JP7430154B2 - 加工装置、及び加工品の製造方法 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 301
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 27
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 18
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 120
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 71
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 61
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 26
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 24
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 18
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67236—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations the substrates being processed being not semiconductor wafers, e.g. leadframes or chips
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67271—Sorting devices
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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Description
本発明は、加工装置、及び加工品の製造方法に関するものである。
従来、特許文献1に示すように、切断システムにおいて、パッケージが搭載されたトレーをアンローディングしたり、新たなトレーをローディングしたりするトレーピッカーが設けられている。このトレーピッカーは、複数のトレーそれぞれを別々の列のピッカー駆動部材により独立的に水平、上下移動するように構成されている。
しかしながら、上記の切断システムでは、複数のトレーそれぞれが別々の列のピッカー駆動部材により独立的に水平、上下移動するように構成されているので、切断システムのフットプリントが大きくなってしまう。
そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであり、加工装置のフットプリントを低減することをその主たる課題とするものである。
すなわち本発明に係る加工装置は、加工対象物を加工する加工機構と、加工された加工対象物を複数のトレイに仕分ける仕分け機構と、前記トレイを移動させるトレイ移動機構とを備え、前記トレイ移動機構は、前記トレイが載置される3つ以上のトレイ載置部を有し、前記3つ以上のトレイ載置部が一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して前記仕分け機構による仕分け位置に移動可能に構成されていることを特徴とする。
このように構成した本発明によれば、加工装置のフットプリントを低減することができる。
次に、本発明について、例を挙げてさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。
本発明の加工装置は、前述のとおり、加工対象物を加工する加工機構と、加工された加工対象物を複数のトレイに仕分ける仕分け機構と、前記トレイを移動させるトレイ移動機構とを備え、前記トレイ移動機構は、前記トレイが載置される3つ以上のトレイ載置部を有し、前記3つ以上のトレイ載置部が一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して前記仕分け機構による仕分け位置に移動可能に構成されていることを特徴とする。
この加工装置であれば、3つ以上のトレイ載置部が一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して前記仕分け機構による仕分け位置に移動可能に構成されているので、加工装置のフットプリントを低減することができる。また、3つ以上のトレイ載置部が一列に配列されているので、加工された加工対象物を仕分ける際に各トレイまでの距離が同じとなり、各トレイに仕分ける際の搬送時間を同じにすることができ、生産性を向上することができる。
この加工装置であれば、3つ以上のトレイ載置部が一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して前記仕分け機構による仕分け位置に移動可能に構成されているので、加工装置のフットプリントを低減することができる。また、3つ以上のトレイ載置部が一列に配列されているので、加工された加工対象物を仕分ける際に各トレイまでの距離が同じとなり、各トレイに仕分ける際の搬送時間を同じにすることができ、生産性を向上することができる。
3つ以上のトレイ載置部が互いに独立して移動する際に互いに干渉しないようにするためには、前記トレイ移動機構は、前記3つ以上のトレイ載置部の少なくとも1つの高さ位置を変更する高さ位置変更部を有することが望ましい。
3つ以上のトレイ載置部が互いに独立して移動する際に互いに干渉しないようにしつつ、仕分け機構により各トレイに加工後の加工対象物を正確に載置できるようにするためには、前記高さ位置変更部は、前記トレイ載置部を前記仕分け位置における高さとなる上昇位置と、他の前記トレイ載置部と干渉しない高さとなる下降位置との間で昇降移動させるものであることが望ましい。
本発明の加工装置は、前記トレイを収容するトレイ収容部をさらに備えている。この構成において、前記トレイ移動機構は、前記3つ以上のトレイ載置部を、前記仕分け位置と前記トレイを前記トレイ収容部に収容するための収容位置との間で移動させることが望ましい。
トレイ収容部からトレイ載置部へのトレイの搬送及びトレイ載置部からトレイ収容部へのトレイの搬送を自動的に行うためには、本発明の加工装置は、前記トレイ収容部及び前記収容位置にある前記トレイ載置部の間で前記トレイを搬送するトレイ搬送機構をさらに備えることが望ましい。
トレイ移動機構の具体的な実施の態様としては、前記トレイ移動機構は、互いに平行に設けられた第1の移動レール及び第2の移動レールを有し、前記第1の移動レールにおいて2つの前記トレイ載置部が互いに干渉しないように移動可能に設けられており、前記第2の移動レールにおいて1つの前記トレイ載置部が前記第1の移動レールに設けられた2つの前記トレイ載置部に干渉しないように移動可能に設けられていることが望ましい。
また、上記の加工装置を用いて加工品を製造する加工品の製造方法も本発明の一態様である。
<本発明の一実施形態>
以下に、本発明に係る加工装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に示すいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
以下に、本発明に係る加工装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に示すいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
<加工装置の全体構成>
本実施形態の加工装置100は、加工対象物である封止済基板Wを切断することによって、複数の加工品である製品Pに個片化する切断装置である。
本実施形態の加工装置100は、加工対象物である封止済基板Wを切断することによって、複数の加工品である製品Pに個片化する切断装置である。
具体的に切断装置100は、図1に示すように、封止済基板Wを保持する2つの切断用テーブル(加工テーブル)2A、2Bと、封止済基板Wを切断用テーブル2A、2Bに搬送するために封止済基板Wを保持する第1保持機構3と、切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wを切断する切断機構(加工機構)4と、複数の製品Pが移される移載テーブル5と、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから移載テーブル5に搬送するために複数の製品Pを保持する第2保持機構6と、第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるための共通のトランスファ軸71を有する搬送用移動機構7と、切断機構4を切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wに対して移動させる切断用移動機構(加工用移動機構)8とを備えている。
