JP7395271B2 - 発光装置、表示装置、及び発光装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、発光装置、表示装置、光電変換装置、電子機器、照明装置、移動体、及び発光装置の製造方法に関する。

発光素子の一例である有機ＥＬ素子は、上部電極と下部電極とその間に配置されている有機層を有する素子であり、有機ＥＬ素子を備えた発光装置が注目されている。発光装置では、例えば、発光素子の個別電極が隔壁（絶縁層）で電気的に絶縁されており、隔壁の上に複数の発光素子に共通の有機層が配されていることがある。この場合、共通の有機層の成膜方法や発光装置の構造によっては、隔壁の上に配される有機層の膜厚が場所によって大きくばらつく可能性がある。

特許文献１には、蒸着法を用いて有機層を形成する場合に、有機ＥＬ素子間に形成された絶縁層（隔壁）の傾斜部に沿って形成された有機層が、局所的に薄い部分と厚い部分を有することが開示されている。特許文献１では、有機層の一部をあえて局所的に薄くすることで高抵抗化させ、クロストークを抑制している。

特開２０１４－１２３５２８

有機層の膜厚に大きな差がある構成では、メリットよりもデメリットが大きくなる可能性がある。例えば、複数の発光素子に共通に設けられている有機層において、導電性の高い有機層の膜厚が厚い場合には、隣り合う発光素子間で有機層を介して駆動電流のリークが発生する可能性がある。駆動電流のリークが発生すると、混色や効率低下など発光素子間のクロストークの原因となる。また、単一の有機ＥＬ素子を有する発光装置においても、均一な発光が得られない可能性がある。

特許文献１では、蒸着源から材料が基板に対して斜めに蒸着されることで、絶縁層の上に形成される有機層の膜厚の差が大きくなっている。特に、成膜される部分が蒸着源から離れている場合には、有機層の上記膜厚差が大きくなる。この他にも、成膜の仕方や発光装置の構造によって、成膜される有機層の膜厚が局所的に大きくなることがある。このような場合には、上述のように、発光素子間でのクロストークの可能性が生じる。

本発明の一様態は、配線層を有する素子基板と、前記素子基板上に配される第１電極と、前記素子基板上に配され、前記第１電極の端部を覆う絶縁層と、前記第１電極及び前記絶縁層上に配される電荷輸送層と前記電荷輸送層の上に配される発光層と、を有する有機層と、前記有機層を挟んで前記第１電極上に配される第２電極と、を有し、前記絶縁層は前記第１電極上で開口をなす第１側面及び第２側面を有し、前記有機層は蒸着膜であり、前記素子基板、前記第１電極、前記開口、及び前記有機層を通る断面において、前記第１側面及び前記第２側面は、前記第１電極に対して傾斜しており、前記断面における、前記第１側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角を第１角、及び前記第１側面の前記一点と同じ高さにある前記第２側面の一点における接線と前記第１電極がなす角のうち前記絶縁層側の角を第２角としたとき、前記第１角の角度と前記第２角の角度は異なることを特徴とする発光装置に関する。

また、本発明の一様態は、第１電極と、前記第１電極上に開口を有し前記第１電極の端部を覆う絶縁層が配された素子基板を用意する工程と、前記第１電極及び前記絶縁層上に蒸着法により有機層を形成する工程と、を有し、前記絶縁層は前記第１電極上の開口をなす第１側面および第２側面を有し、前記素子基板、前記第１電極、及び前記開口を通る断面において、前記第１側面及び前記第２側面は、前記第１電極に対して傾斜しており、前記断面における、前記第１側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角を第１角、及び前記第１側面の前記一点と同じ高さにある前記第２側面の一点における接線と前記第１電極がなす角のうち前記絶縁層側の角を第２角としたとき、前記第１角の角度と前記第２角の角度は異なる発光装置の製造方法に関する。

成膜方法や構造に起因する、絶縁層上の有機層の場所による膜厚差が低減された発光装置、表示装置、光電変換装置、電子機器、照明装置、移動体、及び発光装置の製造方法を提供することができる。

実施の形態１に係る発光装置の一部の構成を模式的に示す断面図 図１の発光装置の一部の構成を模式的に示す平面図 蒸着装置の例を示す断面図 基板と発光装置のレイアウト例 傾斜角度と入射角度の関係を説明するための図 傾斜角度について説明するための図 発光装置の一部の平面図、および断面図 発光装置の一部の平面図 発光装置の一部の平面図、および断面図 発光素子を用いた表示装置の一例の断面図 表示装置の一例を表す模式図 （ａ）は光電変換装置の一例を表す模式図であり、（ｂ）は電子機器の一例を表す模式図 （ａ）は表示装置の一例を表す模式図であり、（ｂ）は折り曲げ可能な表示装置の一例を表す模式図 （ａ）は照明装置の一例を示す模式図であり、（ｂ）車両用灯具を有する自動車の一例を示す模式図

以下、発光装置の具体的な実施形態を、図を参照して説明する。なお、以下の説明および図において、複数の図に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。

（実施の形態１）
図１乃至９を参照して、本実施の形態に係る発光装置について説明する。

図１は、本実施の形態の発光装置１００の構成を模式的に示す断面図である。発光装置１００の例として、トップエミッション構造の例を示す。

図２は、発光装置１００の一部の平面図であり、図２のＺ－Ｚ’間の断面が、図１の断面図に相当し、ここでは３つの発光素子１０で１つの画素を構成している。ここで、図中の破線は、絶縁層からなる隔壁の傾斜において同じ高さを示す等高線であり、高さとは、下部電極の表面から、該表面に垂直な方向におけるある場所までの距離を指す。図２（Ａ）はスクエア配列の画素の例であり、図２（Ｂ）はデルタ配列の画素の例である。

本実施の形態では、これらの配列の画素の例を示すが、同等の効果を得られるものであれば、これに限られることなく、例えばストライプ配列を用いてもよい。

発光装置１００は、複数の配線層を有する素子基板１及び素子基板１の上に配される複数の発光素子１０を含む。図１には、発光装置１００が有する複数の発光素子１０のうち、３つの発光素子１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂが示されている。発光素子１０Ｒ、発光素子１０Ｇ、発光素子１０Ｂは、例えばそれぞれ赤色、青色、及び緑色の光を発光する。

本明細書において、複数の発光素子１０のうち特定の発光素子を示す場合は、発光素子１０「Ｒ」のように参照番号の後に添え字し、何れであってもよい場合は、単に発光素子「１０」と示す。他の構成要素についても同様である。

発光装置１００は、配線層を有する素子基板１と、素子基板１上に配される下部電極２と、素子基板上に配され、下部電極２の端部を覆う絶縁層３を有する。更に、発光装置１００は、下部電極２及び絶縁層３上に配される有機層４と、有機層を挟んで下部電極上に配される上部電極５と、を有する。図１において絶縁層３は互いに隣り合う下部電極２の端部を覆っている。

有機層４は、下部電極２及び絶縁層３上に配される電荷輸送層４ａと、電荷輸送層４ａの上に配される発光層４ｂを少なくとも有する。有機層４は、さらに他の層を有していてもよく、詳細については後述する。

