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JP7480561B2 - Electrochromic element and manufacturing method thereof, as well as electrochromic photochromic element, electrochromic photochromic lens, and electrochromic device - Google Patents

Electrochromic element and manufacturing method thereof, as well as electrochromic photochromic element, electrochromic photochromic lens, and electrochromic device Download PDF

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JP7480561B2 JP2020064004A JP2020064004A JP7480561B2 JP 7480561 B2 JP7480561 B2 JP 7480561B2 JP 2020064004 A JP2020064004 A JP 2020064004A JP 2020064004 A JP2020064004 A JP 2020064004A JP 7480561 B2 JP7480561 B2 JP 7480561B2
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悠斗 松岡
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智男 福田
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Description

本発明は、エレクトロクロミック素子及びエレクトロクロミック素子の製造方法、並びにエレクトロクロミック調光素子、エレクトロクロミック調光レンズ、及びエレクトロクロミック装置に関する。 The present invention relates to an electrochromic element, a method for manufacturing an electrochromic element, an electrochromic photochromic element, an electrochromic photochromic lens, and an electrochromic device.

電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をエレクトロクロミズムという。前記エレクトロクロミズムを利用した素子がエレクトロクロミック素子である。前記エレクトロクロミック素子は、透明性が高く、発色すれば濃い発色濃度が実現できるという特徴があり、調光素子としての応用が期待されている。 The phenomenon in which a reversible redox reaction occurs when a voltage is applied, causing a reversible change in color, is called electrochromism. An element that utilizes this electrochromism is an electrochromic element. The electrochromic element is characterized by its high transparency and the ability to achieve a deep color density when colored, and is expected to be used as a light control element.

また基材に樹脂製基板を用いることで、フィルム状のエレクトロクロミック素子を作製することができる。それによって、曲げることや立体的な形状をもったエレクトロクロミック素子を作製することができる。 In addition, by using a resin substrate as the base material, it is possible to create a film-like electrochromic element. This makes it possible to create electrochromic elements that can be bent or have a three-dimensional shape.

以上のようなエレクトロクロミック素子の応用が特に期待される分野の一例として、眼鏡用の調光レンズがある。従来の調光レンズは、紫外線にて着色を呈するフォトクロミックレンズが一般的である(例えば、特許文献1参照)。しかしながら光で色が変わるため、ユーザーが調色できない、紫外線をカットされる自動車では着色効果が低下する、応答時間が長いといった問題があった。 One example of a field in which the application of electrochromic elements as described above is particularly promising is photochromic lenses for glasses. Conventional photochromic lenses are generally photochromic lenses that change color when exposed to ultraviolet light (see, for example, Patent Document 1). However, because the color changes with light, there are problems such as the user being unable to adjust the color, the coloring effect being reduced in cars that block ultraviolet light, and long response times.

エレクトロクロミック素子を応用した調光レンズを実現できれば、これらの課題が克服できるとして、これまで多くの研究開発が行われてきた。例えば、メガネレンズ上にエレクトロクロミック素子を直接形成することが提案されている(例えば、特許文献2参照)。 It is believed that these issues could be overcome if photochromic lenses using electrochromic elements could be realized, and so much research and development has been carried out to date. For example, it has been proposed to form electrochromic elements directly on eyeglass lenses (see, for example, Patent Document 2).

エレクトロクロミック素子を眼鏡用レンズに応用するための課題として、生産性の課題がある。眼鏡用のレンズというのは、装用者の必要とする度数に応じて、レンズの曲面形状が異なるため、製膜プロセスの調整が必要となり、安定した生産が困難になるという課題が生じる。更に、光学レンズ上にエレクトロクロミック素子を直接形成する場合、高価なレンズを基板として真空成膜やウェットコーティングを何度も繰り返す必要があり、不良発生時のコストが高くなってしまう。 One of the challenges in applying electrochromic elements to eyeglass lenses is productivity. Since the curved shape of eyeglass lenses varies depending on the strength of the wearer's eyes, adjustments to the film-making process are required, which makes stable production difficult. Furthermore, when forming electrochromic elements directly on optical lenses, it is necessary to repeat vacuum film-making and wet coating many times using expensive lenses as substrates, which increases costs when defects occur.

そこで、平面状に作製したエレクトロクロミック素子が熱成形によって所望の曲面を形成し、一方の表面に光学レンズを有するエレクトロクロミック素子が提案されている(例えば、特許文献3参照)。このようなプロセスに適したエレクトロクロミック素子は、支持体として樹脂基板を用いて、エレクトロクロミック材料を対向する2つの電極間に形成した後、イオン伝導可能な電解質層を介して貼合せることで作製される。その後、樹脂基板の軟化点又はガラス転移温度に近い温度に加熱した凹凸の金型などの間にエレクトロクロミック素子を入れ、熱成形することで、曲面形状や3次元形状に加工することが可能となる。レンズ化の方式としては、溶融したレンズ用樹脂に包埋して硬化させる方式や、エレクトロクロミック素子を直接レンズに貼合する方式が提案されている。この方式によれば、形状の自由度が高く、少量多品種のレンズ生産を低コストで実現することが可能となる。 In response to this, an electrochromic element has been proposed in which a flat electrochromic element is formed into a desired curved surface by thermal molding, and one surface of the electrochromic element has an optical lens (see, for example, Patent Document 3). An electrochromic element suitable for such a process is produced by forming an electrochromic material between two opposing electrodes using a resin substrate as a support, and then laminating them together via an ion-conductive electrolyte layer. The electrochromic element is then placed between a concave-convex mold or the like that is heated to a temperature close to the softening point or glass transition temperature of the resin substrate, and thermally molded, making it possible to process it into a curved shape or a three-dimensional shape. As methods for forming lenses, a method of embedding the electrochromic element in molten lens resin and hardening it, and a method of directly laminating the electrochromic element to the lens have been proposed. This method allows for a high degree of freedom in shape, and makes it possible to produce a wide variety of lenses in small quantities at low cost.

本発明は、熱成形によるゲル電解質の相分離を防ぐことができるエレクトロクロミック素子を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide an electrochromic element that can prevent phase separation of a gel electrolyte caused by thermoforming.

前記課題を解決するための手段としての本発明のエレクトロクロミック素子は、樹脂製の支持体と、第1の電極層と、エレクトロクロミック層と、第2の電極層とを順に設けてなる、所望の曲面形状を有する積層体を有するエレクトロクロミック素子であって、前記第1の電極層と前記第2の電極層との間にゲル電解質を有し、前記ゲル電解質がバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がウレタン樹脂ユニットを含み、前記ゲル電解質の相分離温度が前記支持体の軟化点より高く、前記ゲル電解質の相分離温度と、前記支持体の軟化点との差分が10℃以上である
The electrochromic element of the present invention as a means for solving the above-mentioned problems is an electrochromic element having a laminate having a desired curved shape, which is composed of a resin support, a first electrode layer, an electrochromic layer, and a second electrode layer provided in that order, and which has a gel electrolyte between the first electrode layer and the second electrode layer, the gel electrolyte containing a binder resin, the binder resin containing a urethane resin unit, the phase separation temperature of the gel electrolyte being higher than the softening point of the support, and the difference between the phase separation temperature of the gel electrolyte and the softening point of the support being 10° C. or more .

本発明によれば、熱成形によるゲル電解質の相分離を防ぐことができるエレクトロクロミック素子を提供することができる。 The present invention provides an electrochromic element that can prevent phase separation of a gel electrolyte caused by thermoforming.

図1Aは、第1の実施の形態に係る熱成形前のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element before thermoforming according to a first embodiment. 図1Bは、第1の実施の形態に係る熱成形後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 1B is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after thermoforming according to the first embodiment. 図1Cは、第1の実施の形態に係る光学レンズを接着後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 1C is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after the optical lens according to the first embodiment is bonded. 図2Aは、第1の実施の形態の変形例1に係る熱成形前のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element before thermoforming according to a first modification of the first embodiment. 図2Bは、第1の実施の形態の変形例1に係る熱成形後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after thermoforming according to the first modification of the first embodiment. 図2Cは、第1の実施の形態の変形例1に係る光学レンズを接着後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 2C is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after an optical lens according to Modification 1 of the first embodiment is bonded thereto. 図3Aは、第1の実施の形態の変形例2に係る熱成形前のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element before thermoforming according to Modification 2 of the first embodiment. 図3Bは、第1の実施の形態の変形例2に係る熱成形後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 3B is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after thermoforming according to the second modification of the first embodiment. 図3Cは、第1の実施の形態の変形例2に係る光学レンズを接着後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 3C is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after an optical lens according to Modification 2 of the first embodiment is bonded thereto. 図4Aは、第1の実施の形態の変形例3に係る熱成形前のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element before thermoforming according to Modification 3 of the first embodiment. 図4Bは、第1の実施の形態の変形例3に係る熱成形後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 4B is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after thermoforming according to the third modification of the first embodiment. 図4Cは、第1の実施の形態の変形例3に係る光学レンズを接着後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 4C is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after an optical lens according to Modification 3 of the first embodiment is bonded thereto. 図5は、第1の実施の形態の変形例4に係る光学レンズを接着後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after an optical lens according to the fourth modification of the first embodiment is bonded thereto. 図6は、第1の実施の形態の変形例5に係る光学レンズを接着後のエレクトロクロミック素子の一例を示す概略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of an electrochromic element after an optical lens according to a fifth modification of the first embodiment is bonded thereto. 図7は、本発明のエレクトロクロミック調光素子を有するエレクトロクロミック調光眼鏡の一例を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing an example of electrochromic light control spectacles having the electrochromic light control element of the present invention.

(エレクトロクロミック素子)
本発明のエレクトロクロミック素子は、樹脂製の支持体と、第1の電極層と、エレクトロクロミック層と、第2の電極層とを順に設けてなる積層体を有するエレクトロクロミック素子であって、前記第1の電極層と前記第2の電極層との間にゲル電解質を有し、前記ゲル電解質の相分離温度が前記支持体の軟化点より高く、更に必要に応じてその他の層を有する。
(Electrochromic element)
The electrochromic element of the present invention is an electrochromic element having a laminate including a resin support, a first electrode layer, an electrochromic layer, and a second electrode layer provided in that order, the electrochromic element having a gel electrolyte between the first electrode layer and the second electrode layer, the phase separation temperature of the gel electrolyte being higher than the softening point of the support, and further having other layers as necessary.

従来の技術では、エレクトロクロミック素子に使用される電解質層の耐熱性が悪く、ある温度以上の熱をかけると電解質層内の液体成分と固体成分が相分離を起こし、デバイスの信頼性を損なうという問題があり、また、光学的歪みや剥離が発生して光学品質を損なうなどの問題があった。更には、熱成形による所望の曲面形状を形成するには、樹脂基板の軟化点に近い温度あるいは、軟化点より高い温度をかけるため、これらの問題がより顕著に発生しうるという問題があった。本発明は、これらの知見に基づくものである。 In conventional technology, the electrolyte layer used in electrochromic elements has poor heat resistance, and when heat is applied above a certain temperature, the liquid and solid components in the electrolyte layer undergo phase separation, compromising the reliability of the device. There are also problems such as optical distortion and peeling, which impairs the optical quality. Furthermore, to form the desired curved shape by thermoforming, a temperature close to or higher than the softening point of the resin substrate is applied, which can exacerbate these problems. The present invention is based on these findings.

本発明において、支持体の軟化点とは、支持体を構成する樹脂が変形し始める温度を意味する。
前記支持体の軟化点は、例えば、TMA(熱機械分析)装置(株式会社コベルコ科研製)により、針入プローブを用いて、支持体に熱をかけていき、支持体を構成する樹脂の変位量を測定することにより、軟化点を求めることができる。
In the present invention, the softening point of the support means the temperature at which the resin constituting the support begins to deform.
The softening point of the support can be determined, for example, by applying heat to the support using a needle probe in a TMA (thermomechanical analysis) device (manufactured by Kobelco Research Institute, Ltd.) and measuring the displacement of the resin that constitutes the support.

ここで、ゲル電解質の相分離温度とは、マトリクスポリマーと液体とが分離する温度を意味する。本発明においては、特にゲル電解質を形成し、例えば、加熱した際に液体がゲル電解質層の表面に浮き出てくる様子を観察し、その温度を相分離温度とした。前記エレクトロクロミック素子のゲル電解質の相分離温度を超えた温度で加熱すると、素子内部での液体の流動が活発になり、ゲル電解質とエレクトロクロミック層との界面、あるいはゲル電解質と電極との界面、あるいはゲル電解質と保護層との界面などにおける密着が低下し、光学的歪みの発生や、剥離などの問題が発生することがある。このような問題は、特に樹脂基板の軟化点に近い温度、あるいは、軟化点より高い温度にエレクトロクロミック素子を加熱すると顕著に発生しうるため、ゲル電解質の相分離温度を高くすることで、このような課題を抑制し、素子の信頼性を高めることが可能となる。
ゲル電解質の相分離温度は、例えば、ゲル電解質層をホットプレート上に置き、加熱処理し、その際の膜表面を目視観察し、ゲル電解層の表面に液体が発生した際の温度を測定し、これを相分離温度とする。
Here, the phase separation temperature of the gel electrolyte means the temperature at which the matrix polymer and the liquid are separated. In the present invention, a gel electrolyte is formed, and for example, the state in which the liquid rises to the surface of the gel electrolyte layer when heated is observed, and the temperature is taken as the phase separation temperature. When the electrochromic element is heated at a temperature exceeding the phase separation temperature of the gel electrolyte, the flow of the liquid inside the element becomes active, and the adhesion at the interface between the gel electrolyte and the electrochromic layer, the interface between the gel electrolyte and the electrode, or the interface between the gel electrolyte and the protective layer is reduced, and problems such as optical distortion and peeling may occur. Such problems may occur significantly when the electrochromic element is heated to a temperature close to or higher than the softening point of the resin substrate, so that by increasing the phase separation temperature of the gel electrolyte, such problems can be suppressed and the reliability of the element can be improved.
The phase separation temperature of the gel electrolyte is determined, for example, by placing the gel electrolyte layer on a hot plate, heating the layer, visually observing the membrane surface during the heating process, and measuring the temperature at which liquid is generated on the surface of the gel electrolyte layer. This temperature is regarded as the phase separation temperature.

本発明の実施形態においては、前記積層体が熱成形による所望の曲面形状を有することが好ましい。
前記熱成形としては、支持体端部を固定することなく、所望の3D形状を有する凸金型と凹金型により積層体を加熱成形する方法が用いられる。更に、熱成形と真空成形を組み合わせてもよい。
In an embodiment of the present invention, it is preferable that the laminate has a desired curved shape by thermoforming.
The thermoforming method is a method of hot forming a laminate using a convex mold and a concave mold having a desired 3D shape without fixing the ends of the support. Furthermore, thermoforming and vacuum forming may be combined.

前記「所望の曲面形状」とは、曲率をもった曲面で構成された形状であり、例えば、球状、円筒状、円錐状、各種三次元(3D)形状などが挙げられる。なお、前記「所望の曲面形状」は、前記積層体の少なくとも一部であればよく、全部であっても構わない。 The "desired curved shape" is a shape composed of curved surfaces with curvature, such as a sphere, a cylinder, a cone, or various three-dimensional (3D) shapes. The "desired curved shape" may be at least a part of the laminate, or it may be the entire laminate.

