JP7502342B2 - ステップ円錐形の反応器を用いたジアルキルエーテル合成の強化方法 - Google Patents
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Description
本発明の主な目的は、研磨反応性の蒸留装置と結合したステップ円錐形の固定床式反応器を用いた、ジアルキルエーテル調製のための強化方法を提供することである。
BPR:背圧調整器
FBR:固定床式反応器
WHSV:重量空間速度
DME:ジメチルエーテル
GC:ガスクロマトグラフィー
HPLC:高速液体クロマトグラフィー
DEE:ジエチルエーテル
i. 熱交換器(図1,符号2)
ii. 相分離器-1(図1,符号3)
iii. 反応蒸留塔(図1,符号4)
iv. 液体コレクタ(図1,符号5)
v. 相分離器-2(図1,符号6)
vi. デミスターパッド(図1,符号7)
vii. 触媒担持用の有孔スクリーン(図1,符号8)
viii.研磨触媒(Polishing Catalyst)(図1,符号9)
ix. 背圧調整器(BPR)(図1,符号10)
x. レベル制御表示器(LCR)(図1,符号11)
xi. 還流口(Reflux Inlet)(図1,符号12)
i. 反応物用の入口(図2,符号1)
ii. 冷却水の出口(図2,符号2)
iii. 冷却水の入口(図2,符号3)
xii. 熱交換器(図1,符号2)
xiii. 相分離器-1(図1,符号3)
xiv. 反応蒸留塔(図1,符号4)
xv. 液体コレクタ(図1,符号5)
xvi. 相分離器-2(図1,符号6)
xvii. デミスターパッド(図1,符号7)
xviii.触媒担持用の有孔スクリーン(図1,符号8)
xix. 研磨触媒(図1,符号9)
xx. 背圧調整器(BPR)(図1,符号10)
xxi. レベル制御表示器(LCR)(図1,符号11)
xxii. 還流口(図1,符号12)
iv. 反応物用の入口(図2,符号1)
v. 冷却水の出口(図2,符号2)
vi. 冷却水の入口(図2,符号3)
システムの圧力は、背圧調整器を付与することで調整される。反応器の炉は表面加熱ゾーンを有し、表面加熱ゾーンの温度はPID(比例、積分、および微分)制御装置を備えた電気ジャケットによって、±0.5℃の精度で所定の温度に設定される。アルゴンはキャリアガスとして使用され、必要な圧力を供給して所望のメタノール分圧を生成する。アルゴンガスの流量は、マスフローコントローラーによって制御される。その結果、液体メタノールは炉の予熱ゾーンで蒸発し、ガス状態でアルゴンと混合され、ドージングポンプによってシステム内に注入される。反応器の出力流は、二重管式の熱交換器を通過した後、二相分離器に入る。
以下の実施例は説明のためのものであり、本発明の範囲を限定するものと解してはならない。
合成した触媒試料150gを固定床式の円錐形反応器に装填し、触媒100gを研磨反応器ユニットに装填した。まず、窒素と酸素の存在下で、流量50cm3・min-1、傾斜率3℃/分の温度350~650℃で、12時間、触媒を活性化した。その後、触媒床を260℃まで冷却し、窒素と空気の流れを停止させた。温度が安定した後、液体メタノールを流量8.5ml・min-1で反応器に注入し、キャリアガスの流れを停止させた。このうち、1ml/minのメタノールを反応蒸留塔に還流として注入した。反応器内のメタノールの分圧は1atm、WHSVは0.5h-1であった。選択的なDME合成のため、10barの圧力下で反応温度を260℃に設定した。転化率は88%、DMEの選択性は99.3%であった。
合成した触媒試料150gを固定床式の円錐形反応器に装填し、触媒100gを研磨反応器ユニットに装填した。まず、窒素と酸素の存在下で、流量50cm3・min-1、傾斜率3℃/分の温度350~650℃で、12時間、触媒を活性化した。その後、触媒床を260℃まで冷却し、窒素と空気の流れを停止させた。温度が安定した後、液体メタノールを流量8.5ml・min-1で反応器に注入し、キャリアガスの流れを停止させた。このうち、1ml/minのメタノールを反応蒸留塔に還流として注入した。反応器内のメタノール分圧は1atm、WHSVは1.6h-1であった。選択的なDME合成のため、10barの圧力下で反応温度を260℃に設定した。転化率は85%、DMEの選択性は99.8%であった。
合成した触媒試料150gを固定床式の円錐形反応器に装填し、触媒100gを研磨反応器ユニットに装填した。まず、窒素と酸素の存在下で、流量50~500cm3・min-1、傾斜率3℃/分の温度350~650℃で、12時間、触媒を活性化した。その後、触媒床を275℃まで冷却し、窒素と空気の流れを停止させた。温度が安定した後、液体エタノールを流量8.5ml・min-1で反応器に注入し、キャリアガスの流れを停止させた。このうち、1ml/minのエタノールを反応蒸留塔に還流として注入した。反応器内のエタノール分圧は1atm、WHSVは0.5h-1であった。選択的なDEE合成のため、1barの圧力下で、反応温度を275℃に設定した。転化率は84%、DEEの選択性は93%であった。
合成した触媒試料150gを固定床式の円錐形反応器に装填し、触媒100gを研磨反応器ユニットに装填した。まず、窒素と酸素の存在下で、流量50~500cm3・min-1、傾斜率3℃/分の温度350~650℃で、12時間、触媒を活性化した。その後、触媒床を275℃まで冷却した後、窒素と空気の流れを停止させた。温度が安定した後、液体エタノールを流量8.5ml・min-1で反応器に注入し、キャリアガスの流れを停止させた。このうち1ml/minのエタノールを反応蒸留塔に還流として注入した。反応器内のエタノール分圧は1atm、WHSVは1.6h-1であった。選択的なDEE合成のため、1barの圧力下で、反応温度を275℃に設定した。転化率は75%、DEEの選択性は96.0%であった。