絶縁層３は、下部電極２上に開口２１を有し、発光素子１０の発光領域の形状を規定する。図１において絶縁層３は、開口２１に沿って傾斜３１ａを有する側面及び傾斜３１ｂを有する側面を有する。傾斜３１ａを有する側面と下部電極２が成す角（傾斜角）の角度は、傾斜３１ｂを有する側面と下部電極２が成す角（傾斜角）の角度と異なる。詳細については後述する。

さらに、発光装置１００は、上部電極５を覆うように配された封止層６と、封止層６の上に複数の発光素子１０のそれぞれと対応するように配された複数のカラーフィルタ７と、を含む。本実施の形態において、有機層４は、白色発光し、カラーフィルタ７Ｂ、カラーフィルタ７Ｇ、カラーフィルタ７Ｒは、有機層４から発せられる白色光を、それぞれの所望の色に変換する。

本明細書において、基板の「上」「下」とは、基板１の「上」にカラーフィルタ７が配される、というように、基板に対してカラーフィルタ７が配される側を「上」と表現し、その逆を「下」と表現する。したがって、上述のように、基板の主面のうち下部電極２などが配される面を上面とする。また、「高さ」とは、基板の上方向に沿った距離を指す。例えば、絶縁層のある場所の高さとは、絶縁層の下面（図２では下部電極２の上面）からある場所までの、上方向（開口内の下部電極２表面に対して垂直な方向）における距離を指す。

下部電極２は、有機層４の発光波長に対する反射率が８０％以上の金属材料が用いられてもよい。例えば、ＡｌやＡｇなどの金属や、これらの金属にＳｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｎｄなどを添加した合金を下部電極２に使用することができる。ここで、発光波長とは、有機層４から出射する光のスペクトル範囲のことを指す。下部電極２の有機層４の発光波長に対する反射率が高ければ、下部電極２は、バリア層を含む積層構造としてもよい。バリア層の材料としては、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｕなどの金属やその合金が用いられうる。

絶縁層３は、発光素子１０間の下部電極２を分離するための隔壁であり、感光性樹脂を用いた有機絶縁層とすることができる。また、熱硬化性あるいは熱可塑性樹脂などの有機絶縁層を用いることもできる。これらの有機絶縁膜に、ハーフトンマスク、グレイトーンマスクを用いた諧調露光法、ナノインプリントリソグラフィー法などを用いることで、任意の形状の有機絶縁層を得ることができる。

また、絶縁層３は、無機絶縁層であってもよい。無機絶縁層は、例えば、無機材料として、シリコン窒化物（ＳｉＮ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）、及びシリコン酸化物（ＳｉＯ）の少なくとも１つを含んでいてもよい。

具体的には、例えば、絶縁層３として、化学気相堆積法（ＣＶＤ法）や物理蒸着法（ＰＶＤ法）などを用いて、シリコン窒化物（ＳｉＮ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）、及びシリコン酸化物（ＳｉＯ）等の単膜あるいは積層膜を形成する。これに、有機絶縁層をマスクとして、等方性または異方性エッチングにより形状を転写させることで、絶縁層３を、無機絶縁層の隔壁として形成することも可能である。マスクとして用いる有機絶縁層は、上記の方法で形成した有機絶縁層を用いてもよい。

有機層４は、素子基板１の上面に沿った方向において連続的に形成され、複数の発光素子１０によって共有されている。有機層４は、発光装置１００の、画像を表示する表示領域の全面において、一体的に形成されていてもよい。有機層４は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含んでよい。有機層４は、発光効率、駆動寿命、光学干渉といった観点からそれぞれ適当な材料を選択することができる。

正孔輸送層は、電子ブロック層や正孔注入層として機能してもよく、正孔注入層や正孔輸送層や電子ブロック層などの積層構造としてもよい。発光層は、異なる色を発光する発光層の積層構造でもよく、異なる色を発光する発光ドーパントを混合した混合層でもよい。また、電子輸送層は、正孔ブロック層や電子注入層として機能してもよく、電子注入層や電子輸送層や正孔ブロック層の積層構造としてもよい。

本明細書において、下部電極２と上部電極５のうち、陽極となる電極と発光層の間の領域に配される層を正孔輸送層、陰極となる電極と発光層の間に配される層を電子輸送層と呼ぶ。また、電荷輸送層とは、正孔輸送層と電子輸送層の少なくとも一方である。

上部電極５は、有機層４の上に素子基板１の上面に沿った方向において連続的に形成され、複数の発光素子１０によって共有されている。有機層４と同様に、上部電極５は、発光装置１００の画像を表示する表示領域の全面において、一体的に形成されていてもよい。

上部電極５は、上部電極５の下面に到達した光の一部を透過するとともに、他の一部を反射する（すなわち半透過反射性）半透過反射層として機能してもよい。上部電極５は、例えばマグネシウムや銀などの金属、または、マグネシウムや銀を主成分とする合金、もしくは、アルカリ金属、アルカリ土類金属を含んだ合金材料から形成されうる。また、上部電極５に、酸化物導電体などが用いられてもよい。また、上部電極５は、適当な透過率を有するならば、積層構造であってもよい。

封止層６は、例えば、ＣＶＤ法を用いて形成されたＳｉＮやＳｉＯＮ、原子層堆積法（ＡＬＤ法）を用いて形成することができる。封止層６は、酸化アルミニウム、シリコン酸化物およびチタン酸化物などの外部からの酸素や水分の透過性が低い材料などを含む。封止層６は、上部電極５を透過した光を透過し、充分な水分遮断性能があれば、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。

カラーフィルタ７は、封止層６の上に形成される。基板１の上面に対する正射影において、カラーフィルタ７のうち互いに異なる色のカラーフィルタの境界が、対応する下部電極２の間に配されていてもよい。また、カラーフィルタ７は、図１に示されるカラーフィルタ７Ｒとカラーフィルタ７Ｇとのように隙間なく接してもよく、隙間が空いていても、また重なり合ってもよい。

密着層８は、封止層６とカラーフィルタ７の間に形成される。密着層８は、カラーフィルタ７と封止層６の密着性が高い場合は、無くてもよい。ここでいう密着性が高いとは、カラーフィルタ７形成後に封止層６との界面で、カラーフィルタ７の剥がれが発生しないことを指す。

また、封止層６とカラーフィルタ７の間に平坦化層を形成してもよい。平坦化層は、例えばアクリル樹脂で形成することができる。

図１及び図６（ｃ）に示す、絶縁層３の傾斜３１ａを有する側面における有機層４の膜厚ｔは、傾斜３１ａを有する側面に対する垂直方向の有機層４の膜厚である。同様に、絶縁層３の傾斜３１ｂを有する側面における有機層４の膜厚ｔ’は、傾斜３１ｂを有する側面に対する垂直方向の有機層４の膜厚である。

発光装置１００において、図１及び図５乃至図７は、素子基板１、下部電極２、開口２１、及び有機層４を通る断面を示す。該断面において、絶縁層３は、開口２１を成す２つの側面を有する。上述の通り、２つの側面は、それぞれ下部電極２に対し傾斜３１ａ及び傾斜３１ｂを有する。本実施の形態の発光装置において、傾斜３１ａを有する側面と下部電極２が成す角（傾斜角）の角度と、傾斜３１ｂを有する側面と下部電極２が成す角（傾斜角）の角度は異なる。