前記熱成形の工程では、支持体を構成する材料の軟化点に近い温度あるいは、軟化点より高い温度に加熱することが好ましい。その際、ゲル電解質の相分離温度を支持体の材料の軟化点より高くすることによって、前記熱成形工程でのゲル電解質の相分離の問題を解決することが可能となることを見出した。 In the thermoforming process, it is preferable to heat the support to a temperature close to or higher than the softening point of the material that constitutes the support. In this case, it has been found that by setting the phase separation temperature of the gel electrolyte higher than the softening point of the support material, it is possible to solve the problem of phase separation of the gel electrolyte in the thermoforming process.

本発明の実施形態におけるゲル電解質は、後述するバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がウレタン樹脂ユニットを含むことが好ましい。ウレタン樹脂ユニットを含むことによって、ゲル電解質の相分離温度を飛躍的に高めることが可能となる。また膜の強度を向上させるなどゲル電解質に求められる物理的特性を備えることが可能となる。 The gel electrolyte in the embodiment of the present invention contains a binder resin described below, and it is preferable that the binder resin contains a urethane resin unit. By containing a urethane resin unit, it is possible to dramatically increase the phase separation temperature of the gel electrolyte. In addition, it is possible to provide the physical properties required for a gel electrolyte, such as improving the strength of the membrane.

本発明の実施形態におけるゲル電解質は、後述するバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がポリエチレンオキシド(PEO)鎖及びポリメチルメタリクレート(PMMA)鎖から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。これによって、液体である電解質との相溶性を高めることが可能となり、相分離温度を高めることが可能となる。ウレタン樹脂ユニットと併用することによっても相分離温度を高めることが可能である。 The gel electrolyte in the embodiment of the present invention contains a binder resin described below, and it is preferable that the binder resin contains at least one selected from a polyethylene oxide (PEO) chain and a polymethyl methacrylate (PMMA) chain. This makes it possible to increase compatibility with the liquid electrolyte, and to increase the phase separation temperature. It is also possible to increase the phase separation temperature by using it in combination with a urethane resin unit.

本発明の実施形態においては、ゲル電解質の固形分が50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましい。前記ゲル電解質の固形分が50%以下であると、イオン伝導度を十分高くすることが可能となり、エレクトロクロミック素子の応答時間を短くすることができる。なお、前記ゲル電解質の固形分の下限値としては、相分離温度の点から、10質量%程度である。 In an embodiment of the present invention, the solid content of the gel electrolyte is preferably 50% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less. When the solid content of the gel electrolyte is 50% by mass or less, it is possible to sufficiently increase the ionic conductivity and shorten the response time of the electrochromic element. The lower limit of the solid content of the gel electrolyte is about 10% by mass in terms of the phase separation temperature.

本発明の実施形態におけるゲル電解質は、イオン液体を含むことが好ましい。イオン液体は幅広い温度範囲で安定であり、不揮発性で化学的に安定な材料であるため、エレクトロクロミック素子の信頼性向上を実現する。また、ウレタン樹脂ユニットと混合することで、相分離温度が高く、熱的に安定なゲル電解質を得ることが可能となる。また、ポリエチレンオキシド(PEO)鎖あるいはポリメチルメタリクレート(PMMA)鎖を含む樹脂と混合することで、相分離温度が高く、熱的に安定なゲル電解質を得ることが可能となる。 The gel electrolyte in the embodiment of the present invention preferably contains an ionic liquid. Ionic liquid is stable over a wide temperature range and is a non-volatile and chemically stable material, thereby improving the reliability of the electrochromic element. Furthermore, by mixing with a urethane resin unit, it is possible to obtain a gel electrolyte that has a high phase separation temperature and is thermally stable. Furthermore, by mixing with a resin that contains a polyethylene oxide (PEO) chain or a polymethyl methacrylate (PMMA) chain, it is possible to obtain a gel electrolyte that has a high phase separation temperature and is thermally stable.

前記ゲル電解質の相分離温度としては、160℃以上が好ましく、200℃以上がより好ましい。前記ゲル電解質の相分離温度が160℃以上であると、熱成型時の温度を高くすることが可能となるため、より基材の材料選択の自由度が増えることができる。なお、前記ゲル電解質の相分離温度の上限値としては、エレクトロクロミック層などの耐熱性の点から、250℃程度である。 The phase separation temperature of the gel electrolyte is preferably 160°C or higher, and more preferably 200°C or higher. If the phase separation temperature of the gel electrolyte is 160°C or higher, the temperature during thermal molding can be increased, which allows for greater freedom in the selection of the substrate material. The upper limit of the phase separation temperature of the gel electrolyte is approximately 250°C, from the standpoint of the heat resistance of the electrochromic layer, etc.

前記支持体の軟化点は200℃以下であることが好ましく、160℃以下であることがより好ましい。これによって、エレクトロクロミック素子に含まれるエレクトロクロミック材料やゲル電解質バインダーなどの熱による劣化を抑制することができる。なお、前記支持体の軟化点の下限値としては、保管環境などを含む実用上の安定性の点から、100℃程度である。 The softening point of the support is preferably 200°C or less, and more preferably 160°C or less. This makes it possible to suppress thermal deterioration of the electrochromic material and gel electrolyte binder contained in the electrochromic element. The lower limit of the softening point of the support is about 100°C from the viewpoint of practical stability, including the storage environment.

前記ゲル電解質の相分離温度と、前記支持体の軟化点との差分は、10℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましい。前記ゲル電解質の相分離温度と、前記支持体の軟化点との差分が50℃以上であると、熱成形による金型の再現度が高められたりすることができる。なお、前記ゲル電解質の相分離温度と、前記支持体の軟化点との差分の上限値としては、支持体の材料選択自由度とエレクトロクロミック材料の劣化抑制の点から、80℃程度である。 The difference between the phase separation temperature of the gel electrolyte and the softening point of the support is preferably 10°C or more, more preferably 20°C or more. If the difference between the phase separation temperature of the gel electrolyte and the softening point of the support is 50°C or more, the degree of reproduction of the mold by thermoforming can be improved. The upper limit of the difference between the phase separation temperature of the gel electrolyte and the softening point of the support is about 80°C, from the viewpoints of the freedom of material selection for the support and the suppression of deterioration of the electrochromic material.

前記エレクトロクロミック素子においては、前記支持体が樹脂製基板からなることが好ましい。平面形状の前記樹脂製基板上に各層を形成した積層体を熱成形することで所望の曲面形状を形成するため、コーティング膜形成の生産性に優れるエレクトロクロミック素子を提供することができる。
また、前記支持体としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。これらの中でも、成形性及びコーティング膜の製膜性の点から、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂が好ましい。
In the electrochromic element, the support is preferably a resin substrate. Since a desired curved shape is formed by thermoforming a laminate in which each layer is formed on the planar resin substrate, an electrochromic element having excellent productivity in forming a coating film can be provided.
The support preferably contains at least one resin selected from the group consisting of polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin, polymethyl methacrylate resin, urethane resin, polyolefin resin, and polyvinyl alcohol resin. Among these, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin, and polymethyl methacrylate resin are preferred from the viewpoints of moldability and film formability of the coating film.

また、前記ゲル電解質が層状のゲル電解質層となった場合、その厚みとしては、30μm以上150μm以下の間であることが好ましい。前記ゲル電解質層の厚みがこの範囲内であると、ゲル電解質層の硬化収縮時の膜厚ムラによる光学品質の低下が発生しにくくなるとともに、ゲル電解質層の材料費が高くなる問題が生じにくい。また、エレクトロクロミック素子の電極間の短絡などが発生しにくくなり、信頼性が向上する。 When the gel electrolyte becomes a layered gel electrolyte layer, the thickness is preferably between 30 μm and 150 μm. When the thickness of the gel electrolyte layer is within this range, degradation of optical quality due to unevenness in film thickness during hardening and shrinkage of the gel electrolyte layer is unlikely to occur, and the problem of high material costs for the gel electrolyte layer is unlikely to occur. In addition, short circuits between the electrodes of the electrochromic element are unlikely to occur, improving reliability.

本発明においては、前記積層体が、少なくとも一方の表面に光学レンズを有することが好ましい。これにより、機械的強度が強く、熱成形による所望の曲面形状を有し、レンズ等の光学用途に好適なエレクトロクロミック素子を提供することができる。 In the present invention, it is preferable that the laminate has an optical lens on at least one surface. This makes it possible to provide an electrochromic element that has high mechanical strength, a desired curved shape by thermoforming, and is suitable for optical applications such as lenses.

前記光学レンズは、前記積層体の一方の表面に形成されるだけでなく、前記積層体を埋抱するように形成されていてもよい。
前記光学レンズとしては、ポリカーボネート樹脂、アリルジグリコールカーボネート樹脂、ジアリルカーボネート樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ウレタン樹脂、チオウレタン樹脂、エピスルフィド樹脂、(メタ)アクリレート樹脂、及びシクロオレフィン樹脂から選択される少なくとも1種の透明材料を含むことが好ましい。これらの中でも、機械的強度の点から、ポリカーボネート樹脂、チオウレタン樹脂、アリルジグリコールカーボネート樹脂が好ましい。
The optical lens may not only be formed on one surface of the laminate, but also be formed so as to embed the laminate.
The optical lens preferably contains at least one transparent material selected from polycarbonate resin, allyl diglycol carbonate resin, diallyl carbonate resin, diallyl phthalate resin, urethane resin, thiourethane resin, episulfide resin, (meth)acrylate resin, and cycloolefin resin. Among these, polycarbonate resin, thiourethane resin, and allyl diglycol carbonate resin are preferred from the viewpoint of mechanical strength.

前記透明材料を、前記積層体の一方の表面に接するようにして、溶融後再硬化させるか、光又は熱を加えることにより硬化させることで、光学レンズを接着形成することができる。また、前記積層体と前記光学レンズを、接着層を介して接着することもできる。 The transparent material can be brought into contact with one surface of the laminate and then melted and re-hardened, or hardened by applying light or heat, to form an optical lens. The laminate and the optical lens can also be bonded together via an adhesive layer.

前記接着層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂等の透明材料などが挙げられる。これらの中でも、アクリル系樹脂が好ましい。 The material of the adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples include transparent materials such as epoxy resins, urethane resins, acrylic resins, and vinyl acetate resins. Among these, acrylic resins are preferred.

前記積層体における他方の表面が前記支持体であることが、耐擦傷性の点から好ましい。
前記エレクトロクロミック素子は、少なくとも一つの支持体を有し、前記支持体が一つであっても、二つの支持体を有する構成であっても構わない。一つの支持体から構成される場合には、部材コストの低減効果が得られる。
It is preferable from the viewpoint of scratch resistance that the other surface of the laminate be the support.
The electrochromic element has at least one support, and may have one support or two supports. When the electrochromic element is composed of one support, the effect of reducing material costs can be obtained.

(エレクトロクロミック素子の製造方法)
本発明のエレクトロクロミック素子の製造方法は、本発明の前記エレクトロクロミック素子を製造する方法であって、作製した積層体を所望の曲面形状を有するように熱成形する工程と、前記積層体に光学レンズを接着する工程と、を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
(Method of manufacturing electrochromic element)
The method for producing an electrochromic element of the present invention is a method for producing the electrochromic element of the present invention, and includes a step of thermoforming the produced laminate so that it has a desired curved shape, and a step of bonding an optical lens to the laminate, and further includes other steps as necessary.

前記熱成形としては、支持体端部を固定することなく、所望の3D形状を有する凸金型と凹金型により積層体を加熱成形する方法が好適である。
前記熱成形における加熱温度は、支持体を構成する材料の軟化点以上であることが好ましく、例えば、支持体としてポリカーボネート樹脂を用いた場合には加熱温度は130℃以上190℃以下がより好ましい。
As the thermoforming, a method of heat-forming the laminate using a convex mold and a concave mold having a desired 3D shape without fixing the ends of the support is suitable.
The heating temperature in the thermoforming is preferably equal to or higher than the softening point of the material constituting the support. For example, when a polycarbonate resin is used as the support, the heating temperature is more preferably 130° C. or higher and 190° C. or lower.

前記積層体に光学レンズを接着する工程では、光学レンズの透明材料を、前記積層体の一方の表面に接するようにして、溶融後再硬化させるか、光又は熱を加えることにより硬化させることで、光学レンズを接着形成することができる。また、前記積層体と前記光学レンズを、接着層を介して接着することもできる。 In the process of adhering an optical lens to the laminate, the transparent material of the optical lens is brought into contact with one surface of the laminate, and then melted and re-hardened, or hardened by applying light or heat, to form the optical lens. The laminate and the optical lens can also be adhered via an adhesive layer.

前記エレクトロクロミック素子の製造方法においては、前記支持体の外側表面に接着する光学レンズは、仮の度数と仮の厚みを持つことが好ましい。前記接着後の光学レンズを切削加工することにより、所望の曲面形状を形成できるので、ユーザー固有の条件に合わせた精度の良いレンズ加工(度数加工など)が可能になる。即ち、製品形状ごとに金型や部材を準備することが不要となり、多品種少量生産が容易になる。 In the manufacturing method of the electrochromic element, it is preferable that the optical lens adhered to the outer surface of the support has a temporary power and a temporary thickness. By cutting the optical lens after adhesion, the desired curved shape can be formed, making it possible to precisely process the lens (power processing, etc.) according to the specific conditions of the user. In other words, it is no longer necessary to prepare molds and parts for each product shape, making it easier to produce a wide variety of products in small quantities.

ここで、図面を参照して、実施の形態の説明を行う。なお、各図面において、同一構成部品には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。 Here, the embodiment will be described with reference to the drawings. Note that in each drawing, the same components are given the same reference numerals, and duplicated descriptions may be omitted.

<第1の実施の形態のエレクトロクロミック素子及びその製造方法>
図1A、図1B及び図1Cは、第1の実施の形態に係るエレクトロクロミック素子10の一例を示す概略断面図である。図1Aは熱成形前、図1Bは熱成形後、図1Cはレンズ接着後である。この図1A、図1B及び図1Cを参照すると、エレクトロクロミック素子10は、第1の支持体11と、前記第1の支持体11上に、順次積層された第1の電極層12、エレクトロクロミック層13、及び第2の支持体16と、第2の支持体16上に、順次積層された第2の電極層15、対向する電極間に形成されたゲル電解質層14、外周部を封止した保護層17を有する。
<Electrochromic element according to the first embodiment and its manufacturing method>
1A, 1B, and 1C are schematic cross-sectional views showing an example of an electrochromic element 10 according to a first embodiment. Fig. 1A shows the electrochromic element 10 before thermoforming, Fig. 1B shows the electrochromic element 10 after thermoforming, and Fig. 1C shows the electrochromic element 10 after lens bonding. Referring to Fig. 1A, 1B, and 1C, the electrochromic element 10 includes a first support 11, a first electrode layer 12 and an electrochromic layer 13, which are sequentially laminated on the first support 11, and a second support 16, a second electrode layer 15, a gel electrolyte layer 14, which is formed between the opposing electrodes, and a protective layer 17, which seals the outer periphery of the electrochromic element 10.

前記エレクトロクロミック素子10において、第1の支持体11上には第1の電極層12が設けられ、第1の電極層12に接してエレクトロクロミック層13が設けられている。前記エレクトロクロミック層13上には、ゲル電解質層14を介して、第1の電極層12に対向するように第2の電極層15が設けられている。
なお、便宜上、第1の電極層12と第2の電極層15の各々において、互いに対向する面を内面と称し、各々の内面とは反対側の面を外面と称する。本実施の形態では、第1の電極層12の内面はエレクトロクロミック層13と接しており、第1の電極層12の外面は第1の支持体11と接している。また、第2の電極層15の内面はゲル電解質層14と接しており、第2の電極層15の外面は第2の支持体16と接している。図1A、図1B及び図1C中17は保護層、21は光学レンズである。
In the electrochromic element 10, a first electrode layer 12 is provided on a first support 11, and an electrochromic layer 13 is provided in contact with the first electrode layer 12. A second electrode layer 15 is provided on the electrochromic layer 13 so as to face the first electrode layer 12 with a gel electrolyte layer 14 interposed therebetween.
For convenience, the mutually opposing surfaces of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 are referred to as the inner surfaces, and the surfaces opposite the inner surfaces are referred to as the outer surfaces. In this embodiment, the inner surface of the first electrode layer 12 is in contact with the electrochromic layer 13, and the outer surface of the first electrode layer 12 is in contact with the first support 11. The inner surface of the second electrode layer 15 is in contact with the gel electrolyte layer 14, and the outer surface of the second electrode layer 15 is in contact with the second support 16. In Figures 1A, 1B, and 1C, 17 is a protective layer, and 21 is an optical lens.