ここで、封止済基板Wとは、半導体チップ、抵抗素子、キャパシタ素子等の電子素子が接続された基板に対して、少なくとも電子素子を樹脂封止するように樹脂成形したものである。封止済基板Wを構成する基板としては、リードフレーム、プリント配線板を用いることができ、これら以外にも、半導体製基板(シリコンウェーハ等の半導体ウェーハを含む)、金属製基板、セラミック製基板、ガラス製基板、樹脂製基板等を用いることができる。また、封止済基板Wを構成する基板には、配線が施されていても施されていなくてもよい。
以下の説明において、切断用テーブル2A、2Bの上面に沿った平面(水平面)内で互いに直交する方向をそれぞれX方向及びY方向、X方向及びY方向に直交する鉛直方向をZ方向とする。具体的には、図1の左右方向をX方向とし、上下方向をY方向とする。後述するが、X方向は、支持体812の移動方向であり、また、門型の支持体812における一対の脚部を架け渡される梁部(ビーム部)の長手方向(梁部の延びる方向)に直交する方向である(図2参照)。
<切断用テーブル>
2つの切断用テーブル2A、2Bは、X方向、Y方向及びZ方向に固定して設けられている。なお、切断用テーブル2Aは、切断用テーブル2Aの下に設けられた回転機構9Aによってθ方向に回転可能である。また、切断用テーブル2Bは、切断用テーブル2Bの下に設けられた回転機構9Bによってθ方向に回転可能である。
2つの切断用テーブル2A、2Bは、X方向、Y方向及びZ方向に固定して設けられている。なお、切断用テーブル2Aは、切断用テーブル2Aの下に設けられた回転機構9Aによってθ方向に回転可能である。また、切断用テーブル2Bは、切断用テーブル2Bの下に設けられた回転機構9Bによってθ方向に回転可能である。
これら2つの切断用テーブル2A、2Bは、水平面上においてX方向に沿って設けられている。具体的には、2つの切断用テーブル2A、2Bは、それらの上面が同一の水平面上に位置する(Z方向において同じ高さ位置する)ように配置されるとともに(図4参照)、それらの上面の中心(具体的には回転機構9A、9Bによる回転中心)がX方向に延びる同一直線上に位置するように配置されている(図2及び図3参照)。
また、2つの切断用テーブル2A、2Bは、封止済基板Wを吸着保持するものであり、図1に示すように、2つの切断用テーブル2A、2Bに対応して、吸着保持するための2つの真空ポンプ10A、10Bが配置されている。各真空ポンプ10A、10Bは、例えば水封式真空ポンプである。
ここで、切断用テーブル2A、2BがXYZ方向に固定されているため、真空ポンプ10A、10Bから切断用テーブル2A、2Bに接続される配管(不図示)を短くすることができ、配管の圧力損失を低減して、吸着力の低下を防止することができる。その結果、例えば1mm角以下の極小パッケージであっても確実に切断用テーブル2A、2Bに吸着することができる。また、配管の圧力損失による吸着力の低下を防止できるので、真空ポンプ10A、10Bの容量を小さくすることができ、小型化やコストダウンにもつながる。
<第1保持機構>
第1保持機構3は、図1に示すように、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送するために封止済基板Wを保持するものである。この第1保持機構3は、図5及び図6に示すように、封止済基板Wを吸着保持するための複数の吸着部311が設けられた吸着ヘッド31と、当該吸着ヘッド31の吸着部311に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド31が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送する。
第1保持機構3は、図1に示すように、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送するために封止済基板Wを保持するものである。この第1保持機構3は、図5及び図6に示すように、封止済基板Wを吸着保持するための複数の吸着部311が設けられた吸着ヘッド31と、当該吸着ヘッド31の吸着部311に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド31が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送する。
基板供給機構11は、図1に示すように、複数の封止済基板Wが外部から収容される基板収容部111と、当該基板収容部111に収容された封止済基板Wを第1保持機構3により吸着保持される保持位置RPに移動させる基板供給部112とを有している。この保持位置RPは、2つの切断用テーブル2A、2BとX方向において同列となるように設定されている。なお、基板供給機構11は、第1保持機構3により吸着される封止済基板Wを柔軟な状態として、吸着を容易とするために加熱する加熱部113を有していても良い。
<切断機構(加工機構)>
切断機構4は、図1、図2及び図3に示すように、ブレード41A、41B及び2つのスピンドル部42A、42Bからなる2つの回転工具40を有するものである。2つのスピンドル部42A、42Bは、それらの回転軸がY方向に沿うように設けられており、それらに取り付けられるブレード41A、41Bが互いに対向するように配置される(図3参照)。スピンドル部42Aのブレード41A及びスピンドル部42Bのブレード41Bは、X方向とZ方向とを含む面内において回転することによって各切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wを切断する。なお、本実施形態の切断装置100には、図4に示すように、ブレード41A、41Bによって発生する摩擦熱を抑えるために切削水(加工液)を噴射する噴射ノズル121を有する液体供給機構12が設けられている。この噴射ノズル121は、例えば、後述するZ方向移動部83に支持されている。
切断機構4は、図1、図2及び図3に示すように、ブレード41A、41B及び2つのスピンドル部42A、42Bからなる2つの回転工具40を有するものである。2つのスピンドル部42A、42Bは、それらの回転軸がY方向に沿うように設けられており、それらに取り付けられるブレード41A、41Bが互いに対向するように配置される(図3参照)。スピンドル部42Aのブレード41A及びスピンドル部42Bのブレード41Bは、X方向とZ方向とを含む面内において回転することによって各切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wを切断する。なお、本実施形態の切断装置100には、図4に示すように、ブレード41A、41Bによって発生する摩擦熱を抑えるために切削水(加工液)を噴射する噴射ノズル121を有する液体供給機構12が設けられている。この噴射ノズル121は、例えば、後述するZ方向移動部83に支持されている。
<移載テーブル>
本実施形態の移載テーブル5は、図1に示すように、後述する検査部13により検査された複数の製品Pが移されるテーブルである。この移載テーブル5は、いわゆるインデックステーブルといわれるものであり、複数の製品Pを各種トレイ21に仕分けする前に、複数の製品Pが一時的に載置される。また、移載テーブル5は、2つの切断用テーブル2A、2Bと水平面上においてX方向に沿って一列に配置される。さらに、移載テーブル5は、テーブル移動機構25によりY方向に沿って前後に移動可能であり、仕分け機構20まで移動することができる。なお、テーブル移動機構25は、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。そして、移載テーブル5に載置された複数の製品Pは、検査部13による検査結果(良品、不良品など)に応じて、仕分け機構20によって各種トレイ21に仕分けされる。
本実施形態の移載テーブル5は、図1に示すように、後述する検査部13により検査された複数の製品Pが移されるテーブルである。この移載テーブル5は、いわゆるインデックステーブルといわれるものであり、複数の製品Pを各種トレイ21に仕分けする前に、複数の製品Pが一時的に載置される。また、移載テーブル5は、2つの切断用テーブル2A、2Bと水平面上においてX方向に沿って一列に配置される。さらに、移載テーブル5は、テーブル移動機構25によりY方向に沿って前後に移動可能であり、仕分け機構20まで移動することができる。なお、テーブル移動機構25は、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。そして、移載テーブル5に載置された複数の製品Pは、検査部13による検査結果(良品、不良品など)に応じて、仕分け機構20によって各種トレイ21に仕分けされる。