ここで、２つの傾斜角は、開口２１内の絶縁層３において、下部電極２の面からの高さが同じとなる位置での角度を指す。すなわち、絶縁層３の側面のある一点における接線と下部電極が成す角を指す。また、絶縁層３の傾斜３１を有する側面の傾斜角とは、傾斜３１を有する側面のある一点における接線と下部電極が成す角のうち、絶縁層３を内包する角を指す。

上記２つの傾斜角の角度は、有機層４の成膜方法や発光装置１００の構成に起因する有機層４の膜厚ｔ及び膜厚ｔ‘の差を低減する関係となっている。よって、上記構成とすることで、発光装置１００を、有機層４の成膜方法や発光素子１０の構成に起因する、有機層４の場所による膜厚差が低減された発光装置とすることができる。また、下部電極２上の開口２１の、素子基板１の上面（または下部電極２の開口２１内の上面）に対する平面視での形状によらず、有機層４の場所による膜厚差が低減された発光装置とすることができる。

本実施の形態の発光装置１００において、絶縁層３の開口２１内で傾斜３１を有する側面上には、有機層４の中でも電荷輸送層が配されている。よって、上記構成により、電荷輸送層の場所による膜厚差を低減することができる。電荷輸送層は、発光層に比べ導電性が高い。よって、発光素子１０において、有機層４の膜厚が厚くなりすぎることに起因する発光素子１０間のクロストークを効果的に抑制することができる。また、有機層４の膜厚が薄くなりすぎることによる上下電極間のリーク電流を効果的に抑制することができる。したがって、良好な特性を有する発光装置１００を得ることができる。

絶縁層３の側面の傾斜角と有機層４の膜厚の関係について、図３乃至８を用いて詳しく説明する。有機層４を成膜するための蒸着装置の一例の模式図を図３に示す。図３では蒸着装置を例として示すが、有機層４の場所による膜厚差が生じる成膜装置であれば、本実施形態の構成を適用することができる。

蒸着装置内には、発光装置１００の一部までが形成された基板１０１が配される。例えば、ここでは絶縁層３まで形成された基板１０１が配される。ここで、発光装置１００は、そのサイズに合わせ、図４（Ａ）の様に１つの基板１０１から複数作成されてもよく、図４（Ｂ）の様に１つの基板１０１から１つを作成されてもよい。また基板１０１は、図４（Ａ）や図４（Ｂ）の様に矩形であっても図４（Ｃ）の様に円形であってもよく、また他の形状をとってもよい。

以下例では図４（Ｃ）を例として説明を行う。図４（ｃ）において、基板１０１には、絶縁層３までが形成されている。蒸着装置内に、絶縁層３が形成された素子基板を、基板１０１として用意、設置する。真空チャンバー１０２内では、蒸着材料を充填したるつぼ１０４をヒーター１０５で加熱することによって蒸着材料を蒸発させる。これにより、るつぼ先端部にあるノズル１０６から蒸発した蒸着材料が噴出し絶縁層３上に堆積することで、絶縁層３が形成された基板１０１上に有機層４を成膜することができる。

この際、基板１０１から複数の発光装置１００を作成する場合は、基板１０１の上方に発光装置１００の配置に合わせたメタルマスク１０３を設置する。この状態で前記蒸着処理を行う事で、選択的な蒸着を行うことが可能となる。また、基板１０１を基板１０１の重心を軸として回転させることにより、絶縁層上に堆積する膜（層）の場所による膜厚差を低減することができる。

図５（Ａ）、図５（Ｂ）、及び図５（Ｃ）は、それぞれ図１の開口２１内の中心が、各々図３において、点Ａ、点Ｂ、点Ｏに位置している場合の、有機層４となる蒸着材料の堆積状況を示している。具体的には、開口２１内における下部電極２の面の中心が点Ａ、点Ｂ、点Ｏに位置する場合を示す。点Ｏは、図５（Ａ）乃至図５（Ｃ）の断面における、基板１０１の表面（絶縁層３の開口２１内の下部電極２の表面）に沿った方向での基板１０１の重心とする。

図５（Ａ）乃至図５（Ｃ）において、基板１０１の表面に沿った方向における、るつぼ１０４のノズル１０６から基板１０１の重心Ｏまでの距離、重心Ｏから点Ａまでの距離を、それぞれＸ、ｒとする。また、基板１０１の表面（絶縁層３の開口２１内の下部電極２の表面）に垂直な方向における、るつぼ１０４のノズル１０６から点Ｏまでの距離（下部電極までの距離）をＹとする。

このとき、図中の記号は以下を示す。
θａ～θｆ：絶縁層３の開口２１における傾斜角（下部電極２表面と絶縁層３の側面の傾斜の角度）
Φａ：るつぼと点Ａの角度（Φａ＝ａｒｃｔａｎ（Ｙ／（Ｘ＋ｒ）））
Φｂ：るつぼと点Ｂの角度（Φｂ＝ａｒｃｔａｎ（Ｙ／（Ｘ－ｒ）））
Φｏ：るつぼと点Ｏの角度（Φｏ＝ａｒｃｔａｎ（Ｙ／Ｘ））
角度Φａ、Φｂ、及びΦｏは、より具体的には、るつぼのノズル１０６の開口部を通り基板１０１の表面（絶縁層３の開口２１内の下部電極２の表面）に平行な線と、ノズル１０６の開口部の中心と点Ａ、点Ｂ、及び点Ｏのいずれかを通る線が成す角を指す。

開口２１内における絶縁層３の側面の傾斜角θａ～θｆは、開口２１内の下部電極２の表面と絶縁層３の側面のある点における接線が成す角として得られる。傾斜角を比較する際には、傾斜角を規定する該点は、該表面からの高さが等しい（開口２１内の下部電極２の表面に対して垂直な方向における、該表面からの距離が等しい）位置の点とする。

ここで、ノズル１０６からある点（微小領域）に単位時間あたりに飛散する量をａとするとき、絶縁層３の傾斜を有する側面に垂直な方向に堆積する層の膜厚Ｔａ～Ｔｆは、以下のように表せる。
Ｔａ：ａ×ｓｉｎ（Φａ－θａ）
Ｔｂ：ａ×ｓｉｎ（Φａ＋θｂ）
Ｔｃ：ａ×ｓｉｎ（Φｏ－θｃ）
Ｔｄ：ａ×ｓｉｎ（Φｏ＋θｄ）
Ｔｅ：ａ×ｓｉｎ（Φｂ－θｅ）
Ｔｆ：ａ×ｓｉｎ（Φｂ＋θｆ）
但し、膜厚Ｔａ～Ｔｆは０以上であり、正弦関数は括弧内の値として負の値を取らないものとする。これは、図５（Ａ）中の傾斜角θａの傾斜３１ａからも解るように、傾斜の角度がるつぼと各点における角度以上の場合には側面に堆積しない（膜厚は０となり負の値はとらない）ためである。

基板１０１が重心Ｏを軸に回転する場合、図３から１８０°回転した時、点Ａは点Ｂに、また点Ｂは点Ａに移動する。また、点Ｏは回転軸上に位置するため変動しない。

ここで、点Ａから点Ｂへの回転に着目すると、傾斜角θａ及び傾斜角θｂは各々移動後の点Ｂおいて、傾斜角θｆ及び傾斜角θｅとなる。すなわち、傾斜角は、下記のように変化する。
θａ→θｆ
θｂ→θｅ
傾斜角θａの傾斜３１ａ（側面）における堆積量は点Ａでは最小であり、移動中に徐々に増加し、点Ｂで最大となる。一方、傾斜角θｂの傾斜３１ｂ（側面）における堆積量は点Ａでは最大であり、点Ｂに移動するまで徐々に減少し、点Ｂで最小となる。