前記第1の実施の形態のエレクトロクロミック素子10の製造方法は、第1の支持体11上に第1の電極層12、及びエレクトロクロミック層13を順次積層する工程と、第2の支持体16上に第2の電極層15を形成する工程と、前記2つの支持体間にゲル電解質層14を形成後硬化させ、更に外周部を保護層17で封止する工程、その後、熱成形により、曲面形状を形成する工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
また、前記第1の実施の形態のエレクトロクロミック素子10の製造方法は、第1の支持体11上に第1の電極層12、及びエレクトロクロミック層13を順次積層する工程と、エレクトロクロミック層13上にゲル電解質層14を形成後硬化させ、第2の電極層15を積層する工程と、第2の電極層15上に硬化樹脂からなる第2の支持体16を形成する工程と、更に外周部を保護層17で封止する工程と、その後、熱成形により、曲面形状を形成する工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
なお、図1Bでは、エレクトロクロミック層13側の支持体が凸球面に加工された図を示しているが、同様に凹球面状の加工も可能である。
The manufacturing method of the electrochromic element 10 of the first embodiment includes a step of sequentially laminating a first electrode layer 12 and an electrochromic layer 13 on a first support 11, a step of forming a second electrode layer 15 on a second support 16, a step of forming a gel electrolyte layer 14 between the two supports, curing the gel electrolyte layer 14, and further sealing the outer periphery with a protective layer 17. Thereafter, a step of forming a curved shape by thermoforming. The method may further include other steps as necessary.
The manufacturing method of the electrochromic element 10 of the first embodiment includes a step of sequentially laminating the first electrode layer 12 and the electrochromic layer 13 on the first support 11, a step of forming a gel electrolyte layer 14 on the electrochromic layer 13, curing the gel electrolyte layer 14, and laminating the second electrode layer 15, a step of forming a second support 16 made of a cured resin on the second electrode layer 15, a step of sealing the outer periphery with a protective layer 17, and a step of forming a curved shape by thermoforming, and further includes other steps as necessary.
Although FIG. 1B shows a diagram in which the support on the electrochromic layer 13 side is processed into a convex spherical shape, it can also be processed into a concave spherical shape in the same manner.

エレクトロクロミック素子10において、第1の電極層12と第2の電極層15との間に電圧を印加することにより、エレクトロクロミック層13が電荷の授受により酸化還元反応して発消色する。
このように、第1の実施の形態に係るエレクトロクロミック素子では、熱成形により、所望の3D形状の曲面を形成することができるので、生産性(大型化)に優れたエレクトロクロミック素子を提供できる。
更に、第1の実施の形態に係るエレクトロクロミック素子は、有機エレクトロクロミック材料を用いることで色彩特性にも優れたエレクトロクロミック素子を実現できる。
In the electrochromic element 10, when a voltage is applied between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, the electrochromic layer 13 undergoes an oxidation-reduction reaction due to the transfer of electric charges, and develops or fades color.
In this manner, in the electrochromic element according to the first embodiment, a curved surface of a desired 3D shape can be formed by thermoforming, so that an electrochromic element with excellent productivity (large size) can be provided.
Furthermore, the electrochromic element according to the first embodiment can realize an electrochromic element with excellent color characteristics by using an organic electrochromic material.

以下、第1の実施の形態に係るエレクトロクロミック素子10を構成する各構成要素について詳細に説明する。 The following describes in detail each of the components that make up the electrochromic element 10 according to the first embodiment.

[支持体]
第1及び第2の支持体11、16は、第1の電極層12、エレクトロクロミック層13、ゲル電解質層14、第2の電極層15、及び保護層17を支持する機能を有する。
第1及び第2の支持体11、16としては、これらの各層を支持できれば、周知の熱成形可能な樹脂材料をそのまま用いることができる。
第1及び第2の支持体11、16としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等の樹脂基板を用いてもよい。
なお、エレクトロクロミック素子10が第2の電極層15側から視認する反射型表示素子である場合は、第1及び第2の支持体11、16のどちらかの透明性は不要である。また、第1及び第2の支持体11、16の表面に、水蒸気バリア性、ガスバリア性、及び視認性を高めるために透明絶縁層、反射防止層等がコーティングされていてもよい。
第1及び第2の支持体11、16の平均厚みは、熱成形を容易に行える点から、0.2mm以上1.0mm以下が好ましい。
[Support]
The first and second supports 11 and 16 have the function of supporting the first electrode layer 12 , the electrochromic layer 13 , the gel electrolyte layer 14 , the second electrode layer 15 , and the protective layer 17 .
As the first and second supports 11 and 16, any known thermoformable resin material can be used as is, so long as it can support these layers.
The first and second supports 11 and 16 may be made of a resin substrate such as a polycarbonate resin, a polyethylene terephthalate resin, a polymethyl methacrylate resin, a urethane resin, a polyolefin resin, or a polyvinyl alcohol resin.
When the electrochromic element 10 is a reflective display element that is viewed from the second electrode layer 15 side, it is not necessary for either the first or second support 11, 16 to be transparent. Furthermore, the surfaces of the first and second support 11, 16 may be coated with a transparent insulating layer, an anti-reflection layer, or the like in order to improve the water vapor barrier property, the gas barrier property, and visibility.
The average thickness of the first and second supports 11 and 16 is preferably 0.2 mm or more and 1.0 mm or less in terms of facilitating thermoforming.

[第1の電極層、第2の電極層]
第1の電極層12及び第2の電極層15の材料としては、透明導電性酸化物材料が好適であり、例えば、スズをドープした酸化インジウム(以下、「ITO」と称する)、フッ素をドープした酸化スズ(以下、「FTO」と称する)、アンチモンをドープした酸化スズ(以下、「ATO」と称する)などが挙げられる。これらの中でも、真空成膜により形成されたインジウム酸化物(以下、「In酸化物」と称する)、スズ酸化物(以下、「Sn酸化物」と称する)、及び亜鉛酸化物(以下、「Zn酸化物」と称する)のいずれか1つを含む無機材料が好ましい。
[First Electrode Layer, Second Electrode Layer]
As the material of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, a transparent conductive oxide material is suitable, for example, tin-doped indium oxide (hereinafter referred to as "ITO"), fluorine-doped tin oxide (hereinafter referred to as "FTO"), antimony-doped tin oxide (hereinafter referred to as "ATO"), etc. Among these, an inorganic material containing any one of indium oxide (hereinafter referred to as "In oxide"), tin oxide (hereinafter referred to as "Sn oxide"), and zinc oxide (hereinafter referred to as "Zn oxide") formed by vacuum film formation is preferable.

前記In酸化物、Sn酸化物、及びZn酸化物は、スパッタ法により、容易に成膜が可能な材料であると共に、良好な透明性と電気伝導度が得られる材料である。これらの中でも、InSnO、GaZnO、SnO、In、ZnO、InZnOが特に好ましい。更に、前記電極層は結晶性が低いほど好ましい。結晶性が高いと熱成形により電極層が分断されやすいためである。この点から、アモルファス膜で高い導電性を示すIZO、AZOが好ましい。これらの電極層材料を用いる場合は、熱成形後における積層体の曲面での支持体の最大長軸長さが、熱成形前における積層体の平面での支持体の最大長軸長さに対して120%以下になるように熱成形することが好ましく、103%以下になるように熱成形することがより好ましい。 The In oxide, Sn oxide, and Zn oxide are materials that can be easily formed into a film by a sputtering method, and also have good transparency and electrical conductivity. Among these, InSnO, GaZnO, SnO, In 2 O 3 , ZnO, and InZnO are particularly preferred. Furthermore, the lower the crystallinity of the electrode layer, the more preferred it is. This is because the electrode layer is more likely to be divided by thermoforming when the crystallinity is high. From this point of view, IZO and AZO, which show high conductivity in an amorphous film, are preferred. When using these electrode layer materials, it is preferable to thermoform the laminate so that the maximum long axis length of the support on the curved surface of the laminate after thermoforming is 120% or less, and more preferably 103% or less, of the maximum long axis length of the support on the plane of the laminate before thermoforming.

また、透明性を有する銀、金、銅、アルミニウムを含有する導電性金属薄膜、カーボンナノチューブ、グラフェンなどのカーボン膜、更に、導電性金属、導電性カーボン、導電性酸化物等のネットワーク電極、又はこれらの複合層も有用である。前記ネットワーク電極とは、カーボンナノチューブや他の高導電性の非透過性材料等を微細なネットワーク状に形成して透過率を持たせた電極である。前記ネットワーク電極は熱成形時に分断されにくく、好ましい。
更に、電極層をネットワーク電極と前記導電性酸化物の積層構成、又は前記導電性金属薄膜と前記導電性酸化物の積層構成とすることがより好ましい。積層構成にすることにより、エレクトロクロミック層をムラなく発消色させることができる。なお、導電性酸化物層はナノ粒子インクとして塗布形成することもできる。前記導電性金属薄膜と前記導電性酸化物の積層構成とは、具体的には、ITO/Ag/ITOなどの薄膜積層構成にて導電性と透明性を両立させた電極である。
Also useful are transparent conductive metal thin films containing silver, gold, copper, or aluminum, carbon films such as carbon nanotubes and graphene, and further, network electrodes of conductive metals, conductive carbon, conductive oxides, or composite layers thereof. The network electrodes are electrodes that are provided with transmittance by forming carbon nanotubes or other highly conductive non-transparent materials into a fine network. The network electrodes are preferable because they are less likely to break during thermoforming.
Furthermore, it is more preferable that the electrode layer is a laminated structure of a network electrode and the conductive oxide, or a laminated structure of the conductive metal thin film and the conductive oxide. By using a laminated structure, the electrochromic layer can be uniformly colored and faded. The conductive oxide layer can also be formed by coating as a nanoparticle ink. The laminated structure of the conductive metal thin film and the conductive oxide is specifically an electrode that has both conductivity and transparency in a thin film laminated structure such as ITO/Ag/ITO.

第1の電極層12及び第2の電極層15の各々の厚みは、エレクトロクロミック層13の酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られるように調整される。
第1の電極層12及び第2の電極層15の材料としてITO真空製膜を用いた場合、第1の電極層12及び第2の電極層15の各々の厚みは、20nm以上500nm以下が好ましく、50nm以上200nm以下がより好ましい。
前記導電性酸化物層はナノ粒子インクとして塗布形成する場合の厚みは、0.2μm以上5μm以下が好ましい。また、ネットワーク電極の場合の厚みは0.2μm以上5μm以下が好ましい。
更に、調光ミラーとして利用する場合には、第1の電極層12及び第2の電極層15のいずれかが反射機能を有する構造であってもよい。その場合には、第1の電極層12及び第2の電極層15の材料として金属材料を含むことができる。前記金属材料としては、例えば、Pt、Ag、Au、Cr、ロジウム、Al又はこれらの合金、あるいはこれらの積層構成などが挙げられる。
The thickness of each of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 is adjusted so as to obtain an electrical resistance value necessary for the oxidation-reduction reaction of the electrochromic layer 13 .
When vacuum-formed ITO is used as the material for the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, the thickness of each of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 is preferably 20 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 50 nm or more and 200 nm or less.
The conductive oxide layer preferably has a thickness of 0.2 μm to 5 μm when formed by coating a nanoparticle ink, and preferably has a thickness of 0.2 μm to 5 μm when formed as a network electrode.
Furthermore, when used as a switchable mirror, either the first electrode layer 12 or the second electrode layer 15 may have a reflective function. In that case, a metal material may be included as the material of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15. Examples of the metal material include Pt, Ag, Au, Cr, rhodium, Al, alloys thereof, and laminated structures thereof.

第1の電極層12及び第2の電極層15の各々の作製方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが挙げられる。また、第1の電極層12及び第2の電極層15の各々の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法などが挙げられる。 Methods for producing the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 include, for example, vacuum deposition, sputtering, and ion plating. In addition, as long as the materials for the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 can be applied, various printing methods such as spin coating, casting, microgravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, slit coating, capillary coating, spray coating, nozzle coating, gravure printing, screen printing, flexographic printing, offset printing, reverse printing, and inkjet printing can be used.

[エレクトロクロミック層]
エレクトロクロミック層13は、エレクトロクロミック材料を含む層である。
前記エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物及び有機エレクトロクロミック化合物のいずれであっても構わない。また、エレクトロクロミズムを示すことで知られる導電性高分子を用いてもよい。
前記無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタンなどが挙げられる。
前記有機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、ビオロゲン、希土類フタロシアニン、スチリルなどが挙げられる。
前記導電性高分子としては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はそれらの誘導体などが挙げられる。
[Electrochromic Layer]
The electrochromic layer 13 is a layer containing an electrochromic material.
The electrochromic material may be either an inorganic electrochromic compound or an organic electrochromic compound, or a conductive polymer known to exhibit electrochromism.
Examples of the inorganic electrochromic compound include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, and titanium oxide.
Examples of the organic electrochromic compound include viologen, rare earth phthalocyanine, and styryl.
Examples of the conductive polymer include polypyrrole, polythiophene, polyaniline, and derivatives thereof.

エレクトロクロミック層13としては、導電性又は半導体性微粒子に有機エレクトロクロミック化合物を担持した構造を用いることが好ましい。具体的には、電極層表面に粒径5nm以上50nm以下の微粒子を結着し、前記微粒子の表面にホスホン酸やカルボキシル基、シラノール基等の極性基を有する有機エレクトロクロミック化合物を吸着した構造である。 As the electrochromic layer 13, it is preferable to use a structure in which an organic electrochromic compound is supported on conductive or semiconductive fine particles. Specifically, the structure is such that fine particles having a particle size of 5 nm to 50 nm are attached to the surface of the electrode layer, and an organic electrochromic compound having a polar group such as phosphonic acid, a carboxyl group, or a silanol group is adsorbed on the surface of the fine particles.