なお、製品Pを収容する前のトレイ21は、トランスファ軸71に沿って移動するトレイ搬送機構22によりトレイ移動機構24に搬送され、その後、トレイ移動機構24により所定の仕分け位置X1に搬送されて、仕分け機構20によって仕分けられる製品Pが載置される。仕分けされた後に各種トレイ21は、トレイ移動機構24及びトレイ搬送機構22によりトレイ収容部23に収容される。本実施形態では、トレイ収容部23に、例えば製品Pを収容する前のトレイ21、良品の製品Pを収容したトレイ21、リワーク(再検査)が必要な不良品の製品Pを収容したトレイ21といった3種類のトレイ21を収容するように構成されている。なお、トレイ移動機構24については後述する。
<検査部>
ここで、検査部13は、図1に示すように、切断用テーブル2A、2Bと移載テーブル5との間に設けられ、第2保持機構6に保持された複数の製品Pを検査するものである。本実施形態の検査部13は、製品Pの封止面(パッケージ面)を検査する第1検査部131と、製品Pのリード面を検査する第2検査部132とを有している。第1検査部131は、パッケージ面を検査するための光学系を有する撮像カメラであり、第2検査部132は、リード面を検査するための光学系を有する撮像カメラである。なお、第1検査部131及び第2検査部132を共通としても良い。
ここで、検査部13は、図1に示すように、切断用テーブル2A、2Bと移載テーブル5との間に設けられ、第2保持機構6に保持された複数の製品Pを検査するものである。本実施形態の検査部13は、製品Pの封止面(パッケージ面)を検査する第1検査部131と、製品Pのリード面を検査する第2検査部132とを有している。第1検査部131は、パッケージ面を検査するための光学系を有する撮像カメラであり、第2検査部132は、リード面を検査するための光学系を有する撮像カメラである。なお、第1検査部131及び第2検査部132を共通としても良い。
本実施形態の封止済基板W及び製品Pは、基板の一面が樹脂成形された構成となっている。このような構成において、樹脂成形された面は、基板に接続された電子素子が樹脂封止された面であって、「封止面」又は「パッケージ面」と呼ばれる。一方、樹脂成形された面とは反対側の樹脂成形されない面は、通常製品の外部接続電極として機能するリードが露出されるので、リード面と呼ばれる。このリードが、BGA(Ball Grid Array)などの電子部品で用いられる突起状電極の場合には、「ボール面」と呼ばれることもある。さらに、樹脂成形された面とは反対側の樹脂成形されない面は、リードが形成されていない形態もあるので、「基板面」と呼ばれることもある。本実施形態の説明では、樹脂成形された面を「封止面」又は「パッケージ面」と記載し、樹脂成形された面と反対側の樹脂成形されない面を「リード面」と記載する。
また、検査部13により複数の製品Pの両面を検査可能にするために、複数の製品Pを反転させる反転機構14が設けられている(図1参照)。この反転機構14は、複数の製品Pを保持する保持テーブル141と、当該保持テーブル141を表裏逆となるように反転させるモータなどの反転部142とを有している。
第2保持機構6が切断用テーブル2A、2Bから複数の製品Pを保持した際には、製品Pのパッケージ面が下側を向いている。この状態で、切断用テーブル2A、2Bから反転機構14に複数の製品Pを搬送する途中で、第1検査部131により製品Pのパッケージ面が検査される。その後、第2保持機構6に保持された複数の製品Pが反転機構14により反転される。この状態で、製品Pのリード面が下側を向いており、反転機構14を第2検査部132に移動させることによって、製品Pのリード面が検査される。
<第2保持機構>
第2保持機構6は、図1に示すように、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから移載テーブル5に搬送するために複数の製品Pを保持するものである。この第2保持機構6は、図8に示すように、複数の製品Pを吸着保持するための複数の吸着部611が設けられた吸着ヘッド61と、当該吸着ヘッド61の吸着部611に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド61が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから保持テーブル141又は移載テーブル5に搬送する。
第2保持機構6は、図1に示すように、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから移載テーブル5に搬送するために複数の製品Pを保持するものである。この第2保持機構6は、図8に示すように、複数の製品Pを吸着保持するための複数の吸着部611が設けられた吸着ヘッド61と、当該吸着ヘッド61の吸着部611に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド61が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから保持テーブル141又は移載テーブル5に搬送する。
<搬送用移動機構>
搬送用移動機構7は、図1に示すように、第1保持機構3を少なくとも基板供給機構11と切断用テーブル2A、2Bとの間で移動させるとともに、第2保持機構6を少なくとも切断用テーブル2A、2Bと保持テーブル141との間で移動させるものである。
搬送用移動機構7は、図1に示すように、第1保持機構3を少なくとも基板供給機構11と切断用テーブル2A、2Bとの間で移動させるとともに、第2保持機構6を少なくとも切断用テーブル2A、2Bと保持テーブル141との間で移動させるものである。
そして、搬送用移動機構7は、図1に示すように、2つの切断用テーブル2A、2B及び移載テーブル5の配列方向(X方向)に沿って一直線に延び、第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるための共通のトランスファ軸71を有する。
このトランスファ軸71は、第1保持機構3が基板供給機構11の基板供給部112の上方に移動できるとともに、第2保持機構6が移載テーブル5の上方に移動できる範囲で設けられている(図1参照)。また、このトランスファ軸71に対して、第1保持機構3、第2保持機構6、切断用テーブル2A、2B及び移載テーブル5は、平面視において同じ側(Y方向において手前側)に設けられている。その他、検査部13、反転機構14、各種トレイ21、トレイ搬送機構22、トレイ収容部23、後述する第1クリーニング機構18及び第2クリーニング機構19、回収容器172も、トランスファ軸71に対して同じ側(Y方向において手前側)に設けられている。なお、仕分け機構20は、トランスファ軸71に対してY方向において奥側に設けられている。
さらに搬送用移動機構7は、図5、図6及び図8に示すように、トランスファ軸71に沿ってX方向に第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるメイン移動機構72と、トランスファ軸71に対して第1保持機構3及び第2保持機構6をZ方向に昇降移動させる昇降移動機構73と、トランスファ軸71に対して第1保持機構3及び第2保持機構6をY方向に水平移動させる水平移動機構74とを有している。
メイン移動機構72は、図5~図8に示すように、トランスファ軸71に設けられ、第1保持機構3及び第2保持機構6をガイドする共通のガイドレール721と、当該ガイドレール721に沿って第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるラックアンドピニオン機構722とを有している。
ガイドレール721は、トランスファ軸71に沿ってX方向に一直線に延びており、トランスファ軸71と同様に、第1保持機構3が基板供給機構11の基板供給部112の上方に移動できるとともに、第2保持機構6が移載テーブル5の上方に移動できる範囲で設けられている。このガイドレール721には、昇降移動機構73及び水平移動機構74を介して第1保持機構3及び第2保持機構6が設けられるスライド部材723がスライド可能に設けられている。ここで、ガイドレール721は第1保持機構3及び第2保持機構6に共通するが、昇降移動機構73、水平移動機構74及びスライド部材723は、第1保持機構3及び第2保持機構6のそれぞれに対して個別に設けられている。