ここで、開口２１における、絶縁層３の傾斜３１の傾斜角θの角度が全て等しい場合について考察する。この場合、傾斜角θａの位置における、点Ａと点Ｂの位置での堆積量の和と、傾斜角θｂの位置における、点Ａと点Ｂの堆積量の和は、等しくなる。すなわち、膜厚Ｔａと膜厚Ｔｆの和と、膜厚Ｔｂと膜厚Ｔｅの和は等しくなる。ここで、傾斜角θａと傾斜角θｆは等しく、傾斜角θｂと傾斜角θｅは等しい。よって、以下式（１）がえられる。
ｓｉｎ（Φａ－θａ）＋ｓｉｎ（Φｂ＋θａ）＝ｓｉｎ（Φａ＋θｂ）＋ｓｉｎ（Φｂ－θｂ） （１）

更に、すべての傾斜角が等しい例であるから、傾斜角θａと傾斜角θｂが等しい。よって、式（１）を変形すると、式（２）が得られる。
ｓｉｎ（Φａ－θａ）＋ｓｉｎ（Φｂ＋θａ）＝ｓｉｎ（Φａ＋θａ）＋ｓｉｎ（Φｂ－θａ） （２）

しかし、各傾斜角の角度が０度以下でないかつ各項で負の値を取らない場合、式（１）を満たす角度の組み合わせは存在しない。すなわち、図３に示す蒸着方法で有機層４を成膜する際、絶縁層３の開口２１における傾斜３１を有する側面の傾斜角の角度が全て等しい場合には、開口２１内で絶縁層３に形成される有機層４の膜厚を等しくすることはできない。

また、角度Φａと角度Φｂの角度は、基板１０１の半径に依存する。図３に示す蒸着方法で有機層４を成膜する場合、基板１０１の半径が大きいほど角度Φａと角度Φｂの差は大きくなる。よって、基板１０１が大きいほど傾斜角θａの位置の傾斜上に堆積する有機層４の膜厚と、傾斜角θｂの位置の傾斜上に堆積する有機層４の膜厚との差は、大きくなる。

ところで、基板１０１の回転運動における角速度が一定であるなら、点Ａから点Ｂへ回転する際の蒸着量の減少分と点Ｂから点Ａへ回転する際の蒸着量の増加分は同等となる。傾斜角θａと傾斜角θｂが異なる値を取りうるとき、式（１）を満たす、すなわち、傾斜角θａの位置と傾斜角θｂの位置での有機層４の膜厚が等しくなるための必要条件は以下の式（３）のように表すことができる。
Φｂ－Φａ＝θｂ－θａ （３）

角度Φａ及び角度Φｂは、基板１０１の大きさと真空チャンバーを１０２のサイズに依存した値となる。よって、傾斜角θａの位置と傾斜角θｂの位置での有機層４の膜厚を等しくするためには、傾斜角θｂ及び傾斜角θａを、これらの差が式（３）の左辺と等しくなる値とすればよい。また、傾斜角θｂ及び傾斜角θａを、これらの差が式（３）の左辺の値に近づくように設定することで、有機層４の膜厚差を低減することができる。すなわち、傾斜角θｂ及び傾斜角θａを、これらの差が０より式（３）の左辺の値に近くなるよう設定することで、場所による有機層４の膜厚差を低減することができる。

すなわち、絶縁層３の、開口２１において対向する側面の傾斜角の角度を互いに異ならせることで、有機層４の場所による膜厚差を低減することができる。更に、図３に示す蒸着方法の場合、開口２１における絶縁増３の側面の傾斜角を、蒸着装置内での蒸着源と基板１０１の配置に合わせた角度とすることで、効果的に有機層４の膜厚差を低減することができる。

このように、絶縁層３の、開口２１において少なくとも２つの側面の傾斜角の角度を、あえて異なる角度とすることで、成膜方法や発光装置の構造に起因する有機層４の場所による膜厚の差を低減することができる。

また、少なくとも２つの側面の傾斜角を規定するための絶縁層３のある点は、開口２１内の下部電極２の表面からの高さが等しい位置の点とすることができることは既に述べた。更に、該点の高さを図５に示す断面において、絶縁層３の高さの半分の位置とすることで、より上記効果が得られる。これは、絶縁層３の開口２１内からの立ち上がり部分の高さ方向における中心部において上記傾斜角の関係を満たすことで、有機層４の膜厚の差を効果的に低減できるためである。

図６に、絶縁層３の側面の傾斜角の角度を異ならせ、式（３）に合わせた値とした例を示す。図６（Ａ）は図２の点Ａにおける成膜時の発光装置１００の一部の断面を示す。傾斜上の矢印の示す方向は、各傾斜（側面）に対して垂直な方向である。また矢印の長さは、単位時間あたりに成膜される有機層４の膜厚を示す。

上述の通り、ノズル１０６からある点（微小領域）に単位時間あたりに飛散する量（単位飛散量）をａとすると、単位飛散量ａは下部電極２の面に対し角度Φａを持つ線上に単位ベクトルとして表せる。よって、絶縁層３の傾斜上に単位時間に成膜される有機層４の膜厚は、該単位ベクトルを傾斜に垂直な方向へ射影した時の長さに等しい。

図６（Ｂ）は、図６（Ａ）における発光素子１０が、図２の点Ｂまで１８０°回転した時の傾斜（側面）上の堆積を示す。この時、発光素子１０における傾斜の傾きは、図６（Ａ）に示した傾斜の傾きと対称になる。上述したように、傾斜上の矢印は各傾斜（側面）に対して垂直な方向である。また、矢印の長さは、開口２１内の下部電極２の表面と平行な線から角度Φｂの線を各傾斜方向に引き、その線上の単位飛散量ａに対応する単位ベクトルを、各傾斜に垂直な方向へ射影した時の長さに等しい。

図６（Ａ）と図６（Ｂ）において、傾斜ごとに矢印の長さを足し合わせた時、この長さは一致する。

図６（Ｃ）は、図６（Ｂ）から更に１８０°回転した地点、つまり点Ａに戻った時に各傾斜（側面）に堆積した膜厚を示す。式（２）を満たす時、基板１０１の回転の角速度が一定であれば、点Ａから点Ｂおよび点Ｂから点Ａに回転する途中の増加割合または減少割合は等しい。よって、角度θｂの傾斜３１ｂの側面に堆積された有機層４の膜厚ｔ’と角度θａの傾斜３１ａの側面に堆積された有機層４の膜厚ｔは等しくなる。

この場合、絶縁層３の傾斜（側面）上の膜厚をコントロールするためには、１周で堆積する膜厚をｔ”とすると、ｔ／ｔ”が整数倍となるよう角速度を調整すればよい。

以上まで２次元のモデルを用いて、傾斜に形成される有機層４の膜厚について説明したが、実際のところ傾斜３１は、図２に示すように絶縁層３の開口２１の形状に合わせて複雑な形状をとる。