前記構造は、微粒子の大きな表面効果を利用して、効率よく有機エレクトロクロミック化合物に電子が注入されるため、従来のエレクトロクロミック表示素子と比較して高速応答が可能となる。更に、微粒子を用いることで表示層として透明な膜を形成することができるため、エレクトロクロミック化合物の高い発色濃度を得ることができる。また、複数種類の有機エレクトロクロミック化合物を導電性又は半導体性微粒子に担持することもできる。更に導電性粒子は電極層としての導電性を兼ねることができる。
具体的には、ポリマー系及び色素系のエレクトロクロミック化合物としては、例えば、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、ベンジジン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The above structure utilizes the large surface effect of the fine particles to efficiently inject electrons into the organic electrochromic compound, enabling a faster response than conventional electrochromic display elements. Furthermore, the use of fine particles allows a transparent film to be formed as a display layer, making it possible to obtain a high color density of the electrochromic compound. In addition, multiple types of organic electrochromic compounds can be supported on conductive or semiconductive fine particles. Furthermore, the conductive particles can also serve as the conductive electrode layer.
Specifically, examples of the polymer-based and dye-based electrochromic compounds include low molecular weight organic electrochromic compounds such as azobenzene-based, anthraquinone-based, diarylethene-based, dihydroprene-based, dipyridine-based, styryl-based, styrylspiropyran-based, spirooxazine-based, spirothiopyran-based, thioindigo-based, tetrathiafulvalene-based, terephthalic acid-based, triphenylmethane-based, benzidine-based, triphenylamine-based, naphthopyran-based, viologen-based, pyrazoline-based, phenazine-based, phenylenediamine-based, phenoxazine-based, phenothiazine-based, phthalocyanine-based, fluoran-based, fulgide-based, benzopyran-based, and metallocene-based compounds, and conductive polymer compounds such as polyaniline and polythiophene. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、発消色電位が低く良好な色値を示す点から、ビオロゲン系化合物、ジピリジン系化合物が好ましく、例えば、下記一般式(1)で表されるジピリジン系化合物がより好ましい。 Among these, viologen compounds and dipyridine compounds are preferred because they have a low color development/discoloration potential and good color values. For example, dipyridine compounds represented by the following general formula (1) are more preferred.

[一般式(1)]

Figure 0007480561000001
ただし、前記一般式(1)において、R1及びR2は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1~8のアルキル基、及びアリール基のいずれかを表し、R1及びR2の少なくとも一方は、COOH、PO(OH)、及びSi(OC2k+1(ただし、kは、1~20を表す)から選択される置換基を有する。 [General formula (1)]
Figure 0007480561000001
In the general formula (1), R1 and R2 each independently represent either an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, which may have a substituent, or an aryl group, and at least one of R1 and R2 has a substituent selected from COOH, PO(OH) 2 , and Si(OC k H 2k+1 ) 3 (wherein k is 1 to 20).

前記一般式(1)において、Xは、一価のアニオンを表す。前記一価のアニオンとしては、カチオン部と安定に対をなすものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Brイオン(Br)、Clイオン(Cl)、ClOイオン(ClO )、PFイオン(PF )、BFイオン(BF )などが挙げられる。
前記一般式(1)において、n、m、及びlは、それぞれ独立に0、1、又は2を表す。
前記一般式(1)において、A、B、及びCは、各々独立に置換基を有してもよい炭素数1~20のアルキル基、アリール基、及び複素環基のいずれかを表す。
In the general formula (1), X represents a monovalent anion. The monovalent anion is not particularly limited as long as it stably pairs with the cation moiety and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the monovalent anion include Br ion (Br ), Cl ion (Cl ), ClO 4 ion (ClO 4 ), PF 6 ion (PF 6 ), and BF 4 ion (BF 4 ).
In the general formula (1), n, m, and l each independently represent 0, 1, or 2.
In the general formula (1), A, B, and C each independently represent any one of an alkyl group, an aryl group, and a heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms, which may have a substituent.

また、金属錯体系及び金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、プルシアンブルー等の無機エレクトロクロミック化合物を用いることができる。
前記エレクトロクロミック化合物を担持する導電性又は半導体性微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属酸化物を用いることが好ましい。
前記金属酸化物の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性の点から、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、及び酸化タングステンから選択される少なくとも1種が好ましく、より発消色の応答速度に優れた色表示が可能である点から、酸化チタン又は酸化スズが特に好ましい。
As the metal complex and metal oxide electrochromic compounds, for example, inorganic electrochromic compounds such as titanium oxide, vanadium oxide, tungsten oxide, indium oxide, iridium oxide, nickel oxide, and Prussian blue can be used.
The conductive or semiconductive fine particles that support the electrochromic compound are not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but it is preferable to use a metal oxide.
Examples of the metal oxide material include metal oxides mainly composed of titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide, aluminosilicate, calcium phosphate, aluminosilicate, etc. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, from the viewpoints of electrical properties such as electrical conductivity and physical properties such as optical properties, at least one selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, iron oxide, magnesium oxide, indium oxide, and tungsten oxide is preferred, and titanium oxide or tin oxide is particularly preferred from the viewpoints of enabling color display with an excellent response speed in color development and fading.

また、導電性又は半導体性微粒子の形状は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、エレクトロクロミック化合物を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積(以下、比表面積という)が大きい形状が用いられる。例えば、微粒子が、ナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比が優れる。 The shape of the conductive or semiconductive fine particles is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. In order to efficiently support the electrochromic compound, a shape with a large surface area per unit volume (hereinafter referred to as specific surface area) is used. For example, when the fine particles are an aggregate of nanoparticles, the large specific surface area allows the electrochromic compound to be supported more efficiently, resulting in an excellent display contrast ratio for color development and fading.

エレクトロクロミック層13及び導電性又は半導体性微粒子層は真空製膜により形成することも可能であるが、生産性の点で粒子分散ペーストとして塗布形成することが好ましい。
エレクトロクロミック層13の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.2μm以上5.0μm以下が好ましい。前記平均厚みが、0.2μm以上5.0μm以下であると、優れた発色濃度が得られ、着色によって視認性が低下することがなく、良好である。
The electrochromic layer 13 and the conductive or semiconductive particle layer can be formed by vacuum film formation, but from the viewpoint of productivity, it is preferable to form them by coating in the form of a particle-dispersed paste.
The average thickness of the electrochromic layer 13 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 0.2 μm or more and 5.0 μm or less. When the average thickness is 0.2 μm or more and 5.0 μm or less, excellent color density is obtained and visibility is not deteriorated by coloring, which is favorable.

[ゲル電解質層]
ゲル電解質層は、バインダー樹脂と、電解質とからなる。
[Gel electrolyte layer]
The gel electrolyte layer is made of a binder resin and an electrolyte.

前記バインダー樹脂は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、重合膜としての相分離温度、膜強度の点で、ウレタン樹脂ユニットを含むことが好ましい。またポリエチレンオキシド(PEO)鎖を含むことで、電解質との相溶性が向上し、相分離温度を高めることができる。また、ポリメチルメタリクレート(PMMA)鎖を含むことで、PEO鎖を含むのと同様に、電解質との相溶性が向上し、相分離温度を高めることができる。 The binder resin is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but it is preferable that the binder resin contains a urethane resin unit in terms of the phase separation temperature and film strength as a polymer membrane. Furthermore, by containing a polyethylene oxide (PEO) chain, compatibility with the electrolyte is improved and the phase separation temperature can be increased. Furthermore, by containing a polymethyl methacrylate (PMMA) chain, compatibility with the electrolyte is improved and the phase separation temperature can be increased, similar to the case of containing a PEO chain.

前記ゲル電解質層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、イオン液体等の液体電解質、又は固体電解質を溶媒に溶解した溶液が用いられる。 The gel electrolyte layer is not particularly limited and can be selected appropriately depending on the purpose, but a liquid electrolyte such as an ionic liquid or a solution in which a solid electrolyte is dissolved in a solvent is used.

前記イオン液体は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、使用温度付近で液体状態であるものが挙げられる。なお、前記イオン液体とは、塩が溶解し、常温で液体状態を示す液体を意味する。
前記イオン液体としては、カチオン、及びアニオンを含む。
The ionic liquid is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, and examples thereof include those that are in a liquid state around the temperature of use. Note that the ionic liquid refers to a liquid in which a salt is dissolved and which is in a liquid state at room temperature.
The ionic liquid contains a cation and an anion.

前記カチオンとしては、例えば、N,N-ジメチルイミダゾール塩、N,N-メチルエチルイミダゾール塩、N,N-メチルプロピルイミダゾール塩、N,N-メチルブチルイミダゾール塩、N,N-アリルブチルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体;N,N-ジメチルピリジニウム塩、N,N-メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体;N,N-ジメチルピロリジニウム塩、N-エチル-N-メチルピロリジニウム塩、N-メチル-N-プロピルピロリジニウム塩、N-ブチル-N-メチルピロリジニウム塩、N-メチル-N-ペンチルピロリジニウム塩、N-ヘキシル-N-メチルピロリジニウム塩等のピロリジニウム誘導体;トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム系塩に由来するカチオンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the cation include imidazole derivatives such as N,N-dimethylimidazole salt, N,N-methylethylimidazole salt, N,N-methylpropylimidazole salt, N,N-methylbutylimidazole salt, and N,N-allylbutylimidazole salt; pyridinium derivatives such as N,N-dimethylpyridinium salt and N,N-methylpropylpyridinium salt; pyrrolidinium derivatives such as N,N-dimethylpyrrolidinium salt, N-ethyl-N-methylpyrrolidinium salt, N-methyl-N-propylpyrrolidinium salt, N-butyl-N-methylpyrrolidinium salt, N-methyl-N-pentylpyrrolidinium salt, and N-hexyl-N-methylpyrrolidinium salt; and cations derived from aliphatic quaternary ammonium salts such as trimethylpropylammonium salt, trimethylhexylammonium salt, and triethylhexylammonium salt. These may be used alone or in combination of two or more.

前記アニオンとしては、例えば、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、BF 、BFCF 、BF 、PF 、NO 、CFCO 、CFSO 、(CFSO、(FSO、(CFSO)(FSO)N、(CN)、(CN)、(CN)、(CFSO、(CSO、(CPF 、AlCl 、AlCl などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the anion include a chlorine anion, a bromine anion, an iodine anion, BF 4 - , BF 3 CF 3 - , BF 3 C 2 F 5 - , PF 6 - , NO 3 - , CF 3 CO 2 - , CF 3 SO 3 - , (CF 3 SO 2 ) 2 N - , (FSO 2 ) 2 N - , (CF 3 SO 2 ) (FSO 2 ) N - , (CN) 2 N - , (CN) 3 C - , (CN) 4 B - , (CF 3 SO 2 ) 3 C - , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - , and (C 2 F 5 ) 3 PF 3 - , AlCl 4 , Al 2 Cl 7 and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記イオン液体としては、例えば、エチルメチルイミダゾリウムテトラシアノボレート(EMIMTCB、メルク社製)、エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド(EMIMTFSI、関東化学株式会社製)、エチルメチルイミダゾリウムトリペンタフルホロエチルトリフロオロホスフェート(EMIMFAP、メルク社製)、アリルブチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(ABIMBF4、関東化学株式会社製)、メチルプロピルピロリジニウムビスフルオロスルホンイミド(P13FSI、
関東化学株式会社製)等を溶解した液体などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記イオン液体の含有量としては、ゲル電解質層全量に対して、50質量%以上が好ましく、80質量%以上が特に好ましい。前記含有量が、50質量%以上であると、イオン伝導度を向上できる。
前記固体電解質の材料としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的には、LiClO、LiBF、LiAsF、LiPF、LiCFSO、LiCFCOO、KCl、NaClO、NaCl、NaBF、NaSCN、KBF、Mg(ClO、Mg(BFなどが挙げられる。
Examples of the ionic liquid include ethylmethylimidazolium tetracyanoborate (EMIMTCB, manufactured by Merck), ethylmethylimidazolium bistrifluoromethanesulfonimide (EMIMTFSI, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), ethylmethylimidazolium tripentafluoroethyl trifluorophosphate (EMIMFAP, manufactured by Merck), allylbutylimidazolium tetrafluoroborate (ABIMBF4, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), methylpropylpyrrolidinium bisfluorosulfonimide (P13FSI,
and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
The content of the ionic liquid is preferably 50% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, based on the total amount of the gel electrolyte layer. When the content is 50% by mass or more, ionic conductivity can be improved.
Examples of materials that can be used for the solid electrolyte include inorganic ion salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts, acids, and alkali supporting salts. Specific examples include LiClO4 , LiBF4 , LiAsF6 , LiPF6, LiCF3SO3 , LiCF3COO , KCl, NaClO3 , NaCl, NaBF4 , NaSCN, KBF4 , Mg( ClO4 ) 2 , and Mg( BF4 ) 2 .

[ゲル電解質層の製造方法]
本発明におけるゲル電解質層としては、まず組成物溶液を作製し、作製した組成物溶液を型やフィルムに挟んで重合させるキャスト重合法等を用いた重合反応により製造することができる。
前記組成物溶液は、前記イオン液体あるいは固体電解質を溶媒と混合した電解液と、重合性材料と、必要に応じて、前記重合開始剤、及びその他の成分を混合することができる。
前記重合性材料としては、例えば、ウレタンアクリレートモノマー、PEO鎖を有するアクリレートモノマー、PMMA鎖を有するアクリレートモノマーが挙げられる。
前記型としては、ガラス、樹脂製等の容器、離型剤付のフィルムなどが挙げられる。電気化学デバイスの空セルを型として組成物溶液を充填して、デバイス中で直接重合させることもできる。
前記重合反応としては、ラジカル重合反応が好ましく、熱ラジカル重合反応、光ラジカル重合反応がより好ましい。また、ラジカル重合を行う際には予め組成物溶液を脱酸素しておくことが好ましい。
[Method of manufacturing gel electrolyte layer]
The gel electrolyte layer in the present invention can be produced by a polymerization reaction using a cast polymerization method or the like in which a composition solution is first prepared, and then the prepared composition solution is sandwiched between a mold or a film and polymerized.
The composition solution can be prepared by mixing an electrolytic solution in which the ionic liquid or solid electrolyte is mixed with a solvent, a polymerizable material, and, if necessary, the polymerization initiator and other components.
Examples of the polymerizable material include urethane acrylate monomers, acrylate monomers having a PEO chain, and acrylate monomers having a PMMA chain.
The mold may be a glass or resin container, a film with a release agent, etc. An empty cell of an electrochemical device may be used as a mold to fill the composition solution, and polymerization may be carried out directly in the device.
The polymerization reaction is preferably a radical polymerization reaction, more preferably a thermal radical polymerization reaction or a photoradical polymerization reaction. When carrying out the radical polymerization, it is preferable to deoxygenate the composition solution in advance.

前記溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1,2-ジメトキシエタン、1,2-エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、又はそれらの混合溶媒などが挙げられる。 Examples of the solvent include propylene carbonate, acetonitrile, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, sulfolane, dioxolane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-ethoxymethoxyethane, polyethylene glycol, alcohols, and mixed solvents thereof.

前記重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル重合開始剤などが挙げられる。
前記ラジカル重合開始剤としては、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The polymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators.
Examples of the radical polymerization initiator include a thermal polymerization initiator, a photopolymerization initiator, etc. These may be used alone or in combination of two or more kinds.

前記熱重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]等のアゾ化合物;2,5-ジメチル-2,5-ビス(tert-ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ(4-tert-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等の有機過酸化物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the thermal polymerization initiator include azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis[2-(2-imidazolin-2-yl)propane]; and organic peroxides such as 2,5-dimethyl-2,5-bis(tert-butylperoxy)hexane and di(4-tert-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate. These may be used alone or in combination of two or more.

前記光重合開始剤としては、例えば、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン等のケタール系光重合開始剤;1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-(t-ブチル)ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the photopolymerization initiator include ketal-based photopolymerization initiators such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one; acetophenone-based photopolymerization initiators such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 4-phenoxydichloroacetophenone, and 4-(t-butyl)dichloroacetophenone; and benzoin ether-based photopolymerization initiators such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether. These may be used alone or in combination of two or more.

前記重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、全モノマー成分100質量部に対して、0.001質量部以上5質量部以下が好ましく、0.01質量部以上2質量部以下がより好ましく、0.01質量部以上1質量部以下が特に好ましい。 The content of the polymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 0.001 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, more preferably 0.01 parts by mass or more and 2 parts by mass or less, and particularly preferably 0.01 parts by mass or more and 1 part by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total monomer components.

