正では、操作者は、手動操作又は半自動操作によってロボット2を制御点の近傍に搬送し、ロボット2を停止する。そして、スキャナ4によってガイドレーザが照射されると、操作者は、ワーク10上に照射された制御点修正用軌跡の形状を視認しながら、スキャナ4を移動させる。これにより、操作者は、制御点の位置及び制御点によって定義される座標系の方向を修正することができる。
(1)ロボット2を駆動し、ロボット2のアーム22の先端部22aに固定されたスキャナ4を修正する制御点近傍に移動する。
手動操作の場合、初めから修正しようとしている制御点近傍にガイドレーザを照射することは難しいため、スキャナ4は、制御点修正用軌跡を照射するためのプログラムを起動した直後、スキャナ4の直下にガイドレーザを照射する。
ステップS1において、ロボット制御装置5は、ロボットプログラムに基づいて、ワーク10に対してレーザ光を走査可能なスキャナ4を、ワーク10に対して移動させるようにロボット2を制御する。
ステップS3において、軌跡制御部61は、ロボット2を停止した状態で、制御点修正用軌跡をワーク10に照射するようにスキャナ4を制御する。
ステップS5において、制御点記憶部63は、移動された制御点の位置及び制御点によって定義される座標系の方向を記憶する。
2 ロボット
3 レーザ発振器
4 スキャナ4
5 ロボット制御装置
6 スキャナ制御装置
7 レーザ制御装置
8 ロボット教示操作盤
9 プログラム生成装置
10 ワーク
61 軌跡制御部
62 制御点移動部
63 制御点記憶部
Claims (7)
- ワークに対してレーザ光を走査可能なスキャナと、
前記スキャナを前記ワークに対して移動させる移動装置と、
前記スキャナを制御するスキャナ制御装置と、
を備え、
前記スキャナ制御装置は、前記移動装置を停止した状態で、予め設定された制御点を修正するための制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように前記スキャナを制御する軌跡制御部を有し、
前記制御点修正用軌跡は、前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さと、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を特定するための所定の形状と、を有し、
前記ワークに照射される前記制御点修正用軌跡は、前記スキャナを制御するスキャナプログラムにおける制御点修正用軌跡と同一の長さ及び形状を有し、かつ前記ワーク上に配置可能な修正用パターンと比較可能である、レーザ加工システム。 - ワークに対してレーザ光を走査可能なスキャナと、
前記スキャナを前記ワークに対して移動させる移動装置と、
前記スキャナを制御するスキャナ制御装置と、
を備え、
前記スキャナ制御装置は、前記移動装置を停止した状態で、予め設定された制御点を修正するための制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように前記スキャナを制御する軌跡制御部を有し、
前記制御点修正用軌跡は、前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さと、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を特定するための所定の形状と、を有し、
前記スキャナ制御装置は、
前記制御点修正用軌跡に基づいて前記制御点を移動する制御点移動部と、
移動された前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を記憶する制御点記憶部と、を更に備え、
前記軌跡制御部は、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向に基づいて、前記制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように前記スキャナを制御する、レーザ加工システム。 - ワークに対してレーザ光を走査可能なスキャナと、
前記スキャナを前記ワークに対して移動させる移動装置と、
前記スキャナを制御するスキャナ制御装置と、
を備え、
前記スキャナ制御装置は、前記移動装置を停止した状態で、予め設定された制御点を修正するための制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように前記スキャナを制御する軌跡制御部を有し、
前記制御点修正用軌跡は、前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さと、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を特定するための所定の形状と、を有し、
前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための前記所定の長さは、前記制御点修正用軌跡の長さの変化を視認できる距離、前記レーザ光の光軸方向のずれ量、及び前記スキャナと前記レーザ光のレーザ照射点との距離から算出される、レーザ加工システム。 - 前記軌跡制御部は、前記制御点修正用軌跡を所定の周期で反復走査するように前記スキャナを制御する、請求項1から3のいずれか一項に記載のレーザ加工システム。
- ワークに対してレーザ光を走査可能なスキャナを前記ワークに対して移動させるステップと、
前記スキャナを前記ワークに対して移動させるための移動装置を停止させるステップと、
前記移動装置を停止した状態で、予め設定された制御点を修正するための制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように、前記スキャナを制御するステップと、
を備え、
前記制御点修正用軌跡は、前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さと、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を特定するための所定の形状と、を有し、
前記ワークに照射される前記制御点修正用軌跡は、前記スキャナを制御するスキャナプログラムにおける制御点修正用軌跡と同一の長さ及び形状を有し、かつ前記ワーク上に配置可能な修正用パターンと比較可能である、
レーザ加工システムの制御方法。 - ワークに対してレーザ光を走査可能なスキャナを前記ワークに対して移動させるステップと、
前記スキャナを前記ワークに対して移動させるための移動装置を停止させるステップと、
前記移動装置を停止した状態で、予め設定された制御点を修正するための制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように、前記スキャナを制御するステップと、
前記制御点修正用軌跡に基づいて前記制御点を移動するステップと、
移動された前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を記憶するステップと、
を備え、
前記制御点修正用軌跡は、前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さと、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を特定するための所定の形状と、を有し、
前記スキャナを制御するステップは、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向に基づいて、前記制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように前記スキャナを制御するステップを含む、
レーザ加工システムの制御方法。 - ワークに対してレーザ光を走査可能なスキャナを前記ワークに対して移動させるステップと、
前記スキャナを前記ワークに対して移動させるための移動装置を停止させるステップと、
前記移動装置を停止した状態で、予め設定された制御点を修正するための制御点修正用軌跡を前記ワークに照射するように、前記スキャナを制御するステップと、
を備え、
前記制御点修正用軌跡は、前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための所定の長さと、前記制御点の位置及び前記制御点によって定義される座標系の方向を特定するための所定の形状と、を有し、
前記レーザ光の光軸方向のずれを特定するための前記所定の長さは、前記制御点修正用軌跡の長さの変化を視認できる距離、前記レーザ光の光軸方向のずれ量、及び前記スキャナと前記レーザ光のレーザ照射点との距離から算出される、
レーザ加工システムの制御方法。
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