絶縁層３の開口２１の形状が六角形の場合の、傾斜３１上の有機層４の膜厚について、図７を用いて説明する。

絶縁層３が、開口２１の形状を規定する辺毎に領域ａ６～ｆ６を有し、絶縁層３の側面の傾斜の角度を各々傾斜角θａ６～θｆ６とする。また、各傾斜上の有機層４の、傾斜３１に垂直な方向の膜厚を、それぞれ膜厚Ｔａ６～Ｔｆ６とする。

傾斜角θａ６～θｆ６が等しいと仮定すると、図３に示すように、蒸着源が基板１０１の回転中心から外れた位置に置かれて有機層４が成膜される場合、傾斜３１上の有機層４の膜厚については、以下式（４）もしくは式（５）が成立する。
Ｔａ６＞Ｔｂ６＞Ｔｃ６＞Ｔｄ６
Ｔａ６＞Ｔｆ６＞Ｔｅ６＞Ｔｄ６ （４）
Ｔａ６＜Ｔｂ６＜Ｔｃ６＜Ｔｄ６
Ｔａ６＜Ｔｆ６＜Ｔｅ６＜Ｔｄ６ （５）

有機層４の場所による膜厚の差を低減するためには、式（４）あるいは式（５）において、不等号を等号に近づければよい。よって、傾斜角θａ６～θｆ６を少なくとも一部異なる値とし、具体的には、蒸着源と基板の位置関係や基板１０１の大きさを考慮した値とすればよい。

例えば、対向する位置における角度の差分を式（３）に倣って設定し、式（６）もしくは式（７）のように、隣接する傾斜の角度を順に単調変化させればよい。例えば、絶縁層３の側面の一点における接線と下部電極２が成す角の角度は、傾斜３１ａを有する側面から傾斜３１ｂを有する側面まで単調増加する。
θａ６＞θｂ６＞θｃ６＞θｄ６
θａ６＞θｆ６＞θｅ６＞θｄ６ （６）
θａ６＜θｂ６＜θｃ６＜θｄ６
θａ６＜θｆ６＜θｅ６＜θｄ６ （７）

また、図８は角の数が奇数である多角形の例を示し、具体的には七角形の場合の例である。この場合、対向する傾斜は２箇所あると捉え、以下の式（８）を満たす傾斜角とすればよい。
θａ７＜θｂ７＜θｃ７＜θｄ７
θａ７＜θｇ７＜θｇ６＜θｅ６ （８）

角度の単調変化を満たせるのであれば、領域別の角度は変化させることも可能ある。例として、図９（ａ）に絶縁層３の傾斜が曲面形状を有する場合を示す。図９（ｂ）には、図９（ａ）の線Ｖ－Ｖ’に沿った断面図を示す。絶縁層３の開口２１内の側面の傾斜は、図９（ｃ）ように段階式の傾斜であってもよく、図９（ｅ）のように、円形の開口形状であってもよい。図９（ｄ）及び図９（ｆ）は、それぞれ図９（ｃ）における線Ｕ－Ｕ’に沿った断面図、及び図９（ｅ）における線Ｓ－Ｓ’に沿った断面図である。

いずれの場合にも、各傾斜の傾斜角は同じ高さで比較する。また、このように傾斜が直線ではなく、曲面形状や段階式の傾斜を有し、場所によって傾斜角が変化する場合、傾斜角の比較は同じ高さにおける傾斜角で行う。

図２（Ｂ）のように、基板１０１に対し、発光装置１００が大きい場合は、発光素子１０の位置により傾斜の角度を変更することが有効である。例えば、点Ａにおける発光素子１０の傾斜の角度に対し、点Ｂにおける発光素子１０の傾斜の角度は基板中心に対し対称になるように設定することが好ましい。

本実施の形態では、例として有機層４を蒸着法で成膜する場合について説明したが、本発明はこれに限定されない。インクジェット法やスピンコート法等、様々な方法で成膜する場合にも適用することができる。

例えば、スピンコート法により有機層４を成膜する場合について説明する。この場合、遠心力により絶縁層３の斜面３１のうち、回転中心を向いている斜面上と外側に向いている斜面上とでは、有機層４となる材料溶液の塗布膜厚が異なる。具体的には、外側を向いている斜面上の溶液は遠心力の影響を受けにくいため厚くなり、中心を向いている斜面上の溶液は遠心力の影響を受けやすいため薄くなる。

したがって、絶縁層３の傾斜の角度を、回転中心を通る断面において遠心力による膜厚への影響を考慮した値とすることで、有機層４の場所による膜厚差を低減することができる。よって、有機層４が厚くなることによる画素間での電流リークや、膜厚が薄くなることによる電極間での電流リークを抑制、防止することができる。よって、発光装置の信頼性を向上することができる。

また、上記のような傾斜角を有する絶縁層に電荷輸送層を成膜することで、信頼性の高い発光装置の製造方法を提供できる。

（実施の形態２）
本実施の形態では、実施の形態１に用いられる発光素子１０として、有機ＥＬ素子を用いた場合の具体的な構成例いついて説明する。

［基板］
基板は、石英、ガラス、シリコンウエハ、樹脂、金属等が挙げられる。また、基板上には、トランジスタなどのスイッチング素子や配線を備え、その上に絶縁層を備えてもよい。絶縁層としては、陽極２と配線の導通を確保するために、コンタクトホールを形成可能で、かつ接続しない配線との絶縁を確保できれば、材料は問わない。例えば、ポリイミド等の樹脂、酸化シリコン、窒化シリコンなどを用いることができる。

［電極］
電極は、一対の電極を用いることができる。一対の電極は、陽極と陰極であってよい。有機発光素子が発光する方向に電界を印加する場合に、電位が高い電極が陽極であり、他方が陰極である。また、発光層にホールを供給する電極が陽極であり、電子を供給する電極が陰極であるということもできる。

陽極の構成材料としては仕事関数がなるべく大きいものが良い。例えば、金、白金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、コバルト、セレン、バナジウム、タングステン、等の金属単体やこれらを含む混合物、あるいはこれらを組み合わせた合金が使用できる。また、例えば、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム等の金属酸化物が使用できる。更に、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性ポリマーも使用できる。

これらの電極物質は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。また、陽極は一層で構成されていてもよく、複数の層で構成されていてもよい。

反射電極として用いる場合には、例えばクロム、アルミニウム、銀、チタン、タングステン、モリブデン、又はこれらの合金、積層したものなどを用いることができる。また、透明電極として用いる場合には、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛などの酸化物透明導電層などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。電極の形成には、フォトリソグラフィ技術を用いることができる。

一方、陰極の構成材料としては仕事関数の小さなものがよい。例えばリチウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金属、アルミニウム、チタニウム、マンガン、銀、鉛、クロム等の金属単体またはこれらを含む混合物が挙げられる。あるいはこれら金属単体を組み合わせた合金も使用することができる。例えばマグネシウム－銀、アルミニウム－リチウム、アルミニウム－マグネシウム、銀－銅、亜鉛－銀等が使用できる。酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物の利用も可能である。

これらの電極物質は一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用して使用してもよい。また陰極は一層構成でもよく、多層構成でもよい。中でも銀を用いることが好ましく、銀の凝集を抑制するため、銀合金とすることがさらに好ましい。銀の凝集が抑制できれば、合金の比率は問わない。例えば、１：１であってよい。