前記ゲル電解質層のその他の作製方法としては、これに限定されず、重合前の組成物溶液を、前記エレクトロクロミック層上に塗布し、紫外線照射や加熱によって重合させる方法も用いることができる。また、前記エレクトロクロミック層を形成した前記支持体を5μm~150μm程度のギャップを保持した状態で対向させ、組成物溶液を充填した後で紫外線照射や加熱によって重合させる方法も用いることができる。 Other methods for producing the gel electrolyte layer are not limited to the above, and a method can be used in which a pre-polymerized composition solution is applied onto the electrochromic layer and polymerized by ultraviolet light irradiation or heating. In addition, a method can be used in which the supports on which the electrochromic layer has been formed are placed facing each other with a gap of about 5 μm to 150 μm maintained, and the composition solution is filled and then polymerized by ultraviolet light irradiation or heating.

図1Aには、便宜的に各層が完全に分離しているように図示されているが、前記ゲル電解質層の組成物や、作製方法によれば、ゲル電解質の組成物がエレクトロクロミック層に一部浸透した構造を取りうる。 For the sake of convenience, FIG. 1A illustrates each layer as being completely separate, but depending on the composition of the gel electrolyte layer and the manufacturing method, a structure in which the gel electrolyte composition partially permeates the electrochromic layer may be adopted.

[保護層]
保護層17は、エレクトロクロミック素子の側面部を物理的及び化学的に保護するように形成されている。保護層17は、例えば、紫外線硬化性や熱硬化性の絶縁性樹脂等を、側面及び/又は上面を覆うように塗布し、その後硬化させることにより形成できる。また、硬化樹脂と無機材料とを積層した保護層とすることが好ましい。前記無機材料との積層構造にすることで、酸素や水に対するバリア性が向上する。
前記無機材料としては、絶縁性、透明性、耐久性が高い材料が好ましく、具体的な材料としては、シリコン、アルミニウム、チタン、亜鉛、錫などの酸化物又は硫化物、あるいはこれらの混合物などが挙げられる。これらの膜はスパッタ法や蒸着法などの真空製膜プロセスで容易に形成することができる。
保護層17の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5μm以上100μm以下が好ましい。更に、保護層は熱成形後に形成してもよい。
[Protective Layer]
The protective layer 17 is formed to physically and chemically protect the side surface of the electrochromic element. The protective layer 17 can be formed, for example, by applying an ultraviolet-curable or thermosetting insulating resin to cover the side surface and/or the top surface, and then curing the resin. It is also preferable to form the protective layer by laminating a cured resin and an inorganic material. By forming a laminated structure with the inorganic material, the barrier properties against oxygen and water are improved.
The inorganic material is preferably a material having high insulating properties, transparency, and durability, and specific examples of the material include oxides or sulfides of silicon, aluminum, titanium, zinc, tin, etc., or mixtures thereof, etc. These films can be easily formed by a vacuum film-forming process such as a sputtering method or a deposition method.
The average thickness of the protective layer 17 is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 5 μm or more and 100 μm or less. Furthermore, the protective layer may be formed after thermoforming.

本発明のエレクトロクロミック素子は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、以下の特性を有することが好ましい。 The electrochromic element of the present invention is not particularly limited and can be selected appropriately depending on the purpose, but it is preferable that it has the following characteristics.

前記支持体の屈折率n1と、前記光学レンズの屈折率n2と、前記接着層の屈折率n3とが、次式、n1≦n3≦n2、を充たすことが、接着界面での反射の低減、ひいては透明性の点から好ましい。
あるいは、前記支持体の屈折率n1と、前記光学レンズの屈折率n2と、前記接着層の屈折率n3とが、次式、n2≦n3≦n1、を充たすことが、接着界面での反射の低減、ひいては透明性の点から好ましい。
前記屈折率は、例えば、多波長アッベ屈折計(株式会社アタゴ製、DR-M2)により測定することができる。
It is preferable that the refractive index n1 of the support, the refractive index n2 of the optical lens, and the refractive index n3 of the adhesive layer satisfy the following formula, n1≦n3≦n2, in terms of reducing reflection at the adhesive interface and therefore transparency.
Alternatively, it is preferable from the viewpoint of reducing reflection at the adhesive interface and thus transparency that the refractive index n1 of the support, the refractive index n2 of the optical lens, and the refractive index n3 of the adhesive layer satisfy the following formula, n2≦n3≦n1.
The refractive index can be measured, for example, by a multi-wavelength Abbe refractometer (DR-M2, manufactured by Atago Co., Ltd.).

前記支持体の線膨張係数α1と、前記光学レンズの線膨張係数α2と、前記接着層の線膨張係数α3とが、次式、α1≦α3≦α2、を充たすことが、熱的安定性及び機械的安定性の点から好ましい。
前記支持体の線膨張係数α1と、前記光学レンズの線膨張係数α2と、前記接着層の線膨張係数α3とが、次式、α2≦α3≦α1、を充たすことが、熱的安定性及び機械的安定性の点から好ましい。
前記線膨張係数は、例えば、TMA(熱機械分析)装置(株式会社コベルコ科研製)により測定することができる。
From the viewpoint of thermal stability and mechanical stability, it is preferable that the linear expansion coefficient α1 of the support, the linear expansion coefficient α2 of the optical lens, and the linear expansion coefficient α3 of the adhesive layer satisfy the following formula: α1≦α3≦α2.
From the viewpoint of thermal stability and mechanical stability, it is preferable that the linear expansion coefficient α1 of the support, the linear expansion coefficient α2 of the optical lens, and the linear expansion coefficient α3 of the adhesive layer satisfy the following formula: α2≦α3≦α1.
The linear expansion coefficient can be measured, for example, by a thermomechanical analysis (TMA) device (manufactured by Kobelco Research Institute, Ltd.).

前記支持体のアッベ数ν1と、前記光学レンズのアッベ数ν2とが、次式、ν1≦ν2、を充たすことが、色収差低減の点から好ましい。
前記アッベ数は、例えば、多波長アッベ屈折計(株式会社アタゴ製、DR-M2)により測定することができる。
It is preferable from the viewpoint of reducing chromatic aberration that the Abbe number v1 of the support and the Abbe number v2 of the optical lens satisfy the following formula: v1≦v2.
The Abbe number can be measured, for example, by a multi-wavelength Abbe refractometer (DR-M2, manufactured by Atago Co., Ltd.).

<第1の実施の形態のエレクトロクロミック素子>
ここで、図1Cは、光学レンズを接着後の第1の実施の形態のエレクトロクロミック素子を例示する断面図である。図1Cを参照すると、積層体(エレクトロクロミック素子10)の一方の外側表面に光学レンズ21が接着されており、かつ他方の外側表面に第1の支持体11を有している。
<Electrochromic element according to the first embodiment>
Here, Fig. 1C is a cross-sectional view illustrating the electrochromic element of the first embodiment after the optical lens is bonded. Referring to Fig. 1C, the optical lens 21 is bonded to one outer surface of the laminate (electrochromic element 10), and the first support 11 is provided on the other outer surface.

光学レンズ21の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリカーボネート樹脂、アリルジグリコールカーボネート樹脂、ジアリルカーボネート樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ウレタン系樹脂、チオウレタン樹脂、エピスルフィド樹脂、メタクリレート樹脂、シクロオレフィン樹脂などの透明材料が好適に用いられる。 The material of the optical lens 21 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, transparent materials such as polycarbonate resin, allyl diglycol carbonate resin, diallyl carbonate resin, diallyl phthalate resin, urethane resin, thiourethane resin, episulfide resin, methacrylate resin, and cycloolefin resin are preferably used.

前記透明材料を、一方の外側表面に接するようにして、溶融後再硬化させるか、光又は熱を加えることにより硬化させることで、光学レンズ21を接着形成している。ただし、光学レンズ21を接着形成する方法については、これらの方法に限定されるものではない。 The optical lens 21 is adhered by melting the transparent material so that it is in contact with one of the outer surfaces and then re-hardening it, or by hardening it by applying light or heat. However, the method of adhering the optical lens 21 is not limited to these methods.

硬化後の曲率半径を硬化収縮などよる変形を考慮しつつ設定することで、光学レンズ21の入射面の曲率及び出射面の曲率の少なくともいずれかを調整することにより、エレクトロクロミック素子に任意の度数を持たせることが可能である。 By setting the radius of curvature after curing while taking into account deformation due to curing shrinkage, etc., and adjusting at least one of the curvatures of the entrance surface and the exit surface of the optical lens 21, it is possible to give the electrochromic element any desired degree.

また、光学レンズ21を形成後、切削加工にて所望の曲面形状を形成することで、ユーザー固有の条件に合わせたレンズ加工(度数加工など)が可能になる。即ち、製品形状ごとに金型や部材を準備することが不要となり、高精度な製品を多品種少量生産することが容易になる。 In addition, after the optical lens 21 is formed, the desired curved shape can be formed by cutting, making it possible to process the lens (such as power processing) according to the specific conditions of the user. In other words, it is no longer necessary to prepare molds and parts for each product shape, making it easier to produce a wide variety of high-precision products in small quantities.

<第1の実施の形態の変形例1のエレクトロクロミック素子>
第1の実施の形態の変形例1は、第1の実施の形態とは層構成の異なるエレクトロクロミック素子を例示する。なお、第1の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
<Electrochromic Element According to Modification 1 of the First Embodiment>
The first modification of the first embodiment illustrates an electrochromic element having a layer structure different from that of the first embodiment. Note that in the first embodiment, the description of the same components as those of the embodiments already described may be omitted.

図2A、図2B、及び図2Cは、第1の実施の形態の変形例1を例示する断面図である。
図2A、図2B、及び図2Cを参照すると、第1の実施の形態の変形例1のエレクトロクロミック素子20は、ゲル電解質層14と第2の電極層15に接して、劣化防止層18が形成されている点が、第1の実施の形態に係るエレクトロクロミック素子10(図1A、図1B、及び図1C参照)と相違する。
この第1の実施の形態の変形例1では、第2の電極層15の電気化学反応による劣化を防止するために、劣化防止層18が形成される。これにより、第1の実施の形態の変形例1に係るエレクトロクロミック素子では、第1の実施の形態の効果に加えて、更に繰り返し特性に優れたエレクトロクロミック素子が提供できる。
2A, 2B, and 2C are cross-sectional views illustrating a first modification of the first embodiment.
2A, 2B, and 2C, the electrochromic element 20 of the first embodiment, variant 1, differs from the electrochromic element 10 of the first embodiment (see FIGS. 1A, 1B, and 1C) in that an anti-degradation layer 18 is formed in contact with the gel electrolyte layer 14 and the second electrode layer 15.
In this first modification of the first embodiment, an anti-degradation layer 18 is formed in order to prevent degradation due to electrochemical reaction of the second electrode layer 15. As a result, the electrochromic element according to the first modification of the first embodiment can provide an electrochromic element with superior repeatability in addition to the effects of the first embodiment.

前記劣化防止層18の役割としては、エレクトロクロミック層13と逆反応をし、電荷のバランスをとって第2の電極層15が不可逆的な酸化還元反応により腐食や劣化することを抑制する。結果としてエレクトロクロミック素子20の繰り返し安定性が向上する。なお、前記逆反応とは、劣化防止層が酸化還元する場合に加え、キャパシタとして作用することも含む。 The role of the anti-degradation layer 18 is to reversely react with the electrochromic layer 13, balance the charge, and prevent the second electrode layer 15 from corroding or deteriorating due to an irreversible oxidation-reduction reaction. As a result, the repetitive stability of the electrochromic element 20 is improved. The reverse reaction includes not only the case where the anti-degradation layer undergoes oxidation-reduction, but also the case where the layer acts as a capacitor.

劣化防止層18の材料は、第1の電極層12及び第2の電極層15の不可逆的な酸化還元反応による腐食を防止する役割を担う材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。劣化防止層18の材料としては、例えば、酸化アンチモン錫、酸化ニッケル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、又はそれらを複数含む導電性又は半導体性金属酸化物を用いることができる。更に、前記劣化防止層の着色が問題にならない場合は、前記エレクトロクロミック材料と同じものを用いることができる。
これらの中でも、透明性が要求されるレンズのような光学素子としてエレクトロクロミック素子を作製する場合は、劣化防止層18として、透明性の高い材料を用いることが好ましい。このような材料としては、n型半導体性酸化物微粒子(n型半導体性金属酸化物)を用いることが好ましい。前記n型半導体性金属酸化物としては、100nm以下の一次粒子径粒子からなる、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、又はそれらを複数含む化合物粒子、あるいは混合物を用いることができる。
The material of the degradation prevention layer 18 is not particularly limited as long as it is a material that plays a role in preventing corrosion due to irreversible oxidation-reduction reactions of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, and is appropriately selected depending on the purpose. For example, antimony tin oxide, nickel oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, or conductive or semiconductive metal oxides containing a plurality of these can be used as the material of the degradation prevention layer 18. Furthermore, when coloring of the degradation prevention layer is not a problem, the same material as the electrochromic material can be used.
Among these, when an electrochromic element is produced as an optical element such as a lens that requires transparency, it is preferable to use a highly transparent material for the degradation prevention layer 18. As such a material, it is preferable to use n-type semiconducting oxide fine particles (n-type semiconducting metal oxide). As the n-type semiconducting metal oxide, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, or compound particles containing a plurality of these, or a mixture, each of which is made of particles with a primary particle diameter of 100 nm or less, can be used.

更に、劣化防止層18を有する場合には、エレクトロクロミック層13が酸化反応により色彩変化する材料であることが好ましい。その結果、エレクトロクロミック層が酸化反応すると同時にn型半導体性金属酸化物が還元(電子注入)され易く、駆動電圧が低減できるからである。
このような形態において、特に好ましいエレクトロクロミック材料としては、有機高分子材料である。塗布形成プロセス等により容易に製膜できるとともに、分子構造により色の調整や制御が可能となる。これらの有機高分子材料の具体例としては、「Chemistry of Materials review 2011.23,397-415 Navigating the Color Palette of Solution-Processable Electrochromic Polymers(Reynolds)」、「Macromolecules 1996.29 7629-7630(Reynolds)」、「Polymer journal, Vol.41, No.7,Electrochromic Organic Matallic Hybrid Polymers」などに報告されている。
これらの有機高分子材料としては、例えば、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)系材料、ビス(ターピリジン)類と鉄イオンの錯形成ポリマーなどが挙げられる。
Furthermore, when the deterioration prevention layer 18 is provided, it is preferable that the electrochromic layer 13 is made of a material that changes color by an oxidation reaction. As a result, the n-type semiconductive metal oxide is easily reduced (electron injection) at the same time as the electrochromic layer undergoes an oxidation reaction, and the driving voltage can be reduced.
In such a case, the particularly preferred electrochromic material is an organic polymer material, which can be easily formed into a film by a coating process or the like, and allows adjustment and control of the color by the molecular structure. Specific examples of these organic polymer materials are reported in, for example, "Chemistry of Materials review 2011.23, 397-415 Navigating the Color Palette of Solution-Processable Electrochromic Polymers (Reynolds)", "Macromolecules 1996.29 7629-7630 (Reynolds)", and "Polymer journal, Vol. 41, No. 7, Electrochromic Organic Metallic Hybrid Polymers".
Examples of these organic polymer materials include poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-based materials, and complex-forming polymers of bis(terpyridines) and iron ions.