二相式分離器:分離器内での液体と気体の分離
固定床式反応器からの流出物(Outlet)は、さらに相分離器に送られ、圧力10bar、温度120℃の下でメタノールと水が凝縮された。ジメチルエーテル/ジエチルエーテルは非凝縮性ガスであるため、背圧調整器(BPR)を通って排出された。凝縮されたメタノール/エタノールと水の混合物は、分離器の底部に液面を形成した。分離器の底部の温度は120℃に保たれ、ジメチルエーテル/ジエチルエーテルを気相に保持した。
凝縮されたメタノール/エタノールと水の混合物は、相分離器と蒸留結合型の研磨反応器を接続するU字ループ内で液面を形成し、そこでは底部の温度は150~170℃に維持され、その結果、メタノール/エタノールがそこで気化した。気相のメタノール/エタノールは触媒ゾーンでさらに反応し、温度260℃、圧力10barで、ジメチルエーテル/ジエチルエーテルが生成される。メタノール/エタノールと水の凝縮された混合物の一部、または新鮮なメタノール/エタノールの一部を還流として使用して、研磨触媒床に到達するメタノール/エタノール蒸気の純度を確保することができる。
・新規な反応器のセットアップは、その設計がホットスポットを排除するのに役立つため、触媒の活性と耐久性を向上させる。
・分離ユニットの設計と配置とが、形成された生成物の除去に役立つように、反応器のセットアップの設計が変更されているため、この反応器による方法では、より高い転化率(90~92%)を実現する。
・反応器と方法の設計を変更することで、副生成物なしに、100%の選択性でジメチルエーテルが得られる。
・より広い触媒表面積で新鮮な反応物質と相互作用するため、従来型の反応器による方法と比較して、反応のスループットが30%増加し、ステップ円錐形の設計によって、触媒床を通過する反応物質および生成物について最適な空塔速度を提供する。
・In-situでの連続的な生成物の分離により、生成物品の後処理にかかるコストを削減することができる。
Claims (8)
- ジアルキルエーテル調製のための強化方法であって、
反応器システムで1~10barの圧力下、温度が200~260℃で、流量が2.65~8.5ml・min-1、重量空間速度(WHSV)が0.5~1.6h-1で、液体アルコールを反応器の直径が徐々に増加する方向に注入することによって、アルコールを脱水し、ジアルキルエーテルを得るステップを含み、触媒に依存しない方法であって、
前記反応器システムは研磨反応性の蒸留装置と結合しており、反応器のステップの角度が10~90°であり、各ステップの最終的な内径が階段状に3.3×xcm、5.3×xcm、7.3×xcmと徐々に大きくなるステップ円錐形の固定床式反応器であり、xは反応器内に充填される触媒量に依存するスケール因子である、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、ジアルキルエーテルは、ジメチルエーテルまたはジエチルエーテルである方法。
- 反応器システムであって、
反応器のステップの角度が10~90°であり、各ステップの最終的な内径が階段状に3.3×xcm、5.3×xcm、7.3×xcmと徐々に大きくなり、xは反応器内に充填される触媒量に依存するスケール因子であり、新鮮な流入供給物に対して触媒を接触させる表面を提供する、ステップ円錐形の固定床式反応器(1)と、
前記ステップ円錐形の固定床式反応器(1)に、複数の反応物を反応器の直径が徐々に増加する方向に注入するための複数の供給口と、
製品ガスをin situで冷却するための複数の冷却コイルと、
背圧を与えて触媒を担持し、反応物のチャネリングを回避する触媒担持メッシュ(8)と、
ステップ円錐形の反応器に接続された相分離器(3)であって、相分離器(3)は、中間冷却器または熱交換器(2)を用いて相分離器(3)の底部で温度を120℃に保つことにより、未反応の反応物と副生成物をステップ円錐形の固定床式反応器の出口流から除去するように構成されており、ここで未反応の反応物はメタノールを含み、副生成物は水を含み、
未反応の反応物と副生成物を蒸留して未反応の反応物を蒸気として分離する反応蒸留塔(4)と、
新鮮なメタノールを還流させることにより未反応の反応物をさらに精製する還流口(12)と、および、
ジメチルエーテルと水をさらに生成する研磨触媒ゾーン(9)と、
を含む、反応器システム。 - 請求項3に記載の反応器システムであって、前記ステップ円錐形の固定床式反応器の背圧を調整する背圧調整器(10)が設けられている、反応器システム。
- 請求項3に記載の反応器システムであって、複数の反応のための複数の供給口を含む、反応器システム。
- 請求項3に記載の反応器システムであって、前記ステップ円錐形の固定床式反応器は、in-situでの熱統合および冷却装置を備えている、反応器システム。
- 請求項3に記載の反応器システムであって、前記ステップ円錐形の固定床式反応器は、5~100ミクロンサイズの触媒担持メッシュを備え、所望の背圧を得てチャネリングを回避する、反応器システム。
- 請求項3に記載の反応器システムであって、ジアルキルエーテルの合成に使用される、反応器システム。
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