陰極は、ＩＴＯなどの酸化物導電層を使用してトップエミッション素子としてもよいし、アルミニウム（Ａｌ）などの反射電極を使用してボトムエミッション素子としてもよいし、半透過反射型の電極としてもよく、特に限定されない。特に限定されない。陰極の形成方法としては、特に限定されないが、直流及び交流スパッタリング法などを用いると、膜のカバレッジがよく、抵抗を下げやすいためより好ましい。

［封止層または保護層］
陰極の上に、封止層または保護層を設けてもよい。例えば、陰極上に吸湿剤を設けたガラスを接着することで、有機化合物層に対する水等の浸入を抑え、表示不良の発生を抑えることができる。また、別の実施形態としては、陰極上に窒化ケイ素等のパッシベーション膜を設け、有機ＥＬ層に対する水等の浸入を抑えてもよい。例えば、陰極７形成後に真空を破らずに別のチャンバーに搬送し、ＣＶＤ法で厚さ２μｍの窒化ケイ素膜を形成することで、保護層としてもよい。ＣＶＤ法の成膜の後で原子堆積法（ＡＬＤ法）を用いた保護層を設けてもよい。

［カラーフィルタ］
保護層の上にカラーフィルタを設けてもよい。例えば、有機発光素子のサイズを考慮したカラーフィルタを別の基板上に設け、それと有機発光素子を設けた基板と貼り合わせてもよいし、上記で示した保護層上にフォトリソグラフィ技術を用いて、カラーフィルタをパターニングしてもよい。カラーフィルタは、高分子で構成されてよい。

［密着層または平坦化層］
カラーフィルタと保護層との間に密着層または平坦化層を有してもよい。密着層または平坦化層は、有機化合物で構成されてよく、低分子であっても、高分子であってもよいが、高分子であることが好ましい。

平坦化層は、カラーフィルタの上下に設けられてもよく、その構成材料は同じであっても異なってもよい。具体的には、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等があげられる。

［対抗基板］
平坦化層の上には、対抗基板を有してよい。対抗基板は、前述の基板と対応する位置に設けられるため、対抗基板と呼ばれる。対抗基板の構成材料は、前述の基板と同じであってよい。

［有機層］
本実施の形態に係る発光素子を構成する有機層（正孔注入層、正孔輸送層、電子阻止層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等）は、以下に示す方法により形成される。

有機層は、真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマ等のドライプロセスを用いることができる。またドライプロセスに代えて、適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法（例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等）により層を形成するウェットプロセスを用いることもできる。

ここで真空蒸着法や溶液塗布法等によって層を形成すると、結晶化等が起こりにくく経時安定性に優れる。また塗布法で成膜する場合は、適当なバインダー樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。

上記バインダー樹脂としては、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。上記は例であり、バインダー樹脂はこれらに限定されるものではない。

また、これらバインダー樹脂は、ホモポリマー又は共重合体として一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。さらに必要に応じて、公知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を併用してもよい。

（実施の形態３）
本実施の形態では、発光装置１００の用途について図１０乃至図１４を用いて説明する。実施の形態１で説明した発光装置１００は、表示装置や照明装置の構成部材として用いることができる。他にも、電子写真方式の画像形成装置の露光光源や液晶表示装置のバックライト、白色光源にカラーフィルタを有する発光装置等の用途がある。

表示装置は、エリアＣＣＤ、リニアＣＣＤ、メモリーカード等からの画像情報を入力する画像入力部を有し、入力された情報を処理する情報処理部を有し、入力された画像を表示部に表示する画像情報処理装置でもよい。

また、撮像装置やインクジェットプリンタが有する表示部は、タッチパネル機能を有していてもよい。このタッチパネル機能の駆動方式は、赤外線方式でも、静電容量方式でも、抵抗膜方式であっても、電磁誘導方式であってもよく、特に限定されない。また表示装置はマルチファンクションプリンタの表示部に用いられてもよい。

次に、図面を参照しながら本実施形態に係る表示装置につい説明する。図１０は、発光素子１０とこの発光素子１０に接続されるＴＦＴ素子とを有する表示装置の例を示す断面模式図である。ＴＦＴ素子は、能動素子の一例である。

図１０の表示装置１１０は、ガラス等の基板１１とその上部にＴＦＴ素子又は有機層４を保護するための防湿膜１２が設けられている。また符号１３は金属のゲート電極１３である。符号１４はゲート絶縁膜１４であり、１５は半導体層である。

ＴＦＴ素子１８は、半導体層１５とドレイン電極１６とソース電極１７とを有している。ＴＦＴ素子１８の上部には絶縁膜１９が設けられている。コンタクトホール２０を介して発光素子１０を構成する下部電極２（陽極）とソース電極１７とが接続されている。

尚、発光素子１０に含まれる電極（陽極、陰極）とＴＦＴに含まれる電極（ソース電極、ドレイン電極）との電気接続の方式は、図１０に示される態様に限られるものではない。つまり陽極又は陰極のうちいずれか一方とＴＦＴ素子ソース電極またはドレイン電極のいずれか一方とが電気接続されていればよい。

図１０の表示装置１１０では有機層４を１つの層の如く図示をしているが、有機層４は、実施の形態１または実施の形態２で示したように、複数層であってもよい。上部電極５（陰極）の上には発光素子の劣化を抑制するための第一の保護層２４や第二の保護層２５が設けられている。

図１０の表示装置１１０では、スイッチング素子としてトランジスタを使用しているが、これに代えてＭＩＭ素子をスイッチング素子として用いてもよい。

また図１０の表示装置１１０に使用されるトランジスタは、単結晶シリコンウエハを用いたトランジスタに限らず、基板の絶縁性表面上に活性層を有する薄膜トランジスタでもよい。活性層として、単結晶シリコン、アモルファスシリコン、微結晶シリコンなどの非単結晶シリコン、インジウム亜鉛酸化物、インジウムガリウム亜鉛酸化物等の非単結晶酸化物半導体が挙げられる。尚、薄膜トランジスタはＴＦＴ素子とも呼ばれる。

図１０の表示装置１１０に含まれるトランジスタは、Ｓｉ基板等の基板内に形成されていてもよい。ここで基板内に形成されるとは、Ｓｉ基板等の基板自体を加工してトランジスタを作製することを意味する。つまり、基板内にトランジスタを有することは、基板とトランジスタとが一体に形成されていると見ることもできる。

本実施の形態に係る発光素子０１は、スイッチング素子の一例であるＴＦＴにより発光輝度が制御され、発光素子を複数面内に設けることでそれぞれの発光輝度により画像を表示することができる。尚、本実施の形態に係るスイッチング素子は、ＴＦＴに限られず、低温ポリシリコンで形成されているトランジスタ、Ｓｉ基板等の基板上に形成されたアクティブマトリクスドライバーであってもよい。基板上とは、その基板内ということもできる。基板内にトランジスタを設けるか、ＴＦＴを用いるかは、表示部の大きさによって選択され、例えば０．５インチ程度の大きさであれば、Ｓｉ基板上に有機発光素子を設けることが好ましい。

図１１は、本実施の形態に係る表示装置１０００の一例を表す模式図である。表示装置１０００は、上部カバー１００１と、下部カバー１００９と、の間に、タッチパネル１００３、表示パネル１００５、フレーム１００６、回路基板１００７、バッテリー１００８、を有してよい。表示パネル１００５として、例えば実施の形態１に示す発光装置１００を用いることができる。