ラックアンドピニオン機構722は、第1保持機構3及び第2保持機構6に共通のカムラック722aと、第1保持機構3及び第2保持機構6それぞれに設けられ、アクチュエータ(不図示)により回転するピニオンギア722bとを有している。カムラック722aは、共通のトランスファ軸71に設けられており、複数のカムラック要素を連結することにより、種々の長さに変更することができるものである。また、ピニオンギア722bは、スライド部材723に設けられ、いわゆるローラピニオンと呼ばれるものであり、図7に示すように、モータの回転軸とともに回転する一対のローラ本体722b1と、当該一対のローラ本体722b1の間において周方向に等間隔に設けられ、ローラ本体722b1に対して転動可能に設けられた複数のローラピン722b2とを有するものである。本実施形態のラックアンドピニオン機構722は、上記のローラピニオンを用いているので、カムラック722aに対して2つ以上のローラピン722b2が接触することになり、正逆方向にバックラッシが発生せず、第1保持機構3及び第2保持機構6をX方向に移動させる際に位置決め精度が良くなる。
昇降移動機構73は、図5及び図8に示すように、第1保持機構3及び第2保持機構6それぞれに対応して設けられている。第1保持機構3の昇降移動機構73は、図5及び図6に示すように、トランスファ軸71(具体的にはメイン移動機構72)と第1保持機構3との間に介在して設けられており、Z方向に沿って設けられたZ方向ガイドレール73aと、当該Z方向ガイドレール73aに沿って第1保持機構3を移動させるアクチュエータ部73bとを有している。なお、アクチュエータ部73bは、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。なお、第2保持機構6の昇降移動機構73の構成は、図8に示すように、第1保持機構3の昇降移動機構73と同様である。
水平移動機構74は、図5、図6及び図8に示すように、第1保持機構3及び第2保持機構6それぞれに対応して設けられている。第1保持機構3の水平移動機構74は、図5及び図6に示すように、トランスファ軸71(具体的には昇降移動機構73)と第1保持機構3との間に介在して設けられており、Y方向に沿って設けられたY方向ガイドレール74aと、第1保持機構3に対してY方向ガイドレール74aの一方側に力を付与する弾性体74bと、第1保持機構3をY方向ガイドレール74aの他方側に移動させるカム機構74cとを有する。ここで、カム機構74cは、偏心カムを用いたものであり、当該偏心カムをモータ等のアクチュエータで回転させることにより、第1保持機構3のY方向への移動量を調整することができる。
なお、第2保持機構6の水平移動機構74の構成は、図8に示すように、第1保持機構3の昇降移動機構73と同様である。また、第2保持機構6には水平移動機構74を設けない構成としても良いし、第1保持機構3及び第2保持機構6の両方に水平移動機構74を設けない構成としても良い。さらに、水平移動機構74は、昇降移動機構73と同様に、カム機構74cを用いることなく、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。
<切断用移動機構(加工用移動機構)>
切断用移動機構8は、2つのスピンドル部42A、42Bそれぞれを、X方向、Y方向及びZ方向それぞれに独立して直線移動させるものである。
切断用移動機構8は、2つのスピンドル部42A、42Bそれぞれを、X方向、Y方向及びZ方向それぞれに独立して直線移動させるものである。
具体的に切断用移動機構8は、図2、図3、図9及び図10に示すように、スピンドル部42A、42BをX方向に直線移動させるX方向移動部81と、スピンドル部42A、42BをY方向に直線移動させるY方向移動部82と、スピンドル部42A、42BをZ方向に直線移動させるZ方向移動部83とを備えている。
X方向移動部81は、2つの切断用テーブル2A、2Bで共通のものであり、特に図2及び図3に示すように、2つの切断用テーブル2A、2Bを挟んでX方向に沿って設けられた一対のX方向ガイドレール811と、当該一対のX方向ガイドレール811に沿って移動するとともに、Y方向移動部82及びZ方向移動部83を介してスピンドル部42A、42Bを支持する支持体812とを有している。一対のX方向ガイドレール811は、X方向に沿って設けられた2つの切断用テーブル2A、2Bの側方に設けられている。また、支持体812は、例えば門型のものであり、Y方向に延びる形状を有している。具体的に支持体812は、一対のX方向ガイドレール811から上方に延びる一対の脚部と、当該一対の脚部に架け渡される梁部(ビーム部)とを有し、当該梁部がY方向に延びている。
そして、支持体812は、例えば、X方向に延びるボールねじ機構813により、一対のX方向ガイドレール811上をX方向に沿って直線的に往復移動する。このボールねじ機構813はサーボモータ等の駆動源(不図示)により駆動される。その他、支持体812は、リニアモータ等の他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。
Y方向移動部82は、特に図3に示すように、支持体812においてY方向に沿って設けられたY方向ガイドレール821と、当該Y方向ガイドレール821に沿って移動するY方向スライダ822とを有している。Y方向スライダ822は、例えばリニアモータ823により駆動されるものであり、Y方向ガイドレール821上を直線的に往復移動する。本実施形態では、2つのスピンドル部42A、42Bに対応して2つのY方向スライダ822が設けられている。これにより、2つのスピンドル部42A、42Bは互いに独立してY方向に移動可能とされている。その他、Y方向スライダ822は、ボールねじ機構を用いた他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。
Z方向移動部83は、図2~図4に示すように、各Y方向スライダ822においてZ方向に沿って設けられたZ方向ガイドレール831と、当該Z方向ガイドレール831に沿って移動するとともにスピンドル部42A、32Bを支持するZ方向スライダ832とを有している。つまり、Z方向移動部83は、各スピンドル部42A、32Bに対応して設けられている。Z方向スライダ832は、例えば、偏心カム機構(不図示)により駆動されるものであり、Z方向ガイドレール831上を直線的に往復移動する。その他、Z方向スライダ832は、ボールねじ機構等の他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。
この切断用移動機構8とトランスファ軸71との位置関係は、図1及び図4に示すように、トランスファ軸71が、切断用移動機構8の上方において切断用移動機構8を横切るように配置されている。具体的にトランスファ軸71は、支持体812の上方において当該支持体812を横切るように配置され、トランスファ軸71及び支持体812は互いに交差する位置関係となる。
<加工屑収容部>
また、本実施形態の切断装置100は、図1に示すように、封止済基板Wの切断により生じた端材などの加工屑Sを収容する加工屑収容部17をさらに備えている。
また、本実施形態の切断装置100は、図1に示すように、封止済基板Wの切断により生じた端材などの加工屑Sを収容する加工屑収容部17をさらに備えている。
この加工屑収容部17は、図2~図4に示すように、切断用テーブル2A、2Bの下方に設けられており、平面視において切断用テーブル2A、2Bを取り囲む上部開口171Xを有する案内シュータ171と、当該案内シュータ171によりガイドされた加工屑Sを回収する回収容器172とを有している。加工屑収容部17を切断用テーブル2A、2Bの下方に設けることによって、加工屑Sの回収率を向上することができる。
案内シュータ171は、切断用テーブル2A、2Bから飛散又は落下した加工屑Sを回収容器172に導くものである。本実施形態は、案内シュータ171の上部開口171Xが切断用テーブル2A、2Bを取り囲むように構成されているので(図3参照)、加工屑Sを取りこぼしにくくなり、加工屑Sの回収率を一層向上することができる。また、案内シュータ171は、切断用テーブル2A、2Bの下に設けられた回転機構9A、9Bを取り囲むように設けられており(図4参照)、加工屑S及び切削水から回転機構9A、9Bを保護するように構成されている。
本実施形態では、加工屑収容部17は2つの切断用テーブル2A、2Bに共通のものとされているが、切断用テーブル2A、2Bそれぞれに対応して設けられても良い。