一方、劣化防止層18として、透明性の高いp型半導体性層の材料としては、ニトロキシルラジカル(NOラジカル)を有する有機材料などであり、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-N-オキシル(TEMPO)の誘導体、又は誘導体のポリマー材料などが挙げられる。
なお、劣化防止層18としては、特に制限はなく、ゲル電解質層14に劣化防止層用材料を混合して、ゲル電解質層14に劣化防止機能を付与することもできる。その場合の層構成は図1A、図1B、及び図1Cの第1の実施の形態のエレクトロクロミック素子10と同様になる。
On the other hand, examples of materials for the highly transparent p-type semiconductor layer as the degradation prevention layer 18 include organic materials having a nitroxyl radical (NO radical), such as derivatives of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl (TEMPO) or polymer materials of the derivative.
The anti-deterioration layer 18 is not particularly limited, and an anti-deterioration layer material may be mixed into the gel electrolyte layer 14 to impart an anti-deterioration function to the gel electrolyte layer 14. In this case, the layer structure will be similar to that of the electrochromic element 10 of the first embodiment shown in Figures 1A, 1B, and 1C.

劣化防止層18の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが挙げられる。また、劣化防止層18の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法などが挙げられる。 The method for forming the deterioration prevention layer 18 is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the method include vacuum deposition, sputtering, and ion plating. In addition, as long as the material of the deterioration prevention layer 18 can be applied, examples of the method include various printing methods such as spin coating, casting, microgravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, slit coating, capillary coating, spray coating, nozzle coating, gravure printing, screen printing, flexographic printing, offset printing, reverse printing, and inkjet printing.

<第1の実施の形態の変形例2のエレクトロクロミック素子>
第1の実施の形態の変形例2のエレクトロクロミック素子は、第1の実施の形態とは層構成の異なるエレクトロクロミック素子を例示する。なお、第1の実施の形態の変形例2において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
<Electrochromic Element According to Modification 2 of the First Embodiment>
The electrochromic element of the second modification of the first embodiment is an electrochromic element having a layer structure different from that of the first embodiment. Note that in the second modification of the first embodiment, the description of the same components as those of the already described embodiment may be omitted.

図3A、図3B、及び図3Cは、第1の実施の形態の変形例2のエレクトロクロミック素子30を例示する断面図である。図3A、図3B、及び図3Cを参照すると、第1の実施の形態の変形例2のエレクトロクロミック素子30は、第2の支持体16が省略され、第2の電極層15の上に保護層17が形成されている点が、第1の実施の形態の変形例1に係るエレクトロクロミック素子20(図2A、図2B、及び図2C参照)と相違する。
第2の電極層15上に形成される保護層17は側面部に形成される保護層17で挙げた材料と同じものを用いることができる。ただし、第2の電極層15上に形成される保護層17の材料は側面部に形成される保護層17の材料と同一であっても異なってもよい。この第3の実施の形態のエレクトロクロミック素子30は一つの支持体から構成されるため、薄型化と共に、低コストでの生産が可能となる。
3A, 3B, and 3C are cross-sectional views illustrating an electrochromic element 30 according to Modification 2 of the first embodiment. Referring to Fig. 3A, 3B, and 3C, the electrochromic element 30 according to Modification 2 of the first embodiment differs from the electrochromic element 20 according to Modification 1 of the first embodiment (see Figs. 2A, 2B, and 2C) in that the second support 16 is omitted and a protective layer 17 is formed on the second electrode layer 15.
The protective layer 17 formed on the second electrode layer 15 can be made of the same material as that mentioned for the protective layer 17 formed on the side surface. However, the material of the protective layer 17 formed on the second electrode layer 15 may be the same as or different from the material of the protective layer 17 formed on the side surface. Since the electrochromic element 30 of the third embodiment is made of a single support, it can be thinned and produced at low cost.

図3Cは、第1の実施の形態の変形例2のエレクトロクロミック素子30の光学レンズを接着後の状態を示す断面図である。
この第1の実施の形態の変形例2のエレクトロクロミック素子30は、積層体(エレクトロクロミック素子30)の一方の外側表面に光学レンズ21が接着されており、かつ他方の外側表面に第1の支持体11を有している以外は、第1の実施の形態の変形例1と同様であるため、詳細な説明は省略する。
FIG. 3C is a cross-sectional view showing a state after an optical lens of the electrochromic element 30 according to the second modification of the first embodiment has been bonded.
The electrochromic element 30 of this variant 2 of the first embodiment is similar to variant 1 of the first embodiment, except that an optical lens 21 is adhered to one outer surface of the laminate (electrochromic element 30) and a first support 11 is provided on the other outer surface, and therefore a detailed description thereof will be omitted.

<第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子>
第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子は、第1の実施の形態とは層構成の異なるエレクトロクロミック素子を例示する。なお、第1の実施の形態の変形例3において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
<Electrochromic Element According to Modification 3 of the First Embodiment>
The electrochromic element of the third modification of the first embodiment is an electrochromic element having a layer structure different from that of the first embodiment. Note that in the third modification of the first embodiment, the description of the same components as those of the embodiments already described may be omitted.

図4A、図4B、及び図4Cは、第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子40を例示する断面図である。図4A、図4B、及び図4Cを参照すると、第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子40は、エレクトロクロミック層13と劣化防止層18の配置が逆転している点が第1の実施の形態の変形例2に係るエレクトロクロミック素子30(図3A、図3B、及び図3C参照)と相違する。
この第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子40では、構成層の配置が異なるが、第1の電極層12と第2の電極層15との間に電圧を印加することにより、エレクトロクロミック層13が電荷の授受により酸化還元反応して発消色することができる。
4A, 4B, and 4C are cross-sectional views illustrating an electrochromic element 40 according to Modification 3 of the first embodiment. Referring to Fig. 4A, 4B, and 4C, the electrochromic element 40 according to Modification 3 of the first embodiment differs from the electrochromic element 30 according to Modification 2 of the first embodiment (see Figs. 3A, 3B, and 3C) in that the positions of the electrochromic layer 13 and the anti-degradation layer 18 are reversed.
In the electrochromic element 40 of the third modified example of the first embodiment, the arrangement of the constituent layers is different, but by applying a voltage between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, the electrochromic layer 13 undergoes an oxidation-reduction reaction by the exchange of electric charge, and can develop or fade color.

図4Cは、第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子40の光学レンズを接着後の状態を示す断面図である。
この第1の実施の形態の変形例3のエレクトロクロミック素子40は、積層体(エレクトロクロミック素子40)の一方の外側表面に光学レンズ21が接着されており、かつ他方の外側表面に第1の支持体11を有している以外は、第1の実施の形態の変形例1と同様であるため、詳細な説明は省略する。
FIG. 4C is a cross-sectional view showing a state after an optical lens of the electrochromic element 40 according to the third modification of the first embodiment has been bonded.
The electrochromic element 40 of this variant example 3 of the first embodiment is similar to variant example 1 of the first embodiment, except that an optical lens 21 is adhered to one outer surface of the laminate (electrochromic element 40) and a first support 11 is provided on the other outer surface, and therefore a detailed description thereof will be omitted.

<第1の実施の形態の変形例4のエレクトロクロミック素子>
第1の実施の形態の変形例4では、第1の実施の形態である図1Bで例示した、エレクトロクロミック素子を埋抱するように光学レンズ21が形成されているエレクトロクロミック素子を例示する。なお、第1の実施の形態の変形例4において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
<Electrochromic Element According to Modification 4 of the First Embodiment>
In the fourth modification of the first embodiment, an electrochromic element in which an optical lens 21 is formed so as to embed the electrochromic element as illustrated in Fig. 1B of the first embodiment is exemplified. Note that in the fourth modification of the first embodiment, the description of the same components as those in the already described embodiments may be omitted.

図5は、第1の実施の形態の変形例4のエレクトロクロミック素子50を例示する断面図である。図5を参照すると、エレクトロクロミック素子50を埋抱するように光学レンズ21が形成されている。
エレクトロクロミック素子50は溶融状態にある透明樹脂中に浸すように設置され、その状態を保持したまま溶融樹脂を冷却後再硬化させるか、光又は熱を加えることにより硬化させることで、エレクトロクロミック素子50を埋抱するように光学レンズ21を形成することができる。
5 is a cross-sectional view illustrating an electrochromic element 50 according to Modification 4 of the first embodiment. Referring to FIG. 5, an optical lens 21 is formed so as to embed the electrochromic element 50.
The electrochromic element 50 is placed so as to be immersed in molten transparent resin, and while maintaining this state, the molten resin is cooled and then re-hardened, or hardened by applying light or heat, thereby forming an optical lens 21 so as to embed the electrochromic element 50.

<第1の実施の形態の変形例5のエレクトロクロミック素子>
第1の実施の形態の変形例5では、第1の実施の形態である図1Bで例示した、エレクトロクロミック素子と光学レンズ21を、接着層19を介して接着したエレクトロクロミック素子60を例示する。なお、第1の実施の形態の変形例5において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
<Electrochromic Element According to Modification 5 of the First Embodiment>
In the fifth modification of the first embodiment, an electrochromic element 60 is illustrated in which the electrochromic element and the optical lens 21 illustrated in Fig. 1B of the first embodiment are bonded via an adhesive layer 19. Note that in the fifth modification of the first embodiment, the description of the same components as those in the already described embodiments may be omitted.

図6は、第1の実施の形態の変形例5のエレクトロクロミック素子60を例示する断面図である。図6を参照すると、第2の支持体16に光学レンズ21が接着層19を介して接着されている。これにより、光学レンズ21はエレクトロクロミック素子60の製作工程とは独立して作製することが可能となり、光学レンズとして最適な作製方法を用いることができるため、高精度な製品を生産することが容易になる。また、在庫管理も独立して行うことができるため、多品種少量生産することが容易になる。
接着層19の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、変性ポリマー系等の透明材料などが挙げられる。
前記接着層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、3μm以上200μm以下が好ましい。
Fig. 6 is a cross-sectional view illustrating an electrochromic element 60 according to a fifth modified example of the first embodiment. Referring to Fig. 6, an optical lens 21 is bonded to a second support 16 via an adhesive layer 19. This allows the optical lens 21 to be produced independently of the production process of the electrochromic element 60, and an optimal production method for the optical lens can be used, making it easy to produce a high-precision product. In addition, inventory management can be performed independently, making it easy to produce a wide variety of products in small quantities.
The material for the adhesive layer 19 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples of the material include transparent materials such as epoxy resins, urethane resins, acrylic resins, vinyl acetate resins, and modified polymers.
The average thickness of the adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 3 μm or more and 200 μm or less.

<第2の実施の形態のエレクトロクロミック素子>
第2の実施の形態は、第1の実施の形態である図1Aで例示したエレクトロクロミック素子において、エレクトロクロミック層にゲル電解質がしみ込んでいる形態である。エレクトロクロミック層は多孔質である場合があり、この孔の部分にゲル電解質がしみ込む場合がある。
<Electrochromic element according to the second embodiment>
The second embodiment is an embodiment in which a gel electrolyte is permeated into the electrochromic layer in the electrochromic element illustrated in Fig. 1A, which is the first embodiment. The electrochromic layer may be porous, and the gel electrolyte may permeate into the pores.

(エレクトロクロミック調光素子)
本発明のエレクトロクロミック調光素子は、本発明の前記エレクトロクロミック素子を有する。
前記エレクトロクロミック調光素子としては、例えば、防眩ミラー、調光ガラスなどが挙げられる。
(Electrochromic light control element)
The electrochromic light control element of the present invention has the electrochromic element of the present invention.
Examples of the electrochromic light control element include anti-glare mirrors and light control glass.

(エレクトロクロミック装置)
本発明のエレクトロクロミック装置は、本発明のエレクトロクロミック素子又は本発明のエレクトロクロミック調光素子を有し、更に必要に応じてその他の手段を有する。
その他の手段としては、特に制限はなく、用途に応じて適宜選択することができ、例えば、電源、固定手段、制御手段などが挙げられる。
エレクトロクロミック装置としては、例えば、調光眼鏡、双眼鏡、オペラグラス、自転車用ゴーグル、時計、電子ペーパー、電子アルバム、電子広告板などが挙げられる。
(Electrochromic Device)
The electrochromic device of the present invention comprises the electrochromic element of the present invention or the electrochromic light control element of the present invention, and further comprises other means as necessary.
The other means are not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application. Examples of the other means include a power source, a fixing means, and a control means.
Examples of electrochromic devices include photochromic glasses, binoculars, opera glasses, bicycle goggles, watches, electronic paper, electronic albums, and electronic billboards.

ここで、図7は、本発明のエレクトロクロミック調光素子を有するエレクトロクロミック調光眼鏡を示す斜視図である。図7を参照するに、エレクトロクロミック調光眼鏡150は、エレクトロクロミック調光素子51と、眼鏡フレーム52と、スイッチ53と、電源54とを有する。エレクトロクロミック調光素子51は、本発明の前記エレクトロクロミック調光素子を所望の形状に加工したものである。
2つのエレクトロクロミック調光素子51は、眼鏡フレーム52に組み込まれている。眼鏡フレーム52には、スイッチ53及び電源54が設けられている。電源54は、スイッチ53を介して、図示しない配線により、第1の電極及び第2の電極と電気的に接続されている。
スイッチ53を切り替えることにより、例えば、第1の電極と第2の電極との間にプラス電圧を印加する状態、マイナス電圧を印加する状態、電圧を印加しない状態の中から1つの状態を選択可能である。
スイッチ53としては、例えば、スライドスイッチやプッシュスイッチ等の任意のスイッチを用いることができる。ただし、少なくとも前述の3つの状態を切り替え可能なスイッチに限る。
電源54としては、例えば、ボタン電池、太陽電池等の任意の直流電源を用いることができる。電源54は、第1の電極と第2の電極との間にプラスマイナス数V程度の電圧を印加可能である。
例えば、第1の電極と第2の電極との間にプラス電圧を印加することにより、2つのエレクトロクロミック調光素子51が所定の色に発色する。また、第1の電極と第2の電極との間にマイナス電圧を印加することにより、2つのエレクトロクロミック調光素子51が消色し透明となる。
ただし、エレクトロクロミック層に使用する材料の特性により、第1の電極と第2の電極との間にマイナス電圧を印加することにより発色し、プラス電圧を印加することにより消色し透明となる場合もある。なお、一度発色した後は、第1の電極と第2の電極との間に電圧を印加しなくても発色は継続する。
Here, Fig. 7 is a perspective view showing electrochromic light control glasses having an electrochromic light control element of the present invention. Referring to Fig. 7, electrochromic light control glasses 150 have an electrochromic light control element 51, a glasses frame 52, a switch 53, and a power source 54. The electrochromic light control element 51 is obtained by processing the electrochromic light control element of the present invention into a desired shape.
The two electrochromic light control elements 51 are incorporated in a spectacle frame 52. The spectacle frame 52 is provided with a switch 53 and a power source 54. The power source 54 is electrically connected to the first electrode and the second electrode via the switch 53 and wiring (not shown).
By switching the switch 53, it is possible to select one of the following states: a state in which a positive voltage is applied between the first electrode and the second electrode, a state in which a negative voltage is applied, or a state in which no voltage is applied.
The switch 53 may be any type of switch, such as a slide switch or a push switch, provided that the switch is capable of switching between at least the three states described above.
Any DC power source such as a button battery, a solar cell, etc. can be used as the power source 54. The power source 54 is capable of applying a voltage of about plus or minus several volts between the first electrode and the second electrode.
For example, when a positive voltage is applied between the first electrode and the second electrode, the two electrochromic light control elements 51 develop a predetermined color, and when a negative voltage is applied between the first electrode and the second electrode, the two electrochromic light control elements 51 lose their color and become transparent.
However, depending on the characteristics of the material used in the electrochromic layer, it may develop color by applying a negative voltage between the first and second electrodes, and become transparent by applying a positive voltage. Note that once a color is developed, the color will continue to develop even if no voltage is applied between the first and second electrodes.