タッチパネル１００３および表示パネル１００５には、それぞれフレキシブルプリント回路ＦＰＣ１００２及びフレキシブルプリント回路ＦＰＣ１００４が接続されている。回路基板１００７には、トランジスタがプリントされている。バッテリー１００８は、表示装置が携帯機器でなければ、設けなくてもよいし、携帯機器であっても、別の位置に設けてもよい。

本実施の形態に係る表示装置１０００は、複数のレンズを有する光学部と、当該光学部を通過した光を受光する撮像素子とを有する光電変換装置の表示部に用いられてもよい。光電変換装置は、撮像素子が取得した情報を表示する表示部を有してよい。また、また、撮像素子が取得した情報を用いて情報を取得し、表示部は、それとは別の情報を表示するものであってもよい。表示部は、光電変換装置の外部に露出した表示部であっても、ファインダ内に配置された表示部であってもよい。光電変換装置は、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラであってよい。

図１２（ａ）は、本実施の形態に係る光電変換装置の一例を表す模式図である。光電変換装置１１００は、ビューファインダ１１０１、背面ディスプレイ１１０２、操作部１１０３、筐体１１０４を有してよい。ビューファインダ１１０１は、実施の形態１に係る発光装置１００を有してよい。または、本実施の形態で示した表示装置１０００であってもよい。その場合、表示装置は、撮像する画像のみならず、環境情報、撮像指示等を表示してよい。環境情報には、外光の強度、外光の向き、被写体の動く速度、被写体が遮蔽物に遮蔽される可能性等であってよい。

撮像に好適なタイミングはわずかな時間なので、少しでも早く情報を表示した方がよい。したがって、発光素子として有機ＥＬ素子を用いている、実施の形態１または実施の形態２の発光素子１０を用いた表示装置を用いるのが好ましい。有機ＥＬ素子は応答速度が速いからである。有機ＥＬ素子を用いた表示装置は、表示速度が求められるこれらの装置に、液晶表示装置よりも好適に用いることができる。

光電変換装置１１００は、不図示の光学部を有する。光学部は複数のレンズを有し、筐体１１０４内に収容されている撮像素子に結像する。複数のレンズは、その相対位置を調整することで、焦点を調整することができる。この操作を自動で行うこともできる。

本実施の形態に係る表示装置は、赤色、緑色、青色を有するカラーフィルタを有してよい。カラーフィルタは、当該赤色、緑色、青色がデルタ配列で配置されてよい。

本実施の形態に係る表示装置は、携帯端末の表示部に用いられてもよい。その際には、表示機能と操作機能との双方を有してもよい。携帯端末としては、スマートフォン等の携帯電話、タブレット、ヘッドマウントディスプレイ等が挙げられる。

図１２（ｂ）は、本実施の形態に係る電子機器の一例を表す模式図である。電子機器１２００は、表示部１２０１と、操作部１２０２と、筐体１２０３を有する。表示部１２０１は、実施の形態１の発光装置１００を有する。筐体１２０３には、回路、当該回路を有するプリント基板、バッテリー、通信部、を有してよい。操作部１２０２は、ボタンであってもよいし、タッチパネル方式の反応部であってもよい。操作部は、指紋を認識してロックの解除等を行う、生体認識部であってもよい。通信部を有する電子機器は通信機器ということもできる。

図１３（ａ）及び図１３（ｂ）は、本実施の形態に係る表示装置の一例を表す模式図である。図１３（ａ）は、テレビモニタやＰＣモニタ等の表示装置である。表示装置１３００は、額縁１３０１を有し表示部１３０２を有する。表示部１３０２には、実施の形態１に係る発光装置１００が用いられてよい。

額縁１３０１と、表示部１３０２を支える土台１３０３を有している。土台１３０３は、図１３（ａ）の形態に限られない。額縁１３０１の下辺が土台を兼ねてもよい。

また、額縁１３０１および表示部１３０２は、曲がっていてもよい。その曲率半径は、５０００ｍｍ以上６０００ｍｍ以下であってよい。

図１３（ｂ）は本実施形態に係る表示装置の他の例を表す模式図である。図１３（ｂ）の表示装置１３１０は、折り曲げ可能に構成されており、いわゆるフォルダブルな表示装置である。表示装置１３１０は、第一表示部１３１１、第二表示部１３１２、筐体１３１３、屈曲点１３１４を有する。第一表示部１３１１と第二表示部１３１２とは、実施の形態１に係る発光装置１００を有してよい。

第一表示部１３１１と第二表示部１３１２とは、つなぎ目のない１枚の表示装置であってよい。第一表示部１３１１と第二表示部１３１２とは、屈曲点で分けることができる。第一表示部１３１１、第二表示部１３１２は、それぞれ異なる画像を表示してもよいし、第一および第二表示部とで一つの画像を表示してもよい。

図１４（ａ）は、本実施形態に係る照明装置の一例を表す模式図である。照明装置１４００は、筐体１４０１と、光源１４０２と、回路基板１４０３と、光学フィルム１４０４と、光拡散部１４０５と、を有してよい。光源１４０２は、実施の形態１に係る発光装置１００を有してよい。光学フィルタは光源１４０２の演色性を向上させるフィルタであってよい。光拡散部は、ライトアップ等、光源の光を効果的に拡散し、広い範囲に光を届けることができる。光学フィルタ、光拡散部は、照明の光出射側に設けられてよい。必要に応じて、最外部にカバーを設けてもよい。

照明装置は例えば室内を照明する装置である。照明装置は白色、昼白色、その他青から赤のいずれの色を発光するものであってよい。それらを調光する調光回路を有してよい。照明装置は実施の形態１の発光装置１００とそれに接続される電源回路を有してよい。電源回路は、交流電圧を直流電圧に変換する回路である。また、白とは色温度が４２００Ｋで昼白色とは色温度が５０００Ｋである。照明装置はカラーフィルタを有してもよい。

また、本実施形態に係る照明装置は、放熱部を有していてもよい。放熱部は装置内の熱を装置外へ放出するものであり、比熱の高い金属、液体シリコン等が挙げられる。

図１４（ｂ）は、本実施の形態に係る移動体の一例である自動車の模式図である。当該自動車は灯具の一例であるテールランプを有する。自動車１５００は、テールランプ１５０１を有し、ブレーキ操作等を行った際に、テールランプを点灯する形態であってよい。

テールランプ１５０１は、実施の形態１に係る発光装置１００を有してよい。テールランプは、発光素子を保護する保護部材を有してよい。保護部材はある程度高い強度を有し、透明であれば材料は問わないが、ポリカーボネート等で構成されることが好ましい。ポリカーボネートにフランジカルボン酸誘導体、アクリロニトリル誘導体等を混ぜてよい。

自動車１５００は、車体１５０３、それに取り付けられている窓１５０２を有してよい。窓は、自動車の前後を確認するための窓でなければ、透明なディスプレイであってもよい。当該透明なディスプレイは、実施の形態１に係る発光装置１００を有してよい。この場合、発光装置１００が有する電極等の構成材料は透明な部材で構成される。

本実施の形態に係る移動体は、船舶、航空機、ドローン等であってよい。移動体は、機体と当該機体に設けられた灯具を有してよい。灯具は、機体の位置を知らせるための発光をしてよい。灯具は実施の形態１に係る発光装置１００を有する。