回収容器172は、案内シュータ171を自重により通過した加工屑Sを回収するものであり、本実施形態では、図4等に示すように、2つの切断用テーブル2A、2Bそれぞれに対応して設けられている。そして、2つの回収容器172は、トランスファ軸の手前側に配置されており、それぞれ独立して切断装置100の手前側から取り外すことができるように構成されている。この構成により、加工屑Sの廃棄等のメンテナンス性を向上することができる。なお、回収容器172は、封止済基板Wのサイズや、加工屑Sのサイズ及び量、作業性などを考慮して、全ての切断用テーブルの下全体に1つ設けて良いし、3つ以上に分割して設けても良い。
また、加工屑収容部17は、図4等に示すように、切削水と加工屑とを分離する分離部173を有している。この分離部173の構成としては、例えば、回収容器172の底面に切削水を通過させる多孔板等のフィルタを設けることが考えられる。この分離部173により、回収容器172に切削水を溜めることなく、加工屑Sを回収することができる。
<第1クリーニング機構>
また、本発明の切断装置100は、図1及び図5に示すように、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面側(リード面)をクリーニングする第1クリーニング機構18をさらに備えている。この第1クリーニング機構18は、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射する噴射ノズル18a(図5参照)によって、製品Pの上面側をクリーニングするものである。
また、本発明の切断装置100は、図1及び図5に示すように、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面側(リード面)をクリーニングする第1クリーニング機構18をさらに備えている。この第1クリーニング機構18は、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射する噴射ノズル18a(図5参照)によって、製品Pの上面側をクリーニングするものである。
この第1クリーニング機構18は、図5に示すように、第1保持機構3とともにトランスファ軸71に沿って移動可能に構成されている。ここでは、第1クリーニング機構18は、トランスファ軸71に設けられるガイドレール721をスライドするスライド部材723に設けられている。ここで、第1クリーニング機構18及びスライド部材723の間には、第1クリーニング機構18をZ方向に昇降移動するための昇降移動機構181が設けられている。この昇降移動機構181は、例えばラックアンドピニオン機構を用いたもの、ボールねじ機構を用いたもの、又はエアシリンダを用いたもの等が考えられる。
<第2クリーニング機構>
さらに、本発明の切断装置100は、図1に示すように、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面側(パッケージ面)をクリーニングする第2クリーニング機構19をさらに備えている。この第2クリーニング機構19は、切断用テーブル2Bと検査部13との間に設けられており、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射することによって、製品Pの下面側をクリーニングする。つまり、第2保持機構6がトランスファ軸71に沿って移動される途中において、第2クリーニング機構19は製品Pの下面側をクリーニングする。
さらに、本発明の切断装置100は、図1に示すように、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面側(パッケージ面)をクリーニングする第2クリーニング機構19をさらに備えている。この第2クリーニング機構19は、切断用テーブル2Bと検査部13との間に設けられており、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射することによって、製品Pの下面側をクリーニングする。つまり、第2保持機構6がトランスファ軸71に沿って移動される途中において、第2クリーニング機構19は製品Pの下面側をクリーニングする。
<切断装置の動作の一例>
次に、切断装置100の動作の一例を説明する。図9には、切断装置10の動作における第1保持機構3の移動経路、及び、第2保持機構6の移動経路を示している。なお、本実施形態においては、切断装置100の動作、例えば封止済基板Wの搬送、封止済基板Wの切断、製品Pの検査、後述する各種トレイの移動、製品Pの仕分けなど、すべての動作や制御は制御部CTL(図1参照)により行われる。
次に、切断装置100の動作の一例を説明する。図9には、切断装置10の動作における第1保持機構3の移動経路、及び、第2保持機構6の移動経路を示している。なお、本実施形態においては、切断装置100の動作、例えば封止済基板Wの搬送、封止済基板Wの切断、製品Pの検査、後述する各種トレイの移動、製品Pの仕分けなど、すべての動作や制御は制御部CTL(図1参照)により行われる。
基板供給機構11の基板供給部112は、第1保持機構3により保持される保持位置RPに向けて、基板収容部111に収容された封止済基板Wを移動させる。
次に、搬送用移動機構7は第1保持機構3を保持位置RPに移動させ、第1保持機構3は封止済基板Wを吸着保持する。その後、搬送用移動機構7は、封止済基板Wを保持した第1保持機構3を切断用テーブル2A、2Bに移動させて、第1保持機構3は吸着保持を解除して、封止済基板Wを切断用テーブル2A、2Bに載置する。このとき、メイン移動機構72により封止済基板WのX方向の位置を調整し、水平移動機構74により封止済基板WのY方向の位置を調整する。そして、切断用テーブル2A、2Bは、封止済基板Wを吸着保持する。
ここで、封止済基板Wを保持した第1保持機構3を切断用テーブル2Bに移動させる場合には、昇降移動機構73が第1保持機構3を切断用移動機構8(支持体812)に物理的に干渉しない位置まで上昇させる。なお、封止済基板Wを保持した第1保持機構3を切断用テーブル2Bに移動させる際に、支持体812を切断用テーブル2Bから移載テーブル5側に退避させる場合には、上記のように第1保持機構3を昇降させる必要はない。
この状態で、切断用移動機構8が2つのスピンドル部42A、42BをX方向及びY方向に順次移動させるとともに、切断用テーブル2A、2Bが回転することによって、封止済基板Wを格子状に切断して個片化する。
切断後に、搬送用移動機構7は第1クリーニング機構18を移動させて、切断用テーブル2A、2Bに保持されている複数の製品Pの上面側(リード面)をクリーニングする。このクリーニングの後、搬送用移動機構7は、第1保持機構3及び第1クリーニング機構18を所定の位置に退避させる。
次に、搬送用移動機構7は第2保持機構6を切断後の切断用テーブル2A、2Bに移動させ、第2保持機構6は複数の製品Pを吸着保持する。その後、搬送用移動機構7は、複数の製品Pを保持した第2保持機構6を第2クリーニング機構19に移動させる。これにより、第2クリーニング機構19が、第2保持機構6に保持されている複数の製品Pの下面側(パッケージ面)をクリーニングする。
クリーニングの後、第2保持機構6に保持された複数の製品Pは、検査部13及び反転機構14により、両面検査が行われる。その後、搬送用移動機構7は、第2保持機構6を移載テーブル5に移動させて、第2保持機構6は吸着保持を解除して、複数の製品Pを移載テーブル5に載置する。移載テーブル5に載置された複数の製品Pは、検査部13による検査結果(良品、不良品など)に応じて、仕分け機構20によって各種トレイ21に仕分けされる。
なお、両面検査については、例えば、まず、第2保持機構6により吸着保持した状態で製品Pの一方の面を検査する。次に、第2保持機構6から反転機構14の保持テーブル141に製品Pを移載して、反転後の保持テーブル141により吸着保持した状態で製品Pの他方の面を検査することにより、両面検査を実行することができる。そして、この後の反転テーブル14から移載テーブル5への製品Pの搬送は、保持テーブル141から第2保持機構6に移載することにより行うことができる。また、保持テーブル141をX方向に移動可能な構成とし、保持テーブル141又は移載テーブル5の少なくとも一方をZ方向に移動可能な構成として、保持テーブル141を移載テーブル5の上方に移動させることにより、製品Pを移載テーブル5に搬送して移載することもできる。
<トレイ移動機構>
次に、本実施形態のトレイ移動機構24の詳細な構成について説明する。
本実施形態のトレイ移動機構24は、図10~図12に示すように、3種類のトレイ21それぞれを移動させるものである。ここで、3種類のトレイ21は、例えば、良品の製品Pを収容する第1、第2のトレイ21a、21bと、リワーク(再検査)が必要な不良品の製品Pを収容する第3のトレイ21cである。