以下に、本発明の実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described below with examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
<エレクトロクロミック素子の作製>
実施例1は、図1A、図1B、及び図1Cに示すエレクトロクロミック素子10を作製する例を示す。なお、実施例1で作製したエレクトロクロミック素子10は、調光レンズ素子としても使用できる。
Example 1
<Preparation of electrochromic element>
Example 1 shows an example of producing an electrochromic element 10 shown in Figures 1A, 1B, and 1C. The electrochromic element 10 produced in Example 1 can also be used as a photochromic lens element.

-第1の電極層、及びエレクトロクロミック層の形成-
まず、第1の支持体11として最大長軸長さ80mm×最大短軸長さ55mm、厚み0.5mmの楕円ポリカーボネート樹脂基板(AD5503、軟化点145℃、帝人株式会社製)を準備した。
前記第1の支持体上に、ITO膜をスパッタ法により厚み約100nmに製膜して、第1の電極層12を形成した。
次に、前記ITO膜の表面に酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径:20nm)をスピンコート法により塗布し、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、厚み約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
続いて、下記構造式Aで表されるエレクトロクロミック化合物を1.5質量%含む2,2,3,3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した後、120℃で10分間アニール処理を行うことにより、前記酸化チタン粒子膜に担持(吸着)させて、エレクトロクロミック層13を形成した。
--Formation of the first electrode layer and the electrochromic layer--
First, an elliptical polycarbonate resin substrate (AD5503, softening point 145° C., manufactured by Teijin Limited) having a maximum major axis length of 80 mm, a maximum minor axis length of 55 mm and a thickness of 0.5 mm was prepared as the first support 11 .
An ITO film was formed on the first support by sputtering to a thickness of about 100 nm, forming a first electrode layer 12 .
Next, a titanium oxide nanoparticle dispersion (product name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: 20 nm) was applied to the surface of the ITO film by spin coating, and annealing treatment was performed at 120° C. for 15 minutes to form a nanostructure semiconductor material consisting of a titanium oxide particle film with a thickness of approximately 1.0 μm.
Next, a 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution containing 1.5 mass % of an electrochromic compound represented by the following structural formula A was applied by spin coating, and then annealed at 120° C. for 10 minutes to support (adsorb) the electrochromic compound on the titanium oxide particle film, thereby forming an electrochromic layer 13.

[構造式A]
[Structural Formula A]

続いて、前記エレクトロクロミック層13上に、平均一次粒径20nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度24.8質量%、ポリビニルアルコール1.2質量%、及び水74質量%)をスピンコートし、厚み2μmの絶縁性無機微粒子層を形成した。 Subsequently, a dispersion of SiO2 particles having an average primary particle size of 20 nm (silica solid concentration 24.8% by mass, polyvinyl alcohol 1.2% by mass, and water 74% by mass) was spin-coated onto the electrochromic layer 13 to form an insulating inorganic particle layer having a thickness of 2 μm.

-第2の電極層の形成-
第2の支持体16として前記第1の支持体11と同形状及び同厚みのポリカーボネート樹脂基板を準備した。
第2の支持体16上に、ITO膜をスパッタ法により厚み約100nmに製膜して、第2の電極層15を形成した。
--Formation of the second electrode layer--
As the second support 16, a polycarbonate resin substrate having the same shape and thickness as the first support 11 was prepared.
An ITO film was formed on the second support 16 by sputtering to a thickness of about 100 nm, forming a second electrode layer 15 .

-ゲル電解質層の作製-
離形処理したPETフィルム(NP75C、パナック株式会社製)表面に、重合性材料(V3877、大同化成工業株式会社製)と、電解質(1-エチル-3-メチルイミダゾリウム テトラシアノボレート、EMIMTCB)とを質量比(20:80)で混合し、光重合開始剤(irgacure184、日本化薬株式会社製)を前記重合性材料に対して0.5質量%混合した溶液を塗布し、離形処理したPETフィルム(NP75A パナック製)と貼り合わせて、紫外線(UV)硬化させてゲル電解質層を作製した。
- Preparation of gel electrolyte layer -
A polymerizable material (V3877, manufactured by Daido Chemical Industry Co., Ltd.) and an electrolyte (1-ethyl-3-methylimidazolium tetracyanoborate, EMITCB) were mixed in a mass ratio of 20:80 on the surface of a release-treated PET film (NP75C, manufactured by PANAC Corporation), and a solution in which a photopolymerization initiator (irgacure 184, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was mixed at 0.5 mass % relative to the polymerizable material was applied to the surface of the release-treated PET film (NP75A, manufactured by PANAC Corporation). The solution was then bonded to a release-treated PET film (NP75A, manufactured by PANAC Corporation) and cured with ultraviolet (UV) light to produce a gel electrolyte layer.

-積層体の作製-
作製したゲル電解質層について、離形フィルムを剥離し、前記絶縁性無機微粒子層の表面に貼合処理し、その後第2の支持体の第2の電極層表面とゲル電解質層の表面とを合わせて貼合し、積層体を作製した。
--Preparation of laminate--
The release film was peeled off from the prepared gel electrolyte layer, and the layer was laminated to the surface of the insulating inorganic fine particle layer. Thereafter, the surface of the second electrode layer of the second support was aligned and laminated to the surface of the gel electrolyte layer to prepare a laminate.

-保護層の形成-
次に、貼り合せた前記積層体の側面部に、紫外線硬化接着剤(商品名:KARAYAD R604、日本化薬株式会社製)を滴下し、紫外線照射により硬化させることで保護層17を3μmの厚みに形成した。
以上により、図1Aに示す熱成形前のエレクトロクロミック素子10を作製した。
- Formation of protective layer -
Next, an ultraviolet-curing adhesive (product name: KARAYAD R604, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dropped onto the side surface of the laminated body, and cured by ultraviolet irradiation to form a protective layer 17 with a thickness of 3 μm.
In this manner, an electrochromic element 10 before thermoforming shown in FIG. 1A was produced.

-3D熱成形-
作製した熱成形前のエレクトロクロミック素子を曲率半径約130mmの凸金型と凹金型に135℃で加熱しながら挟み込むことで、図1Bに示すような3D球面形状を有する熱成形後のエレクトロクロミック素子10を作製した。金型の温度は146℃とした。
金型温度は各支持体材料の軟化温度に近い温度に設定する必要があり、それより低いと十分な賦形ができない。また高すぎると、冷却までの温度に時間がかかり、生産性が低下する。
- 3D thermoforming -
The electrochromic element before thermoforming was sandwiched between a convex mold and a concave mold having a radius of curvature of about 130 mm while being heated at 135° C., thereby producing a thermoformed electrochromic element 10 having a 3D spherical shape as shown in FIG. 1B. The mold temperature was 146° C.
The mold temperature must be set close to the softening temperature of each support material, and if it is lower than that, sufficient shaping cannot be achieved. If it is too high, it takes a long time to cool down, which reduces productivity.

-光学レンズの接着形成-
作製したエレクトロクロミック素子に接着する光学レンズの材料として、ポリカーボネート樹脂(ユーピロンCLS3400、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製)を用い、前記熱成形後のエレクトロクロミック素子をモールド内にインサートし、射出成形によりレンズ形状に一体成形した(図1C参照)。
その後、エレクトロクロミック素子に接着して形成した光学レンズ部の表面を切削加工して、曲率をもたせることができた。更に、エレクトロクロミック素子と光学レンズを共に切削加工し、メガネフレームに収まる大きさに加工することができた。
- Adhesive formation of optical lenses -
A polycarbonate resin (Iupilon CLS3400, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Corporation) was used as the material for the optical lens to be bonded to the prepared electrochromic element, and the electrochromic element after thermoforming was inserted into a mold and integrally molded into a lens shape by injection molding (see FIG. 1C ).
After that, the surface of the optical lens part formed by bonding the electrochromic element was cut to give it a curvature. Furthermore, both the electrochromic element and the optical lens were cut to a size that could be fitted into an eyeglass frame.

<評価> <Evaluation>

-ゲル電解質層の相分離温度-
前記ゲル電解質層をホットプレート上に置き、加熱処理した。その際の膜表面を目視観察し、ゲル電解層の表面に液体が発生した際の温度を記録し、これを相分離温度とした。実施例1で作製したゲル電解質層の相分離温度を測定したところ、200℃を超えたため、測定を止めた。結果を表1に示す。
- Phase separation temperature of gel electrolyte layer -
The gel electrolyte layer was placed on a hot plate and heated. The membrane surface was visually observed, and the temperature at which liquid was generated on the surface of the gel electrolyte layer was recorded and used as the phase separation temperature. The phase separation temperature of the gel electrolyte layer produced in Example 1 was measured and was found to exceed 200° C., so the measurement was stopped. The results are shown in Table 1.

-剥離-
光学レンズが接着されたエレクトロクロミック素子に対し、剥離の有無を目視観察し、下記の評価基準により評価した。結果を表1に示す。
〇:視認できる剥離が発生しない
×:視認できる剥離が発生する
- Peeling -
The electrochromic element to which the optical lens was attached was visually observed for the presence or absence of peeling, and was evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.
◯: No visible peeling occurs ×: Visible peeling occurs

(実施例2~27及び比較例1~12)
実施例1において、ゲル電解質層に用いる重合性材料として、表1に記載の組成及び質量比に基づき作製した以外は、実施例1と同様にして、実施例2~27及び比較例1~12のエレクトロクロミック素子を作製した。なお、電解質としては、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム テトラシアノボレート(EMIMTCB)を、光重合開始剤としては、irgacure184(日本化薬株式会社製)をアクリレートの総量に対して0.5質量%混合処方した。
次に、作製した実施例2~27及び比較例1~12のエレクトロクロミック素子について、実施例1と同様にして、ゲル電解質層の相分離温度と剥離を評価した。結果を表1に示す。
(Examples 2 to 27 and Comparative Examples 1 to 12)
Electrochromic elements of Examples 2 to 27 and Comparative Examples 1 to 12 were produced in the same manner as in Example 1, except that the polymerizable material used in the gel electrolyte layer in Example 1 was produced based on the composition and mass ratio shown in Table 1. Note that 1-ethyl-3-methylimidazolium tetracyanoborate (EMIMTCB) was used as the electrolyte, and irgacure 184 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used as the photopolymerization initiator in a mixed formulation of 0.5 mass % relative to the total amount of acrylate.
Next, for the electrochromic devices prepared in Examples 2 to 27 and Comparative Examples 1 to 12, the phase separation temperature and peeling of the gel electrolyte layer were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 0007480561000003
表1中の略号の詳細については、以下に示すとおりである。
Figure 0007480561000003
Details of the abbreviations in Table 1 are as follows:

-その他(樹脂)-
・V3877(大同化成工業株式会社製)
-ウレタンアクリレート-
・UXF4002(日本化薬株式会社製)
・UV3000B(三菱ケミカル株式会社製)
・UN9200A(根上工業株式会社製)
・UV3200B(三菱ケミカル株式会社製)
・UN350(根上工業株式会社製)
・UXT6100(日本化薬株式会社製)
・UX5000(日本化薬株式会社製)
・UX4101(日本化薬株式会社製)
-Others (Resin)-
・V3877 (manufactured by Daido Chemical Industry Co., Ltd.)
- Urethane acrylate -
-UXF4002 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・UV3000B (Mitsubishi Chemical Corporation)
・UN9200A (manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.)
・UV3200B (Mitsubishi Chemical Corporation)
・UN350 (manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.)
・UXT6100 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
-UX5000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・UX4101 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

-PEOアクリレート(ポリエチレンオキシド(PEO)鎖を有する樹脂)-
・PEG400(日本化薬株式会社製)
・A400(新中村化学工業株式会社製)
・A600(新中村化学工業株式会社製)
・A1000(新中村化学工業株式会社製)
・AM-90G(新中村化学工業株式会社製)
・AM-130G(新中村化学工業株式会社製)
・AM-230G(新中村化学工業株式会社製)
・TA-210(第一工業製薬株式会社製)
-PEO acrylate (resin having polyethylene oxide (PEO) chains)-
PEG400 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・A400 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・A600 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・A1000 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・AM-90G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・AM-130G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・AM-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
・TA-210 (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)

-PMMAアクリレート(ポリメチルメタクリレート(PMMA)鎖を有する樹脂)-
・AA-6(東亜合成株式会社製)
-PMMA acrylate (resin having polymethyl methacrylate (PMMA) chain)-
・AA-6 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

(実施例28~71及び比較例13)
実施例1において、ゲル電解質層に用いる重合性材料として、表2に記載の組成及び質量比に基づき作製し、ゲル電解質層に用いる電解質として、表2に記載の電解質を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例28~71及び比較例13のエレクトロクロミック素子を作製した。なお、光重合開始剤としては、irgacure184(日本化薬株式会社製)をアクリレートの総量又はその他の重合性材料(V3877)の添加量に対して0.5質量%混合処方した。
次に、作製した実施例28~71及び比較例13のエレクトロクロミック素子について、実施例1と同様にして、ゲル電解質層の相分離温度と剥離を評価した。結果を表2に示す。
(Examples 28 to 71 and Comparative Example 13)
In Example 1, the electrochromic elements of Examples 28 to 71 and Comparative Example 13 were produced in the same manner as in Example 1, except that the polymerizable material used in the gel electrolyte layer was prepared based on the composition and mass ratio shown in Table 2, and the electrolyte used in the gel electrolyte layer was the electrolyte shown in Table 2. Note that, as the photopolymerization initiator, Irgacure 184 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was mixed and formulated at 0.5 mass % relative to the total amount of acrylate or the amount of other polymerizable material (V3877) added.
Next, for the electrochromic devices prepared in Examples 28 to 71 and Comparative Example 13, the phase separation temperature and peeling of the gel electrolyte layer were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

Figure 0007480561000004
Figure 0007480561000004

なお、支持体として用いたAD5503(帝人株式会社製)の軟化点は145℃であり、熱成形の金型の温度は146℃とした。
支持体の軟化点とは、支持体を構成する樹脂が変形し始める温度を意味する。支持体の軟化点は、TMA(熱機械分析)装置(株式会社コベルコ科研製)により、針入プローブを用いて、支持体に熱をかけていき、支持体を構成する樹脂の変位量を測定することにより、軟化点を求めた。
表2中の略号の詳細については、以下に示すとおりである。
The softening point of AD5503 (manufactured by Teijin Limited) used as the support was 145°C, and the temperature of the thermoforming mold was 146°C.
The softening point of the support means the temperature at which the resin constituting the support begins to deform. The softening point of the support was determined by applying heat to the support using a needle probe with a TMA (thermomechanical analysis) device (manufactured by Kobelco Research Institute, Ltd.) and measuring the amount of displacement of the resin constituting the support.
Details of the abbreviations in Table 2 are as follows:

-電解質-
・EMIMTCB(エチルメチルイミダゾリウムテトラシアノボレート、メルク社製)
・EMIMTFSI(エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、関東化学株式会社製)
・EMIMFSI(1-エチル-3-メチルイミダゾリウム ビスフルオロスルホニルイミド、関東化学株式会社製)
・EMIMBF4(1-エチル-3-メチルイミダゾリウム テトラフルオロボレート、東京化成工業株式会社製)
・EMIMDCA(1-エチル-3-メチルイミダゾリウム ジシアナミド、東京化成工業株式会社製)
・BMIMTFSI(1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム ビストリフルオロメタンスルホニルイミド、東京化成工業株式会社製)
・BMIMFSI(1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム ビスフルオロスルホニルイミド、関東化学株式会社製)
-Electrolytes-
EMITTCB (ethyl methylimidazolium tetracyanoborate, manufactured by Merck)
EMITFSI (ethylmethylimidazolium bistrifluoromethanesulfonimide, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.)
EMIMFSI (1-ethyl-3-methylimidazolium bisfluorosulfonylimide, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.)
EMIMBF4 (1-ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・EMIMDCA (1-ethyl-3-methylimidazolium dicyanamide, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
BMIMTFSI (1-butyl-3-methylimidazolium bistrifluoromethanesulfonylimide, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
BMIMFSI (1-butyl-3-methylimidazolium bisfluorosulfonylimide, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.)