以上説明した通り、実施の形態１に係る発光装置１００を用いることにより、良好な画質で、信頼性の高い表示が可能になる。

１ 素子基板
２ 下部電極
３ 絶縁層
４ 有機層
５ 上部電極
１００ 発光装置

Claims (22)

1. 配線層を有する素子基板と、
   前記素子基板上に配される第１電極と、
   前記素子基板上に配され、前記第１電極の端部を覆う絶縁層と、
   前記第１電極及び前記絶縁層上に配される電荷輸送層と、前記電荷輸送層の上に配される発光層と、を有する有機層と、
   前記有機層を挟んで前記第１電極上に配される第２電極と、
   を有し、
   前記絶縁層は前記第１電極上で開口をなす第１側面及び第２側面を有し、
   前記有機層は蒸着膜であり、
   前記素子基板、前記第１電極、前記開口、及び前記有機層を通る断面において、前記第１側面及び前記第２側面は、前記第１電極に対して傾斜しており、
   前記断面における、前記第１側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角を第１角、及び前記第１側面の前記一点と同じ高さにある前記第２側面の一点における接線と前記第１電極がなす角のうち前記絶縁層側の角を第２角としたとき、
   前記第１角の角度と前記第２角の角度は異なることを特徴とする発光装置。
2. 前記第１角および前記第２角は、ともに鋭角であることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記絶縁層は、前記第１側面及び前記第２側面とともに前記開口をなす第３側面を有し、
   前記素子基板、前記第１電極、前記開口、及び前記有機層を通り前記断面とは異なる第２の断面において、前記第３側面は前記第１電極に対して傾斜しており、
   前記第１側面の前記一点と同じ高さにある前記第３側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角を第３角としたとき、前記第３角の角度は前記第１角及び前記第２角の角度とは異なる請求項１または２に記載の発光装置。
4. 前記第３角の角度は、前記第１角の角度より大きく前記第２角の角度より小さい請求項３に記載の発光装置。
5. 前記絶縁層は、前記第１側面、前記第２側面及び前記第３側面とともに前記開口をなす第４側面を有し、
   前記第２の断面において、前記第４側面は前記第１電極に対して傾斜しており、
   前記第１側面の前記一点と同じ高さにある前記第４側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角を第４角としたとき、前記第４角の角度は、前記第１角の角度よりより大きく前記第２角の角度より小さい請求項４に記載の発光装置。
6. 前記第１電極の表面に対する平面視において、前記第３側面は前記第１側面及び前記第２側面の間にある請求項３乃至５のいずれか１項に記載の発光装置。
7. 前記絶縁層の側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角の角度は、前記第１側面から前記第２側面まで単調変化する請求項１乃至６のいずれか１項に記載の発光装置。
8. 前記開口は、前記開口内の前記第１電極の表面に対する平面視において六角形である請求項１乃至７のいずれか１項に記載の発光装置。
9. 前記開口は、前記開口内の前記第１電極の表面に対する平面視において矩形である請求項１乃至７のいずれか１項に記載の発光装置。
10. 前記素子基板上において、前記第１電極と隣り合って配される第３電極を有し、
    前記絶縁層は前記第３電極の端部を覆い、
    前記絶縁層は、前記第３電極上に第２開口を有し、前記第３電極は前記第２開口において前記有機層を挟んで前記第２電極と対向する請求項１乃至９のいずれか１項に記載の発光装置。
11. 前記絶縁層は、感光性樹脂を有する請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の発光装置。
12. 前記絶縁層は無機材料を有する請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の発光装置。
13. 第１の状態において、前記第１側面は前記第２側面よりも蒸着源のノズルからの距離が小さく、第２の状態において、前記素子基板は、前記第１の状態から１８０°回転した位置にあり、
    前記第１の状態において、前記ノズルの開口部を通り前記開口内の前記第１電極の表面に平行な線と、前記ノズルの開口部の中心と前記開口における前記第１電極の前記表面の中心を通る線が成す角のうち小さい角を第５角、
    前記第２の状態において、前記ノズルの前記開口部を通り前記開口内の前記第１電極の前記表面に平行な前記線と、前記ノズルの前記開口部の前記中心と前記開口における前記第１電極の前記表面の中心を通る前記線が成す角のうち小さい角を第６角としたとき、
    前記第２角の角度と前記第１角の角度の差は、０より前記第６角の角度と前記第５角の角度の差に近い請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の発光装置。
14. 前記第２角の角度と前記第１角の角度の差は、前記第６角の角度と前記第５角の角度の差と等しい請求項１３に記載の発光装置。
15. 表示部に前記請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の発光装置を有し、
    前記発光装置にはトランジスタが接続されている表示装置。
16. 複数のレンズを有する光学部と、前記光学部を通過した光を受光する撮像素子と、前記撮像素子が撮像した画像を表示する表示部と、を有し、
    前記表示部は請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の発光装置を有する光電変換装置。
17. 請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の発光装置を有する表示部と、前記表示部が設けられた筐体と、前記筐体に設けられ、外部と通信する通信部と、を有する電子機器。
18. 請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の発光装置を有する光源と、前記光源が発する光を透過する光拡散部または光学フィルムと、を有する照明装置。
19. 請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の発光装置を有する灯具と、前記灯具が設けられた機体と、を有する移動体。
20. 第１電極と、前記第１電極上に開口を有し前記第１電極の端部を覆う絶縁層が配された素子基板を用意する工程と、
    前記第１電極及び前記絶縁層上に蒸着法により有機層を形成する工程と、
    を有し、
    前記絶縁層は前記第１電極上の開口をなす第１側面および第２側面を有し、
    前記素子基板、前記第１電極、及び前記開口を通る断面において、前記第１側面及び前記第２側面は、前記第１電極に対して傾斜しており、
    前記断面における、前記第１側面の一点における接線と前記第１電極が成す角のうち前記絶縁層側の角を第１角、及び前記第１側面の前記一点と同じ高さにある前記第２側面の一点における接線と前記第１電極がなす角のうち前記絶縁層側の角を第２角としたとき、
    前記第１角の角度と前記第２角の角度は異なる発光装置の製造方法。
21. 前記有機層を形成する工程において、第１の状態において、前記第１側面は前記第２側面よりも蒸着源のノズルからの距離が小さく、第２の状態において、前記素子基板は、前記第１の状態から１８０°回転した位置にあり、
    前記第１の状態において、前記ノズルの開口部を通り前記開口内の前記第１電極の表面に平行な線と、前記ノズルの開口部の中心と前記開口における前記第１電極の前記表面の中心を通る線が成す角のうち小さい角を第５角、
    前記第２の状態において、前記ノズルの前記開口部を通り前記開口内の前記第１電極の前記表面に平行な前記線と、前記ノズルの前記開口部の前記中心と前記開口における前記第１電極の前記表面の中心を通る前記線が成す角のうち小さい角を第６角としたとき、
    前記第２角の角度と前記第１角の角度の差は、０より前記第６角の角度と前記第５角の角度の差に近い請求項２０に記載の発光装置の製造方法。
22. 前記第２角の角度と前記第１角の角度の差は、前記第６角の角度と前記第５角の角度の差と等しい請求項２１に記載の発光装置の製造方法。
    

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