次に、本実施形態のトレイ移動機構24の詳細な構成について説明する。
本実施形態のトレイ移動機構24は、図10~図12に示すように、3種類のトレイ21それぞれを移動させるものである。ここで、3種類のトレイ21は、例えば、良品の製品Pを収容する第1、第2のトレイ21a、21bと、リワーク(再検査)が必要な不良品の製品Pを収容する第3のトレイ21cである。
具体的にトレイ移動機構24は、図10及び図11に示すように、3種類のトレイ21a~21cそれぞれが載置されるトレイ載置部241a~241cと、それらトレイ載置部241a~241cを直線上に移動させる移動レール242A、242Bとを備えている。そして、トレイ移動機構24は、3つのトレイ載置部241a~241cがY方向に沿って一列に配置されるとともに、当該一列の方向(Y方向)に沿って互いに独立して仕分け機構20による仕分け位置X1に移動可能に構成されている。
なお、以下において、第1のトレイ21aが載置されるトレイ載置部241aを第1のトレイ載置部241aといい、第2のトレイ21bが載置されるトレイ載置部241bを第2のトレイ載置部241bといい、第3のトレイ21cが載置されるトレイ載置部241cを第3のトレイ載置部241cという。
具体的に本実施形態の移動レール242A、242Bは、互いに平行に設けられた第1の移動レール242A及び第2の移動レール242Bを有している。第1の移動レール242A及び第2の移動レール242Bは何れもY方向に沿って延びている。そして第1の移動レール242Aには、第1、第2のトレイ載置部241a、241bが互いに干渉しないように移動可能に設けられており、第2の移動レール242Bには、第3のトレイ載置部241cが、第1の移動レール242Aに設けられた第1、第2のトレイ載置部241a、241bに干渉しないように移動可能に設けられている。
本実施形態では、第1、第2のトレイ載置部241a、241bは、第1の移動レール242Aにおいて互いに対向する左右側面(X方向における側面)に移動可能に設けられている。具体的に第1のトレイ載置部241aは、第1の移動レール242Aの左側面に移動可能に設けられ、第2のトレイ載置部241bは、第1の移動レール242Aの右側面に移動可能に設けられている。また、第1、第2のトレイ載置部241a、241bは、第1の移動レール242A上において一列となるように配置されている。そして、第1の移動レール242Aにおいて第1、第2のトレイ載置部241a、241bそれぞれは、Y方向に延びるボールねじ機構243Aにより、第1の移動レール242A上をY方向に沿って直線的に往復移動する。このボールねじ機構243Aはサーボモータ等の駆動源(不図示)により駆動される。その他、第1、第2のトレイ載置部241a、241bは、リニアモータ等の他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。
第2の移動レール242Bには、その左側面に第3のトレイ載置部241cが移動可能に設けられている。また、第2の移動レール242Bに設けられた第3のトレイ載置部241cは、第1、第2のトレイ載置部241a、241bと一列となるように第1の移動レール242A側に延びている。そして、第2の移動レール242Bにおいて第3のトレイ載置部241cは、Y方向に延びるボールねじ機構243Bにより、第2の移動レール242B上をY方向に沿って直線的に往復移動する。このボールねじ機構243Bはサーボモータ等の駆動源(不図示)により駆動される。その他、第3のトレイ載置部241cは、リニアモータ等の他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。
そして、トレイ移動機構24は、図10~図12に示すように、第1~第3のトレイ載置部241a~241cそれぞれを、仕分け機構20により仕分けされる仕分け位置X1と、トレイ21a~21cをトレイ収容部23に収容するための収容位置X2と、他のトレイ載置部241a~241cが仕分け位置X1又は収容位置X2にあるときに退避する退避位置X3との間で移動させる。仕分け位置X1は、トランスファ軸71に対してY方向において奥側に設定されており、収容位置X2は、トランスファ軸71に対してY方向において手前側に設定されている。また、退避位置X3は、トランスファ軸71に対してY方向において収容位置X2よりも手前側に設定されている。
このように一列に配置された第1~第3のトレイ載置部241a~241cは、それぞれが移動する際に互いに干渉しないように構成されている。具体的には、トレイ移動機構24は、図11~図14に示すように、第1~第3のトレイ載置部241a~241cのうち第2、第3のトレイ載置部241b、241cの高さ位置を変更する高さ位置変更部244を有している。なお、高さ位置変更部244が設けられない第1のトレイ載置部241aは、仕分け機構20による仕分け位置X1における高さとなる上昇位置H1に固定されている。
高さ位置変更部244は、第2、第3のトレイ載置部241b、241cそれぞれに対応して設けられており、例えば、例えばラックアンドピニオン機構を用いたもの、ボールねじ機構を用いたもの、又はエアシリンダを用いたもの等が考えられる。具体的に高さ位置変更部244は、図13及び図14に示すように、第2、第3のトレイ載置部241b、241cを仕分け機構20による仕分け位置X1における高さとなる上昇位置H1と、上昇位置H1にある他のトレイ載置部241a~241cと干渉しない高さとなる下降位置H2との間で昇降移動させる。
例えば、図15及び図16に示すように、第1のトレイ載置部241a及び第2のトレイ載置部241bが互いにすれ違う場合には、第2のトレイ載置部241bが高さ位置変更部244により下降位置H2とされる。これにより、第2のトレイ載置部241bが第1のトレイ載置部241aの下側を通過することになり、第1のトレイ載置部241a及び第2のトレイ載置部241bが互いに干渉することなく移動する。
また、図17及び図18に示すように、第2のトレイ載置部241b及び第3のトレイ載置部241cが互いにすれ違う場合には、第2のトレイ載置部241bが高さ位置変更部244により下降位置H2とされ、第3のトレイ載置部241cが高さ位置変更部244により上昇位置H1とされる。これにより、第2のトレイ載置部241bが第3のトレイ載置部241cの下側を通過することになり、第2のトレイ載置部241b及び第3のトレイ載置部241cが互いに干渉することなく移動する。
さらに、図19及び図20に示すように、第1のトレイ載置部241a及び第3のトレイ載置部241cが互いにすれ違う場合には、第3のトレイ載置部241cが高さ位置変更部244により下降位置H2とされる。これにより、第3のトレイ載置部241cが第1のトレイ載置部241aの下側を通過することになり、第1のトレイ載置部241a及び第3のトレイ載置部241cが互いに干渉することなく移動する。
本実施形態では、第1~第3のトレイ載置部241a~241cが各位置X1~X3に移動する場合、上記3つのすれ違い方で互いにすれ違うことにより、互いに干渉しないようになる。なお、第2、第3のトレイ載置部241b、241cが収容位置X2にある場合には、トレイの搬送を第1のトレイ載置部241aと合わせるために、第2、第3のトレイ載置部241b、241cは上昇位置H1とされる。また、本実施形態では、第1のトレイ載置部241aが上昇位置H1に固定され、第2、第3のトレイ載置部241b、241cが上昇位置H1及び下降位置H2の間で昇降可能としてあり、3つのトレイ載置部241a~241cがZ方向に重ならず、Z方向における3つのトレイ載置部241a~241cの通過空間を小さくすることができる。
<トレイへの仕分け動作>
次にトレイ21a~21cへの仕分け動作について説明する。
次にトレイ21a~21cへの仕分け動作について説明する。
上述した<切断装置の動作の一例>に示すように、検査部13による検査後に、複数の製品Pが移載テーブル5に載置される。
複数の製品Pが載置された移載テーブル5は、テーブル移動機構25によりY方向に移動されて、仕分け機構20による所定の仕分け位置に移動される。
また、トレイ移動機構24は、所望のトレイ載置部241a~241cを収容位置X2に移動し、トレイ搬送機構22は、所望のトレイ21a~21cを収容位置X2にあるトレイ載置部241a~241cに搬送して載置する。
そして、トレイ移動機構24は、各種トレイ21a~21cが載置されたトレイ載置部241a~241cの何れか1つを仕分け位置X1に移動させる。なお、仕分け位置X1に移動されない他のトレイ載置部241a~241cは、収容位置X2又は退避位置X3に移動される。