(実施例72~92)
実施例1において、ゲル電解質層に用いる重合性材料として、表3に記載の組成及び質量比に基づき作製し、ゲル電解質層に用いる電解質として、EMIMTFSI(エチルメチルイミダゾリウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、関東化学株式会社製)を用いるとともに、支持体として、表3に記載の樹脂を用いて、表3の成形温度で熱成形した以外は、実施例1と同様にして、実施例72~92のエレクトロクロミック素子を作製した。なお、光重合開始剤としては、irgacure184(日本化薬株式会社製)をアクリレートの総量又はその他の重合性材料(V3877)の添加量に対して0.5質量%混合処方した。
次に、作製した実施例72~92のエレクトロクロミック素子について、実施例1と同様にして、ゲル電解質層の相分離温度と剥離を評価した。結果を表3に示す。
(Examples 72 to 92)
In Example 1, the electrochromic elements of Examples 72 to 92 were produced in the same manner as in Example 1, except that the polymerizable material used in the gel electrolyte layer was prepared based on the composition and mass ratio shown in Table 3, EMIMTFSI (ethyl methyl imidazolium bistrifluoromethanesulfonimide, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was used as the electrolyte used in the gel electrolyte layer, and the resin shown in Table 3 was used as the support and thermoformed at the molding temperature shown in Table 3. In addition, as the photopolymerization initiator, irgacure 184 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was mixed and formulated at 0.5 mass% with respect to the total amount of acrylate or the amount of other polymerizable material (V3877) added.
Next, for the electrochromic devices of Examples 72 to 92 thus fabricated, the phase separation temperature and peeling of the gel electrolyte layer were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

Figure 0007480561000005
表3中の略号の詳細については、以下に示すとおりである。
Figure 0007480561000005
Details of the abbreviations in Table 3 are as follows:

-支持体-
・SP5570、SP5571、SP5572、SP5573(ポリカーボネート樹脂基板、軟化点142℃、帝人株式会社製)
・SH1126、SH1127、SH1128、SH1129(ポリカーボネート樹脂基板、軟化点131℃、帝人株式会社製)
・APL5013VH、APL5014VH、APL5015VH、APL5016VH(環状オレフィンコポリマー樹脂基板、軟化点129℃、三菱ケミカル株式会社製)
- Support -
SP5570, SP5571, SP5572, SP5573 (polycarbonate resin substrate, softening point 142°C, manufactured by Teijin Limited)
SH1126, SH1127, SH1128, SH1129 (polycarbonate resin substrate, softening point 131°C, manufactured by Teijin Limited)
APL5013VH, APL5014VH, APL5015VH, APL5016VH (cyclic olefin copolymer resin substrate, softening point 129°C, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

本発明の態様は、例えば、以下のとおりである。
<1> 樹脂製の支持体と、第1の電極層と、エレクトロクロミック層と、第2の電極層とを順に設けてなる積層体を有するエレクトロクロミック素子であって、
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間にゲル電解質を有し、
前記ゲル電解質の相分離温度が前記支持体の軟化点より高いことを特徴とするエレクトロクロミック素子である。
<2> 前記第1の電極層と前記第2の電極層との間に、さらに劣化防止層を有する前記<1>に記載のエレクトロクロミック素子である。
<3> 前記ゲル電解質がバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がウレタン樹脂ユニットを含む前記<1>から<2>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<4> 前記ゲル電解質がバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がポリエチレンオキシド(PEO)鎖及びポリメチルメタクリレート(PMMA)鎖から選択される少なくとも1種を含む前記<1>から<3>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<5> 前記ゲル電解質の固形分が50質量%以下である前記<1>から<4>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<6> 前記ゲル電解質が、イオン液体を含む前記<1>から<5>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<7> 前記ゲル電解質が、イオン液体を50質量%以上含む前記<6>に記載のエレクトロクロミック素子である。
<8> 前記ゲル電解質の相分離温度が160℃以上である前記<1>から<7>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<9> 前記ゲル電解質の相分離温度と、前記支持体の軟化点との差分が10℃以上である前記<1>から<8>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<10> 前記支持体の軟化点が200℃以下である前記<1>から<9>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<11> 前記支持体が、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂から選択される少なくとも1種を含む前記<1>から<10>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<12> 前記ゲル電解質が層状のゲル電解質層であって、その厚みが30μm以上150μm以下である前記<1>から<11>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<13> 前記積層体が、少なくとも一方の表面に光学レンズを有する前記<1>から<12>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<14> 前記積層体が、熱成形による所望の曲面を有する前記<1>から<13>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子である。
<15> 前記<1>から<14>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子を製造する方法であって、
作製した積層体を所望の曲面形状を有するように熱成形する工程と、
前記積層体に光学レンズを形成する工程と、を含むことを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法である。
<16> 前記熱成形における加熱温度が、前記積層体の支持体の軟化点以上である前記<15>に記載のエレクトロクロミック素子の製造方法である。
<17> 前記<1>から<14>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子を有することを特徴とするエレクトロクロミック調光素子である。
<18> 前記<17>に記載のエレクトロクロミック調光素子を有することを特徴とするエレクトロクロミック調光レンズである。
<19> 前記<1>から<14>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子又は前記<17>に記載のエレクトロクロミック調光素子を有することを特徴とするエレクトロクロミック装置である。
<20> 前記エレクトロクロミック装置が、調光眼鏡、双眼鏡、オペラグラス、自転車用ゴーグル、時計、電子ペーパー、電子アルバム、又は電子広告板である前記<19>に記載のエレクトロクロミック装置である。
For example, aspects of the present invention are as follows.
<1> An electrochromic element having a laminate including a resin support, a first electrode layer, an electrochromic layer, and a second electrode layer provided in this order,
A gel electrolyte is provided between the first electrode layer and the second electrode layer,
The electrochromic element is characterized in that the phase separation temperature of the gel electrolyte is higher than the softening point of the support.
<2> The electrochromic element according to <1>, further comprising a degradation prevention layer between the first electrode layer and the second electrode layer.
<3> The electrochromic element according to any one of <1> and <2>, wherein the gel electrolyte contains a binder resin, and the binder resin contains a urethane resin unit.
<4> The electrochromic element according to any one of <1> to <3>, wherein the gel electrolyte contains a binder resin, and the binder resin contains at least one selected from a polyethylene oxide (PEO) chain and a polymethyl methacrylate (PMMA) chain.
<5> The electrochromic element according to any one of <1> to <4>, wherein the solid content of the gel electrolyte is 50 mass % or less.
<6> The electrochromic element according to any one of <1> to <5>, wherein the gel electrolyte contains an ionic liquid.
<7> The electrochromic element according to <6>, wherein the gel electrolyte contains an ionic liquid in an amount of 50 mass % or more.
<8> The electrochromic element according to any one of <1> to <7>, wherein the gel electrolyte has a phase separation temperature of 160° C. or higher.
<9> The electrochromic element according to any one of <1> to <8>, wherein a difference between a phase separation temperature of the gel electrolyte and a softening point of the support is 10° C. or more.
<10> The electrochromic element according to any one of <1> to <9>, wherein the support has a softening point of 200° C. or lower.
<11> The electrochromic element according to any one of <1> to <10>, wherein the support contains at least one resin selected from the group consisting of a polycarbonate resin, a polyethylene terephthalate resin, a polymethyl methacrylate resin, a urethane resin, a polyolefin resin, and a polyvinyl alcohol resin.
<12> The electrochromic element according to any one of <1> to <11>, wherein the gel electrolyte is a lamellar gel electrolyte layer having a thickness of 30 μm or more and 150 μm or less.
<13> The electrochromic element according to any one of <1> to <12>, wherein the laminate has an optical lens on at least one surface.
<14> The electrochromic element according to any one of <1> to <13>, wherein the laminate has a desired curved surface formed by thermoforming.
<15> A method for producing the electrochromic device according to any one of <1> to <14>,
A step of thermoforming the produced laminate so as to have a desired curved shape;
and forming an optical lens on the laminate.
<16> The method for producing an electrochromic element according to <15>, wherein the heating temperature in the thermoforming is equal to or higher than the softening point of the support of the laminate.
<17> An electrochromic light control device comprising the electrochromic element according to any one of <1> to <14>.
<18> An electrochromic photochromic lens comprising the electrochromic photochromic element according to <17>.
<19> An electrochromic device comprising the electrochromic element according to any one of <1> to <14> or the electrochromic light control element according to <17>.
<20> The electrochromic device according to <19>, wherein the electrochromic device is a photochromic spectacles, a binocular, an opera glass, a bicycle goggle, a watch, an electronic paper, an electronic album, or an electronic billboard.

前記<1>から<14>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子、前記<15>から<16>のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子の製造方法、前記<17>に記載のエレクトロクロミック調光素子、前記<18>に基材のエレクトロクロミック調光レンズ、及び前記<19>から<20>のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置によると、従来における前記諸問題を解決し、前記本発明の目的を達成することができる。 The electrochromic element described in any one of <1> to <14>, the manufacturing method for an electrochromic element described in any one of <15> to <16>, the electrochromic photochromic element described in <17>, the electrochromic photochromic lens having a substrate described in <18>, and the electrochromic device described in any one of <19> to <20> can solve the above-mentioned problems in the past and achieve the object of the present invention.

10 エレクトロクロミック素子
11 第1の支持体
12 第1の電極層
13 エレクトロクロミック層
14 ゲル電解質層
15 第2の電極層
16 第2の支持体
17 保護層
18 劣化防止層
19 接着層
20 エレクトロクロミック素子
21 光学レンズ
30 エレクトロクロミック素子
40 エレクトロクロミック素子
50 エレクトロクロミック素子
51 エレクトロクロミック調光素子
150 エレクトロクロミック調光眼鏡
REFERENCE SIGNS LIST 10 Electrochromic element 11 First support 12 First electrode layer 13 Electrochromic layer 14 Gel electrolyte layer 15 Second electrode layer 16 Second support 17 Protective layer 18 Deterioration prevention layer 19 Adhesive layer 20 Electrochromic element 21 Optical lens 30 Electrochromic element 40 Electrochromic element 50 Electrochromic element 51 Electrochromic dimming element 150 Electrochromic dimming glasses

特表2005-514647号公報JP 2005-514647 A 特開平07-175090号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-175090 特開2018-10106号公報JP 2018-10106 A

Claims (17)

樹脂製の支持体と、第1の電極層と、エレクトロクロミック層と、第2の電極層とを順に設けてなる、所望の曲面形状を有する積層体を有するエレクトロクロミック素子であって、
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間にゲル電解質を有し、
前記ゲル電解質がバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がウレタン樹脂ユニットを含み、
前記ゲル電解質の相分離温度が前記支持体の軟化点より高く、
前記ゲル電解質の相分離温度と、前記支持体の軟化点との差分が10℃以上であることを特徴とするエレクトロクロミック素子。
An electrochromic element having a laminate having a desired curved surface shape, the laminate being formed by sequentially providing a resin support, a first electrode layer, an electrochromic layer, and a second electrode layer,
A gel electrolyte is provided between the first electrode layer and the second electrode layer,
the gel electrolyte contains a binder resin, the binder resin contains a urethane resin unit,
the phase separation temperature of the gel electrolyte is higher than the softening point of the support;
An electrochromic element, wherein the difference between the phase separation temperature of the gel electrolyte and the softening point of the support is 10° C. or more.
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間に、さらに劣化防止層を有する請求項1に記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to claim 1, further comprising an anti-deterioration layer between the first electrode layer and the second electrode layer. 前記ゲル電解質がバインダー樹脂を含み、前記バインダー樹脂がポリエチレンオキシド(PEO)鎖及びポリメチルメタクリレート(PMMA)鎖から選択される少なくとも1種を含む請求項1から2のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to any one of claims 1 to 2, wherein the gel electrolyte contains a binder resin, and the binder resin contains at least one selected from a polyethylene oxide (PEO) chain and a polymethyl methacrylate (PMMA) chain. 前記ゲル電解質の固形分が50質量%以下である請求項1から3のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic device according to any one of claims 1 to 3, wherein the solid content of the gel electrolyte is 50% by mass or less. 前記ゲル電解質が、イオン液体を含む請求項1から4のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic device according to any one of claims 1 to 4, wherein the gel electrolyte contains an ionic liquid. 前記ゲル電解質が、イオン液体を50質量%以上含む請求項5に記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to claim 5, wherein the gel electrolyte contains 50% by mass or more of an ionic liquid. 前記ゲル電解質の相分離温度が160℃以上である請求項1から6のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to any one of claims 1 to 6, wherein the phase separation temperature of the gel electrolyte is 160°C or higher. 前記支持体の軟化点が200℃以下である請求項1から7のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to any one of claims 1 to 7, wherein the softening point of the support is 200°C or less. 前記支持体が、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂から選択される少なくとも1種を含む請求項1から8のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to any one of claims 1 to 8, wherein the support contains at least one resin selected from the group consisting of polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin, polymethyl methacrylate resin, urethane resin, polyolefin resin, and polyvinyl alcohol resin. 前記ゲル電解質が層状のゲル電解質層であって、その厚みが30μm以上150μm以下である請求項1から9のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 The electrochromic element according to any one of claims 1 to 9, wherein the gel electrolyte is a layered gel electrolyte layer having a thickness of 30 μm or more and 150 μm or less. 前記積層体が、少なくとも一方の表面に光学レンズを有する請求項1から10のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子。 An electrochromic device according to any one of claims 1 to 10, wherein the laminate has an optical lens on at least one surface. 請求項1から11のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子を製造する方法であって、
作製した積層体を所望の曲面形状を有するように熱成形する工程と、
前記積層体に光学レンズを形成する工程と、を含むことを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法。
A method for producing an electrochromic device according to any one of claims 1 to 11 , comprising the steps of:
A step of thermoforming the produced laminate so as to have a desired curved shape;
and forming an optical lens on the laminate.
前記熱成形における加熱温度が、前記積層体の支持体の軟化点以上である請求項12に記載のエレクトロクロミック素子の製造方法。 13. The method for producing an electrochromic device according to claim 12 , wherein the heating temperature in the thermoforming is equal to or higher than the softening point of the support of the laminate. 請求項1から11のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子を有することを特徴とするエレクトロクロミック調光素子。 An electrochromic light control element comprising the electrochromic element according to any one of claims 1 to 11 . 請求項14に記載のエレクトロクロミック調光素子を有することを特徴とするエレクトロクロミック調光レンズ。 An electrochromic photochromic lens comprising the electrochromic photochromic element according to claim 14 . 請求項1から11のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子又は請求項14に記載のエレクトロクロミック調光素子を有することを特徴とするエレクトロクロミック装置。 An electrochromic device comprising the electrochromic element according to any one of claims 1 to 11 or the electrochromic light control element according to claim 14 . 前記エレクトロクロミック装置が、調光眼鏡、双眼鏡、オペラグラス、自転車用ゴーグル、時計、電子ペーパー、電子アルバム、又は電子広告板である請求項16に記載のエレクトロクロミック装置。 17. The electrochromic device of claim 16 , wherein the electrochromic device is photochromic glasses, binoculars, opera glasses, bicycle goggles, a watch, electronic paper, an electronic album, or an electronic billboard.
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