移載テーブル5が所定の仕分け位置X1に移動され、1つのトレイ載置部241a~241cが仕分け位置X1に移動された状態で、仕分け機構20は、移載テーブル5に載置された複数の製品Pを、検査部13による検査結果(良品、不良品など)に応じて、仕分け位置X1にあるトレイ載置部241a~241c上のトレイ21a~21cに仕分けする。
例えば、第1、第2のトレイ21a、21bが載置された第1、第2のトレイ載置部241a、241bが仕分け位置X1にある場合には、仕分け機構20は、検査結果により良品と判定された製品Pを第1、第2のトレイ21a、21bに仕分ける。また、第3のトレイ21cが載置された第3のトレイ載置部241cが仕分け位置X1にある場合には、仕分け機構20は、検査結果により不良品と判定された製品Pを第3のトレイ21cに仕分ける。
各種トレイ21a~21cが製品Pを収納可能な最大の数量になる(満タン、一杯)になる、又は、製品Pの仕分けが終了した場合には、トレイ移動機構24は、仕分け位置X1にあるトレイ載置部241a~241cを収容位置X2に移動させる。そして、トレイ搬送機構22は、収容位置X2にあるトレイ載置部241a~241cからトレイ収容部23にトレイ21a~21cを搬送する。また、トレイ搬送機構22は、トレイ収容部23にある新しいトレイ21a~21cを収容位置X2にあるトレイ載置部241a~241cに搬送する。なお、引き続き仕分けを行う場合には、トレイ移動機構24は、新しいトレイ21a~21cが載置されたトレイ載置部241a~241cを仕分け位置X1に移動させる。
<本実施形態の効果>
本実施形態の切断装置100によれば、3つのトレイ載置部241a~241cが一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して仕分け機構20による仕分け位置X1に移動可能に構成されているので、切断装置100のフットプリントを低減することができる。また、3つのトレイ載置部241a~241cが一列に配列されているので、仕分けされる前の製品Pが載置されている移載テーブル5と各トレイ21a~21cとの距離が同じとなり、各トレイ21a~21cに仕分ける際の搬送時間を同じにすることができ、生産性を向上することができる。
本実施形態の切断装置100によれば、3つのトレイ載置部241a~241cが一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して仕分け機構20による仕分け位置X1に移動可能に構成されているので、切断装置100のフットプリントを低減することができる。また、3つのトレイ載置部241a~241cが一列に配列されているので、仕分けされる前の製品Pが載置されている移載テーブル5と各トレイ21a~21cとの距離が同じとなり、各トレイ21a~21cに仕分ける際の搬送時間を同じにすることができ、生産性を向上することができる。
さらに、トレイ移動機構24は、3つのトレイ載置部241a~241cの少なくとも1つの高さ位置を変更する高さ位置変更部244を有するので、3つのトレイ載置部241a~241cが互いに独立して移動する際に互いに干渉しないようにすることができる。ここで、高さ位置変更部244は、トレイ載置部241a~241cを仕分け位置X1における高さとなる上昇位置H1と、他のトレイ載置部241a~241cと干渉しない高さ位置H2との間で昇降移動させるので、3つのトレイ載置部241a~241cが互いに独立して移動する際に互いに干渉しないようにしつつ、仕分け機構20により各トレイ21a~21cに製品Pを正確に載置できるようになる。
その他、本実施形態では、切断用テーブル2A、2B及び移載テーブル5の配列方向に沿って延びる共通のトランスファ軸71により第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させる構成とし、切断用移動機構8により切断機構4を水平面においてトランスファ軸71に沿ったX方向及びX方向に直交するY方向それぞれに移動させるので、切断用テーブル2A、2BをX方向及びY方向に移動させることなく、封止済基板Wを加工することができる。このため、切断用テーブル2A、2Bをボールねじ機構により移動させることなく、ボールねじ機構を保護するための蛇腹部材及び当該蛇腹部材を保護するためのカバー部材を不要にすることができる。その結果、切断装置100の装置構成を簡素化することができる。また、切断用テーブル2A、2BをX方向及びY方向に移動しない構成にすることができ、切断装置100のフットプリントを低減することができる。
<その他の変形実施形態>
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
前記実施形態では、3つのトレイ載置部241a~241cを有する構成であったが、4つ以上のトレイ載置部を有する構成としても良い。例えば、第2の移動レール242Bに2つのトレイ載置部241c、241dを設ける構成とすることで、4つのトレイ載置部241a~241dを有する構成にできる。その他、移動レールを増設することで、トレイ載置部の数を増やすことができる。
前記実施形態の高さ位置変更部244は、2つの高さ位置で昇降移動するものであったが、3つ以上の高さ位置で昇降移動する構成としても良い。
前記実施形態では、第1のトレイ載置部241aの高さ位置が固定であり、第2、第3のトレイ載置部241b、241cの高さ位置が変更可能に構成されているが、第2のトレイ載置部241b又は第3のトレイ載置部241cの高さ位置が固定であり、残りの2つのトレイ載置部の高さ位置が変更可能に構成されたものであっても良い。
前記実施形態では、3つのトレイ載置部241a~241cのうち2つのトレイ載置部241b、241cが高さ変更機構243により高さ変更できる構成であったが、1つのトレイ載置部が高さ変更機構243により高さ変更できる構成としても良い。また、3つのトレイ載置部241a~241cそれぞれが高さ変更機構により高さ変更できる構成としても良い。
前記実施形態では、仕分け機構20による仕分け位置X1における高さを上昇位置H1とし、当該上昇位置H1に対して下側に下降位置H2を設定することで、トレイ載置部同士が互いに干渉しないように構成していたが、仕分け機構20による仕分け位置X1における高さを下降位置とし、当該下降位置に対して上側に上昇位置を設定することで、トレイ載置部同士が互いに干渉しないように構成しても良い。
前記実施形態では、トレイ載置部241a~241cの高さ位置を変更できる構成しているが、高さ位置変更部244を有さずに、3つのトレイ載置部241a~241cを互いに干渉しない高さ位置に固定する構成としても良い。
前記実施形態では、3つのトレイ載置部241a~241cを2つの移動レール242A、242Bを用いて移動させていたが、1つの移動レールに3つのトレイ載置部241a~241cを移動可能に設けても良い。
前記実施形態では、ツインカットテーブル方式であって、ツインスピンドル構成の切断装置を説明したが、これに限らず、シングルカットテーブル方式であって、シングルスピンドル構成の切断装置や、シングルカットテーブル方式であって、ツインスピンドル構成の切断装置などであってもよい。
また、前記実施形態の移載テーブル5は、各種トレイ21に仕分ける前に一時的に載置されるインデックステーブルであったが、移載テーブル5を反転機構14の保持テーブル141としても良い。
さらに、前記実施形態では、移載テーブル5からトレイ21に仕分ける構成であったが、枠状部材の内側に配置された粘着テープに製品Pを搬送して貼り付ける構成であっても良い。
その上、前記実施形態の構成において、切断用テーブル2A、2Bにおいて封止済基板を切断することなく、溝を形成する構成としても良い。この場合、例えば、切断用テーブル2A、2Bで溝加工が施された封止済基板Wは、第1保持機構3及び搬送用移動機構7によって、基板供給部112に戻す構成としても良い。また、この基板供給部112に戻された封止済基板Wを基板収容部111に収容する構成としても良い。
また、トランスファ軸71を構成するカムラック要素は複数を連結して構成することができるので、例えば、切断装置(加工装置)100を、第2クリーニング機構19と検査部13との間で分離及び連結可能(着脱可能)なモジュール構成とすることができる。この場合、例えば、第2クリーニング機構19側のモジュールと、検査部13側のモジュールとの間に、検査部13での検査とは異なる種類の検査を行うモジュールを追加することができる。なお、ここに例示した構成以外にも、切断装置(加工装置)100をどこで分離及び連結可能(着脱可能)なモジュール構成としてもよく、追加するモジュールを検査以外の様々な機能のモジュールとしてもよい。
また、本発明の加工装置は、切断以外の加工を行うものであってもよく、例えば切削や研削などのその他の機械加工を行うものであってもよい。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
100・・・切断装置(加工装置)
W・・・封止済基板(加工対象物)
P・・・製品(加工品)
2A、2B・・・切断用テーブル(加工用テーブル)
4・・・切断機構(加工機構)
20・・・仕分け機構
21・・・トレイ
22・・・トレイ搬送機構
23・・・トレイ収容部
24・・・トレイ移動機構
241a~241c・・・トレイ載置部
242A・・・第1の移動レール
242B・・・第2の移動レール
X1・・・仕分け位置
X2・・・収容位置
243・・・高さ位置変更部
H1・・・高さ位置(上昇位置)
H2・・・高さ位置(下降位置)
W・・・封止済基板(加工対象物)
P・・・製品(加工品)
2A、2B・・・切断用テーブル(加工用テーブル)
4・・・切断機構(加工機構)
20・・・仕分け機構
21・・・トレイ
22・・・トレイ搬送機構
23・・・トレイ収容部
24・・・トレイ移動機構
241a~241c・・・トレイ載置部
242A・・・第1の移動レール
242B・・・第2の移動レール
X1・・・仕分け位置
X2・・・収容位置
243・・・高さ位置変更部
H1・・・高さ位置(上昇位置)
H2・・・高さ位置(下降位置)
Claims (7)
- 加工対象物を加工する加工機構と、
加工された加工対象物を複数のトレイに仕分ける仕分け機構と、
前記トレイを移動させるトレイ移動機構とを備え、
前記トレイ移動機構は、前記トレイが載置される3つ以上のトレイ載置部を有し、前記3つ以上のトレイ載置部が一列に配置されるとともに、当該一列の方向に沿って互いに独立して前記仕分け機構による仕分け位置に移動可能に構成されている、加工装置。 - 前記トレイ移動機構は、前記3つ以上のトレイ載置部の少なくとも1つの高さ位置を変更する高さ位置変更部を有する、請求項1に記載の加工装置。
- 前記高さ位置変更部は、前記トレイ載置部を前記仕分け位置における高さとなる上昇位置と、他の前記トレイ載置部と干渉しない高さとなる下降位置との間で昇降移動させるものである、請求項2に記載の加工装置。
- 前記トレイを収容するトレイ収容部をさらに備え、
前記トレイ移動機構は、前記3つ以上のトレイ載置部を、前記仕分け位置と前記トレイを前記トレイ収容部に収容するための収容位置との間で移動させる、請求項1乃至3の何れか一項に記載の加工装置。 - 前記トレイ収容部及び前記収容位置にある前記トレイ載置部の間で前記トレイを搬送するトレイ搬送機構をさらに備える、請求項4に記載の加工装置。
- 前記トレイ移動機構は、互いに平行に設けられた第1の移動レール及び第2の移動レールを有し、
前記第1の移動レールにおいて2つの前記トレイ載置部が互いに干渉しないように移動可能に設けられており、
前記第2の移動レールにおいて1つの前記トレイ載置部が前記第1の移動レールに設けられた2つの前記トレイ載置部に干渉しないように移動可能に設けられている、請求項1乃至5の何れか一項に記載の加工装置。 - 請求項1乃至6の何れか一項に記載の加工装置を用いて加工品を製造する加工品の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021055215A JP7430154B2 (ja) | 2021-03-29 | 2021-03-29 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
CN202180093048.XA CN117178352A (zh) | 2021-03-29 | 2021-12-24 | 加工装置及加工品的制造方法 |
KR1020237026134A KR20230124085A (ko) | 2021-03-29 | 2021-12-24 | 가공 장치 및 가공품의 제조 방법 |
PCT/JP2021/048104 WO2022209080A1 (ja) | 2021-03-29 | 2021-12-24 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
TW111109726A TWI823298B (zh) | 2021-03-29 | 2022-03-17 | 加工裝置及加工品的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021055215A JP7430154B2 (ja) | 2021-03-29 | 2021-03-29 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022152439A JP2022152439A (ja) | 2022-10-12 |
JP7430154B2 true JP7430154B2 (ja) | 2024-02-09 |
Family
ID=83455778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021055215A Active JP7430154B2 (ja) | 2021-03-29 | 2021-03-29 | 加工装置、及び加工品の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7430154B2 (ja) |
KR (1) | KR20230124085A (ja) |
CN (1) | CN117178352A (ja) |
TW (1) | TWI823298B (ja) |
WO (1) | WO2022209080A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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KR101689023B1 (ko) | 2015-11-10 | 2016-12-22 | 주식회사 이노비즈 | 이중 트레이 이송장치 및 이를 갖는 반도체 검사 및 분류시스템 |
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---|---|---|---|---|
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KR102401058B1 (ko) * | 2015-05-12 | 2022-05-23 | (주)제이티 | 소자핸들러 |
-
2021
- 2021-03-29 JP JP2021055215A patent/JP7430154B2/ja active Active
- 2021-12-24 CN CN202180093048.XA patent/CN117178352A/zh active Pending
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- 2021-12-24 KR KR1020237026134A patent/KR20230124085A/ko active Pending
-
2022
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WO2007026433A1 (ja) | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Hirata Corporation | ワークハンドリング装置 |
KR101689023B1 (ko) | 2015-11-10 | 2016-12-22 | 주식회사 이노비즈 | 이중 트레이 이송장치 및 이를 갖는 반도체 검사 및 분류시스템 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022152439A (ja) | 2022-10-12 |
TW202237520A (zh) | 2022-10-01 |
TWI823298B (zh) | 2023-11-21 |
KR20230124085A (ko) | 2023-08-24 |
CN117178352A (zh) | 2023-12-05 |
WO2022209080A1 (ja) | 2022-10-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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